JP2013520674A - パターン化された構造を測定するための方法およびシステム - Google Patents
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Abstract
Description
MFfull=f(MFlocal,MFglobal) (2)
MFfull=MFlocal+MFglobal (3)
別の比限定的な例では
MFfull=MFlocal・(1+G) (4)
ここで、Gは、全ての位置に関して知られた/決定されたグローバルパラメータから決定される。
MFglobal=α・(1−R2)n (5)
ここで、n<1は、R2が1に近接する効果を強調するために使用でき、α□は、MFglobalおよびMFlocalの相対的強度(relative strength)を調整することができるスケール係数である。
Xfit=a・Xref+b (6)
ここで、aおよびbは、Xrefに可能な限り近接するようにXfitを最適化する相関係数である。
MFglobal=α・((Xfit−X)/dX)2 (7)
ここで、dXは、フィッティング/収束プロセスでMFglobalの強度をスケール化(scale)するために使用できるXの寸法(dimension)を有する固定値である。
MFglobal=α・((Xsmooth−X)/dX)2 (8)
P(x,y)=ax+by+c (9)
ここで、係数a、b、cは、先の反復から定義/更新されうる(ステップ312および312’)。計算は、少なくとも3つの位置(3つの測定されたスペクトル)を要求することができ、またはさらに、例えばそのようなパラメータに関して、これは、10個より多いスペクトルでもよい。
P2(xi,yi)=a・x2 i+b・xi+c・y2 i+d・yi+e・xi・yi+f
(10)
計算は、6またはそれより多いスペクトル、例えば20個より多いスペクトルを要求しうる。
−外部絶対レファレンスg=xref、例えばCD−SEMによって提供される。
−フィットされた外部レファレンスg=axref+b(外部レファレンス値を持つその関係を介して表現されたグローバルパラメータ)、ここで係数aおよびbは、先の反復からの全データ集合に対するグローバルフィットによって計算される。
−先の反復からのウエハにわたる平均g=<x>
−例えば、放射線フィット(parabolic fit)、平滑化された分布制限等、ウエハ座標に依存して、さらに複雑なグローバルフィッティング関数。
110 測定されたデータ
112 事前知識
114 処理
Claims (20)
- パターン化された構造の少なくとも1つのパラメータの測定で使用する方法であって、
入力データを提供する過程であって、前記入力データは、
構造の異なる位置上の測定に対応する複数の測定された信号を含む測定されたデータと、
理論的信号を示すデータであって、理論的信号と測定された信号との間の関係は、構造の少なくとも1つのパラメータを示す、データと、を含む、過程と、
構造の少なくとも1つの性質を特徴付ける少なくとも1つの選択されたグローバルパラメータに基づきペナルティ関数を提供する過程と、
理論的信号と測定された信号との間のフィッティングプロシージャを実行する過程であって、フィッティングプロシージャの前記実行は、理論的信号と測定された信号との間の最適化された関係を決定するために前記ペナルティ関数を使用することと、構造の前記少なくとも1つのパラメータを決定するために最適化された関係を使用することとを含む、過程と
を具備することを特徴とする方法。 - 前記最適化された関係の所望の収束に到達するまで、最適化されたメリット関数を使用して要求された数の反復を実行し、構造の少なくとも1つのパラメータの前記決定を実行することを具備することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- ペナルティ関数は、構造の2つまたはそれより多い相関パラメータ間の関係を特徴付けることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記相関パラメータは、パターンの限界寸法および側壁角を含むことを特徴とする請求項3に記載の方法。
- ペナルティ関数は、測定位置に関して実質的に一定であるグローバルパラメータに基づくことを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の方法。
- グローバルパラメータは、外部レファレンスに対する特定の知られた関係にあることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- グローバルパラメータは、前記測定されたデータを得るために使用される第1測定プロセスと、構造の類似のパラメータを決定するための第2測定プロセスとの相関に関連付けられることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記第1および第2測定プロセスは、OCDおよびCD−SEM測定を具備することを特徴とする請求項7に記載の方法。
- ペナルティ関数は、測定位置の少なくとも一部内の特定の分布を有する共通のグローバルパラメータに基づくことを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の方法。
- ペナルティ関数は、グローバルパラメータの平均値に基づくことを特徴とする請求項9に記載の方法。
- ペナルティ関数は、グローバルパラメータ値の平滑化に基づくことを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記特定の分布は、多項式関数であることを特徴とする請求項9〜11の何れか1項に記載の方法。
- 前記多項式関数の少なくともいくつかの係数は、知られていることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記最適化された関係の所望の収束に到達するまで、最適化されたメリット関数を使用して要求された数の反復を実行し、前記多項式関数の少なくともいくつかの係数は、前記初期の反復プロシージャの1つまたは複数で決定されることを特徴とする請求項12または13に記載の方法。
- 反復プロシージャを実行することによりペナルティ関数を最適化することを具備することを特徴とする請求項1〜14の何れか1項に記載の方法。
- パターン化された構造の前記測定は、光学的測定を具備することを特徴とする請求項1〜15の何れか1項に記載の方法。
- 測定されたデータは、スペクトルシグネチャを具備することを特徴とする請求項16に記載の方法。
- 前記パターン化された構造は、半導体ウエハであることを特徴とする請求項1〜17の何れか1項に記載の方法。
- パターン化された構造の少なくとも1つのパラメータの測定で使用するための制御システムであって、
構造の異なる位置上の測定に対応する複数の測定された信号を含む測定されたデータと、理論的信号を示す理論的データとを含む入力データを受信するためのデータ入力ユーティリティと、
構造の少なくとも1つのプロパティを特徴付ける少なくとも1つの選択されたグローバルパラメータに基づきペナルティ関数を定義するように、および理論的信号と測定された信号との間のフィッティングプロシージャを実行するように構成され、動作可能なプロセッサユーティリティであって、前記フィッティングプロシージャは、構造の少なくとも1つのパラメータを示す理論的信号と測定された信号との間の最適化された関係を決定するために前記ペナルティ関数を適用することと、構造の前記少なくとも1つのパラメータを決定するために最適化された関係を使用することとを含む、プロセッサユーティリティと
を具備することを特徴とする制御システム。 - パターン化された構造の少なくとも1つのパラメータの測定で使用するための測定システムであって、
構造の異なる位置上の測定に対応する測定された信号の形式で測定されたデータを生成するように構成され、動作可能な少なくとも1つの測定ユニットと、
前記測定された信号を受信および処理するための請求項19の制御システムと
を具備することを特徴とする測定システム。
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