JP2006507278A - ザレプロンの製造方法 - Google Patents
ザレプロンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006507278A JP2006507278A JP2004545691A JP2004545691A JP2006507278A JP 2006507278 A JP2006507278 A JP 2006507278A JP 2004545691 A JP2004545691 A JP 2004545691A JP 2004545691 A JP2004545691 A JP 2004545691A JP 2006507278 A JP2006507278 A JP 2006507278A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solvent
- water
- mixture
- process according
- melting point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- ZCWBCXFMGMIANM-UHFFFAOYSA-N CCN(C(C)=O)c1cccc(-c2ccnc3c(C)cn[n]23)c1 Chemical compound CCN(C(C)=O)c1cccc(-c2ccnc3c(C)cn[n]23)c1 ZCWBCXFMGMIANM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/04—Ortho-condensed systems
Abstract
Ｃ１〜Ｃ５アルコール中、またはＣ４〜Ｃ６脂肪族もしくは環状エーテル中、またはＣ２〜Ｃ５アルコキシアルコール中、または１〜２個の酸素原子を含有する５〜６員環芳香族複素環式溶媒中、あるいはそれらの水との混合物中の塩化水素酸または臭化水素酸の溶液を含む媒質中で、Ｎ−［３−（３−ジメチルアミノ−アクリロイル）−フェニル］−Ｎ−エチル−アセトアミドを、５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルと反応させて、ザレプロンを形成する。
Description
本発明は、下記式Ｉを有するＩＮＮ（国際一般的名称）ザレプロンで知られるＮ−エチル−Ｎ−［３−（３−メチル−ピラゾロ［１，５−α］ピリミジン−７−イル）フェニル]−アセトアミドの新規製造方法に関する。
上述の薬物は、ＣＮＳ化学療法薬の重要な代表であり、ここで上述の薬物は、主に抗不安薬、抗痙攣薬または鎮静／催眠薬として使用される。
ザレプロンは、公開済米国特許第４，６２６，５３８号および同第５，７１４，６０７号に従って、下記式ＩＩを有するＮ−［３−（３−ジメチルアミノ−アクリロイル）−フェニル］−Ｎ−エチル−アセトアミドと、下記式ＩＩＩを有する５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルとの反応により製造される。
反応は、もとの米国特許第４，６４６，５３８号では、無水酢酸中で実施された。後に、酢酸水中で反応を実施すると、反応がより速く、かつ得られた生成物がより純粋であることが発見された。この手順は、米国特許第５，７１４，６０７号に記載されている。
本発明は、Ｎ−（３−（３−シアノピラゾロ［１，５−α］ピリミジン−７−イル）フェニル）−Ｎ−エチルアセトアミド（ザレプロン）の製造の新規改良方法について記載する。
本発明の主題は、Ｎ−エチル−Ｎ−[３−（３−メチル−ピラゾロ［１，５−α］ピリミジン−７−イル）フェニル]−アセトアミド（ザレプロン）の製造の新規改良方法である。全体的な手順は、多数の有機酸および無機酸を触媒と使用して、多数の有機溶媒中、あるいはそれらの水との混合物中で、Ｎ−［３−（３−ジメチルアミノ−アクリロイル）−フェニル］−Ｎ−エチル−アセトアミド（ＩＩ）と５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリル（ＩＩＩ）との反応を実施することが有利であるという驚くべき所見に基づいている。
本発明の本質は、Ｃ１〜Ｃ５アルコール中、またはＣ４〜Ｃ６脂肪族もしくは環状エーテル中、またはＣ２〜Ｃ５アルコキシアルコール中、または１〜２個の酸素原子を含有する５〜６員環芳香族複素環式溶媒中、またはそれらと水との混合物中の塩化水素酸または臭化水素酸の溶液を含む媒質中で、下記式ＩＩを有するＮ−［３−（３−ジメチルアミノ−アクリロイル）−フェニル］−Ｎ−エチル−アセトアミドを、下記式ＩＩＩを有する５−アミノ−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボニトリルと反応させることからなる。
酢酸水またはギ酸水を使用する場合と同様に、上記溶媒および上記酸性触媒を使用すると、反応時間は非常に短くなることを示された。さらに、場合によっては、粗製生成物のより良好な収率および／またはより高純度が達成された。
通常の実施形態では、２つの出発物質は、実験室温度で、適切な溶媒と混合された。使用する溶媒量は、反応が完了し、冷却した後に、生成物の結晶が高収率で沈降するように、広範囲から選択することができる。反応混合物は、均質溶液または懸濁液であった。適切な酸性触媒を、このようにして創出された混合物に添加し、混合物を、２５℃から使用する溶媒の沸点までの温度で攪拌した。反応が完了した後、混合物を冷却し、結晶が沈降した後に、混合物を、５〜１０℃で数時間静置し、続いて、粗製生成物を吸引した。場合によっては、反応混合物を冷却した後に、反応混合物を適切な共溶媒と混合して、冷却後に生成物を濾過した。
多数の溶媒が適切であることがわかった。非常に純粋な粗製生成物の高収率を得る場合に、メタノール、エタノール、プロパノールまたは２−プロパノールの使用が特に有利であることがわかった。粗製生成物は、適切な溶媒からの単回の結晶化後に、高ＨＰＬＣ純度を有する、通常９９．５％（個々のピークの面積から読取ったもの）を上回る生成物を提供した。しかしながら、反応は、水酸化溶媒の環境のみに限定されず、反応は、多数の他の溶媒、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等中で実施することができる。これらは、単独で、あるいは上述の水酸化溶媒と混合して、またはそれらの水との混合物で使用することができる。２０〜８０％の水の存在が好ましい。
反応が首尾よく進行するために、酸性触媒の存在が必須である。酸水に代わって、適切な溶媒中の酸の溶液、例えば、各種溶媒（Ｃ１〜Ｃ５アルコールが好ましい）中の塩化水素または臭化水素の溶液を使用することができる。
本発明は、以下の実施例でさらに詳細に説明される。実施例は、本発明によるザレプロンの製造の好ましい代替法を説明するものであり、純粋に説明的な特性を有し、いかなる観点においても本発明の範囲を限定しない。
実施例１
エタノール（３０ｍｌ）中の化合物ＩＩ（２．６ｇ、１０ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（１．１ｇ、１０．２ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、エタノール（１ｍｌ）中の塩化水素の飽和溶液を添加した。還流冷却器を用いて、得られた混合物を２時間沸騰させた後、５〜１０℃に冷却し、沈殿した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物２．６ｇ（８５％）（融点１８４〜１８８℃）が得られた。結晶化後、融点１８７〜１８８℃の結晶２．４ｇ（７９％）が得られた。
エタノール（３０ｍｌ）中の化合物ＩＩ（２．６ｇ、１０ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（１．１ｇ、１０．２ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、エタノール（１ｍｌ）中の塩化水素の飽和溶液を添加した。還流冷却器を用いて、得られた混合物を２時間沸騰させた後、５〜１０℃に冷却し、沈殿した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物２．６ｇ（８５％）（融点１８４〜１８８℃）が得られた。結晶化後、融点１８７〜１８８℃の結晶２．４ｇ（７９％）が得られた。
実施例２
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、反応混合物を実験室温度で２日間攪拌した）、融点１８２〜１８６℃の同様の量の生成物が得られた。メタノールからの結晶化後、融点１８５〜１８７℃の７２％の結晶が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、反応混合物を実験室温度で２日間攪拌した）、融点１８２〜１８６℃の同様の量の生成物が得られた。メタノールからの結晶化後、融点１８５〜１８７℃の７２％の結晶が得られた。
実施例３
メタノール（３０ｍｌ）中の化合物ＩＩ（２．６ｇ、１０ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（１．１ｇ、１０．２ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、濃塩酸を添加した（１ｍｌ）。還流冷却器を用いて、得られた混合物を５時間沸騰させた後、水を添加して（５０ｍｌ）、混合物を５〜１０℃に冷却した。沈降した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物２．８ｇ（９２％）が得られた（融点１８５〜１８８℃）が得られた。
メタノール（３０ｍｌ）中の化合物ＩＩ（２．６ｇ、１０ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（１．１ｇ、１０．２ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、濃塩酸を添加した（１ｍｌ）。還流冷却器を用いて、得られた混合物を５時間沸騰させた後、水を添加して（５０ｍｌ）、混合物を５〜１０℃に冷却した。沈降した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物２．８ｇ（９２％）が得られた（融点１８５〜１８８℃）が得られた。
実施例４
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒としてプロパノールを使用した）、融点１８５〜１８８℃の８６％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒としてプロパノールを使用した）、融点１８５〜１８８℃の８６％の生成物が得られた。
実施例５
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として２−プロパノールを使用した）、融点１８４〜１８７℃の９１％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として２−プロパノールを使用した）、融点１８４〜１８７℃の９１％の生成物が得られた。
実施例６
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として２−メトキシエタノールを使用した）、融点１８４〜１８７℃の７６％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として２−メトキシエタノールを使用した）、融点１８４〜１８７℃の７６％の生成物が得られた。
実施例７
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として２−エトキシエタノールを使用した）、融点１８４〜１８７℃の７９％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として２−エトキシエタノールを使用した）、融点１８４〜１８７℃の７９％の生成物が得られた。
実施例８
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として７０％のエタノール水を使用した）、融点１８５〜１８８℃の８７％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として７０％のエタノール水を使用した）、融点１８５〜１８８℃の８７％の生成物が得られた。
実施例９
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として５０％のエタノール水を使用した）、融点１８４〜１８７℃の６９％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として５０％のエタノール水を使用した）、融点１８４〜１８７℃の６９％の生成物が得られた。
実施例１０
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として３０％のエタノール水を使用した）、融点１８４〜１８８℃の７２％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、エタノールの代わりに、溶媒として３０％のエタノール水を使用した）、融点１８４〜１８８℃の７２％の生成物が得られた。
実施例１１
テトラヒドロフラン（３ｍｌ）中の化合物ＩＩ（０．２６ｇ、１ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（０．１１ｇ、１．０ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、濃塩酸を添加した（１ｍｌ）。還流冷却器を用いて、得られた混合物を２時間沸騰させた後、水を添加して（５ｍｌ）、混合物を５〜１０℃に冷却した。沈降した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物０．２５ｇ（８２％）が得られた（融点１８４〜１８７℃）が得られた。
テトラヒドロフラン（３ｍｌ）中の化合物ＩＩ（０．２６ｇ、１ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（０．１１ｇ、１．０ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、濃塩酸を添加した（１ｍｌ）。還流冷却器を用いて、得られた混合物を２時間沸騰させた後、水を添加して（５ｍｌ）、混合物を５〜１０℃に冷却した。沈降した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物０．２５ｇ（８２％）が得られた（融点１８４〜１８７℃）が得られた。
実施例１２
実施例１１に記載する手順に従って（ここでは、テトラヒドロフランの代わりに、溶媒としてジオキサンを使用し、反応が完了した後に、水の代わりにヘキサンを添加した）、融点１８３〜１８７℃の８６％の生成物が得られた。
実施例１１に記載する手順に従って（ここでは、テトラヒドロフランの代わりに、溶媒としてジオキサンを使用し、反応が完了した後に、水の代わりにヘキサンを添加した）、融点１８３〜１８７℃の８６％の生成物が得られた。
実施例１３
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として臭化水素酸を使用した）、融点１８４〜１８８℃の８１％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として臭化水素酸を使用した）、融点１８４〜１８８℃の８１％の生成物が得られた。
実施例１４
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として１０％の硫酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８４〜１８７℃の８２％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として１０％の硫酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８４〜１８７℃の８２％の生成物が得られた。
実施例１５
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として１０％のオルトリン酸を使用し、反応時間を８時間に増やした）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８２〜１８６℃の６５％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として１０％のオルトリン酸を使用し、反応時間を８時間に増やした）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８２〜１８６℃の６５％の生成物が得られた。
実施例１６
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として過塩素酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８４〜１８７℃の６９％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として過塩素酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８４〜１８７℃の６９％の生成物が得られた。
実施例１７
エタノール（３ｍｌ）中の化合物ＩＩ（０．２６ｇ、１ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（０．１１ｇ、１．０ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、酢酸を添加した（１ｍｌ）。還流冷却器を用いて、得られた混合物を３時間沸騰させた後、混合物を５〜１０℃に冷却した。沈降した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物０．２６ｇ（８５％）（融点１８４〜１８７℃）が得られた。
エタノール（３ｍｌ）中の化合物ＩＩ（０．２６ｇ、１ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（０．１１ｇ、１．０ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、酢酸を添加した（１ｍｌ）。還流冷却器を用いて、得られた混合物を３時間沸騰させた後、混合物を５〜１０℃に冷却した。沈降した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物０．２６ｇ（８５％）（融点１８４〜１８７℃）が得られた。
実施例１８
メタノール（３ｍｌ）中の化合物ＩＩ（０．２６ｇ、１ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（０．１１ｇ、１．０ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、トリフルオロ酢酸を添加した（０．１ｍｌ）。還流冷却器を用いて、得られた混合物を１時間沸騰させた後、混合物を５〜１０℃に冷却した。沈降した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物０．２４ｇ（７９％）（融点１８４〜１８７℃）が得られた。
メタノール（３ｍｌ）中の化合物ＩＩ（０．２６ｇ、１ｍｍｏｌ）とニトリルＩＩＩ（０．１１ｇ、１．０ｍｍｏｌ）の混合物を実験室温度で溶解し、続いて、トリフルオロ酢酸を添加した（０．１ｍｌ）。還流冷却器を用いて、得られた混合物を１時間沸騰させた後、混合物を５〜１０℃に冷却した。沈降した結晶を吸引して、水で洗浄して、風乾した。粗製生成物０．２４ｇ（７９％）（融点１８４〜１８７℃）が得られた。
実施例１９
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒としてメタンスルホン酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８３〜１８６℃の８３％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒としてメタンスルホン酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８３〜１８６℃の８３％の生成物が得られた。
実施例２０
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒としてベンゼンスルホン酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８３〜１８６℃の６６％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒としてベンゼンスルホン酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８３〜１８６℃の６６％の生成物が得られた。
実施例２１
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として４−トルエンスルホン酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８４〜１８７℃の５９％の生成物が得られた。
実施例１に記載する手順に従って（ここでは、塩酸の代わりに、触媒として４−トルエンスルホン酸を使用した）、水による完全洗浄および乾燥が完了した後に、融点１８４〜１８７℃の５９％の生成物が得られた。
Claims (10)
- 下記式Ｉ：
- エタノールが溶媒として使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
- メタノールが溶媒として使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
- プロパノールが溶媒として使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
- ２−プロパノールが溶媒として使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
- ２−メトキシエタノールが溶媒として使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
- ２−エトキシエタノールが溶媒として使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
- テトラヒドロフランが溶媒として使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
- ジオキサンが溶媒として使用されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
- 請求項１ないし９に記載される溶媒と水との混合物が溶媒として使用され、好ましくは２０〜８０％の水を含有する混合物が使用されることを特徴とする、請求項１ないし９のいずれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ20023575A CZ293015B6 (cs) | 2002-10-25 | 2002-10-25 | Způsob výroby N-ethyl-N-[3-(3-methyl-pyrazolo[1,5-a]pyrimidin-7-yl)-fenyl]-acetamidu (zaleplonu) |
| PCT/CZ2003/000057 WO2004037824A1 (en) | 2002-10-25 | 2003-10-21 | Process for the preparation of zaleplon |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006507278A true JP2006507278A (ja) | 2006-03-02 |
Family
ID=29751097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004545691A Pending JP2006507278A (ja) | 2002-10-25 | 2003-10-21 | ザレプロンの製造方法 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20050245742A1 (ja) |
| EP (1) | EP1554279B1 (ja) |
| JP (1) | JP2006507278A (ja) |
| AU (1) | AU2003273390A1 (ja) |
| CA (1) | CA2503152A1 (ja) |
| CZ (1) | CZ293015B6 (ja) |
| DE (1) | DE60317817D1 (ja) |
| EA (1) | EA007505B1 (ja) |
| PL (1) | PL374911A1 (ja) |
| SK (1) | SK50402005A3 (ja) |
| UA (1) | UA81641C2 (ja) |
| WO (1) | WO2004037824A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050032818A1 (en) * | 2001-06-12 | 2005-02-10 | Entire Interest | N-[3-(3-cyanopyrazolo[1,5-a]pyrimidin-5-yl)phenyl]-N-ethylacetamide and crystalline forms of zaleplon |
| SK472004A3 (en) * | 2001-08-01 | 2004-12-01 | Biogal Gyogyszergyar | Purification and crystalline forms of zaleplon |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06287188A (ja) * | 1991-09-09 | 1994-10-11 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 新規複素環誘導体 |
| JP2002501532A (ja) * | 1997-05-30 | 2002-01-15 | メルク エンド カンパニー インコーポレーテッド | 新規血管形成阻害薬 |
| US20020072605A1 (en) * | 2000-12-13 | 2002-06-13 | Dora Tombari | Method for obtaining N-[3(3-cyano-pyrazole[1,5-a]pyrimidine-7-yl)phenyl]-N-ethyl-acetamide |
| JP2005507858A (ja) * | 2001-06-12 | 2005-03-24 | ビオガル ジョジセルジャール アール テー． | ザレプロンを生産する方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SK472004A3 (en) * | 2001-08-01 | 2004-12-01 | Biogal Gyogyszergyar | Purification and crystalline forms of zaleplon |
-
2002
- 2002-10-25 CZ CZ20023575A patent/CZ293015B6/cs not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-10-21 CA CA002503152A patent/CA2503152A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-21 AU AU2003273390A patent/AU2003273390A1/en not_active Abandoned
- 2003-10-21 JP JP2004545691A patent/JP2006507278A/ja active Pending
- 2003-10-21 WO PCT/CZ2003/000057 patent/WO2004037824A1/en active IP Right Grant
- 2003-10-21 UA UAA200504945A patent/UA81641C2/ru unknown
- 2003-10-21 DE DE60317817T patent/DE60317817D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-21 SK SK5040-2005A patent/SK50402005A3/sk not_active Application Discontinuation
- 2003-10-21 EA EA200500702A patent/EA007505B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2003-10-21 EP EP03755542A patent/EP1554279B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-21 PL PL03374911A patent/PL374911A1/xx not_active Application Discontinuation
-
2005
- 2005-04-22 US US11/111,818 patent/US20050245742A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06287188A (ja) * | 1991-09-09 | 1994-10-11 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 新規複素環誘導体 |
| JP2002501532A (ja) * | 1997-05-30 | 2002-01-15 | メルク エンド カンパニー インコーポレーテッド | 新規血管形成阻害薬 |
| US20020072605A1 (en) * | 2000-12-13 | 2002-06-13 | Dora Tombari | Method for obtaining N-[3(3-cyano-pyrazole[1,5-a]pyrimidine-7-yl)phenyl]-N-ethyl-acetamide |
| JP2005507858A (ja) * | 2001-06-12 | 2005-03-24 | ビオガル ジョジセルジャール アール テー． | ザレプロンを生産する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CZ20023575A3 (cs) | 2004-01-14 |
| AU2003273390A1 (en) | 2004-05-13 |
| SK50402005A3 (sk) | 2005-08-04 |
| EP1554279B1 (en) | 2007-11-28 |
| US20050245742A1 (en) | 2005-11-03 |
| EA007505B1 (ru) | 2006-10-27 |
| WO2004037824A1 (en) | 2004-05-06 |
| UA81641C2 (en) | 2008-01-25 |
| CA2503152A1 (en) | 2004-05-06 |
| CZ293015B6 (cs) | 2004-01-14 |
| DE60317817D1 (de) | 2008-01-10 |
| EA200500702A1 (ru) | 2005-10-27 |
| EP1554279A1 (en) | 2005-07-20 |
| PL374911A1 (en) | 2005-11-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101472686B1 (ko) | 벤즈이미다졸 유도체의 제조방법 | |
| JP2009503120A (ja) | イマチニブの調製方法 | |
| CN109516998B (zh) | 一种巴洛沙韦中间体的合成方法 | |
| RU2405787C2 (ru) | Способ получения 4бета-амино-4'-деметил-4-дезоксиподофиллотоксина | |
| JP2018507858A (ja) | トピロキソスタット及びその中間体の調製のための方法 | |
| KR101127814B1 (ko) | 신규의 중간체 및 이를 이용한 실데나필 또는 그의 염의 제조방법 | |
| JP2006507278A (ja) | ザレプロンの製造方法 | |
| JPS5821658B2 (ja) | エンキセイオキサジンセンリヨウノセイホウ | |
| CN107602454B (zh) | 磺酰胺类化合物及其制备方法和用途 | |
| WO2022110612A1 (zh) | 一种s构型苯乙胺盐酸盐化合物的制备方法 | |
| CN107382898B (zh) | 一种基于anpz含能母体结构的含能材料及其合成方法 | |
| CN112272665A (zh) | 制备立他司特的方法 | |
| JP5279449B2 (ja) | ５−｛４−［２−（５−エチル−２−ピリジル）エトキシ］ベンジル｝−２，４−チアゾリジンジオン塩酸塩の製造方法 | |
| KR101152607B1 (ko) | ６-[４-(２-피페리딘-1-일-에톡시)-페닐]-３-피리딘-４-일-피라졸로[１,５-ａ]피리미딘의 제조방법 | |
| JPH072742A (ja) | ４−アミノ−３−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）アニリン硫酸塩の新規製造法 | |
| JPS63211280A (ja) | ２−（４−チアゾリル）ベンツイミダゾ−ルの製造法 | |
| JP2003055377A (ja) | ２−アミノ−６−シクロプロピルアミノ−９ｈ−プリンの製造法 | |
| JP2001252569A (ja) | 高分子固定化キラルジルコニウム触媒 | |
| JP2003119197A (ja) | ２−アミノ−６−シクロプロピルアミノ−９ｈ−プリンの製造法 | |
| JP2023033201A (ja) | オラパリブの製造方法 | |
| JP4869537B2 (ja) | テトラヒドロピラン−４−オールの製法 | |
| JP2005521688A (ja) | ２−アニリノ−４，６−ジメチルピリミジンの製造方法 | |
| KR20230034322A (ko) | Pi3k 저해제로서의 화합물의 제조방법 및 이의 제조를 위한 중간체 화합물 | |
| JPH02282354A (ja) | ３―アリールオキシカテコール類の製造方法 | |
| JPH05246961A (ja) | 芳香族アミン誘導体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060815 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100323 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100831 |