JP2005301162A - 表示装置とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
透明導電性薄膜や下層膜の形状不良を防止して、表示欠陥を抑制できる表示装置を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる表示装置は、表示部を備える基板を有する表示装置であって、基板の上に設けられた下層膜1と、下層膜1の上に設けられて下層膜1と電気的に接続される透明導電性薄膜9と、表示部以外の領域35の透明導電性薄膜9上に設けられて、透明導電性薄膜9及び下層膜1の形状不良を防止する保護膜10b、11bとを備えるものである。
【選択図】 図3
Description
図4は、従来の半透過型の液晶表示装置に用いられるTFT基板の製造工程の一例を示す断面図である。1は第1の金属薄膜、2は第1の絶縁膜、3は半導体能動膜、4はオーミックコンタクト膜、5はソース電極、6はドレイン電極、7は第2の絶縁膜、8は有機膜、9は透明導電性薄膜である。10、11は第3の金属薄膜で金属薄膜10は金属薄膜11の下層に設置される。12はコンタクトホールである。
基板上に積層された上記有機層8の表面は、実際には平坦ではなく凹凸のある形状となってしまうのが実状である。このため、有機層8の上に積層される透明導電性薄膜9も、実際には平坦に積層することはできず、凹凸のある形状やピンホールが出現してしまうのが実状である。
第3の金属薄膜10,11は、この凹凸やピンホールのある透明導電性薄膜9上に積層されることになる。そして、この第3の金属薄膜10、11のエッチングプロセス時にエッチャントが、上記透明導電性薄膜9のピンホールや膜厚が薄い部分に染み込んでしまうのである。そして、透明導電性薄膜9自身や、この透明導電性薄膜9の下層にある第1の金属膜や第2の金属膜がエッチングされてしまい、これらの膜の形状不良が発生してしまう。その結果、断線等に起因する表示欠陥が現れる。
なお、上記特許文献2においては、透明導電性薄膜たるITO上にアルミニウム薄膜あるいはモリブテン薄膜を形成する技術が開示されている。
しかしながら、特許文献2の発明は、表面の平坦性が担保された基板上に直接ITO膜を積層するものである。したがって、ITO膜が凹凸のある形状となったり、ピンホールが出現するといった問題は生じ得ない。よって、本件発明の課題は生じ得ないし、いわんやその示唆もない。
以下、本発明を半透過型液晶表示装置に適用した一例について説明する。
各ドライバICの下面にはガラス基板上に形成された配線の端子と接続するために入力用バンプが形成されている。この入力用バンプと配線の端子が異方性導電膜を介して電気的に接続されている。制御回路部36からFPC及びガラス基板上の配線を介してゲートドライバIC111及びソースドライバIC101に画像データ信号、クロック信号やIC駆動用の電源等が供給される。そして、各ドライバICからの信号がゲート配線及びソース配線に供給されスイッチング素子が駆動し、画素電極に電圧が印加されることになる。その結果、液晶層が駆動して、表示領域34において画像が表示されるのである。
保護膜10b、11bは、第3の金属薄膜10、11から形成され、前述したとおり表示領域34の反射電極10a、11aと同一のプロセスにより形成される。
実際、上述のTFTアレイ基板製造工程において、それぞれ有機膜8、下地金属膜13、透明導電性薄膜9を積層した段階で、各層の表面を観察したところ、表面が凹凸の形状となっていることを確認した。
また、有機膜8及び下地金属膜13上に積層されている透明導電性薄膜9の例について説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、透明導電性薄膜9の下層に下層膜が形成されている場合に適用できる。
また、半透過型の液晶表示装置に限られるものではなく、表示装置全般について適用することができる。
2 第1の絶縁膜、
3 半導体能動膜、
4 オーミックコンタクト膜、
5 ソース電極、
6 ドレイン電極、
7 第2の絶縁膜
8 有機膜、
9 透明導電性薄膜、
10,11 第3の金属薄膜、
10a、11a 反射電極
10b、11b 保護膜
12 コンタクトホール、
13 下地金属薄膜、
17 共通配線、
18 絶縁膜、
Claims (8)
- 表示部を備える基板を有する表示装置であって、
該基板の上に設けられた下層膜と、
該下層膜の上に設けられて該下層膜と電気的に接続される透明導電性薄膜と、
該表示部以外の領域の該透明導電性薄膜上に設けられて、該透明導電性薄膜及び該下層膜の形状不良を防止する保護膜とを備えた表示装置。 - 請求項1の表示装置において、
上記保護膜は、金属膜であることを特徴とする表示装置。 - 請求項1又は2の表示装置において、
上記下層膜より下層に有機層が形成されていることを特徴とする表示装置。 - 請求項1,2、又は3の表示装置において、
上記保護膜が上記透明導電性薄膜の上に形成された反射電極と同じ層で形成されていることを特徴とする表示装置。 - 表示部を備える基板を有する表示装置の製造方法であって、
該基板上に下層膜を形成するステップと、
該下層膜の上に該下層膜と電気的に接続する透明導電性薄膜を形成するステップと、
該表示部以外の領域の該透明導電性薄膜上に該透明導電性薄膜及び該下層膜の形状不良を防止する保護膜を形成するステップとを備えた表示装置の製造方法。 - 請求項5の表示装置の製造方法において、
上記保護膜は、金属膜であることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項5、又は6の表示装置の製造方法において、
上記下層膜より下層に有機層が形成されていることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項7の表示装置の製造方法において、
上記保護膜が上記透明導電性薄膜の上に形成された反射電極と同じ層で形成されていることを特徴とする表示装置の製造方法。
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