JP2006507383A - 非対称層構造を有する光学的に可変性の顔料 - Google Patents
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Abstract
Description
(a)場合によってはコアの一つの平行面上にあるSiOy(0.95<y≦2.0、特に0.95<y≦1.80)層、
(b)コアの一つの平行面上又は、SiOy層が存在する場合、SiOy層上にあるSiOx(0.03≦x≦0.95、特に0.05≦x≦0.5、とりわけ0.10≦x≦0.30)層、及び
(c)SiOx層上にあるSiOz(0.95<z≦2.0、特に1.0<z≦2.0、とりわけ1.4≦z≦2.0)層
を含む顔料、その製造方法ならびに塗料、織物(たとえばPCT/EP03/11188を参照)、インクジェット印刷(たとえばPCT/EP03/11189を参照)、化粧品(たとえばPCT/EP03/02196を参照)、コーティング組成物、プラスチック、印刷インクならびにセラミックス及びガラス用のうわぐすりにおけるその使用に関する。
(a)場合によってはコアの一つの平行面上にあるSiOy(0.95<y≦1.80、特に1.0≦y≦1.80、とりわけ1.40≦y≦1.80)層、
(b)コアの一つの平行面上又は、SiOy層が存在する場合、SiOy層上にあるSiOx(0.03≦x≦0.95、特に0.05≦x≦0.5、とりわけ0.10≦x≦0.30)層、及び
(c)SiOx層上にあるSiOz(1.0<z≦2.0、特に1.4≦z≦2.0、とりわけz=2.0)層
を含む顔料に関する。
a)支持体に分離剤を蒸着させて分離剤層を製造する工程、
b)分離剤層にAl層を蒸着させる工程、
c)場合によっては、Al層にSiOy(0.95≦y≦1.80、特に1.0≦y≦1.80、とりわけ1.1≦y≦1.50)層を蒸着させる工程、
d)Al層又は、SiOy層が存在する場合、SiOy層にSiOx層を蒸着させる工程、
e)場合によっては、SiOx層にSiOy層を蒸着させる工程、
f)分離剤層を溶媒に溶解させる工程、
d)溶媒からSiOxコーティングされたアルミニウムフレークを分離する工程
を含む方法(EP−B−990715)によって得ることができる。
(b)コアの一つの平行面上にあるSiOx(0.03≦x≦0.95)層、及び
(c)SiOx層上にあるSiO2(0.03≦x≦0.95、特に0.05≦x≦0.5、とりわけ0.10≦x≦0.30)層
を含む顔料に関する。
(a)コアの一つの平行面上にあるSiOy(0.95<y≦1.8)層、
(b)SiOy層上にあるSiOx(0.03≦x≦0.95)層、及び
(c)SiOx層上にあるSiOz(1.0≦z≦2.0、特に1.4≦z≦2.0、とりわけz=2.0)層
を含む顔料に関する。
(a)コアの一つの平行面上にあるSiOy(0.95<y≦1.8)層、
(b)SiOy層上にあるSiOx(0.03≦x≦0.95)層、及び
(c)SiOx層上にあるSiO2層
を含む顔料が得られる。
―顔料表面への腐蝕防止剤の吸着
―リン酸エステル:DE−A−3020073、EP−A−170474、EP−A−133644、US−A−4,565,716、US−A−4,808,231、
―ホスフェート及びホスファイト:US−A−4,565,716、US−A−4,808,231、EP−A−240367、
―バナデート:EP−A−305560、EP−A−104075、
―クロメート:US−A−2,904,523、US−A−4,693,754、EP−A−259592、
―ダイマー酸:DE−A−3002175、ならびに
―連続的な無機保護層による顔料の封じ込め:
―SiO2:US−A−2,855,366、US−A−3,954,496、
―Fe2O3:DE−A−3003352、
―TiO2:DE−A−3813335、
又は有機保護層:
―DE−A−3630356、DE−A−3147177、EP−A−477433、特にリン酸で改質された樹脂:EP−A−170474、CA−A−1,273,733、AT−A−372696、DE−A−3807588、EP−A−319971
実施例1
基本的な点でUS6270840に記載されている設備と同様に構成されている真空設備において、蒸発器から順に、分離剤として塩化ナトリウム(90nm、NaCl)を約900℃で、アルミニウム(90nm)を約1400〜1500℃で、SiとSiO2との反応生成物としてSiOy(150nm、y=1.0±5%)を1350〜1550℃で、Si(120nm、SiOx、x=0.3±10%)を約1600℃で蒸発させた。蒸発は約0.02Paで実施した。後で分離剤の溶解によって層を分離させるために、蒸着が実施された支持体に脱イオン水を約3000Paで吹き付け、スクレーパを使用する機械的支援及び超音波によって処理した。NaClは溶液中に通過し、不溶性である生成物層がフレークに砕散した。溶解チャンバから懸濁液を連続的に取り出し、大気圧で、ろ過によって濃縮し、脱イオン水で数回すすいで、存在するNa+及びCl-イオンを除去した。乾燥及び粉砕のち、平均最大直径が20〜40μmの範囲であるフレークが得られた。
以下の組成を有するインクを調製した。
L*(明度)=83、C*(彩度)=7、h(色相)=110
実施例1で得られたフレークであって、粉砕の前、厚さ約1〜2nmの天然のSiO2層を表面に有するフレークを、ばら材料の形態で、200〜300℃の酸素雰囲気中、数時間焼成して、耐候堅ろう性及び耐光堅ろう性を高めた。SiO2層の厚さは約20nmに増大した。
Claims (10)
- 粒子が長さ2μm〜5mm、幅2μm〜2mm、厚さ50nm〜1.5μmであり、長さ対厚さの比が少なくとも2:1であり、実質的に平行な二つの面を有する金属反射材料のコアを有し、それらの面の間の距離がコアの最短軸である顔料であって、
(a)場合によってはコアの一つの平行面上にあるSiOy(0.95<y≦2.0、特に0.95<y≦1.80)層、
(b)コアの一つの平行面上又は、SiOy層が存在する場合、SiOy層上にあるSiOx(0.03≦x≦0.95、特に0.05≦x≦0.5、とりわけ0.10≦x≦0.30)層、及び
(c)SiOx層上にあるSiOz(0.95<z≦2.0、特に1.0≦z≦2.0)層
を含む顔料。 - (a)場合によってはコアの一つの平行面上にあるSiOy(0.95<y≦1.80、特に1.0≦y≦1.80、とりわけ1.40≦y≦1.80)層、
(b)コアの一つの平行面上又は、SiOy層が存在する場合、SiOy層上にあるSiOx(0.03≦x≦0.95、特に0.05≦x≦0.5、とりわけ0.10≦x≦0.30)層、及び
(c)SiOx層上にあるSiOz(1.0<z≦2.0、特に1.4≦z≦2.0、とりわけz=2.0)層を含む、請求項1記載の顔料。 - 金属反射材料が、Ag、Al、Au、Cu、Cr、Ge、Mo、Ni、Ti、Zn、それらの合金、黒鉛、Fe2O3及びMoS2から選択される、請求項1又は2記載の顔料。
- コアの厚さが20〜100nm、好ましくは40〜60nmである、請求項3記載の顔料。
- SiOx層(b)の厚さが5〜200nm、好ましくは5〜100nmである、請求項1〜4のいずれか1項記載の顔料。
- SiOy層(a)の厚さが20〜500nm、好ましくは100〜500nmである、請求項1〜5のいずれか1項記載の顔料。
- 請求項1記載の顔料を製造する方法であって、以下の工程:
a)支持体に分離剤を蒸着させて分離剤層を製造する工程、
b)分離剤層にAl層を蒸着させる工程、
c)場合によっては、Al層にSiOy(0.95≦y≦1.80、特に1.0≦y≦1.80、とりわけ1.1≦y≦1.50)層を蒸着させる工程、
d)Al層又は、SiOy層が存在する場合、SiOy層にSiOx層を蒸着させる工程、
e)場合によっては、SiOx層にSiOy層を蒸着させる工程、
f)分離剤層を溶媒に溶解させる工程、
d)溶媒からSiOxコーティングされたアルミニウムフレークを分離する工程
を含む方法。 - 請求項7記載の方法によって得られる顔料。
- 請求項1〜6又は8のいずれか1項記載の顔料を含む組成物。
- 請求項1〜6又は8のいずれか1項記載の顔料の、塗料、織物、インクジェット印刷、化粧品、コーティング組成物、プラスチック、印刷インクならびにセラミックス及びガラス用のうわぐすりにおける使用。
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