JP2006503887A - 比較的短い時間で異性化を可能にするアンサ−メタロセンビフェノキシドのラセモ選択的製造 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F17/00—Metallocenes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
Xが、同一でも異なっていても良く、それぞれフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、C1〜C10アルキル、C6〜C15アリール、アルキル部分に1〜10個の炭素原子を有し、アリール部分に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、−OR9又は−NR9 2{但し、R9が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C10アルキル、C6〜C15アリール、C3〜C10シクロアルキル、アルキルアリールを表す。}を表し、そして
nが、1〜4の整数で、且つ(Mの原子価−2)に相当し、
R1、R2、R4、R5、R7及びR8が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C1〜C20アルキル、置換基としてC1〜C10アルキル基を有していても良い3〜8員のシクロアルキル、C6〜C15アリール、アルキル部分に1〜10個の炭素原子を有し、アリール部分に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、アルキル部分に1〜10個の炭素原子を有し、アリール部分に6〜20個の炭素原子を有するアリールアルキル、−OR10、−SR10、−N(R10)2、−P(R10)2又は−Si(R10)3{但し、R10が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C10アルキル、C6〜C15アリール、C3〜C10シクロアルキル、アルキルアリール(これらの基は部分的又は完全にヘテロ原子で置換されていても良い)を表す。}を表し、
R3及びR6が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、−OR11、−SR11、−N(R11)2、−P(R11)2又は−Si(R11)3{但し、R11が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C10アルキル又はC3〜C10シクロアルキルを表す。}を表し、
Yが、同一でも異なっていても良く、それぞれ
M1が、ケイ素、ゲルマニウム又はスズを表す。}
を表す。]
で表される架橋遷移金属錯体を、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のシクロペンタジエニル誘導体と反応させる工程、及び
得られた反応混合物を−78〜+250℃の範囲の温度に加熱する工程
を含むラセミ体メタロセン錯体を製造する方法で;この方法をフリーラジカル又はフリーラジカル形成剤の添加無し又は添加ありで実施して、下記式(II):
R13〜R17が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、C1〜C20アルキル、置換基としてC1〜C10アルキル基を有していても良い5〜7員のシクロアルキル、C6〜C15アリール、アリールアルキル(これらの隣接する基が一体化して炭素原子数4〜15個の環式基を形成しても良い)、又は−Si(R18)3{但し、R18が、同一でも異なっていても良く、C1〜C10アルキル、C6〜C15アリール又はC3〜C10シクロアルキルを表す。}を表し、
Zが、
を表し、
又は基R16とZが合体して[T(R25)(R26)]m−E−基
{但し、Tが、同一でも異なっても良く、それぞれケイ素、ゲルマニウム、スズ又は炭素を表し、
R25及びR26が、それぞれ水素、C1〜C10アルキル、C3〜C10シクロアルキル又はC6〜C15アリールを表し、
mが、1、2、3又は4を表し、そして
Eが、
(但し、Aが
を表す。}
を表す。]
で表されるラセミ体メタロセンビフェノキシド錯体を形成する方法に関し、また式(II)の対応するラセミ体メタロセンビフェノキシド錯体に関し、そして式(II)のラセミ体メタロセンビフェノキシド錯体を、オレフィン性不飽和化合物の重合のための触媒又は触媒の成分として、或いは立体選択合成における試薬又は触媒として使用する方法に関する。
Xが、同一でも異なっていても良く、それぞれフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、C1〜C10アルキル、C6〜C15アリール、アルキル部分に1〜10個の炭素原子を有し、アリール部分に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、−OR9又は−NR9 2{但し、R9が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C10アルキル、C6〜C15アリール、C3〜C10シクロアルキル、アルキルアリールを表す。}を表し、そして
nが、1〜4の整数で、且つ(Mの原子価−2)に相当し、
R1、R2、R4、R5、R7及びR8が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C1〜C20アルキル、置換基としてC1〜C10アルキル基を有していても良い3〜8員のシクロアルキル、C6〜C15アリール、アルキル部分に1〜10個の炭素原子を有し、アリール部分に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、アルキル部分に1〜10個の炭素原子を有し、アリール部分に6〜20個の炭素原子を有するアリールアルキル、−OR10、−SR10、−N(R10)2、−P(R10)2又は−Si(R10)3{但し、R10が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C10アルキル、C6〜C15アリール、C3〜C10シクロアルキル、アルキルアリール(これらの基は部分的又は完全にヘテロ原子で置換されていても良い)を表す。}を表し、
R3及びR6が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、−OR11、−SR11、−N(R11)2、−P(R11)2又は−Si(R11)3{但し、R11が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C10アルキル又はC3〜C10シクロアルキルを表す。}を表し、
Yが、同一でも異なっていても良く、それぞれ
M1が、ケイ素、ゲルマニウム又はスズを表す。}
を表す。]
で表される。
M1が、ケイ素、ゲルマニウム又はスズを表す。}。
pが、M2がBe、Mg、Ca、Sr、Baの時は1を表し、M2がLi、Na、K、Rb、Csの時は2を表し、
R13〜R17が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、C1〜C20アルキル、置換基としてC1〜C10アルキル基を有していても良い5〜7員のシクロアルキル、C6〜C15アリール又はアリールアルキル(これらの隣接する基が一体化して炭素原子数4〜15個の環式基を形成しても良い)、又は−Si(R18)3{但し、R18が、同一でも異なっていても良く、C1〜C10アルキル、C6〜C15アリール又はC3〜C10シクロアルキルを表す。}を表し、
Zが、
を表し、
又は基R16とZが合体して[T(R25)(R26)]m−E−基
{但し、Tが、同一でも異なっても良く、それぞれケイ素、ゲルマニウム、スズ又は炭素を表し、
R25及びR26が、それぞれ水素、C1〜C10アルキル、C3〜C10シクロアルキル又はC6〜C15アリールを表し、
mが、1、2、3又は4を表し、そして
Eが、
(但し、Aが
を表す。}
を表す。]
で表される化合物である。
pが、M2がアルカリ金属土類イオンの時は1を表し、M2がアルカリ金属イオンの時は2を表す。]
で表される化合物が好ましい。
ジメチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−メチルシクロペンタジエニル)マグネシウム、
ジエチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−メチルシクロペンタジエニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−エチルシクロペンタジエニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(3−tert−ペンチル−5−メチルシクロペンタジエニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2,4,7−トリメチルインデニル)マグネシウム、
1,2−エタンジイルビス(1−{2,4,7−トリメチルインデニル})マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)マグネシウム、
フェニル(メチル)シランジイルビス(2−メチルインデニル)マグネシウム、
ジフェニルシランジイルビス(2−メチルインデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2,4−ジメチル−6−イソプロピルインデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−1−ベンズインデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−プロピル−1−ベンズインデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−フェニル−1−ベンズインデニル)マグネシウム、
ジフェニルシランジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)マグネシウム、
フェニルメチルシランジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)マグネシウム、
エタンジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−1−テトラヒドロベンズインデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−イソプロピル−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−フェニル−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−ナフチル−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−{3,5−トリフルオロメチル}フェニル−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−イソプロピル−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−フェニル−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−ナフチル−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−{3,5−トリフルオロメチル}フェニル−1−インデニル)マグネシウム、
エタンジイルビス(2−メチル−4−ナフチル−1−インデニル)マグネシウム、
エタンジイルビス(2−メチル−4−{3,5−ジ−(トリフルオロメチル)}フェニル−1−インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−シクロヘキシル−4−フェニルインデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−ブチル−4−フェニルインデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−プロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルゲルマンジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジエチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−ブチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイル(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)−(4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−ブチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル−6−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイル(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)−2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
ジメチルシランジイル(2−メチル−4−ナフチルインデニル)(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)マグネシウム、
及び
ジメチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−メチルシクロペンタジエニル)ジリチウム、
ジエチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−メチルシクロペンタジエニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−エチルシクロペンタジエニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(3−tert−ペンチル−5−メチルシクロペンタジエニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2,4,7−トリメチルインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ジリチウム、
フェニル(メチル)シランジイルビス(2−メチルインデニル)ジリチウム、
ジフェニルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2,4−ジメチル−6−イソプロピルインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−1−ベンズインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−プロピル−1−ベンズインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−フェニル−1−ベンズインデニル)ジリチウム、
ジフェニルシランジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)ジリチウム、
フェニルメチルシランジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)ジリチウム、
エタンジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−1−テトラヒドロベンズインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−イソプロピル−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−フェニル−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−ナフチル−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−{3,5−トリフルオロメチル}フェニル−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−イソプロピル−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−フェニル−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−ナフチル−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−{3,5−トリフルオロメチル}フェニル−1−インデニル)ジリチウム、
エタンジイルビス(2−メチル−4−フェニル−1−インデニル)ジリチウム、
エタンジイルビス(2−メチル−4−ナフチル−1−インデニル)ジリチウム、
エタンジイルビス(2−メチル−4−{3,5−ジ(トリフルオロメチル)}フェニル−1−インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−シクロヘキシル−4−フェニルインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−ブチル−4−フェニルインデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−プロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジエチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−ブチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイル(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)−(4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−ブチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル−6−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイル(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)−2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
ジメチルシランジイル(2−メチル−4−ナフチルインデニル)(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジリチウム、
及びこれらの化合物の、例えばTHF、DME、TMEDAによるルイス塩基付加体を挙げることができる。
a)式(IVa)及び(IVb):
R19、R20、R21及びR23が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、C1〜C20アルキル、置換基としてC1〜C10アルキル基を有していても良い5〜7員のシクロアルキル、C6〜C15アリール又はアリールアルキル(これらの隣接する基が一体化して炭素原子数4〜15個の環式基を形成しても良い)、又は−Si(R24)3{但し、R24が、同一でも異なっていても良く、C1〜C10アルキル、C6〜C15アリール又はC3〜C10シクロアルキルを表す。}を表す。]
により表されるシクロペンタジエン化合物を好適な脱プロトン剤により脱プロトン化する工程、
b)脱プロトン化された化合物(IVa)及び(IVb)を、下記:
[T(R25)(R26)]mHal2
[但し、Halが、F、Cl、Br又はIのハロゲン置換基を表し、
Tが、同一でも異なっても良く、それぞれケイ素、ゲルマニウム、スズ又は炭素を表し、
R25及びR26が、それぞれ水素、C1〜C10アルキル、C3〜C10シクロアルキル又はC6〜C15アリールを表し、そして
mが、1、2、3又は4を表す。]
で表される化合物と反応させ、次いで好適な脱プロトン剤により脱プロトン化を繰り返し行って式(IIIa):
pが、M2がアルカリ金属土類イオンの時は1を表し、M2がアルカリ金属イオンの時は2を表す。]
で表される化合物を形成する工程、
c)式(IIIa)の化合物を、式(I):
で表される遷移金属錯体と反応させる工程。
R13〜R17が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、C1〜C20アルキル、置換基としてC1〜C10アルキル基を有していても良い5〜7員のシクロアルキル、C6〜C15アリール又はアリールアルキル(これらの隣接する基が一体化して炭素原子数4〜15個の環式基を形成しても良い)、又は−Si(R18)3{但し、R18が、同一でも異なっていても良く、C1〜C10アルキル、C6〜C15アリール又はC3〜C10シクロアルキルを表す。}を表し、
Zが、
を表し、
又は基R16とZが合体して[T(R25)(R26)]m−E−基
{但し、Tが、同一でも異なっても良く、それぞれケイ素、ゲルマニウム、スズ又は炭素を表し、
R25及びR26が、それぞれ水素、C1〜C10アルキル、C3〜C10シクロアルキル又はC6〜C15アリールを表し、
mが、1、2、3又は4を表し、そして
Eが、
(但し、Aが
を表す。}
を表す。]。
ジメチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジエチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(3−tert−ブチル−5−エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(3−tert−ペンチル−5−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2,4,7−トリメチルインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
1,2−エタンジイルビス(1−{2,4,7−トリメチルインデニル})ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
フェニル(メチル)シランジイルビス(2−メチルインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジフェニルシランジイルビス(2−メチルインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2,4−ジメチル−6−イソプロピルインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−1−ベンズインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−プロピル−1−ベンズインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−フェニル−1−ベンズインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジフェニルシランジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
フェニルメチルシランジイルビス(2−メチル−1−ベンズインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−1−テトラヒドロベンズインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−イソプロピル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−フェニル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−ナフチル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−{3,5−トリフルオロメチル}フェニル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−イソプロピル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−フェニル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−ナフチル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−{3,5−トリフルオロメチル}フェニル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
エタンジイルビス(2−メチル−4−フェニル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
エタンジイルビス(2−メチル−4−ナフチル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
エタンジイルビス(2−メチル−4−{3,5−ジ(トリフルオロメチル)}フェニル−1−インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイル(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−シクロヘキシル−4−フェニルインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−ブチル−4−フェニルインデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−プロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジエチルシランジイルビス(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−ブチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイル(2−メチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−ブチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)−6−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイルビス(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
ジメチルシランジイル(2−エチル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、及び
ジメチルシランジイル(2−メチル−4−ナフチルインデニル)(2−イソプロピル−4−(4´−tert−ブチルフェニル)インデニル)ジルコニウム 3,3´−ジ−tert−ブチル−5,5´−ジメトキシ−1,1´−ビ−2−フェノキシド、
である。
bp=1,1’−ビ−2−フェノキシド
bip=3,3’,5,5’−テトラ−t−ブチル−1,1’−ビ−2−フェノキシド
bap=3,3’−ジ−tert−ブチル−5,5’−ジメトキシ−1,1’−ビ−2−フェノキシド
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した500mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ(three-necked round-bottom flask)中で、8.52g(35.56ミリモル)のZrCl4を125mlのトルエンに懸濁させた。懸濁液を氷浴中で約4℃まで冷却した。次いで、7gのTHFを、滴下ろう斗を介してゆっくり添加した。得られた懸濁液を室温まで暖め、約1時間撹拌した。
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した500mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、15.9g(36.53ミリモル)のbipH2を150mlのトルエン及び7.0gのTHFに溶解させた。その溶液を氷浴中で約4℃に冷却し、次いで27.5mlのBuLi溶液を、滴下ろう斗を介して15分間に亘ってゆっくりと添加した。その後、反応混合物を室温に暖め、室温で1時間撹拌した。
工程b)で得た溶液を、窒素存在下にシリンジを用いて工程a)で得た懸濁液に室温にて数分間に亘って移した。残さのbipLi2を10mlのトルエンですすいだ。反応混合物を、室温で5時間撹拌した。次いで混合物を80℃に加熱した。
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した1000mlの乾燥乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、11.2g(35.53ミリモル)のジメチルシリルビス(2−メチルインデニル)を、130mlのトルエン及び7.0gのTHFに懸濁させた。室温にて、26.5mlのBuLi溶液を室温で20分に亘って撹拌しながらゆっくり滴下した。得られた懸濁液を室温で2時間撹拌し、次いで80℃に加熱した。
工程c)で得た懸濁液を、工程d)で得た懸濁液に、窒素雰囲気下、80℃にて数分間に亘ってシリンジにより移した。工程c)で得たジルコニウム化合物の残さを、10mlのトルエンですすいだ。得られた懸濁液を100℃に加熱し、この温度で2時間撹拌した。次いで、反応混合物を室温まで冷却し、さらに60時間撹拌した。反応混合物の1H−NMRスペクトルは、約3:1のrac/meso比を示した。次いで、反応混合物を100℃でさらに3時間撹拌し、その後1H−NMRスペクトルにより測定されたrac/meso比は、約5:1であった。次いで、混合物を100℃でさらに5時間撹拌した。その後、反応混合物の1H−NMRスペクトルは、約19:1のrac/meso比を示した。次いで懸濁液を、高温のまま、シリンジによりガラスフィルタフリットNo.4に移し、バルブ付きの1000mlの丸底フラスコにろ過した。沈殿を25mlのトルエンで2回洗浄し、次いで、ろ液を40℃にて減圧下に濃縮した。360mlの溶剤を除去した。錯体を室温で結晶化させた。−20℃で6日間冷却した後、沈殿をろ別し、20mlのトルエンで洗浄し、減圧下乾燥した。これにより、1H−NMRで決定された純粋なrac(ラセミ)体の目標の化合物を合計で17.32g得た。収率:50.4%。
上記調製を、実施例1の工程a)で記載されたように実施した。但し、使用した量は8.85g(37.97ミリモル)のZrCl4、115mlのトルエン及び7gのTHFであった。
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した500mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、13.61gのbapH2を115mlのトルエン及び7.0gのTHFに溶解させた。29mlの20質量%BuLi溶液を、滴下ろう斗を介して15分間に亘ってゆっくりと溶液に滴下した。添加終了後、反応混合物を1時間撹拌した。
工程a)で得た懸濁液を、窒素存在下にシリンジを用いて工程c)で得た懸濁液に室温にて数分間に亘って移した。bapLi2の残さを10mlのトルエンで洗浄し、添加した。反応混合物を、室温で3時間撹拌し、次いで混合物を80℃に加熱した。
上記反応工程を、実施例1、d)で記載されたように実施した。但し、使用した量は11.5g(36.33ミリモル)のジメチルシリルビス(2−メチルインデニル)、115mlのトルエン及び7.0gのTHFであった。28.0mlの20質量%濃度BuLi溶液を加えた。次いで、混合物を、80℃に加熱した。
工程c)で得た懸濁液を、工程d)で得た懸濁液に、窒素雰囲気下、80℃にて数分間に亘ってシリンジにより移した。ジルコニウム化合物の残さを、10mlのトルエンですすいだ。得られた懸濁液を100℃に加熱し、この温度で3時間撹拌した。1H−NMRスペクトルは、錯体のrac体への完全異性化を示した。反応混合物を、ガラスフィルタフリットNo.4を介してバルブ付きの1000mlの丸底フラスコにろ過し、ろ液を減圧下40℃で濃縮した。370mlの溶剤を除去した。目標の錯体を室温で結晶化させ、デカンテーションにより単離させ、減圧下に乾燥した。これにより、純粋なrac(ラセミ)体の目標の化合物を合計で17.59g得た。収率:63.5%。
a)ZrCl4(DME)の調製
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した500mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、6.3g(27.03ミリモル)のZrCl4を110mlのトルエンに懸濁させた。懸濁液を氷浴中で約4℃まで冷却した。次いで、6.0gのDMEを、滴下ろう斗を介して15分間に亘ってゆっくり添加した。得られた懸濁液を室温まで暖め、約1時間撹拌した。
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した500mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、11.10g(27.03ミリモル)のbipH2を200mlのトルエン及び6.0gのDMEに溶解させた。この溶液を氷浴中で約4℃に冷却した。25mlの20質量%BuLi溶液を、滴下ろう斗を介して15分間に亘ってゆっくりと滴下した。その後、反応混合物を室温まで暖め、さらに1時間撹拌した。反応混合物を50℃に加熱し、この温度で2時間撹拌し、そして室温に冷却して戻した。
工程b)で得た懸濁液を、窒素存在下にシリンジを用いて工程a)で得た白色懸濁液に室温にて数分間に亘って移した。bipLi2の残さを10mlのトルエンで洗浄し、添加した。反応混合物を、室温で12時間撹拌した。1H−NMRスペクトルがまだ反応は終了していない事を示したので、混合物を80℃に加熱し、これにより実質的に反応を終了させた。
不活性ガスでフラッシュした、マグネティック撹拌棒、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した1000mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、10.70g(25.68ミリモル)のジメチルシリルビス(2−メチルベンズインデニル)を120mlのトルエン及び6.0gのDMEに溶解させた。室温で、19.5mlの20質量%濃度BuLi溶液を、20分間に亘ってゆっくり滴下した。懸濁液を80℃に加熱し、さらに2時間撹拌した。
工程c)で得た懸濁液を、工程d)で得た懸濁液に、窒素雰囲気下、80℃にて数分間に亘ってシリンジにより移した。ジルコニウム化合物の残さを、10mlのトルエンを用いて洗浄し、添加した。得られた懸濁液を100℃に加熱し、この温度で3時間撹拌した。次いで、それを室温まで冷却した。1H−NMRスペクトルは、目標の錯体が約1.9:1のrac/meso比で形成していることを示した。懸濁液を室温でさらに12時間撹拌し、その後100℃で8時間加熱した。このときの1H−NMRスペクトルは、目標の錯体が約3.9:1のrac/meso比で形成していることを示した。
上記ジルコニウム−DME付加体の合成を、実施例3の工程a)で記載されたように実施した。但し、使用した量は12.60gのジルコニウムテトラクロリド、150mlのトルエン及び10.0gのDMEであった。
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した500mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、19.38gのbapH2を200mlのトルエン及び10.0gのDMEに溶解させた。この溶液を氷浴中で約4℃に冷却し、次いで25mlの20質量%濃度BuLi溶液を15分間に亘って滴下ろう斗を介して滴下した。約1/3のBuLi溶液を添加した後、反応混合物は塊を形成した。反応混合物を70℃に加熱し、塊を溶解させた。BuLi溶液の残りを70℃で添加した。添加終了後、撹拌可能な懸濁液を得、これを室温まで冷却した。
工程a)で得た懸濁液を、窒素存在下にシリンジを用いて工程b)で得た懸濁液に室温にて数分間に亘って移した。ジルコニウム化合物の残さを10mlのトルエンですすいだ。反応混合物を、室温で60時間撹拌した。1H−NMRスペクトルが、反応は終了していない事を示したので、懸濁液を80℃に加熱し。この後、実質的に反応を終了させた。
上記調製を、実施例3の工程d)で記載されたように実施した。但し、使用した量は、21.4gのジメチルシリル−2−メチルベンズインデニル、10.0gのDME及び39.0mlの20%濃度BuLi溶液であった。
工程c)で得た懸濁液を、工程d)で得た懸濁液に、窒素雰囲気下、80℃にて数分間に亘ってシリンジにより移した。ジルコニウム化合物の残さを、10mlのトルエンを用いて洗浄し、添加した。得られた懸濁液を100℃に加熱し、この温度で12時間撹拌した。次いで、それを室温まで冷却した。1H−NMRスペクトルは、目標の錯体が約9:1のrac/meso比で形成していることを示した。
上記化合物の調製を、実施例1で記載されたように実施した。但し、使用した量は7.75g(33.25ミリモル)のZrCl4、130mlのトルエン及び6.5gのTHFであった。
上記化合物の調製を、実施例1で記載されたように実施した。但し、使用した量は13.65g(33.24ミリモル)のbipH2、130mlのトルエン及び6.5gのTHFであった。
上記化合物の調製を、上記溶液b)及びa)を用いて、実施例1、c)で記載されたように実施した。得られた懸濁液を80℃に加熱した。
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した1000mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、19.50mlのジメチルシリルビスインデニルリガンドを150mlのトルエン及び8gのTHFに溶解させた。室温で、24mlの20質量%濃度BuLi溶液を、20分間に亘ってゆっくり滴下した。得られた懸濁液を80℃に加熱し、さらに1.5時間撹拌した。
工程c)で得た懸濁液を、工程d)で得た懸濁液に、窒素雰囲気下、80℃にて数分間に亘ってシリンジにより移した。ジルコニウム化合物の残さを、10mlのトルエンを用いて洗浄し、添加した。得られた懸濁液を100℃で3時間撹拌した。次いで懸濁液を、高温のまま、シリンジによりガラスフィルタフリットNo.4に移し、バルブ付きの1000mlの丸底フラスコにろ過した。白色沈殿を10mlのトルエンで洗浄した。ろ液を乾燥するまで減圧下に蒸発させ、38.9g(110%)の粗生成物を得た。
上記化合物の調製を、実施例1で記載されたように実施した。但し、使用した量は5.15g(22.10ミリモル)のZrCl4、100mlのトルエン及び4.1gのTHFであった。
上記化合物の調製を、実施例2で記載されたように実施した。但し、使用した量は7.92g(22.10ミリモル)のbapH2、100mlのトルエン及び16.5mlの20質量%濃度BuLi溶液であった。
上記化合物の調製を、実施例2で記載されたように実施した。得られた懸濁液を85℃に加熱した。
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した1000mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、13.0g(21.34ミリモル)のジメチルシリルビスインデニルリガンドを120mlのトルエン及び6.0gのTHFに溶解させた。室温で、16.0mlの20質量%濃度BuLi溶液を、20分間に亘ってゆっくり滴下した。混合物を80℃に加熱し、さらに1.5時間撹拌した。懸濁液を最後に85に加熱した。
工程c)で得た懸濁液を、工程d)で得た懸濁液に、85℃にて数分間に亘ってシリンジにより移した。ジルコニウム化合物の残さを、10mlのトルエンを用いて洗浄し、添加した。得られた懸濁液を100℃に加熱し、この温度で3時間撹拌した。1H−NMRスペクトルは、目標化合物のラセミ化合物体の形成が実質的に完了したことを示した。懸濁液を、高温のままシリンジによりガラスフィルタフリットNo.4に移し、バルブ付きの1000mlの丸底フラスコにろ過した。沈殿を10mlのトルエンで洗浄した。ろ液を減圧下で濃縮し、150mlの溶剤を除去した。フラスコを−20℃で25日間保管し、これにより沈殿が形成した。沈殿をろ過及び減圧下の乾燥により単離させた。これにより、純粋なrac(ラセミ)体の目標の化合物を合計で14.37g(58%)得た。
上記化合物の調製を、実施例1で記載されたように実施した。但し、使用した量は7.61g(32.65ミリモル)のZrCl4、120mlのトルエン及び6.5gのTHFであった。
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した500mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、6.08gの1,1’−ビ−2−フェノール(bpH2)を110mlのトルエン及び6.5gのTHFに溶解させた。この溶液を氷浴中で約4℃に冷却し、その後24.5mlの20質量%BuLi溶液を、滴下ろう斗を介して15分間に亘ってゆっくりと添加した。懸濁液を室温まで暖め、さらに1時間撹拌した。
工程b)で得た懸濁液を、窒素存在下にシリンジを用いて工程a)で得た懸濁液に室温にて数分間に亘って移した。bpLi2の残さを10mlのトルエンで洗浄して添加した。懸濁液を室温で4時間撹拌し、次いで80℃に加熱した。
不活性ガスでフラッシュした、滴下ろう斗及びバルブ付き真空回路を具備した1000mlの乾燥三ッ口丸底フラスコ中で、19.0gのジメチルシリルビスインデニル化合物を150mlのトルエン及び8.0gのTHFに懸濁させた。室温で、23.5mlのBuLi溶液を、20分間に亘ってゆっくり滴下した。次いで、懸濁液を60℃に加熱し、さらに1時間撹拌した。その後、懸濁液を85に加熱した。
工程c)で得た懸濁液を、工程d)で得た懸濁液に、窒素雰囲気下、85℃にて数分間に亘ってシリンジにより移した。ジルコニウム化合物の残さを、10mlのトルエンを用いて洗浄し、添加した。得られた懸濁液を100℃で合計12時間撹拌し、次いで約70℃に冷却した。
Claims (13)
- 式(I):
Xが、同一でも異なっていても良く、それぞれフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、C1〜C10アルキル、C6〜C15アリール、アルキル部分に1〜10個の炭素原子を有し、アリール部分に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、−OR9又は−NR9 2{但し、R9が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C10アルキル、C6〜C15アリール、C3〜C10シクロアルキル、アルキルアリールを表す。}を表し、そして
nが、1〜4の整数で、且つ(Mの原子価−2)に相当し、
R1、R2、R4、R5、R7及びR8が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C1〜C20アルキル、置換基としてC1〜C10アルキル基を有していても良い3〜8員のシクロアルキル、C6〜C15アリール、アルキル部分に1〜10個の炭素原子を有し、アリール部分に6〜20個の炭素原子を有するアルキルアリール、アルキル部分に1〜10個の炭素原子を有し、アリール部分に6〜20個の炭素原子を有するアリールアルキル、−OR10、−SR10、−N(R10)2、−P(R10)2又は−Si(R10)3{但し、R10が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C10アルキル、C6〜C15アリール、C3〜C10シクロアルキル、アルキルアリール(これらの基は部分的又は完全にヘテロ原子で置換されていても良い)を表す。}を表し、
R3及びR6が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、−OR11、−SR11、−N(R11)2、−P(R11)2又は−Si(R11)3{但し、R11が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C10アルキル又はC3〜C10シクロアルキルを表す。}を表し、
Yが、同一でも異なっていても良く、それぞれ
M1が、ケイ素、ゲルマニウム又はスズを表す。}
を表す。]
で表される遷移金属錯体を、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のシクロペンタジエニル誘導体と反応させる工程、及び
得られた反応混合物を−78〜+250℃の範囲の温度に加熱する工程
を含むラセミ体メタロセンビフェノキシド錯体を製造する方法。 - 下記の連続工程:
a)式(IVa)及び(IVb):
R19、R20、R21及びR23が、同一でも異なっていても良く、それぞれ水素、C1〜C20アルキル、置換基としてC1〜C10アルキル基を有していても良い5〜7員のシクロアルキル、C6〜C15アリール又はアリールアルキル(これらの隣接する基が一体化して炭素原子数4〜15個の環式基を形成しても良い)、又は−Si(R24)3{但し、R24が、同一でも異なっていても良く、C1〜C10アルキル、C6〜C15アリール又はC3〜C10シクロアルキルを表す。}を表す。]
により表される化合物を好適な脱プロトン剤により脱プロトン化する工程、
b)脱プロトン化された化合物(IVa)及び(IVb)を、下記:
[T(R25)(R26)]mHal2
[但し、Halが、F、Cl、Br又はIのハロゲン置換基を表し、
Tが、同一でも異なっても良く、それぞれケイ素、ゲルマニウム、スズ又は炭素を表し、
R25及びR26が、それぞれ水素、C1〜C10アルキル、C3〜C10シクロアルキル又はC6〜C15アリールを表し、そして
mが、1、2、3又は4を表す。]
で表される化合物と反応させ、次いで好適な脱プロトン剤により脱プロトン化を繰り返し行って式(IIIa):
pが、M2がアルカリ金属土類イオンの時は1を表し、M2がアルカリ金属イオンの時は2を表し、
T、R25、R26及びmが前記と同義である。]
で表される化合物を形成する工程、
c)式(IIIa)の化合物を、式(I):
で表される遷移金属錯体と反応させる工程
を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 脱プロトン化剤が、n−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、水素化ナトリウム、カリウムtert−ブトキシド、マグネシウムのグリニャール試薬、ジ−n−ブチルマグネシウム及び(n,s)−ジブチルマグネシウム等のマグネシウム化合物、並びに他の適当なアルキルアルカリ土類金属化合物及びアルキルアルカリ金属化合物から選択される請求項2に記載の方法。
- 個々の処理工程の後に中間体を単離することなく行う請求項2又は3に記載の方法。
- 式(IIIa)の化合物において、M2がマグネシウムを表し、R17及びR23が、それぞれ水素、又はC1〜C10アルキル、特にメチル、エチル、i−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、i−ブチル、ヘキシル;又はC6〜C10アリール、特にフェニル;又はトリアルキルシリル、特にトリメチルシリルを表し、そしてT(R25)(R26)が、ビスC1〜C10アルキルシリル又はビス−C6〜C10アリールシリル、特にジメチルシリル、ジフェニルシリル、1,2−エタンジイル、メチレンを表し;そして基R13〜R15及びR19〜R21が、特にインデニル系環又はベンズインデニル系環を形成する請求項2〜4のいずれか1項に記載の方法。
- シクロペンタジエニル誘導体と式(I)の化合物との反応を、フリーラジカル又はフリーラジカル形成剤を当該反応混合物に添加して行う請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
- 式(I)のR1及びR8が嵩高い置換基である請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- 式(I)のR3及びR6が、それぞれメトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、tert−ブチルオキシ、シクロプロピルオキシ又はシクロヘキシルオキシである請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 式(I)の架橋基Yが同一で、且つ酸素である請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- マグネシウム又はリチウムのシクロペンタジエニル誘導体を使用する請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 式(II):
R13〜R17が、同一でも異なっていても良く、それぞれC1〜C20アルキル、置換基としてC1〜C10アルキル基を有していても良い5〜7員のシクロアルキル、C6〜C15アリール又はアリールアルキル(これらの隣接する基が一体化して炭素原子数4〜15個の環式基を形成しても良い)、又は−Si(R18)3{但し、R18が、同一でも異なっていても良く、C1〜C10アルキル、C6〜C15アリール又はC3〜C10シクロアルキルを表す。}を表し、
Zが、
を表し、
又は基R16とZが合体して[T(R25)(R26)]m−E−基
{但し、Tが、同一でも異なっても良く、それぞれケイ素、ゲルマニウム、スズ又は炭素を表し、
R25及びR26が、それぞれ水素、C1〜C10アルキル、C3〜C10シクロアルキル又はC6〜C15アリールを表し、
mが、1、2、3又は4を表し、そして
Eが、
(但し、Aが
を表す。}
を表す。]
で表されるラセミ体メタロセンビフェノキシド錯体。 - R17及びR23が、基R16とZが合体して[T(R25)(R26)]m−E−基を形成した場合、水素ではない請求項11に記載のラセミ体メタロセンビフェノキシド錯体。
- 請求項11又は12に記載のラセミ体メタロセンビフェノキシド錯体を、オレフィン性不飽和化合物の重合のための触媒又は触媒の成分として、或いは立体選択合成における試薬又は触媒として使用する方法。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001517673A (ja) * | 1997-09-23 | 2001-10-09 | バーゼル、ポリプロピレン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | ラセミメタロセン錯体の選択的製造 |
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Patent Citations (2)
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---|---|---|---|---|
JP2001517673A (ja) * | 1997-09-23 | 2001-10-09 | バーゼル、ポリプロピレン、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | ラセミメタロセン錯体の選択的製造 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017507017A (ja) * | 2014-02-11 | 2017-03-16 | ユニベーション・テクノロジーズ・エルエルシー | ポリオレフィン生成物の生成 |
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