JP2006023369A - サンドブラスト用感光性樹脂積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 特定のポリウレタンプレポリマーと、アルカリ可溶性高分子と、光重合開始剤と、エチレン性不飽和付加重合性モノマーより成る感光性樹脂組成物、またはそれを支持体上に積層した感光性樹脂積層体を用いて、サンドブラスト表面加工を行う。
【選択図】 なし
Description
このような微細な隔壁パターンを歩留り良く製造する為に、支持体となるフィルム上に感光性樹脂層を積層し、更に必要に応じ保護層を積層したサンドブラスト用感光性樹脂積層体が用いられている。
最近、プラズマディスプレイパネルの需要が急速に拡大していることに伴い、パネルの生産性を向上させる為に、1枚の大型の基板に2〜3枚又はそれ以上のパネルを同時に一括製造し、その後で個々のパネルに切り分ける、いわゆるパネルの多面取りが進んでいる。現状、1m幅で1.5m長さ程度の大型の基板を使用し、42インチサイズのパネルを3面取りするところもある。
このような大型の基板上に、上記のようなサンドブラスト用の感光性樹脂積層体を用いてレジストパターンを形成する場合に、現像工程において大きな課題がある。
またふたつ目の課題として、最近の世界的な環境に対する取り組みの中から鉛フリーの材料に対する要望が強くなってきた。プラズマディスプレイパネルの背面板に好適に使用される低融点ガラスには通常鉛が含有されており、鉛フリーの低融点ガラスに転換するべく開発が進められている。鉛を含有させずに低融点を達成する一つの方法のとしては、アルカリガラスを低融点ガラスの構成成分に加えることが知られている。
ところが、このようなアルカリ成分を多量に含む低融点ガラス基板上に、従来の感光性樹脂積層体を用いてレジストパターンを形成する場合には、現像工程においてレジストパターンが基板に充分に密着せずに剥がれてしまう傾向がある(特許文献1参照)。特に、現像工程における現像時間や、その後につづく水洗時間が増大(過剰水洗)すると、その傾向がさらに顕著となる。
これまで、サンドブラスト用の感光性樹脂組成物や感光性樹脂積層体が多数開示されている。例えば、二つの感光性樹脂層を積層してなる感光性樹脂積層体(特許文献2参照)、特定の構造単位を含有する感光性樹脂積層体(特許文献3参照)などが開示されている。しかしながら、これらの感光性樹脂組成物や感光性樹脂積層体を用いた場合でも、前述したプラズマディスプレイパネル大型化や鉛フリー化に伴う要望には十分に応えられていないのが現状である。
1)(i)末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマー(a)と、ポリイソシアネート(b)と、活性水素を有する官能基とエチレン性不飽和結合を分子内に共に有する化合物(c)より得られるポリウレタンプレポリマー10〜70質量%と、(ii)アルカリ可溶性高分子10〜70質量%と、(iii)光重合開始剤0.01〜20質量%と、(iv)エチレン性不飽和付加重合性モノマー5〜40質量%より成る感光性樹脂組成物において、前記末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマー(a)の50質量%以上が、下記化学式(1)または(2)で示される化合物からなる群より選ばれる1種類以上の化合物であることを特徴とするサンドブラスト用感光性樹脂組成物。
2)末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマー(a)の50質量%以上が、下記化学式(3)〜(9)のいずれかで示される化合物、又は複数の該化合物の混合物である(1)記載のサンドブラスト用感光性樹脂組成物。
3) 基材フィルムからなる支持体(A)上に、(1)または(2)記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を積層したサンドブラスト用感光性樹脂積層体。
4) 被加工基材上に(1)若しくは(2)記載の感光性樹脂組成物、または(3)記載の感光性樹脂積層体を用いて感光性樹脂層を形成し、露光工程、現像工程によりレジストパターンを形成した後、サンドブラスト処理を行うことを特徴とする表面加工方法。
5) 被加工基材上に(1)若しくは(2)記載の感光性樹脂組成物、または請求項(3)記載の感光性樹脂積層体を用いて感光性樹脂層を形成し、露光工程、現像工程によりレジストパターンを形成した後、サンドブラスト処理を行う工程を含むプラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法。
本発明の組成物の(i)成分のポリウレタンプレポリマーは、末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマー(a)とポリイソシアネート(b)の付加重合により得られるポリウレタンの末端イソシアネート基に対して、活性水素を有する官能基とエチレン性不飽和結合を分子内に共に有する化合物(c)を反応させることによって得られる。
本発明で用いられる、末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマー(a)は、下記化学式(1)または(2)で示される化合物を少なくとも1種類以上含有することが必須である。
上記化学式(1)において、pは、レジストパターンの密着性向上の観点から4以上が好ましく現像性維持の観点から70以下が好ましい。より好ましくは6以上、55以下である。qは、レジストパターンの密着性向上の観点から0以上10以下が好ましい。rはレジストパターンの密着性向上の観点から0以上10以下が好ましい。
上記化学式(1)または(2)で示される化合物の中で最も好ましい化合物は、上記化学式(3)で示される化合物である。レジストパターンの密着性向上の観点から好ましい。
上記化学式(1)または(2)で示される化合物の水酸基価は、22〜380mgKOH/gが好ましい。レジストパターンの密着性を向上させる点から380mgKOH/g以下が好ましく、良好な現像性を維持する点から22mgKOH/g以上が好ましい。より好ましくは28〜230mgKOH/gである。更に好ましくは32〜115mgKOH/gである。極めて好ましくは32〜78mgKOH/gである。
そのようなモノマーとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールなどのグリコール類等が挙げられる。本発明のポリウレタンプレポリマーにカルボン酸を導入する場合には、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等の、分子内にカルボキシル基を有するジオール等を用いることもできる。
本発明で用いられる、ポリイソシアネート(b)としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、o−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、α,α’−ジメチル−o−キシリレンジイソシアネート、α,α’−ジメチル−m−キシリレンジイソシアネート、α,α’−ジメチル−p−キシリレンジイソシアネート、α,α,α’−トリメチル−o−キシリレンジイソシアネート、α,α,α’−トリメチル−m−キシリレンジイソシアネート、α,α,α’−トリメチル−p−キシリレンジイソシアネート、α,α,α’,α’−テトラメチル−o−キシリレンジイソシアネート、α,α,α’,α’−テトラメチル−m−キシリレンジイソシアネート、α,α,α’,α’−テトラメチル−p−キシリレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネートなどが挙げられる。ジイソシアネート化合物の芳香環を水添化した化合物、例えばm−キシリレンジイソシアネートの水添化物(三井武田ケミカル製タケネート600)なども挙げられる。
(i)成分のポリウレタンプレポリマーの重量平均分子量は1,500以上500以下が好ましい。耐サンドブラスト性を維持する点から1,500以上が好ましく、現像性を維持する点から50,000以下が好ましい。より好ましくは5,000以上30,000以下である。更に好ましくは9,000以上25,000以下である。ここでいう重量平均分子量とはGPC法(カラム:昭和電工(株)製Shodex(登録商標)(KF−807、KF−806M、KF−806M、KF−802.5)4本直列、移動層溶媒:テトラヒドロフラン)によるポリスチレン換算重量平均分子量のことである
(i)成分のポリウレタンプレポリマーの骨格にカルボン酸を導入する場合には、ポリウレタンプレポリマーの酸価が0〜10mgKOH/gであることがレジストパターンの密着性を向上させる点で好ましい。より好ましくは0〜7mgKOH/gである。酸価とは、試料1gに含まれる遊離脂肪酸を中和するのに必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。
(i)成分のポリウレタンプレポリマーの含有量は感光性樹脂組成物の全質量基準で10質量%以上70質量%以下が好ましく、より好ましくは20質量%以上65質量%以下、更に好ましくは25質量%以上60質量%以下である。十分な耐サンドブラスト性を確保する点から10質量%以上であり、現像性を確保する点から70質量%以下が好ましい。
(i)成分のポリウレタンプレポリマーはそれぞれ単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の組成物の(ii)成分のアルカリ可溶性高分子としてはカルボン酸含有ビニル共重合体やカルボン酸含有セルロース等が挙げられる。
カルボン酸含有ビニル共重合体とは、α,β−不飽和カルボン酸の中から選ばれる少なくとも1種の第1単量体と、アルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミドとその窒素上の水素をアルキル基またはアルコキシ基に置換した化合物、スチレン及びスチレン誘導体、(メタ)アクリロニトリル、及び(メタ)アクリル酸グリシジルの中から選ばれる少なくとも1種の第2単量体をビニル共重合して得られる化合物である。 カルボン酸含有ビニル共重合体に用いられる第1単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、イタコン酸、及びマレイン酸半エステル等が挙げられ、それぞれ単独で用いてもよいし2種以上を組み合わせてもよい。カルボン酸含有ビニル共重合体における第1単量体の割合は、15質量%以上40質量%以下が好ましく、より好ましくは20質量%以上35質量%以下が好ましい。アルカリ現像性を保持させる為、15質量%以上が好ましく、カルボン酸含有ビニル共重合体の溶解度の観点から40質量%以下が好ましい。
カルボン酸含有ビニル共重合体における第2単量体の割合は、60質量%以上85質量%以下が好ましく、より好ましくは65質量%以上80質量%以下である。
カルボン酸含有セルロースとしては、セルロースアセテートフタレート、ヒドロキシエチル・カルボキシメチルセルロース等が挙げられる。
アルカリ可溶性高分子の含有量は感光性樹脂組成物の全質量基準で10質量%以上70質量%以下が好ましく、より好ましくは20質量%以上65質量%以下、さらに好ましくは25質量%以上60質量%以下である。アルカリ現像液に対する分散性を維持する点から10質量%以上が好ましい。十分な耐サンドブラスト性を得る点から70質量%以下が好ましい。
(iv)成分のエチレン性不飽和付加重合性モノマーの含有量は感光性樹脂組成物の全質量基準で5質量%以上40質量%以下が好ましく、より好ましくは10質量%以上35質量%以下である。十分に架橋させ耐サンドブラスト性を発揮するため5質量%以上が好ましい。硬化膜を柔らかく保ち耐サンドブラスト性を発揮する為に40質量%以下が好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物には染料、顔料等の着色物質が含有されていてもよい。このような着色物質としては、例えばフクシン、フタロシアニングリーン、オーラミン塩基、カルコキシドグリーンS、パラマジェンタ、クリスタルバイオレット、メチルオレンジ、ナイルブルー2B、ビクトリアブルー、マラカイトグリーン、ベイシックブルー20、及びダイヤモンドグリーン等が挙げられる。
さらに本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて可塑剤等の添加剤を含有させてもよい。このような添加剤としては、例えばジエチルフタレート等のフタル酸エステル類、o−トルエンスルホン酸アミド、p−トルエンスルホン酸アミド、クエン酸トリブチル、クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリ−n−プロピル、アセチルクエン酸トリ−n−ブチル、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールアルキルエーテル等が挙げられる。
支持体(A)、感光性樹脂層(B)、及び保護層(C)を順次積層して感光性樹脂積層体を作成する方法は、従来知られている方法で行うことができる。例えば感光性樹脂層に用いる感光性樹脂組成物を、これらを溶解する溶剤と混ぜ合わせ均一な溶液にしておき、まず支持体(A)の予め剥離剤を形成した表面上にバーコーターやロールコーターを用いて塗布して乾燥し、支持体上に感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層(B)を積層する。次に感光性樹脂層(B)上に保護層(C)をラミネートすることにより感光性樹脂積層体を作成することができる。
次に、本発明の感光性樹脂積層体を用いて被加工基材上に微細なパターンを加工する方法の1例について説明する。感光性樹脂積層体の保護層を剥がしながら被加工基材上にホットロールラミネーターを用いて密着させるラミネート工程、所望の微細パターンを有するフォトマスクを支持体上に密着させ活性光線源を用いて露光を施す露光工程、支持体を剥離した後アルカリ現像液を用いて感光性樹脂層の未露光部分を溶解除去、微細なレジストパターンを被加工基材上に形成する現像工程、形成されたレジストパターン上からブラスト材を吹き付け被加工基材を目的の深さに切削するサンドブラスト処理工程、レジストパターンをアルカリ剥離液を用いて被加工基材から除去する剥離工程を経て、被加工基材上に微細なパターンを加工することができる。
また、より微細なレジストパターンを得るためには平行光光源を用いるのがより好ましい。ゴミや異物の影響を極力少なくしたい場合には、フォトマスクを支持体上から数十〜数百μm浮かせた状態で露光(プロキシミティー露光)する場合もある。
前記現像工程において用いられるアルカリ現像液としては通常炭酸ナトリウム水溶液や界面活性剤水溶液等が用いられる。
前記サンドブラスト処理工程に用いるブラスト材は公知のものが用いられ、例えばSiC,SiO2 、Al2 O3 、CaCO3 、ZrO、ガラス、ステンレス等の2〜100μm 程度の微粒子が用いられる。
記剥離工程に用いる剥離液としては通常水酸化ナトリウムや水酸化カリウムの水溶液等が用いられる。なお、剥離工程の代わりに高温でレジストパターンを焼き飛ばす工程を設けることも可能である。
上述した微細なパターンを加工する方法の好適な応用例としては、低融点ガラス等のガラス基板を加工してプラズマディスプレイパネルの背面板を製造することがあげられる。
次に、実施例および参考例によって本発明を説明する。
1.評価用サンプルの作製
実施例及び比較例における感光性樹脂積層体は次の様にして作製した。
<感光性樹脂積層体の作製>
表1に示す組成の感光性樹脂組成物をよく攪拌、混合し、感光性樹脂組成物の溶液を厚さ19μmのポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコーターを用いて均一に塗布し、90℃の乾燥機中で4分間乾燥して40μm厚みの感光性樹脂層を形成した。次に、感光性樹脂層の表面上に30μm厚みのポリエチレンフィルムを張り合わせて感光性樹脂積層体を得た。
なお、表1に示す組成の略号は、以下に示すものである。ポリウレタンプレポリマーU−1〜10の組成の略号と詳細な構造は表2に示す。
ポリウレタンプレポリマーU−1〜8は、前述の化学式(1)で示される化合物より得られたものである。またポリウレタンプレポリマーU−9は、前述の化学式(2)で示される化合物より得られたものである。
ポリウレタンプレポリマーU−10は、テトラメチレンオキシドとアジピン酸とによるポリエステル化合物をジイソシアネートと反応させることにより得られたものであり、−O−(CH2)4−O(CO)−の構造単位を有するが本発明の範囲には属さない化合物である。
M−1:トリエトキシトリメチロールプロパントリアクリレート
M−2:ヘキサメチレンジイソシアネートとトリプロピレングリコールモノメ タクリレートとのウレタン化物
I−1:ベンジルジメチルケタール
I−2:ベンゾフェノン
I−3:2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体
I−4:4,4’−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
D−1:ロイコクリスタルバイオレット
D−2:ダイヤモンドグリーン
被加工基材は3mm厚みのソーダガラス及び以下の方法で作成したガラスペースト塗工済みソーダガラスの2種類を用いた。3mm厚みのソーダガラス上に、プラズマディスプレイ用ガラスペースト(日本電気硝子(株)製 PLS−3553)をスクリーン印刷法を用いて、ガラスペーストの乾燥後の厚みが150μmとなるようにソーダガラス上に塗布、乾燥しガラスペースト塗工済みソーダガラスを作成した。
<ラミネート>
感光性樹脂積層体のポリエチレンフィルムを剥がしながら、被加工基材にホットロールラミネーター(旭化成エンジニアリング(株)製「AL−70」)により105℃でラミネートした。エア圧力は0.35MPaとし、ラミネート速度は1.0m/minとした。
<露光>
支持体越しに感光性樹脂層にフォトマスク無しあるいは評価に必要なフォトマスクを通して、超高圧水銀ランプ(オーク製作所製HMW−801)により200mJ/cm2 で露光した。
支持体を剥離した後、30℃の0.4%炭酸ナトリウム水溶液を所定時間スプレーし、感光性樹脂層の未露光部分を溶解除去した。
<サンドブラスト>
被加工基材上に形成されたレジストパターンに対し、Xハイパーブラスト装置HCH−3X7BBART−411M(不二製作所(株)製)を用いて、サンドブラスト加工を施した。研磨剤にS9#1200(不二製作所(株)製)を使用し、ホース内圧0.08MPa、ガン移動速度20m/min.、コンベア移動速度100mm/min.、研磨剤噴射量500g/min.とした。
(1)最小現像時間
上記<露光>操作をし、支持体を剥離した後、30℃の0.4%炭酸ナトリウム水溶液をスプレーし、未露光の感光性樹脂層が溶解するのに要する時間を測定し、これを最小現像時間とした。
(2)レジストライン密着性(通常現像)
上記<露光>の際に、露光部と未露光部の幅が1:100の比率のラインパターンを有するフォトマスクを通して、露光した。最小現像時間の1.5倍の現像時間で現像し、硬化レジストラインが正常に形成されている最小マスク幅をレジストライン密着性の値とした。この密着性により次の様にランク分けした。なお表1中のランク横の数値は密着性の値である。以下(3)〜(4)についても同様である。
70μm以下:○
70μmを越え100μm以下:△
100μmを越える:×
上記<露光>の際に、露光部と未露光部の幅が1:100の比率のラインパターンを有するフォトマスクを通して、露光した。最小現像時間の3.0倍の現像時間で現像し、硬化レジストラインが正常に形成されている最小マスク幅をレジストライン密着性の値とした。この密着性により次の様にランク分けした。
70μm以下:○
70μmを越え100μm以下:△
100μmを越える:×
(4)レジストライン解像性
上記<露光>の際に、露光部と未露光部の幅が1:1の比率のラインパターンを有するフォトマスクを通して、露光した。最小現像時間の1.5倍の現像時間で現像し、硬化レジストラインが正常に形成されている最小マスク幅をレジストライン密着性の値とした。この密着性により次の様にランク分けした。
70μm以下:○
70μmを越え100μm以下:△
100μmを越える:×
上記<露光>の際に、露光部と未露光部の幅が1:2の比率のラインパターンを有するフォトマスクを通して、露光し、最小現像時間の1.5倍の現像時間で現像した。次いで、サンドブラスト加工を行い、硬化レジストラインが欠けたり剥がれたりせずに正常に形成されている最小マスク幅を耐サンドブラスト密着性の値とした。この耐サンドブラスト密着性により次の様にランク分けした。
80μm以下:○
80μmを越え100μm以下:△
100μmを越える:×
3.評価結果
実施例及び比較例の評価結果を表1に示す。
Claims (5)
- (i)末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマー(a)と、ポリイソシアネート(b)と、活性水素を有する官能基とエチレン性不飽和結合を分子内に共に有する化合物(c)より得られるポリウレタンプレポリマー10〜70質量%と、(ii)アルカリ可溶性高分子10〜70質量%と、(iii)光重合開始剤0.01〜20質量%と、(iv)エチレン性不飽和付加重合性モノマー5〜40質量%より成る感光性樹脂組成物において、前記末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマー(a)の50質量%以上が、下記化学式(1)または(2)で示される化合物からなる群より選ばれる1種類以上の化合物であることを特徴とするサンドブラスト用感光性樹脂組成物。
- 末端に水酸基を有するポリマーまたはモノマー(a)の50質量%以上が、下記化学式(3)〜(9)のいずれかで示される化合物、又は複数の該化合物の混合物である請求項1記載のサンドブラスト用感光性樹脂組成物。
- 基材フィルムからなる支持体(A)上に、請求項1または2記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を積層したサンドブラスト用感光性樹脂積層体。
- 被加工基材上に請求項1若しくは2記載の感光性樹脂組成物、または請求項3記載の感光性樹脂積層体を用いて感光性樹脂層を形成し、露光工程、現像工程によりレジストパターンを形成した後、サンドブラスト処理を行うことを特徴とする表面加工方法。
- 被加工基材上に請求項1若しくは2記載の感光性樹脂組成物、または請求項3記載の感光性樹脂積層体を用いて感光性樹脂層を形成し、露光工程、現像工程によりレジストパターンを形成した後、サンドブラスト処理を行う工程を含むプラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法。
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---|---|
JP (1) | JP2006023369A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009008781A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-01-15 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びその積層体 |
JP2010079070A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、被加工基材の表面加工方法及びプラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法 |
JP2013083785A (ja) * | 2011-10-07 | 2013-05-09 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体 |
JP2016102828A (ja) * | 2014-11-27 | 2016-06-02 | 三菱製紙株式会社 | めっき用感光性樹脂組成物 |
KR20160133362A (ko) * | 2015-05-12 | 2016-11-22 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | 샌드 블라스트용 감광성 수지 조성물 및 샌드 블라스트 처리 방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07295218A (ja) * | 1994-03-04 | 1995-11-10 | Asahi Chem Ind Co Ltd | レリーフ形成用液状感光性樹脂組成物 |
JPH111602A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-01-06 | Jsr Corp | 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性ドライフイルム |
JP2002365816A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | パターン形成方法 |
-
2004
- 2004-07-06 JP JP2004199309A patent/JP2006023369A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07295218A (ja) * | 1994-03-04 | 1995-11-10 | Asahi Chem Ind Co Ltd | レリーフ形成用液状感光性樹脂組成物 |
JPH111602A (ja) * | 1997-06-12 | 1999-01-06 | Jsr Corp | 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性ドライフイルム |
JP2002365816A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | パターン形成方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009008781A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-01-15 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びその積層体 |
JP2010079070A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、被加工基材の表面加工方法及びプラズマディスプレイパネルの背面板の製造方法 |
JP2013083785A (ja) * | 2011-10-07 | 2013-05-09 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体 |
JP2016102828A (ja) * | 2014-11-27 | 2016-06-02 | 三菱製紙株式会社 | めっき用感光性樹脂組成物 |
KR20160133362A (ko) * | 2015-05-12 | 2016-11-22 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | 샌드 블라스트용 감광성 수지 조성물 및 샌드 블라스트 처리 방법 |
JP2017126053A (ja) * | 2015-05-12 | 2017-07-20 | 三菱製紙株式会社 | サンドブラスト用感光性樹脂組成物及びサンドブラスト処理方法 |
KR102640456B1 (ko) | 2015-05-12 | 2024-02-23 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | 샌드 블라스트용 감광성 수지 조성물 및 샌드 블라스트 처리 방법 |
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