JP2005276639A - 走査型電子ビーム装置における対物レンズ絞りの位置調整方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 電子ビームを対物レンズ17によって目的物20上に集束すると共に、複数の開口を有した対物レンズ絞り19が設けられる。対物レンズ絞り19は複数の大きさの異なった開口を有しておりその内の一つを選択して用いるようにし、目的物20に照射される電子ビームの開き角や電流量を調整する。選択した開口の中心と対物レンズの中心とを一致させるため、対物レンズ17による電子ビームのフォーカスの状態を複数の段階に切り換え、それぞれのフォーカスの状態において、目的物上に設けられたナイフエッジの端部やクロスマークの中心位置等の特定位置を測定し、それぞれのフォーカスの状態において、測定した特定位置が一致するように、対物レンズ絞りの位置を自動的に調整する。
【選択図】 図6
Description
f(x)=a0・erf{(x−a1)/a2)+a3
ここでerfは誤差関数を表す。上式において、a1が電子ビームの中心位置を表し、この位置をナイフエッジ位置とする。すなわち、ナイフエッジ位置Xu、Yuの測定は、制御CPU28に取り込んだデータを数値解析(データを上式でフィッティングする)し、上式のa1を求めるものである。この際、データを1階、2階、・・・微分として数値計算を行い、フィッティングを行っても良い。このような測定をX、Y方向に対してそれぞれ行い、ナイフエッジ位置Xu、Yuをそれぞれ決定する。なお、X、Y方向の測定順序は逆にしても良い。
ΔY=Yu−Yo
この差は、対物レンズ17の中心に対して、対物レンズ絞り19の位置がずれていることによって生じることは前に述べた。図1を参照して説明したとおり、対物レンズ絞り19が対物レンズ17の中心に配置されているとき、対物レンズを制御してフォーカス状態を変化させても、電子ビームの中心位置は変化しない。したがって、この場合にナイフエッジ法によって走査面内のナイフエッジ位置を測定しても、その位置はフォーカス状態が異なっても変化せず、一定である。
L2=cΔX、dΔY
対物レンズ絞りの調整後、再びアンダーとオーバーフォーカス状態のナイフエッジ位置を測定し、ΔX、ΔYの絶対値│ΔX│、│ΔY│を、設定したナイフエッジ位置許容値と比較する。ΔX、ΔYの絶対値│ΔX│、│ΔY│が設定したナイフエッジ位置許容値以内に収まるまで、調整を繰り返すことによって、対物レンズ絞りを対物レンズ中心に自動的に配置することが可能となる。
この検出信号の変曲点の中間位置Cがナイフエッジ位置である。このナイフエッジ位置Cは、相対的には電子ビームのビーム中心位置と等しい。その後、電子光学系制御系14をコントロールして、対物レンズ17により電子ビームのフォーカス状態をナイフエッジ検出器20dの表面上でアンダーフォーカスおよびオーバーフォーカスの状態とする。このアンダーフォーカスの状態とオーバーフォーカスの状態とのそれぞれの状態で、ビーム走査制御系24をコントロールし、偏向器23によって電子ビームをナイフエッジ検出器(ナイフエッジ法測定器)20d上でX方向に走査する。
12 電子銃
13 電子銃制御系
14 ブランキング電極
15 ブランキング制御系
16 ズームレンズ
17 対物レンズ
18 電子光学系制御系
19 対物レンズ絞り
20 試料(ナイフエッジ検出器)
21 対物レンズ絞り駆動部
22 対物レンズ絞り駆動制御系
23 偏向器
24 ビーム偏向制御系
25 信号検出系
26 移動ステージ
27 ステージ制御系
28 制御CPU
Claims (5)
- 電子ビームを対物レンズによって目的物上に集束すると共に、複数の大きさの異なった開口を有した対物レンズ絞りを設け、対物レンズ絞りの複数の開口を選択して用いるようにし、電子ビームの目的物上の照射位置を電子ビームを偏向することによって移動させるようにした走査型電子ビーム装置において、対物レンズによる電子ビームのフォーカスの状態を複数の段階に切り換え、それぞれのフォーカスの状態において、目的物上に設けられた特定位置を測定し、それぞれのフォーカスの状態において、測定した特定位置が一致するように、対物レンズ絞りの位置を調整するようにした走査型電子ビーム装置における対物レンズ絞りの位置調整方法。
- 走査型電子ビーム装置は走査電子顕微鏡である請求項1記載の走査型電子ビーム装置における対物レンズ絞りの位置調整方法。
- 走査型電子ビーム装置は電子ビーム描画装置である請求項1記載の走査型電子ビーム装置における対物レンズ絞りの位置調整方法。
- 目的物上に設けられた特定位置は、X方向とY方向の直交する端部を有したナイフエッジ位置であり、それぞれのナイフエッジを横切って電子ビームを走査し、ナイフエッジ位置を求めるようにした請求項1〜3記載の走査型電子ビーム装置における対物レンズ絞りの位置調整方法。
- 目的物上に設けられた特定位置は、X方向とX方向に直交するY方向に伸びる帯状のマークの中心位置であり、それぞれの帯状マークを横切って電子ビームの走査を行い、走査に伴って得られた信号に基づいてそれぞれの帯状マークの中心位置を求めるようにした請求項1〜3記載の走査型電子ビーム装置における対物レンズ絞りの位置調整方法。
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