JP2005156516A - パターン欠陥検査方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
高出力のパルス光による試料へのダメージを低減しつつ高速・高感度に検査を行う。
【解決手段】
パルスレーザ光源3から射出された光を、擬似連続化光学系4、ビーム形成光学系5、干渉性低減光学系6を通し、変形照明光学系7で偏向されたビームをPBS8で反射し、ウェハ1に照射する。ウェハ1からの回折光は対物レンズ10で集光され、光変調ユニット9、11を通して、視野分割並列検出部12にて複数のイメージセンサに結像し、信号処理部13にて欠陥を検出する。ここで、擬似連続化光学系4は、パルス光を時分割することにより、1パルス当たりのエネルギーを低減しつつ、パルス光の総光量は維持できる光学系を有する。
【選択図】図1
Description
し、コントローラ16”で搬送系2を制御して実時間でウェハ1を移動させる。
S/(γ/ω)=n ただし、nは1以上の整数 ・・・(数1)
位相変動板601の製作方法の一例を、図8を用いて説明する。図8の(a)は円形の石英基板601'に半円型の溝を加工したものである。この時、加工深さDは前記板厚の変動量Tであり、加工幅Wは後述する(数2)で決定する。この半円型の溝を円形板の中心を回転中心として一定角度ずつ回転させた位置に加工すれば図8の(b)の形状となる。本方法で加工する場合、断面が正弦波形状となる場所はある円周部分となる。従って、正弦波形状に設定するための位置(図8(b)のR)をあらかじめ決めておく必要がある。
W=π*R/K ・・・(数2)
ただし,πは円周率,Rは正弦波形状を製作する円周の直径,Kは該円周における正弦波形状の数である。
y1=a1×x1+b1 ・・・(数3)
(ただし、x1:入力、y1:出力、a1およびb1はパラメータ)
y2=a2×x2+b2 ・・・(数4)
(ただし、x2:入力、y2:出力、a2およびb2はパラメータ)
a1/a2×(y2−b2)+b1 ・・・(数5)
なお、本例ではイメージセンサ1とイメージセンサ2の関係が線形関係である場合のセンサ2の補正方法について説明したが、センサの入出力関係が高次多項式の場合は、多項式で補正しても良く、また、センサ1とセンサ2の関係が近づくのであれば、センサ1の出力を補正してもよい。
F(x、y)=B×1/8+D×1/8+F×1/8+H×1/8+E×1/2
・・・(数6)
なお、フィルタのサイズ、係数はルックアップテーブルを用いてフレキシブルに変えることができる。
画像間で該評価指標に大きな差があれば特徴量を演算する処理S2403、演算した特徴量を比較する処理S2404を行い画像の合わせ込み処理S2405を行う。もし、特徴量の合わせ込みができないレベルにあるときは、比較処理部1307にて感度を低下させ虚報の発生を押さえるようにする。その後感度低下の判定処理S2406を行う。なお、信号処理回路13での詳細な欠陥算出方法については、特開2001−194323号公報等に示したもので実現可能である。
対物レンズ10を介してウェハ1に照射される。
t=λ×n、または、t=λ×n+λ/2 ・・・(数9)
t=λ×n+λ/4、または、t=λ×n+λ×3/4 ・・・(数10)
(数9)及び(数10)からわかるように、単一波長では波長λが短くなるにつれ、干渉強度の変化は膜厚の変化に対して敏感になる。
NA=n×sinθ ・・・(数11)
(nは対物レンズと試料間の屈折率、θは対物レンズの開口角)
なお、本実施例では、対物レンズ10’及びA/F部15’以外は図1に示した光学系1〜12と同じ構成で説明したが、図34および図38から図43で説明したように、複数の波長の光を合成したものを使用しても良い。
Claims (26)
- 照明光をパルス発振する照明光源と、
該照明光源からパルス発振された照明光の強度を低減すると共に該照明光の光量を時間的に平均化する擬似連続化手段と、
該擬似連続化手段で光量を調整された前記照明光の干渉性を低減する干渉性低減手段と、
該干渉性低減手段から干渉性が低減されて射出した前記照明光を表面にパターンが形成された試料に対物レンズを介して照射する照射手段と、
該照射手段により前記照明光が照射された試料から発生する回折光を結像する結像手段と、
該結像手段により形成された前記試料の回折光像を撮像して画像信号を出力する画像検出手段と、
該画像検出手段から出力された前記画像信号を処理して前記試料のパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段と
を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - パルス発振レーザを発射する照明光源と、
該照明光源から発射されたパルス発振レーザの単位時間当りの光量を維持しながらピーク強度を低減する照明光強度平均化手段と、
該照明光強度平均化手段で光量を維持しながら強度が低減された前記照明光の光路を分岐する光路分岐手段と、
該光路分岐手段で分岐された一方の照明光を対物レンズを介して表面にパターンが形成された試料に照射する照射手段と、
前記光路分岐手段で分岐された他方の照明光を前記対物レンズの外側から前記試料の表面に斜方から照射する斜方照射手段と、
前記照明手段で照明された前記試料の光学像と前記斜方照明手段で照明された前記試料の光学像とを撮像して画像信号を得る撮像手段と、
該撮像手段で撮像して得た前記照明手段で照明された前記試料の画像と前記斜方照明手段で照明された前記試料の画像とを処理して前記試料表面の欠陥を検出する欠陥検出手段と、
該欠陥検出手段で検出した欠陥を分類する欠陥検出分類手段と
を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 前記照明光源から前記照射手段への光路の途中に、前記照明光源から出射した照明光の断面内の光量の分布を調整する光量分布調整手段を更に備えることを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記照明光源から前記照射手段への光路の途中に、前記照明光源から出射した照明光を偏向する変形照明手段を更に備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記照明光源から前記照射手段への光路の途中に、前記照明光が照射された試料から発生した回折光を制御する光変調手段を更に備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 該画像検出手段は複数のセンサを有し、前記試料の像を分割して前記複数のセンサで撮像することを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記照明光源は、紫外光レーザを発射することを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記対物レンズと前記試料との間に液体材料を充填する液体材料供給手段を更に備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記照明光源は、波長の異なる照明光を発射し、前記擬似連続化手段は該波長の異なる照明光を合成してそれぞれの波長の照明光の強度を低減すると共に該照明光の光量を時間的に平均化することを特徴とする請求項1に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記照明光源は、波長の異なるパルス発振レーザを発射し、前記照明光強度平均化手段は該波長の異なるパルス発振レーザを合成してそれぞれの波長のパルス発振レーザの単位時間当りの光量を維持しながらピーク強度を低減することを特徴とする請求項2に記載のパターン欠陥検査装置。
- 照明光源からパルス発振された照明光の強度を低減すると共に該照明光の光量を時間的に平均化し、
該光量を時間的に平均化された前記照明光の干渉性を低減し、
該干渉性が低減された前記照明光を表面にパターンが形成された試料に対物レンズを介して照射し、
該照明光の照射により前記試料から発生する回折光による像を結像させ、
該結像させた回折光による像を撮像し、
該回折光による像を撮像して得た画像信号を処理して前記試料に形成されたパターンの欠陥を検出する
ことを特徴とするパターン欠陥検査方法。 - 光源から発射されたパルス発振レーザの単位時間当りの総光量を維持しながらピークの強度を低減し、
該ピークの強度が低減された前記レーザの光路を分岐し、
該分岐された一方の光路に進入したレーザを対物レンズを介して表面にパターンが形成された試料に照射し、
前記分岐された他方光路に進入したレーザを前記対物レンズの外側から前記試料の表面に斜方から照射し、
前記対物レンズを介して照明された前記試料の光学像と前記対物レンズの外側から照明された前記試料の光学像とをそれぞれ撮像し、
該撮像して得た前記対物レンズを介して照明された前記試料の画像と前記対物レンズの外側から照明された前記試料の画像とを処理して前記試料表面の欠陥を検出し、
該検出した欠陥を分類する
ことを特徴とするパターン欠陥検査方法。 - 前記試料に照射される照明光又はレーザは、該照明光又はレーザの断面内の光量の分布が調整されていることを特徴とする請求項11又は12に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記試料に照射される照明光又はレーザは、前記対物レンズの瞳の位置で光量の分布が調整されていることを特徴とする請求項11又は12に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記試料に照射される照明光又はレーザは、前記対物レンズの瞳の位置で輪帯状に光量の分布が調整されていることを特徴とする請求項11又は12に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記試料に照射された照明光又はレーザにより前記試料より発生した回折光による像は、0次回折光と1次回折光の光量の割合が調節された状態で形成されていることを特徴とする請求項15に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記照明光又はパルス発振レーザは、紫外光レーザであることを特徴とする請求項11又は12に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記対物レンズと前記試料との間に液体材料が充填されていることを特徴とする請求項11又は12に記載のパターン欠陥検査方法。
- 第1の波長を有する照明光源と、
該照明光源から発振された照明光を遮断、透過を制御する手段と、
該照明光を遮断、透過を制御する手段から透過した照明光の光量を調整する手段と、
該光量調整手段で光量を調整された前記照明光の干渉性を低減する干渉性低減手段と、
該光量調整手段で光量を調整された前記照明光の形状を制御する手段と、
該照明光の形状を制御する手段から射出した前記照明光の光量を検出する手段と、
第2の波長を有する照明光源と、
該照明光源の照明光を遮断、透過を制御する手段と、
該照明光を遮断、透過を制御する手段から透過した照明光の波長を選択する手段と、
照明光の波長を選択する手段から透過した照明光の光量を調整する手段と、
該光量調整手段で光量を調整された前記照明光の形状を制御する手段と、
該照明光の形状を制御する手段から射出した前記照明光の光束を制限する手段と、
該照明光の光束を制限する手段から射出した前記照明光にスリット像を形成する手段と、
該スリット像を形成する手段から射出した前記照明光の光量を検出する手段と、
第1の波長の光束と第2の波長の光束を合成する手段と、
該光束を合成する手段により合成された照明光を試料に照射する手段と、
該試料に照射する手段により、試料から発生する回折光を結像する結像手段と、
該結像手段により形成された前記試料の回折光像を撮像して画像信号を出力する画像検出手段と、
該画像検出手段から出力された前記画像信号を処理して前記試料のパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段と
を備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。 - 前記第1の波長を有する照明光源は、レーザ光源であることを特徴とする請求項19に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記第2の波長を有する照明光源は、ランプ光源であることを特徴とする請求項19に記載のパターン欠陥検査装置。
- 前記第1の波長と第2の波長の照明光源は、紫外光レーザあるいは紫外光を発射するランプであることを特徴とする請求項19に記載のパターン欠陥検査装置。
- 試料の形成されたパターンの欠陥を検査する方法であって、
第1の光源から発射した第1の波長を有する第1の光と第2の光源から発射した前記第1の波長よりも長い第2の波長を有する第2の光とを該第1の光と第2の光との光量を調整した状態で合成し、
該合成した光を対物レンズを介して試料に照射し、
該合成した光で照射された前記試料の光学像を検出し、
該光学像を検出して得た信号を処理することにより前記パターンの欠陥を検出することを特徴とするパターン欠陥検出方法。 - 試料の形成されたパターンの欠陥を検査する方法であって、
第1の光源から発射した第1の波長を有する第1の光と第2の光源から発射した前記第1の波長よりも長い第2の波長を有する第2の光とを合成し、
該合成した光を2つの光路に分岐し、
該分岐した一方の光を対物レンズを介して試料に照射し、
該試料の前記対物レンズを介して前記一方の光が照射されている箇所に前記分岐した他方の光を前記対物レンズの外側の斜め方向から照射し、
前記分岐した一方の光と前記分岐した他方の光とが照射された前記試料の光学像を前記対物レンズを介して検出し、
該光学像を検出して得た信号を処理することにより前記パターンの欠陥を検出することを特徴とするパターン欠陥検査方法。 - 前記第1の光がレーザであることを特徴とする請求項23または24に記載のパターン欠陥検査方法。
- 前記第1の光が紫外光であることを特徴とする請求項23または24に記載のパターン欠陥検査方法。
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