JP2006035853A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006035853A5 JP2006035853A5 JP2005179158A JP2005179158A JP2006035853A5 JP 2006035853 A5 JP2006035853 A5 JP 2006035853A5 JP 2005179158 A JP2005179158 A JP 2005179158A JP 2005179158 A JP2005179158 A JP 2005179158A JP 2006035853 A5 JP2006035853 A5 JP 2006035853A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- forming
- protective layer
- ink
- layer
- heating element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 6
- 238000005338 heat storage Methods 0.000 claims 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N Silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 230000001681 protective Effects 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims 1
Claims (4)
- インクを吐出するための複数の吐出口と、該複数の吐出口にそれぞれ連通する複数のインク流路と、該複数のインク流路に液体を供給するためのインク供給口と、を備えるインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
シリコン基板を用意する工程と、
該シリコン基板の第1の面に、蓄熱層を形成する工程と、
該蓄熱層に、前記インク供給口と連通するための複数の貫通孔を形成する工程と、
該蓄熱層の上にインクを吐出するために利用されるエネルギーを発生する発熱体を形成する工程と、
前記蓄熱層と前記発熱体上に前記発熱体の保護層を形成する工程と、
該保護層の上に、前記複数の吐出口と前記複数のインク流路とを構成する流路構成部材を形成する工程と、
前記シリコン基板に、前記インク供給口を、基板の前記第1の面と対向する第2の面側から異方性エッチングによって形成する工程と、
前記保護膜の一部を、前記貫通孔が形成された前記蓄熱層をマスクとして除去し、前記複数の貫通孔によるフィルタを形成する工程と、を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記保護層は酸化シリコンまたはチッ化シリコンを含む、請求項1に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記保護層の形成後、該保護層の前記発熱体に対応する部位上にタンタル膜を積層する工程をさらに有する、請求項1または2に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記保護層の形成後、該保護層上に、前記流路構成部材と前記保護層との密着を向上させるための熱可塑性樹脂からなる密着向上層を形成する工程をさらに有する、請求項1または2に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005179158A JP4378322B2 (ja) | 2004-06-25 | 2005-06-20 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004188890 | 2004-06-25 | ||
JP2005179158A JP4378322B2 (ja) | 2004-06-25 | 2005-06-20 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006035853A JP2006035853A (ja) | 2006-02-09 |
JP2006035853A5 true JP2006035853A5 (ja) | 2008-08-07 |
JP4378322B2 JP4378322B2 (ja) | 2009-12-02 |
Family
ID=35901334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005179158A Expired - Fee Related JP4378322B2 (ja) | 2004-06-25 | 2005-06-20 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4378322B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7134831B2 (ja) | 2018-10-17 | 2022-09-12 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4898171B2 (ja) * | 2005-09-02 | 2012-03-14 | セイコーインスツル株式会社 | 発熱抵抗素子部品の製造方法、およびそれを用いた製造されたサーマルヘッドおよびプリンタ |
US8241510B2 (en) * | 2007-01-22 | 2012-08-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Inkjet recording head, method for producing same, and semiconductor device |
JP4721465B2 (ja) * | 2008-08-28 | 2011-07-13 | キヤノン株式会社 | 記録ヘッド及び記録ヘッドの製造方法 |
JP5701014B2 (ja) | 2010-11-05 | 2015-04-15 | キヤノン株式会社 | 吐出素子基板の製造方法 |
-
2005
- 2005-06-20 JP JP2005179158A patent/JP4378322B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7134831B2 (ja) | 2018-10-17 | 2022-09-12 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005178364A5 (ja) | ||
CN101557938B (zh) | 具有改进的腔室壁的液体喷射器及其制作方法 | |
JP4594755B2 (ja) | インクジェットプリントヘッドを作製する方法 | |
JP4850637B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法および液体吐出ヘッド | |
JP2005212486A5 (ja) | ||
US8714711B2 (en) | Liquid recording head and method of manufacturing the same | |
US8449783B2 (en) | Method of manufacturing liquid ejection head substrate | |
JP2008114589A5 (ja) | ||
JP2009132133A5 (ja) | ||
JP2009012223A5 (ja) | ||
JP2006035853A5 (ja) | ||
JP2007230234A5 (ja) | ||
US8597529B2 (en) | Method for processing substrate and method for producing liquid ejection head and substrate for liquid ejection head | |
JP2008087410A5 (ja) | ||
KR101301497B1 (ko) | 잉크젯 프린트헤드 및 그 제조방법 | |
JPH11138817A (ja) | 液体噴射ヘッドおよびその製造方法 | |
JP4378322B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JP5043539B2 (ja) | 液体噴射記録ヘッドの製造方法 | |
JP5294657B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド | |
JP2006130742A5 (ja) | ||
TWI232802B (en) | High density jetting apparatus | |
US20070019039A1 (en) | Thermally driven inkjet printhead | |
JP2006130766A (ja) | 液体吐出ヘッド用基板及びその製造方法 | |
JP2008126481A (ja) | インクジェット記録ヘッド用基板の製造方法、およびインクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JP2007168115A (ja) | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |