JP4720991B2 - 情報表示システム - Google Patents
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Description
トラック300には、レジスト塗布及び現像を行うコータ・デベロッパ(C/D)310が設けられている。このC/D310においても、ウエハを保持するためのステージが2つ設けられており、2つのステージに保持されたウエハに対し交互にレジスト塗布及び現像を行なうことにより、それらの所要時間の短縮が実現されている。図1では、C/D310における一方のステージに保持されたウエハに対しレジスト塗布及び現像を行う部分を、処理部1として示しており、他方のウエハステージに保持されたウエハに対しレジスト塗布及び現像を行う部分を処理部2として示している。
重ね合わせ/線幅計測機800は、C/D310で現像されたウエハ上に形成された回路パターン等の重ね合わせ誤差及び線幅を計測可能な計測装置である。実際には、重ね合わせ/線幅計測機800は、重ね合わせ計測機と、線幅計測機との組合せである。この重ね合わせ/線幅計測機800も複数設けられている。
露光工程管理コントローラ500は、複数台の露光装置100で行われる露光工程を制御・管理しており、複数台の露光装置100のスケジューリングを管理している。
また、重ね合わせ/線幅解析システム600は、露光装置100、トラック300などとは独立して動作する装置であり、各種装置からネットワークを経由して各種データを収集し、必要な解析処理を行う。このようなシステムを実現するハードウエアとしては、例えばパーソナルコンピュータ(PC)を採用することができる。このPC上では、各種装置から収集してデータを解析・評価する評価アプリケーションが動作可能となっている。この評価アプリケーションでは、マウスやキーボードなどを用いたオペレータの操作により、収集したデータの選択・解析実行の指令を指示することが可能となっており、解析結果を、ディスプレイに表示させることができるようになっている。
工場内生産管理ホストシステム700は、基板処理工場内の全ての半導体製造プロセスを統括管理する。
各種デバイス形成装置群900には、ウエハ上に薄膜の生成を行う成膜装置(CVD(Chemical Vapor Depositon)装置)910と、エッチングを行うエッチング装置920と、化学的機械的研磨を行いウエハを平坦化する処理を行うCMP(Chemical Mechanical Polishing)装置930と、ウエハを酸化させたりイオン(不純物)を注入したりする酸化・イオン注入装置940とを備えている。CVD装置910、エッチング装置920、CMP装置930及び酸化・イオン注入装置940にも、2つの処理部(処理部1、2)が設けられており、スループットの向上が図られている。また、CVD装置910、エッチング装置920、CMP装置930及び酸化・イオン注入装置940も、露光装置100などと同様に、複数台設けられており、相互間で被処理物体のウエハを搬送可能とするために、搬送経路が設けられている。
ここで、半導体製造システムにおいて行われるデバイス製造プロセスについて説明する。まず、酸化・イオン注入装置940において、ウエハ上に酸化膜を形成する。そして、C/D310においてレジストを塗布し、露光装置100にて回路パターンを露光する。その後、C/D310にて現像を行い、エッチング装置920にてエッチングを行い、必要に応じて、CVD装置910にて成膜、CMP装置930にて平坦化、酸化・イオン注入装置940にてイオン注入などを行う。上記プロセスが何回も繰り返されることにより、その上に電気回路等のデバイス構造体が幾層にも重ね合わせて形成される。
トランジスタ工程では、図2のAで示される部分、すなわち、トランジスタの部分を作成する。まず、酸化・イオン注入装置940において、ウエハを酸化させてシリコン酸化膜を形成した後、C/D310においてフォトレジストを塗布し、露光装置100において回路パターン等を転写し、C/D310において現像を行う。この現像によりフォトレジストが剥離した部分に、素子分離領域が形成されるようになる。この後、エッチング装置920におけるエッチングを行ってフォトレジストが剥離した部分のシリコン酸化膜及びその下のシリコンの部分を除去する。レジスト除去後、さらに、別のシリコン酸化膜をCVD装置910を用いて堆積させる。これにより、シリコン部分がエッチングされた部分と、最初に堆積された酸化膜の部分とに、別のシリコン酸化膜が堆積するようになる。次に、CMP装置940による研磨を行うと、シリコン部分がエッチングされた部分に堆積したシリコン酸化膜だけが残留するようになる。これが素子分離領域となる。
トランジスタ工程終了後、図2のBで示される多層配線層の形成を行う。トランジスタを結線するため、CVD装置910により、トランジスタ上に厚い絶縁膜(層間絶縁膜)15を堆積する。次に、C/D310によりレジスト塗布を行い、露光装置100によりコンタクトホールパターンを転写し、C/D310による現像を行う。次に、エッチング装置930のエッチングにより配線される部分の層間絶縁膜15を取り除き、配線材料(タングステン)11を埋め込む。そして、上部をCMP装置930で平坦化後、アルミ配線を行う場合には、材料のアルミニウム膜を全面に堆積し、C/D310によるレジスト塗布、露光装置100による配線パターンの転写、C/D310による現像、エッチング装置920によるエッチングを行い、アルミ配線10を形成する。
図4に示されるように、メインウインドウ650には、プロセス情報の表示欄651と、3つのグラフと、幾つかのプルダウンメニューと各種ボタンとが表示されている。
メインウインドウ650内の左側下段には、<LOT/Wafer/Shot Select>ボタン663が表示されている。この<LOT/Wafer/Shot Select>ボタン663がクリックされると、図8に示される、ロット工程名選択ウインドウ693がポップアップ表示される。このロット工程名選択ウインドウ693では、プロセスA〜Jの中から、少なくとも1つのプロセスを選択することができるようになっている。図8では、プロセスA〜Hのうち、プロセスA〜Fが選択されている様子が示されている。
この評価アプリケーションを用いれば、これまでのデバイス構造体の形成状態に関する表示結果を利用して、次のプロセスで要求される線幅、重ね合わせ精度などを予測することが可能である。例えば、プロセスAでの重ね合わせ誤差が、|XMEAN|A+3σA[nm]であり、プロセスBでの重ね合わせ誤差が、|XMEAN|B+3σB[nm]であったとすると、次のプロセスBで要求される全体での重ね合わせ誤差は、|XMEAN|A+|XMEAN|B+√[(3σA)2+(3σB)2][nm]になると予想される。したがって、新たにこのプロセスBが行われる場合には、この値を要求精度とすることができる。
図4に戻り、メインウインドウ650内右側中段には、マップディスプレイボタン660が表示されている。プルダウンメニュー659等でウエハが指定された状態でこのマップディスプレイボタン660がクリックされると、図13に示される指定されたウエハのショットマップウインドウ672が表示される。このショットマップウインドウ672には、このウエハのショット領域の配列マップ、すなわちショットマップが表示されている。このショットマップのショット領域のうち、ウエハアライメントの際の計測対象となったいわゆるサンプルショット領域には、そのウエハアライメントに関連するデータがベクトル表示されている。このベクトルは、例えば、ウエハアライメントの結果得られる補正量であってもよいし、そのショット領域に付設されたウエハマークの設計上の位置座標と実測された位置座標との差分であってもよいし、ウエハマークの実測位置座標と、アライメント補正による補正後の位置座標との差分(残差)であってもよい。以下では、これらのベクトルの表示をウエハベクトルマップと呼ぶ。
図4に戻り、メインウインドウ650内の下側中央部には、<Matching Information>ボタン664が表示されている。このボタン664がクリックされると、メインタスク610は、その旨を重ね合わせ/線幅シミュレーションタスク630に送る。重ね合わせ/線幅シミュレーションタスク630は、記憶装置640に記憶されている重ね合わせ誤差の実測値のデータを、重ね合わせ露光を行う露光装置と、重ね合わせの対象となった層の露光装置の組合せごとに分類する。そして、重ね合わせ/線幅シミュレーションタスク630は、分類された組合せ毎に重ね合わせ誤差の平均値を算出する。さらに、重ね合わせ/線幅シミュレーションタスク630は、算出されたデータを、マッチング表682に表示するデータとして、メインタスク610に送る。メインタスク610は、送られたデータに基づいて、それらのマッチング表682を作成し、ディスプレイ上に表示する。図14には、そのマッチング表682の一例が示されている。
図4に戻り、メインウインドウ650内の右側上段部には、<Process Info>ボタン658が表示されている。プルダウンメニュー657等でプロセスが指定された状態で、このボタン658がクリックされると、メインタスク610は、記憶装置640から、指定されたプロセスで用いられた装置に関するデータを読み出し、図15に示されるロット工程処理情報表示ウインドウ683に表示する。このウインドウ683には、製品名、プロセス名、指定されたロット工程を処理した各種装置、例えば、露光装置、エッチング装置、コータ・デベロッパ、酸化・イオン注入装置、CMP装置、成膜装置、ドーピング装置などの装置種別(System Type)、各装置の装置名(System Name)、その装置での処理条件(Process Condition)が表示されている。図15では、処理条件として、2種類<part1>、<part2>が表示されている。このような処理条件には、例えば、露光装置100、C/D310、デバイス形成装置群900における各種装置910〜940において、いずれの処理部(処理部1、2)で処理されたかなどの条件も含まれる。
Claims (16)
- プロセス単位で、物体上の複数の異なる区画領域各々に重ね合わせるように形成された複数層のデバイス構造体の形成状態を評価するための情報を表示する情報表示システムであって、
前記各デバイス構造体の形成過程及び形成結果の少なくとも一方に関する情報に基づいて、そのデバイス構造体の形成状態に関する少なくとも1種類の情報を算出する算出装置と;
前記算出されたデバイス構造体の形成状態に関する少なくとも1種類の情報を、複数のプロセス、複数の物体、複数の区画領域の少なくとも1つについて表示する表示装置と;を備える情報表示システム。 - 前記表示装置は、
同じプロセスでの前記デバイス構造体の形成状態の統計的な指標値を、複数のプロセスに渡って、前記デバイス構造体の形成状態に関する情報として表示することを特徴とする請求項1に記載の情報表示システム。 - 前記表示装置は、
同じ物体での前記デバイス構造体の形成状態の統計的な指標値を、複数の物体に渡って、前記デバイス構造体の形成状態に関する情報として表示することを特徴とする請求項1又は2に記載の情報表示システム。 - 前記表示装置は、
同じ区画領域での前記デバイス構造体の形成状態の統計的な指標値を、複数の区画領域に渡って、前記デバイス構造体の形成状態に関する情報として表示することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の情報表示システム。 - 前記デバイス構造体の形成状態の統計的な指標値は、
その最大値、最小値、該最大値と該最小値との差、平均値、偏差、標準偏差及び分散に基づく指標値の少なくとも1つであることを特徴とする請求項2〜4のいずれか一項に記載の情報表示システム。 - 前記デバイス構造体の形成状態に関する少なくとも1種類の情報には、
当該デバイス構造体における個々の構成要素のサイズに関する情報と、当該デバイス構造体の重ね合わせの対象となるデバイス構造体との重ね合わせに関する情報との少なくとも一方が含まれることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の情報表示システム。 - 前記サイズに関する情報及び前記重ね合わせに関する情報は、
実測値及びシミュレーションにより求められた値の少なくとも一方であることを特徴とする請求項6に記載の情報表示システム。 - 前記重ね合わせに関する情報に基づいて、前記複数のデバイス構造体各々を形成するデバイス形成装置と、そのデバイス構造体の重ね合わせの対象となるデバイス構造体を形成したデバイス形成装置とのマッチングに関する情報を取得する取得装置と;
前記取得されたマッチングに関する情報に基づいて、前記デバイス形成装置間のマッチングに関する情報のテーブルであるマッチングテーブルを更新する更新装置と;
前記更新されたマッチングテーブルを表示するマッチング表示装置と;をさらに備えることを特徴とする請求項6又は7に記載の情報表示システム。 - 前記重ね合わせに関する情報に基づいて、前記複数のデバイス構造体各々を形成するデバイス形成装置と、そのデバイス構造体の重ね合わせの対象となるデバイス構造体を形成したデバイス形成装置とのマッチングに関する情報を作成する作成装置と;をさらに備え、
前記表示装置は、前記作成されたマッチングに関する情報をさらに表示することを特徴とする請求項6又は7に記載の情報表示システム。 - 前記複数のデバイス構造体各々を形成するデバイス形成装置に関する情報をプロセス毎に取得する取得装置と;
指定されたプロセスで用いられたデバイス形成装置に関する情報を表示する装置情報表示装置と;をさらに備えることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の情報表示システム。 - プロセス単位で、物体上の複数の異なる区画領域各々に重ね合わせるように形成された複数層のデバイス構造体の形成状態を評価するための情報を表示する情報表示システムであって、
プロセス、物体、区画領域、区画領域の位置座標を指定する指定装置と;
前記指定されたプロセス、物体、区画領域、その区画領域の位置座標を基準とするその区画領域の少なくとも一部でのデバイス構造体の形成過程及び形成結果の少なくとも一方に関する情報に基づいて、そのデバイス構造体の形成状態に関する少なくとも1種類の情報を算出する算出装置と;
前記指定されたプロセス、物体、区画領域、その区画領域の位置座標を基準とするその区画領域の少なくとも一部でのデバイス構造体の設計情報と、その区画領域の少なくとも一部でのデバイス構造体の形成状態に関する少なくとも1種類の情報とに基づいて、その区画領域の少なくとも一部に形成されたデバイス構造体のグラフィックイメージを表示するイメージ表示装置と;を備える情報表示システム。 - 前記区画領域でのデバイス構造体の少なくとも一部のグラフィックイメージは、その断面図及び上面図の少なくとも一方であることを特徴とする請求項11に記載の情報表示システム。
- 前記グラフィックイメージにおける座標軸の1つに関する表示スケールの変更に応じて、他の座標軸の表示スケールを変更することを特徴とする請求項12に記載の情報表示システム。
- 前記イメージ表示装置は、
前記区画領域でのデバイス構造体の少なくとも一部の少なくとも2種類のグラフィックイメージを同時に表示し、
いずれか1つのグラフィックイメージの表示スケールの変更に応じて、残りのグラフィックイメージの表示スケールを変更することを特徴とする請求項13に記載の情報表示システム。 - 前記複数のプロセスに用いられるデバイス形成装置に関する情報を取得する取得装置と;
前記指定装置により指定されたプロセスで用いられたデバイス形成装置に関する情報を表示する装置情報表示装置と;をさらに備えることを特徴とする請求項14に記載の情報表示システム。 - 前記デバイス形成装置には、
露光装置、エッチング装置、レジスト塗布装置、現像装置、酸化・イオン注入装置、研磨装置、成膜装置の少なくとも1つが含まれることを特徴とする請求項15に記載の情報表示システム。
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