JP2004535666A - 計測システムクラスター - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
本発明は、半導体装置の生産及び加工に係り、具体的には、半導体ウエハー加工に関すプロセスパラメータの計測システムと手順に関する。
【背景技術】
【0002】
関連出願
本出願は、2001年4月26日付け米国出願出願、暫定的出願番号60/286,485に基づく優先権の利益を主張する。
【0003】
半導体工業において、装置の密度を上げようとする傾向が続いている。このような高密度を達成するため、半導体ウエハー上の素子のサイズを縮小する方向で、ずっと努力が続けられている。このような、素子の高実装密度を成し遂げるため、部品のサイズをより小さくする必要がある。このために、部品間の配線の幅やスペース及び様々な部品の角や端部のような外見的な構成を考慮に入れてもよい。
【0004】
隣り合う部品間のスペースを密にした小さな部品という条件を満たすために、分解能の高いフォト・リトグラフと同時に分解能の高い測定学と検査計器と体制が必要である。一般に、リトグラフィは様々なメディア間でパターンを転送する手順に関する。リトグラフィは、集積回路に用いられるもので、例えば、光線に感度を持つフィルム(例えば、フォトレジスト)でシリコンウエハーが覆われ、(紫外線、X線、又は電子ビーム等の)照射源が、マスターテンプレート(例えば、マスク又はレチクル)を介在させることでフィルム表面を選択的に照射して、特定のパターンを作り出す。次に、フォトレジストフィルム上の露光されたパターンは、フォトレジストのタイプ(すなわち、陽画又は陰画、このようにして、さらなる処理のためにシリコンウエハー上に必要なフォトレジストパターンを残す)により、露光部又は非露光部のどちらかを溶かす現像液と呼ばれる溶液で現像される。リトグラフィ処理に加えて、部品やスペースの縮小に対応させるためには、半導体ウエハーの製造において他の処理ステップも高度な分解能と検査機器が必要となる。計測機器や装置は、製造物の研究開発のみならず製造ラインの品質コントロールへの応用に関連して半導体機器の検査に用いられる。半導体製造プロセス中にある特別な部品を計測し観察することが出来れば、さらに良い製品を製造したり不良品を削減したりすること等が可能となる。例えば、機器の限界寸法(CDs)やオーバーレイの精度の計測は、製品の要求される品質を達成するため、1以上のこのような製造プロセスの調整を行うために行われている。従って、走査型電子顕微鏡(SEMs)、アトミックフォースマイクロメータ(AFMs)、スキャタロメータ、分光エリプソメータ(SEs)、その他のような、半導体装置の部品を描いたり記録したりするために様々な計測技術や検査ツールや計器が開発されている。この文脈で用いられるスキャタロメータは、計測された光学的特性から得られたパラメータを変換する演算手順を採用する光学計器である。典型的には、スキャタロメータは、計器に採用されて、波長より短い側面の寸法から得られるものを計測するために用いられる。スキャタロメータ用の光学計器は、例えば薄膜測定技術に用いられるものと同じでも良い。従って、有効な手順があるなら、パターン化されていない薄膜を特徴づけるために良く用いられるSEを、スキャタロメータとして用いてもよい。このことはリフレクトメータについても同様である。場合によっては、スキャタロメータの光学計器部分は具体的に後方散乱を測定するために設計されたものでも良い。これから導かれるのは、「SE」は、標準的な薄膜計測、すなわち膜の厚み、及び/又は光学的特性、に用いられる分光エリプソメータの設計に用いられるということである。
【0005】
このような計測計器は、単独、オフラインで典型的に用いられ、例えば、特別なプロセスツールで処理された1以上のウエハーが計測又は検査され、計測したプロセス値(例えば、CDs、オーバーレイレジストレーション、膜圧、材料特性、部品数)が許容値にあるかどうか、及び/又はウエハー内に処理中の不具合があるかどうかの決定を行う。単独型の計測計器は、プロセスツールに組み込まれることなく、多数のプロセスツールの点検のために使われる。計測や検査は、2以上のこのような計測計器を使って実施され、異なった計器を用いて特性が測定される。計測計器が単独型のシステムであるため、計測値を得る前に、ウエハーを、プロセスツールと計測機器との間で移送させなければならない。一般計測計器が単独型の特性を持ち、このような計器間で移送を行う結果、半導体製造設備におけるかなりの停止期間が発生し、高価なプロセスツールが、製造プロセスにおいて問題が存在するため、最終決定を保留したまま停止する。
【0006】
加えて、2以上の連続する計測システムを直列にしてウエハーを計測しなければならないため、ウエハーに対し最も低い処理量を持った計測計器が検査プロセスにおけるボトムネックとなり、このことが、工程の停止期間をさらに悪化させる。さらに、既存の半導体ウエハー製造プロセスにおける測定計器又は計測計器は、ある計器は特定の特性に関して寸法上の問題を認識する一方、他の計器は認識しないというように、同じ特性の測定結果が異なることがある。このように、計測システムや手順を改善し、製造設備において製造中のウエハーの十分な特性計測と検査をタイムリーに行い、工程の停止期間を減らしたり改善したりすることの必要性が存在する。
【0007】
発明の概要
本発明の特徴を基本的に理解してもらうために、本発明の簡単な概要を以下に述べる。この概要は、本発明の広い範囲で概観するものではない。これは、本発明のキー又は必須要件を特定するものでもなければ、本発明の範囲の輪郭を描くものでもない。むしろ、本概要の唯一の目的は、本発明の概念を、以降に述べるより詳細な説明の前置きとして、単純化して説明することである。本発明は、依存のシステムに関する前述の欠点を軽減させる複数の計測計器や計測ツールを2以上用いて、製造設備における半導体ウエハーの計測と検査の方法とシステムを提供するものである。一群の計測システムは、選択基準に従って1以上の計測装置にウエハーを移送するシステムと、複数の計測計器とからなる。従って、計測システムは、使用可能性、処理量、能力及び/又は他の考慮を払って選択され、全体としての処理量と効率が、ウエハーに関して計測するプロセス値(例えば、CDs、オーバーレイレジストレーション、その他)に要求される精度内になるよう改善される。
【0008】
加えて、本発明は、例えばCD−SEMとスキャタロメータのように、少なくとも2つの計測システムの応答データ間での相関や相互校正を容易にする。特に、ウエハー(例えば、積層構造中の1以上の層)は、照射した光の波長の散乱に関する応答データを受け取るスキャタロメータにより計測することができる。ウエハーは、CD−SEM装置の特性である他の応答データを受け取るCD−SEMにより、計測することが出来る。スキャタロメータからの応答データとCD−SEMからの応答データとは相関関係がある。相関計算結果に基づき、スキャタロメータは、将来のスキャタロメータによる計測値が、CD−SEMによる応答データと同じようになるまで調整される。この相関計算は、加工時間、コスト、精度及び効率のニーズ及び要求に応じて採用される計測システムを変更或いは手直しすることを容易にする。
【0009】
本発明の1つの特徴によれば、一群の計測システムは、走査型電子顕微鏡(SEMs)、アトミックフォースマイクロメータ(AFMs)、スキャタロメータ、分光エリプソメータ(SEs)、その他のような、ウエハーに関するプロセス値を計測するために選択的に採用される2以上の計測計器からなる。種々の計器は、お互いに接続されて、校正用情報のような情報を共有し、相互校正が可能となる。計測群はさらに、ロボットのように、少なくとも1つの計測システム選択基準に従って、ウエハーを選択的に1以上の計測装置に提供するような運転が可能な、ウエハー移送機構又はシステムにより構成されている。この選択基準は、例えば、種々の計測計器の能力、使用可能性及び処理量を考慮に入れても良く、これにより、要求された計測に用いるために最高の処理能力を持った使用可能な計測計器のように、選択された計測装置が当該ウエハー(例えば、組になった加工中のウエハー)の要求する適切な計測能力を持つ。
【0010】
加えて、本発明は、例えばCD−SEMとスキャタロメータのような少なくとも2つの計測システムでの計測値の相関計算又は相互校正を容易にする。特に、例えば特定の現場で違った金型の基準ウエハーのような、複数の基準用見本は、スキャタロメータにより計測される。基準用の現場では、CD−SEMで計測することも出来る。スキャタロメータとCD−SEMによる計測値は相関計算される。相関計算に基づき、将来、例えば製造サンプルに対するスキャタロメータによる測定値が、CD−SEMにより計測された場合の測定値と近似するよう調整することが出来る。この相関計算は、加工時間、コスト、精度及び効率のニーズ及び要求に応じて採用される計測システムを変更或いは手直しすることを容易にする。
【0011】
本発明の他の特徴によれば、ウエハー上の光学的に認識可能な少なくとも1つの文字によりウエハーの識別を行う光学的文字認識システム(OCR)のみならず、ウエハーに関係する少なくとも1つのプロセス値を計測する計測計器を有するウエハー計測又は検査システムが提供される。この文脈で文字とは、情報を示すものを意味する。例えば、文字はアルファベットでも又はバーコードでも良い。光学的文字認識システムは、このようにして、ロット番号やデータコードその他、計測されたウエハーの文字ベースの引証のような印字や刻印を読み取り、要求される計測のために適当な計測計器の選択のために提供する。計測システムは、加工工程の一部をなす1以上のプロセスツールに組み込まれ、加工中のウエハーは、それ以上の機械や人間が介在することなしに、直接計測システムに送られる。
【0012】
本発明のもう1つの特徴によれば、半導体加工処理におけるウエハーに関するプロセス値の計測のための手順が提供される。加工工程からウエハーを受け取り、計測システム選択基準に従って選択的に1以上の計測装置に提供する。これに関連して、選択基準には、最大の処理能力と要求精度又はウエハーの計測に必要とする他の処理能力を持つ使用可能な計測計器を用いることを含めることが可能であり、これにより、システムの全体的な処理量が改善される。さらに、例えばウエハー上の1以上の光学的文字を読み取ることで計測されるウエハーを特定すること、ウエハーの個性に従ってプロセス値の計測に必要な計測能力を決定すること、及び、必要な計測能力と使用可能な計測計器に関する計測システム能力情報に従い最適な計測計器を選択することを、さらにこの方法の中に含めても良い。
【0013】
前記の及び関連する部門の完遂のために、本発明は、以下に詳細説明する特徴を具備する。以下の説明と添付図は発明の様々な形態の実施例を詳細に図示しながら開示するものである。しかし、これらの実施例は、本発明の本質が用いられる様々な形態の一部しか示していない。本発明の他の形態や進歩的及び新規的特徴は、図面を考慮して以下の発明の詳細な説明により明らかになるであろう。
【0014】
発明の詳細な説明
本発明の様々な実施形態について図面を参照して説明する。ここでは、同じ参照番号は一貫して同じ要素に用いる。本発明は、多数の計測計器やシステムを1以上用いる製造プロセスにおける半導体ウエハーの計測及び/又は検査のシステムと方法を提供する。計測システムクラスターは、1以上の選択基準に従って1以上の計測システムにウエハーを移送するシステムと、このような複数の計測システムとを有するものとして提供される。計測計器又はシステムは、使用可能性及び処理能力に基づいて選択され、全体としての処理量と効率が、ウエハーに関するプロセス値の計測に要求される精度内になるよう改善される。
【0015】
図1では、本発明の様々な形態を実施する典型的な計測システムクラスター2が描かれている。クラスター2は、半導体製造プロセスにおけるウエハー4に関連するプロセス値(例えば、オーバーレイレジストレーション、フォトレジスト層の欠陥、要素サイズ、要素間のスペース、微小な欠陥、化学的欠陥、その他)を計測するのに都合よく用いられる。計測システムクラスター2は、関連する計測計器(図示せず)を有する複数の計測システム10,12,及び14を具備する。例えば、システム10,12,及び14は、走査型電子顕微鏡(SEMs)、アトミックフォースマイクロメータ(AFMs)、スキャタロメータ、分光エリプソメータ(SEs)又は加工中の半導体ウエハー4に関連するプロセス値の計測に適合させた他の計測計器を具備する。
【0016】
クラスター2は、さらに、カセット24や他のウエハー移送装置からウエハー4をおろす荷おろしステーション22を経由して、加工プロセスで加工されたウエハー4を受け取るロボットや他の自動ウエハー移送装置のようなウエハー移送システム20により構成されている。ウエハー移送システム20は、次に、以下に詳細に説明する計測システム選択基準に従って、選択的に、ウエハー4を1以上の計測システム10,12,及び/又は14に提供する。次いで、ウエハーの適切な加工を確かめるため及び/又は加工工程における欠陥や間違いを検出するため、1以上のプロセス値(図示せず)が計測され及び/又は検査される。典型的なクラスターシステム2は、さらに、計測システム選択ロジック34及び校正情報36を備えるコンピュータシステム30を具備する。荷おろしステーション22、ウエハー移送システム20及びコンピュータシステム30のみならず、計測システム10,12,及び14もネットワーク40で繋がれており、計測情報、計測システム選択情報、校正情報36及び他の制御情報とデータが、計測システムクラスター2の様々な構成要素により共有される。
【0017】
いったん、ウエハー4に関するプロセス値が計測システム10,12,及び/又は14により計測されると、ウエハー移送システム20は、下流側のプロセスツール(図示せず)のような、加工工程における他のシステムに移送するために、ウエハー送出カセット24にウエハーを積み込む荷積みステーション42に、ウエハー4を渡す。各々異なった、ウエハーの積み下ろし戦略を持った多くの配置の代案がある。例えば、荷おろしステーション22と荷積みステーション42とを、両方の機能を備えた積みおろしステーションとすることが出来る。積みおろしステーションにより、ウエハーは計測の後、到着したときと同じカセットに戻される。加えて、クラスター2は、単一又は2以上の積みおろし装置を装備しても良いし、さらに/又は、2以上の荷積みステーション及び/又は荷おろしステーションを装備することとしても良い。さらに、クラスター2は、光学的文字認識システム(OCR)44を備え、ウエハー識別情報(図示せず)をネットワーク40を経由して計測システム選択ロジック要素34に伝達し、要素34は、ウエハー4の計測又は検査に用いるのに最適な計測システム10,12,及び/又は14を選択する。典型的なクラスター2はウエハー4をOCRシステム44を用いて識別するが、例えば、カセット24に組み込んだものや公知の他の方法のような技術をウエハー4の識別のために用いても良い。しかしながら、コード情報、データコード、その他がウエハー4上に直接印字又は刻印され、OCRシステム44がウエハーの識別を間違える可能性をうまく減らすことは評価される。
【0018】
コンピュータシステム30の計測システム選択ロジック要素34により、1以上の選択基準(例えば、以下に図8とともに図示し詳述する)に従って計測システムが選択されウエハー移送システム20に伝えられる。そこで、ウエハー移送システム20は、ウエハー4を計測システムの選択結果に基づいて少なくとも1つの計測システム10,12,及び/又は14へ送る。例えば、計測システム選択基準は、計測システム10,12,及び14に関する能力情報、使用可能性情報及び処理量情報とともに、ウエハー4に関連する、能力要求情報を含めることができる。選択はさらに、システム10,12,及び/又は14の要求される計測順序に従ってすることとしても良い。
【0019】
能力情報は、OCRシステム44からのウエハー識別情報に従って獲得し、計測のために必要とする精度のみならず型式や寸法もシステム2により測定される。ロジック要素34による計測システムの選択は、さまざまな計測システム10,12,及び/又は14の計測能力も考慮に入れる。例えば計測システム10,12,及び/又は14のうちの1つ以上は必要な精度内で与えられた計測をすることができる一方、他はできないかもしれない。さらに、計測システム10,12,及び/又は14の各々は、違った処理能力を持ちうる。例えば、SEM計器は30ウエハー/時間(wph)の処理が可能であり、スキャタロメータは150wphの処理まで可能であり、分光エリプソメータは75から80wphの処理が可能である。与えられた計測業務を遂行するための計測システムの選択においては、したがって、計測システム選択ロジック要素34は、計測のための必要な測定能力の範囲内で最高の処理量が確保できる計測システムをうまく選択することが可能となる。
【0020】
この点について、計測システム選択ロジック要素34は、ウエハー移送システム20を経由するウエハー4の移送計画において、どの計測システム10,12,及び/又は14が、現在有用なのかを考慮することができる。このように、計測システム選択ロジック要素34は、(OCRシステム44によるウエハーの識別から得られた又は導き出された)能力要求情報及び計測システム能力情報に基づくウエハー4に要求される能力を有するものとして選択された計測システム10,12,又は14を指し示すことで選択を行う。さらに、この選択は、計測システム有用情報と処理情報に従い、ウエハー4に必要な能力を持った最高の処理量を持つ計測システムに反映される。
【0021】
さまざまな計測システム10,12,及び14がクラスター2と相互接続されているので、また、ネットワーク40を介して情報を共有しているので、計測システム10,12,及び/又は14は、相互校正が可能である。この点について、コンピュータシステム30の校正情報36は、さまざまな計測システム10,12,及び14間で共有することが可能であり、これにより、計測システム10,12,又は14の内の1つの計測計器によりなされた計測値は他の計器でなされたものと同等となる。典型的なクラスターシステム2は、このように、加工工程における単独型計測ステーション間でウエハー4の過剰な受け渡しを軽減するだけでなく、相互校正をおこなう点で単独型計測ステーションよりはるかに優れたものである。
【0022】
情報は上流側(又は、例えば、下流側)のプロセスツール(例えば、フォトレジストトラック、ステッパ、その他)に送られ、プロセスフィードバック(又は、フィードフォワード)として採用され、例えば、加工中のウエハー4の欠陥を軽減するために計測データに基づき、プロセスツールが製造加工ステップを実行する、オンラインでの閉ループプロセスコントロールを行うことが可能となる。代案あるいは組み合わせとして、計測値(例えば、及び/又は検出した欠陥)情報を高度なプロセスコントロール(APC)システム(図示せず)に伝送してもよく、これにより、今度は、フィードバック及び/又はフィードフォワードのやり方でプロセスツールにプロセス調整値を伝達することが可能となる。この点では、処理量及び/又は使用可能性情報の少なくとも1つを基準に最適な計測システムを選択することが、本発明に基づいて加工工程の停止をなくすかあるいは極めて少なくして、実時間で、あるいはほぼ実時間での計測及び/又は欠陥検出を可能とすることで、関連するプロセスツールの停止を軽減するために用いられるのと同様に、単独のシステム2の中に一群の計測システム10,12,及び14を集合させたことにより、移送時間を軽減させることは、評価される。さらに、典型的な計測クラスター2は、図6及び7に示すように、プロセスツールに組み込まれ、プロセスツールは、ウエハー4について1以上の製造加工ステップを実行するために運転され、加工されたウエハー4をウエハー移送システム20に移す。
【0023】
図2に目を通すと、ウエハー製造プロセス50は、ウエハー54が順次最初のプロセスツール56から直列に並んだ計測計器システム58,60,及び62へと進んでゆく様子が分かる。システム58,60,及び62は、計測情報をAPCシステム64に伝送し、次いで、APCシステム64は、フィードバックインフォメーション66(例えば、プロセス調整情報やコントロール情報)をプロセスツール56に送る。その後、ウエハー54は、2番目の(例えば、下流)プロセスツール68に送られる。図2で分かるように、計測システム58,60,及び62からの計測値は同時に作られることはなく、さらにウエハー54は、システム58,60,及び62間を(例えば、一般的には人手により)移送しなければならないので、APCシステム64は、プロセスツール56にタイプリーにフィードバックすることはできない。
【0024】
さて図3によれば、本発明は、一群の計測計器又はシステム71,72,及び73を、ウエハー移送システム20に沿って計測システムクラスター70内に配備し、クラスター又はシステム70は、製造プロセス80中で、通常はカセット又はFOUP中で、上流のプロセスツール76からウエハー75を受け取る。システム70は、図1の典型的なクラスター2での動作と同様の動作が行われ、そこでは、1以上の計測システム選択基準に基づき、ウエハー移送システム74が選択的にウエハー75をプロセスツール76から1以上の計測計器又はシステム71,72,及び73に提供する。計測システム選択基準には、例えば、計測能力、計測要求能力、使用可能性、製造プロセス80スケジュールに基づき予想される要求事項及び/又は処理容量を含めても良い。一群の計測システム71−73や特定の検査のために最適な計測システムを選択するウエハー移送システム74の運転の結果達成された時間短縮により、タイムリーに計測情報(例えば、オーバーレイレジストレーション、CD寸法、要素サイズ、要素間のスペース)をフィードバック78としてプロセスツール76にタイムリーな方法で伝達できるようになり、このことにより、旧来のシステム(例えば図2)によるプロセス値の計測に関連する停止時間は、本発明により都合よく軽減される。計測されるとすぐに、ウエハー75は、計測システムクラスター70から2番目の(例えば、下流)プロセスツール79に送られる。図示されてはいないが、計測情報は、例えば下流のプロセスツール79へのフィードフォワードとして使っても良い。システム70は、フィードフォワード又はフィードバック情報として用いられたとき、一連の計測計器システム58,60,及び62に対して、図2に示されたものと同じ利益をもたらす。
【0025】
もうひとつの半導体装置製造プロセス100が図4に描かれており、ここでは、本発明の他の利点が示されている。プロセス100は、プロセスツール102,104,及び106及び関連する計測システムクラスター112,114,及び116を具備し、各々、図1の一般的なシステム2と同様に、ウエハー110に関連する1以上のプロセス値を計測するように動作する。どんな計測システムクラスター112,114,及び116も、計測システムの集合とすることができる。さらに、クラスターとツール、例えばツール102に対するクラスター112、の関係をツールに組み込むことができ、クラスターはサポートとウエハーの移送及び/その他の設備を共有する。計測システムクラスター112,114,及び116は、プロセスツール102,104,及び106と同様に、ネットワークを介してお互いに交信し、相互に情報が伝達される。APCシステム130も動作可能なようにネットワーク120に接続され、計測システム112,114,及び116からプロセスフィードバック、又はフィードフォワード又はさまざまなプロセスツール102,104,及び/又は106のために、及びその他のそのような計測情報の処理のために、計測情報(例えば、CDs、オーバーレイレジストレーション、その他)を受け取ることができる。例えば、APCシステム112は、1以上のさまざまなプロセスツール102,104,及び/又は106に対する欠陥等級分けを行っても良く、それにより製造プロセス100におけるこのような欠陥の数を削減するために、調整を行うことが可能となる。
【0026】
計測システムクラスター112,114,及び116には、APCシステムを含めることができ、そうすれば、プロセスツール102,104,及び106とそこで各々のプロセスステップのタイムリーな調整のために、フィードバック情報122,124,および126を各々プロセスツール102,104,及び106に送ることができる。代案又は組み合わせたものとして、このようなフィードバック情報は、計測システムクラスター112,114,及び/又は116から、ネットワーク120を経由して、1以上のプロセスツール102,104,及び/又は106に送られることとしても良い。さらに、本発明により、クラスター112,114,及び/又は116間で校正情報が共有され、それによりクラスター112,114,及び/又は116及び/又はそこにある要素計測計器システムは、全体の工程100で統一的な基準に従いそこでの計測がなされるような、相互校正がなされる。 統一的な基準は、工程100そのものよりも大きな領域に適用することができる。例えば、全体の製造設備や製造設備を結合したものにさえも適用できる。
【0027】
工程100は、ネットワークを介して、クラスター112,114,及び116内に単独型計測システムクラスター150を装備することができる。例えば、クラスター112,114,及び116は、上述したような関連ツールに組み込んでもよく、最初の計測ウエハー110は、この関連ツールにより処理され、クラスター150は簡単に多くの情報源からウエハーの計測を行うため設けられる。さらに、クラスター150は、処方作成装置152、データベース生成装置154、欠陥等級化システム156とともに、クラスター112,114,及び116内にある計測計器(図示せず)も装備することができる。処方とは、ウエハーの計測において、物理的な計測に対する計測システムパラメータと基礎的な物理計測量を有用な情報に変換するための手順を含む計測計器のための指示事項一式である。例えば、リフレクトメータ計測計器について言えば、処方には、ダイの大きさと位置を含むウエハーのレイアウトについての情報、ウエハー上のどのダイを計測するのか、1以上のダイを計測すべき現場(一般には、ダイの構成の照会)、ダイの構成の識別と位置づけのためのパターン認識パラメータ、反射強度ため組み込まれた時間の長さ、計測場所における薄膜層を含むモデルを基準にした手順、どのパラメータが既知なのかまたどちらを計測すべきなのかを記載した仕様書、その他が含まれる。処方には、この例で示したものより多くの情報を含ませても良い。一般的なリフレクトメータと異なった特性の計器は、その適切な処方には異なった情報を必要とする。
【0028】
一般的に、データベースには、計器により収集された基本的な物理情報をウエハーの処理状態に関する有用な情報に変換する手助けをするための情報が含まれる。一例として、データベース生成装置154からのリフレクトメータのデータベースは、計測された光学的な反射値の絶対値をCD又は薄膜の厚みに変換する手助けをすることができる。手順はデータベースを利用する。例えば、スキャタロメータの場合、1つの手順に対する演算時間が多すぎるとき、後で迅速に使用するために、手順の部分的な結果をデータベースに記憶しておくことは有効なことである。クラスター150は、加工プロセスにおかれた計測システムクラスター112,114,及び116の計器に、ネットワーク120を介してアップロードすることができる、データベース及び/又は手順を生成するために用いられる。このようにして、クラスター112,114,116が加工中のウエハーを計測するのに用いられている間、単独型計測システムクラスター150は、加工プロセスにおかれたクラスター112,114,及び/又は116に用いるための設定操作(処方及び/又はデータベース生成)を行うためにうまく用いられる。
【0029】
ここで、図5を参照すると、もう1つの典型的な本発明の実施例が描かれており、ここでは、計測システムクラスター202は、プロセスツール204及びAPCシステム206を含む製造プロセス200の一部となっている。プロセスツール204と同様にシステム202と206は、相互にネットワーク208を介して交信することが可能である。代案又は組み合わせたものとして、APCシステム206は、計測システムクラスター202と直接交信することが可能である。計測システムクラスター202は、図1の典型的なシステム2と同様の方法で、プロセスツール204から移送されるウエハー(図示せず)に関するプロセス値の計測のために製造プロセス200中に装備される。システム202は、ウエハーのプロセス値を計測でき、真空をつくりだすポンプとシール装置(図示せず)も装備可能な、スキャニングエレクトロンマイクロスコープ(CD−SEM)システム210を有している。システムクラスター202は、さらに、オプティカルスキャタロメータ212と分光エリプソメータ(SEs)214を有しており、ロボットはそれらに、すでに図示し説明したように1以上の選択基準に基づき選択的にウエハーを供給する。先に注記したように、オプティカルスキャタロメータ212には分光エリプソメータ(SEs)が含まれる。オプティカルスキャタロメータ212にはまた、リフレクトメータが含まれる。
【0030】
ウエハーは、荷おろしステーション220を介してロボット216に送られ、例えば、ウエハーをカセット(図示せず)のようなウエハー保持装置から取り出し、集中的なシステム202で適切な計測が完了したらすぐ、ウエハーは、荷積みステーション222で、適切なカセットに荷おろしする。すでに図示し説明したような計測システムにより、システム202のロボット216は、計測システム210,212,及び214に関する能力情報、使用可能性情報及び処理能力情報のみならず、加工中のウエハーに関する要求能力情報のように、1以上の選択基準に基づき、1以上の要素計測システム又は計器210,212,及び/又は214から選択して、ウエハーを供給する。
【0031】
多くの代案としての配置があり、図1と一緒に上述した通り、ウエハーの積み下ろしに関して各々異なった考え方に基づいている。
【0032】
能力情報には、計測値の必要精度とともに、システム202で計測すべき要素の型式や寸法を示す情報が含まれる。選択は、システム210,212,及び/又は214の計測能力を考慮に入れる。例えば、1以上のシステム210,212,及び/又は214は、要求精度内で与えられた計測が可能であるのに対し、他は可能ではないかもしれない。さらに、各システム210,212,及び/又は214は各々異なった処理能力を持っている。例えば、SEM210は、30ウエハー/時間(wph)の処理が可能であり、スキャタロメータ212は150wphの処理まで可能であり、分光エリプソメータは75から80wphの処理が可能である。本発明の特徴によれば、ロボット216は、特定の計測責務のため必要とされる計測能力内で、最高の処理能力を発揮できる計測計器にウエハーを移送する。この点について、計測能力に対する要求値は、例えば、OCRシステム(図示せず)又は他の識別装置又は技術から得られる特定のウエハーの識別情報から得られる。
【0033】
この点について、選択基準には、計測能力、又は、ロボット216を介してウエハーを移送するときの計画における計測システム又は計器210,212,及び/又は214の現在の使用可能性を考慮に入れてよい。このように、ロボット216は、要求能力情報(例えば、ウエハー識別情報から取得又は獲得したもの)や計測システム能力情報(例えば、特定の計器210,212,及び/又は214が特定の計測をする能力があるかどうか)に従い、ウエハーに対する要求される能力を具備するとして選択された計測システム210,212,又は214にウエハーを移送することができる。さらに、この選択は、計測システム有用情報と処理情報に従い、ウエハーに必要な能力を持った最高の処理量を持つ計測システム210,212,及び/又は214に反映される。このように、高い処理能力を持つスキャタロメータ212が他のウエハーを計測するのに使われている場合は、ロボット216は、ウエハーを、処理能力が低くても、うまい具合にCD−SEM210に移送することが可能である。代わりに積み下ろしステーションを増やした配置とし、処理能力と効率を最適化するために柔軟性を追加することもできる。
【0034】
加えて、計測システム210,212,及び/又は214は、計測システム間で交換や切り替えが容易なように、相互校正しても良い。つまり、スキャタロメータ212で生成され算出された計測値は、CD−SEM210により算出された計測値と似るよう関連付けることができる。この相互校正217の技術は、データの解釈を拡張して、スキャタロメータ212で生成された製品サンプルの計測値を、CD−SEM210で生成されたものと互換性があるようにすることを容易にする。
【0035】
例えば、参照ウエハー(例えば、フォーカスエクスポージャーマトリックスウエハー(focus-exposure matrix wafer)又は、テストウエハー)は、組み込まれたオプティカルスキャタロメータ212により計測され、スキャタロメータによるライン幅の計測値が実時間で又はデータベースと比較することで又は数学的データベースと比較することで計算される。ウエハーもまたCD−SEMによるライン幅を生成するためにCD−SEM210により計測される。CD−SEMによるライン幅とスキャタロメータによるライン幅の計測値との関係は、数学的に分析され、相関関数として参照するのに適した連続曲線を定義する多項式として表される。相関係数は、同じ加工プロセスにおいても、プロセスステップ(例えば接触するゲート)によって変化するので、プロセスステップごとに固有の相関係数を持つ。スキャタロメータは、従って、新しい未知のウエハーのライン幅の計測に用いても良い。スキャタロメータによるライン幅は上述の通り、理論的な計算値と比較して算出される。算出されたライン幅は、続いて、CD−SEM210を使ったとしたら得られると期待される値に近づくよう相関係数により修正される。
【0036】
さて、図6と7を参照すると、本発明は、計測システムクラスターにAPCシステム206とプロセスツール204のうちの1つ又は両方が一体化されたものが提供されている。例えば、図6では、統合された計測システムクラスター230は、計器210,212,及び214とロボット216と積みおろしステーション220及び222により構成されている。もうひとつの例が図7に描かれており、ここでは、統合されたシステム240は、計器210,212,及び214、ロボット216、積みおろしステーション220及び222、APCシステム206、及びプロセスツール204により構成されている。この例では、システム240は必ずしも縮尺をあわせていないこと、プロセスツール204は、物理的には、システム240内の他の構成要素よりかなり大きいかもしれず、この場合は、プロセスツール204に一群の計測要素が統合されることになる。このような要素の統合は、プロセスツール204からのウエハーが直接ロボット216に導かれることから、ウエハーがある要素から他の要素へと(例えば、時々人手により)過剰に物理的な移送がなされることを削減又は省略することができること、及び、荷積み及び荷おろしステーション222及び220は、各々、システム240に必要とされないことは、さらに評価すべき点である。
【0037】
本発明は、このように、計測及び/又は検査情報とその他前もって保存していなかったフィードバック情報をタイムリーに提供するために、知的な計測計器の選択を提供する。このような知的な選択の一つの例を図8に示す。ここでは、典型的な計測システム選択ロジック要素250が描かれている。ロジック要素250は、上述のように、図1の計測システム選択ロジック要素34と同様に動作し、これにより、1以上の選択基準が、計測システムクラスター(例えば図1のクラスター2)において、2以上の計測計器又はシステムから選択を行うために用いられる。例えば、選択ロジック要素250は、コンピュータシステム(例えば、図1のコンピュータシステム30)のようなものに、ソフトウエア、ハードウエア、及び/又はその組み合わせ、として提供される。
【0038】
模範的なロジック要素250は、ウエハー移送システム254に計測システム選択252結果を提供するために用いられる種々の情報から構成される。例えば、能力要求情報256は、例えば、上述のOCRシステムを使って、ウエハー上に印字された1以上の文字を光学的にスキャンすることで得られるウエハー識別情報257から導き出される。能力情報256には精度その他の情報が含まれ、それによって、選択ロジック要素250は、特定の計測又は検査の責務を果たすために適切な1以上の計測計器を選択することができる。例えば選択ロジック要素250は、特定の責務に対する能力要求256と、計測システム能力情報261,262,263、及び計測システムクラスター(図1の例えば、システム10,12,及び14)内における計測計器(図示せず)に対応する関連事項とを比較し、どの計測システムが能力要求256に合致するかを決定する。
【0039】
加えて、計測システム選択252は、計測システム利用可能性あるいは使用可能性情報271,272,273、及びクラスター内における計測システムに対応する関連事項に基づくことができる。例えば、ある計測計器が、現在使用中なのか、まさに使われようとしているのか、使用不可能なのか、保守中等の予定が入っているのかを確かめるために、情報271,272、及び/又は273その他は、意見を求められ或いは質問されるであろう。このようにして、ウエハー移送システム254は、最初の計測システムが現在使用中の場合、もう1つの計測システムにウエハーを移送することが可能となり、並行して或いは同時にクラスター内で2以上の計測システムが動作するので、クラスターの観点からは、さらに計測処理の加速化が可能となる。さらなる考慮として、選択ロジック要素250は、最高の処理能力を持ち、使用可能な計測システムをうまく選択するために、計測システムの処理量情報281,282,283、その他に意見を求める。さらに加えて、計測システム選択252は、例えば図3に示されたような製造プロセス80の製造スケジュール260に基づく必要性の予想にも基づいても良い。製造スケジュール260には、特定のプロセスツール例えば76及び79の性能の理にかなったサンプリングを可能とする情報が含まれている。
【0040】
本発明の他の特徴は、半導体製造プロセスにおけるプロセス値を計測するための方法を提供する。ここで、図9を参照すると、本発明に従う典型的な方法300が描かれている。ここに一連の種々の事象や動作のブロックとして典型的な方法300が描かれ記述されているが、本発明は、このようなブロックに描かれた手順に限定されるものではない。例えば、ある動作または事象は、本発明によれば、ここに描かれた手順とは別に、他の動作又は事象と共に、違う順序で及び/又は同時に発生するように出来る。さらに、図示されたブロック、事象、又は動作の全てを、本発明による方法の中で実行しなくても良い。加えて、本発明による典型的な方法300と本発明による他の方法は、ここに図示され記載されていない装置及びシステムと共同して実行されるだけでなく、ここに図示され記載された装置及びシステムと共同して実行されることは評価される。
【0041】
302から始まり、ウエハーは304で製造プロセスから受け取られる。例えば、ウエハーは、計測システムクラスター10,12,及び14(例えば、図1のシステム2)において、プロセスツールから受け取られる。306では、ウエハーが(例えば、その上にある少なくとも1つの文字を読み取るOCRを用いるか又は他の手段で)識別され、それにより計測能力要求が決定される。その後、308において、要求される計測能力を有する使用可能な計測計器(例えば、計測システムクラスター内の要素計測装置)の決定がなされる。このような決定は、製造スケジュールに基づく必要性の予想を考慮に入れても良い。310では、要求される計測能力を有し、かつ、最大の処理能力を有する使用可能な計測計器が選択される。310で選択された計測システム又は計器を用いて、312でウエハーが計測され、この方法300は314で終了する。
【0042】
本発明は、示された実施形態により図示し説明したが、当業者が本明細書及び図面を理解し、等価な変更や修正を行うことが起こることは理解できる。特に、上述の要素(組立て工程、装置、回路、システム、その他)により実行される種々の機能に関し、このような要素を記述するために使った項目(「方法」に関するものも含む)は、明記しない限り、構成的には開示した構成と異なっていたとしても、本発明の特徴を典型的に示すものとしてここに示された機能が実行できる限り、記述した要素の機能を果たすどんな要素にも対応するものである。この点で、本発明は、本発明のさまざまな方法において、コンピュータで実施可能な動作及び/又は事象を実施する指令を有するコンピュータで読み出し可能な媒体のみならず、1以上のコンピュータシステムも含むことがわかる。様々な形態の通信、例えばコンピュータシステムの要素間またはシステム間での通信は、実施形態により黙示的に含まれている。
【0043】
加えて、本発明の特定の特徴については、いくつかの実施例のうちの1つについてのみ公開したが、このような特徴についても、どんな出願より望ましく有益な他の1以上の実施例と結合してもよい。さらに、用語「含む」「含んでいる」、「有する」、「有している」、及びこれらの変形は、詳細な説明及び特許請求の範囲で使われているが、これらの用語は、用語「具備する(comprising)」と同様で、すべてを含む意味で使われる。
【図面の簡単な説明】
【0044】
【図1】図1は、本発明の1つ以上の実施形態による計測システムクラスターの一例を描いた概略図である。
【図2】図2は、プロセスツールと単独型の計測システムを具備する製作工程を描いた概略図である。
【図3】図3は、本発明に係る典型的な計測システムクラスターを具備する製作工程を描いた概略図である。
【図4】図4は、本発明に係る高度なプロセスコントロールシステムのみならず関連するプロセスツールに対するフィードバックトして、計測システムクラスターを採用した製作工程を描いた概略図である。
【図5】図5は、プロセスツールと高度なプロセスコントロールシステムの操作に関連する他の典型的な計測システムクラスターを描いた概略図である。
【図6】図6は、プロセスツールとの通信操作に関連する他の典型的な計測システムクラスターを描いた概略図である。
【図7】図7は、プロセスツールとAPCシステムと共に製作工程に組み込まれた他の典型的な計測システムクラスターを描いた概略図である。
【図8】図8は、本発明に係る他の形態による典型的な計測システム選択ロジック要素を描いた概略図である。
【図9】図9は、本発明に係る典型的な手順を描いた概略図である。
Claims (36)
- 半導体機器製造プロセス(80,100,200)においてウエハー(4,54,75,110)のプロセス値を計測するための計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)であって、
第1と第2の計測計器(71,72,73,210,212,214)を有し、第1と第2の計測計器のおのおのが、ウエハー(4,54,75,110)に関連する少なくとも1つのプロセス値を計測する、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)と、
製造プロセス(80,100,200)において加工されたウエハー(4,54,75,110)を受け取り、プロセス値を計測するための計測システム選択基準に従い、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つを選択して、ウエハー(4,54,75,110)を供給する、ウエハー移送システム(20,74,254)と、
を具備する計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。 - 計測システム選択基準に従い、ウエハー移送システム(20,74,254)に計測システム選択結果(252)を提供する計測システム選択ロジック要素(34,250)であって、計測システム選択結果(252)に従い、ウエハー移送システム(20,74,254)が、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つにウエハー(4,54,75,110)を供給する、計測システム選択ロジック要素(34,250)を具備する請求項1に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 計測システム選択基準は、ウエハー(4,54,75,110)に関連する能力要求情報(256)、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する計測システム能力情報(261,262,263)、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する使用可能性情報(271,272,273)、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)の必要性の予想、及び第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する処理量情報(281,282,283)のうちの少なくとも1つを具備する、請求項2に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- ウエハー識別情報(257)に従い能力要求情報(256)が導かれるような、ウエハー識別情報(257)を計測システム選択ロジック要素(34,250)に提供する光学的文字認識システム(44,258)を具備する、請求項3に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 計測システム選択ロジック要素(34,250)は、能力要求情報(256)及び計測システム能力情報(261,262,263)に従い、ウエハー(4,54,75,110)に要求される能力を有する選択された計測システムを表示した、計測システム選択結果(252)を提供する、請求項3に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 計測システム選択ロジック要素(34,250)は、計測システム能力情報(261,262,263)及び処理量情報(281,282,283)に従い、ウエハー(4,54,75,110)に要求される能力を持った最高の処理量を有する使用可能な選択された計測システムを表示した計測システム選択結果(252)を提供する、請求項3に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)は相互校正される、請求項1に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つから、計測されたプロセス値を受け取り、計測されたプロセス値に従いプロセスフィードバック(66,68,122,126)を提供する、APCシステム(64,130,206)を具備する、請求項1に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- ウエハー移送システム(20,74,254)と第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)とに関連して運転され、APCシステム(64,130,206)を具備するコンピュータシステム(30)、を具備する請求項8に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- コンピュータシステム(30)は、計測システム選択基準に従い、ウエハー移送システム(20,74,254)に計測システム選択結果(252)を提供する計測システム選択ロジック要素(34,250)であって、計測システム選択結果(252)に従い、ウエハー移送システム(20,74,254)が、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つにウエハー(4,54,75,110)を供給する、計測システム選択ロジック要素(34,250)を有している、請求項9に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 計測システム選択基準は、ウエハー(4,54,75,110)に関連する能力要求情報(256)、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する計測システム能力情報(261,262,263)、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する使用可能性情報(271,272,273)、及び第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する処理量情報(281,282,283)のうちの少なくとも1つを含む、請求項10に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- ウエハー識別情報(257)に従い能力要求情報(256)が導かれるような、ウエハー識別情報(257)を計測システム選択ロジック要素(34,250)に提供する光学的文字認識システム(44,258)を具備する、請求項11に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 計測システム選択ロジック要素(34,250)は、能力要求情報(256)及び計測システム能力情報(261,262,263)に従い、ウエハー(4,54,75,110)に要求される能力を有する選択された計測システムを表示した計測システム選択結果(252)を提供する、請求項11に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 計測システム選択ロジック要素(34,250)は、計測システム能力情報(261,262,263)及び処理量情報(281,282,283)に従い、ウエハー(4,54,75,110)に要求される能力を持った最高の処理量を有する使用可能な選択された計測システムを表示した計測システム選択結果(252)を提供する、請求項13に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- コンピュータシステム(30)は、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する校正情報(36)を具備し、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)は、相互校正される、請求項1に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 製造プロセス(80,100,200)からウエハー(4,54,75,110)を受け取り、ウエハー保持装置(24)からウエハー(4,54,75,110)を荷おろしし、荷おろしされたウエハー(4,54,75,110)をウエハー移送システム(20,74,254)に移送する運転が可能な荷おろしステーション(22,220)を具備する、請求項1に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- ウエハー移送システム(20,74,254)からウエハー(4,54,75,110)を受け取り、ウエハー(4,54,75,110)をウエハー保持装置(24)に積み込む、荷積みステーション(42,222)を具備する、請求項1に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- ウエハー移送システム(20,74,254)は、ロボット(216)を具備する、請求項1に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 少なくとも1つの製造プロセスステップの実行が可能であり、加工されたウエハーをウエハー移送システム(20,74,254)に供給するプロセスツール(56,68,76,79,102,104,106,204)を具備する、請求項1に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つから、計測されたプロセス値を受け取り、計測されたプロセス値に従いプロセスフィードバック(66,68,122,124,126)を提供するAPCシステム(64,130,206)を具備する、請求項19に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- APCシステム(64,130,206)は、プロセスツール(56,68,76,79,102,104,106,204)にプロセスフィードバック(66,68,122,124,126)を提供し、プロセスツール(56,68,76,79,102,104,106,204)は、プロセスフィードバック(66,68,122,124,126)に従い,少なくとも1つの製造プロセスステップを実行する、請求項20に記載の計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)。
- 半導体機器製造プロセス(80,100,200)におけるウエハー(4,54,75,110)を検査するウエハー検査システムであって、
ウエハー(4,54,75,110)に関連する少なくとも1つのプロセス値を計測可能な計測計器(210,212,214)を有する計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)と、
ウエハー(4,54,75,110)上の少なくとも1つの工学的に認識可能な文字(character)によりウエハー識別情報(257)を提供する光学的文字認識システム(44,258)と、
を具備するウエハー検査システム。 - おのおの第1と第2の計測計器(210,212,214)を有する第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)と、製造プロセス(80,100,200)にて加工されたウエハー(4,54,75,110)を受け取り、ウエハー識別情報(257)とプロセス値を計測するための少なくとも1つの計測システムの選択に従い、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの1つに選択的にウエハー(4,54,75,110)を移送するウエハー移送システム(20,74,254)とを具備する請求項22に記載の検査システム。
- ウエハー識別情報(257)と少なくとも1つの計測システム選択基準に従い、計測システム選択結果(252)をウエハー移送システム(20,74,254)に提供する計測システム選択ロジック要素(34,250)を具備し、ウエハー移送システム(20,74,254)は、計測システム選択結果(252)に従い、ウエハー(4,54,75,110)を、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つに移送する、請求項23に記載の検査システム。
- 計測システム選択基準のうちのすくなくとも1つは、ウエハー(4,54,75,110)に関連する能力要求情報(256)、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する計測システム能力情報(261,262,263)、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する使用可能性情報(271,272,273)、及び第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する処理量情報(281,282,283)のうちの少なくとも1つを具備する、請求項24に記載の検査システム。
- 計測システム選択ロジック要素(34,250)は、 ウエハー(4,54,75,110)に要求される能力を持った最高の処理量を有する使用可能な選択された計測計器を表示した、計測システム選択結果(252)を提供する、請求項25に記載の検査システム。
- 半導体機器製造プロセス(80,100,200)におけるウエハー(4,54,75,110)に関連するプロセス値を計測する方法であって、
製造プロセス(80,100,200)から、ウエハー(4,54,75,110)を受け取り、
計測システム選択基準に従い、第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つに、選択的に、ウエハー(4,54,75,110)を供給し、
第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つを用いて、プロセス値を計測する、
工程を具備する方法。 - 第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つに、選択的に、ウエハー(4,54,75,110)を供給する方法であって、
ウエハー(4,54,75,110)を識別し、
ウエハー(4,54,75,110)識別にしたがってプロセス値を計測するために要求される計測能力を決定し、
要求される能力(256)と第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)に関連する計測システム能力情報(261,262,263)に従い 第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)のうちの少なくとも1つに選択する
工程を具備する請求項27に記載の方法。 - 第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)の少なくとも1つを選択する工程は、計測システム使用可能性情報(271,272,273)と処理量情報(281,282,283)とに応じてウエハーに対する要求計測能力を持ち最高の処理能力を有する第1と第2の計測システム(10,12,14,58,60,62,71,72,73)から使用可能な計測システムを選択する工程を具備する、請求項28に記載の方法。
- 半導体機器製造プロセス(80,100,200)において、半導体ウエハー(4,54,75,110)に関連するプロセス値の計測に用いる設定情報を作り出すシステムであって、
ウエハー(4,54,75,110)を計測するのに用いられるオフライン計測計器と、
計測値にしたがって設定情報をつくり、設定情報を半導体機器製造プロセス(80,100,200)に関連するプロセス計測システムに供給するためのオフライン計測計器に関連して運転可能な、設定情報発生装置とを具備し、
半導体機器製造プロセス(80,100,200)において、設定情報は、半導体ウエハー(4,54,75,110)に関連するプロセス値を計測するためのプロセス計測システムにより使用可能である、システム。 - 設定情報は、処方とデータベースのうちの少なくとも1つを具備する請求項30に記載のシステム。
- 半導体サンプルの幾何学的特徴を評価するために走査型電子顕微鏡(SEM)(210)と併せてスキャタロメータを操作する方法であって、
スキャタロメータ(212)で基準用サンプル1式を計測し、特性を示す数値をコンピュータで決定し、
走査型電子顕微鏡(SEM)(210)で前記基準用サンプル1式を計測し、特性を示す数値を物理学的に決定し、
コンピュータで導き出される値と、物理学的に導き出される値との相関係数を決定し、そして、
スキャタロメータ(212)でテストサンプル1式を測定し、特性を示す数値としてコンピュータで決定し、当該数値を相関係数に従い調整する、
工程を具備するスキャタロメータを操作する方法。 - 前記相関係数は、前記コンピュータで決定された数値と前記物理学的に決定された数値との関係を定義する多項式に従って導き出される請求項32に記載の方法。
- さらに、計測システムクラスター(2,70,112,114,116,150,202,230,240)内のあらゆる計器(71,72,73,210,212,214)の、他のあらゆる計器(71,72,73,210,212,214)にたいする関連付けをおこなう工程を具備する請求項32に記載の方法。
- クラスターのあらゆる計測計器(210,212,214)の、他のあらゆる計測計器(210,212,214)にたいする関連付けは、SEM(210)に対するスキャタロメータ(212)の関連付けと、スキャタロメータ(212)に対するSEM(210)の関連付けとを双方向にできるようにすることを具備する、請求項34に記載の方法。
- さらに、第1の計測計器(210,212,214)上の基準用サンプルと第2の計測計器(210,212,214)上の基準用サンプルとの相関係数の計測と、当該相関係数を他の計器の少なくとも1つに適用する工程とを具備する、請求項32に記載の方法。
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