JP2004335072A - 不揮発性強誘電体メモリ及びその制御装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】本発明は不揮発性強誘電体メモリ及びその制御装置に関し、特にページアドレスのアクセス時にメモリセルのアクセス動作を行わず、ページアドレスバッファに格納されたデータが直ちに出力されるようにする技術を開示する。
【解決手段】このため、本発明はブロックページアドレス領域及びカラムページアドレス領域を最下位ビットに配置し、ローアドレス領域を最上位ビットに配置し、ページアドレスバッファのアクセス時にセル動作が行われないようにすることにより、セルの信頼性を向上させて電力の消費を低減させることができるようにする。
【選択図】図3

Description

本発明は不揮発性強誘電体メモリ及びその制御装置に関し、特にページアドレスのアクセス時にメモリセルのアクセス動作を行わず、ページアドレスバッファに格納されたデータが直ちに出力されるようにする技術である。
一般に、不揮発性強誘電体メモリ、即ちFeRAM(Ferroelectric Random Access Memory)はディラム(DRAM:Dynamic Random Access Memory)ほどのデータ処理速度を有し、電源のオフ時にもデータが保存される特性のため次世代記憶素子として注目されている。
このようなFeRAMは、ディラムと殆ど類似する構造を有する記憶素子であり、キャパシタの材料に高い残留分極特性を有する強誘電体を用いる。FeRAMは、このような残留分極特性により電界を除去してもデータが消失されない。
前述のFeRAMに関する技術内容は、本発明と同一の発明者により出願された出願番号第2002-85533号に開示されたことがある。したがって、FeRAMに関する基本的な構成及びその動作に関する詳しい説明は省略する。
このような従来の不揮発性強誘電体メモリのアクセス動作は、一般に図1の構成に基づき制御される。
従来の不揮発性強誘電体メモリ制御装置は、チップイネーブル信号バッファ1、アドレスバッファ2、ディコーダ3、チップイネーブル信号遷移検出部4、アドレス遷移検出部5、合成部6及びチップ制御信号発生部7を備える。
先ず、チップイネーブル信号バッファ1はパッドから入力されるチップイネーブル信号CEB_PADをバッファリングしてチップイネーブル信号CEBを出力する。アドレスバッファ2は、パッドから入力されるアドレスADD_PAD<m:0>をチップイネーブル信号CEBによりバッファリングして出力する。ディコーダ3は、アドレスバッファ2でバッファリングされたアドレスをディコーディングする。
チップイネーブル信号遷移検出部4は、チップイネーブル信号CEBの遷移の可否を検出してチップイネーブル遷移検出信号CTDを出力する。アドレス遷移検出部5は、アドレスバッファ2でバッファリングされたアドレスの遷移の可否を検出してアドレス遷移検出信号ATD<m:0>を出力する。
合成部6は、チップイネーブル遷移検出信号CTDとアドレス遷移検出信号ATDを合成して遷移合成信号ATD_Sを出力する。チップ制御信号発生部7は、チップイネーブル信号CEBと合成部6から印加される遷移合成信号ATD_Sとしてメモリチップを駆動するためのチップ制御信号等を選択的に発生させる。
しかし、前述のように発生した制御信号等により動作が制御される不揮発性強誘電体メモリ装置は、システムオンチップSOC構造又はスタンドアロン構造に用いられる場合、信頼性を向上させなければならない必要性が大きくなっている。
特に、FeRAMセルに電圧がしばしば印加されてセルオペレーションが頻繁に発生すれば、それだけ電力消耗が増加することになり信頼性の側面で不利である。
すなわち、従来の不揮発性強誘電体メモリ制御装置は、アドレスアサインの場合ローアドレス及びカラムアドレスをランダムに配置することにより、FeRAMのセル駆動時に不要な電力が消耗するという問題点がある。したがって、メモリセルの不要な動作によりセルに過度なストレスを印加することになるので、セルの寿命が短縮されるという問題点がある。
USP 6,314,016 USP 6,301,145 USP 6,067,244
本発明は、前述のような問題点を解決するためなされたもので、ページバッファのアクセス時にセルアクセス動作を行わず、ページバッファに格納されたデータを直ちに出力することによりセルの信頼性を向上させることができるようにすることに目的がある。
本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置は、ブロックページアドレス領域とカラムページアドレス領域に区分されたページアドレスをチップイネーブル信号に応答しラッチしてディコーディングするページアドレスバッファ、チップイネーブル信号に応答してローアドレスをラッチし、ラッチされたローアドレスを出力するローアドレスラッチ部、ラッチされたローアドレスの遷移の可否を検出してアドレス遷移検出信号を出力するアドレス遷移検出部、及びアドレス遷移検出信号に応答してチップ動作を制御する制御信号を選択的に発生するチップ制御信号発生部を備えることを特徴とする。
なお、本発明はブロックページアドレス領域とカラムページアドレス領域に区分されたページアドレスをチップイネーブル信号に応答しラッチしてディコーディングするページアドレスバッファ、チップイネーブル信号に応答してローアドレスをラッチし、ラッチされたローアドレスを出力するローアドレスラッチ部、ラッチされたローアドレスの遷移の可否を検出してアドレス遷移検出信号を出力するアドレス遷移検出部、チップイネーブル信号に応答し、リセット信号の遷移の可否を検出してリセット遷移検出信号を出力するリセット信号遷移検出部、チップイネーブル信号に応答し、ライトイネーブル信号の遷移の可否を検出してライトイネーブル遷移検出信号を出力するライトイネーブル信号遷移検出部、アドレス遷移検出信号、リセット遷移検出信号及びライトイネーブル遷移検出信号に応答して遷移合成信号を出力する合成部、及び遷移合成信号に応答し、チップ動作を制御する制御信号を選択的に発生するチップ制御信号発生部を備えることを特徴とする。
さらに、本発明に係る不揮発性強誘電体メモリは複数の単位ブロックを備え、複数の単位ブロックのそれぞれは複数のセルアレイ、複数のローディコーダ及び複数のカラムページを備えるが、1つの単位ブロック内に備えられた複数のカラムページは1つの単位ブロックページを構成して同時に活性化されることを特徴とする。
さらに、本発明は複数のセルアレイを備える複数の単位ブロック、複数の単位ブロックと互いに入/出力データを交換するための共通データバス部、複数のカラムページを備える1つの単位ブロックページ、1つの単位ブロックページと互いに入/出力データを交換するためのデータバス部を備え、1つの単位ブロックページ内に備えられた複数のカラムページは同時に活性化されることを特徴とする。
さらに、本発明はチップイネーブル信号に応答してページアドレスをラッチするページアドレスラッチ部、チップイネーブル信号に応答してローアドレスをラッチし、ラッチされたローアドレスを出力するローアドレスラッチ部、ラッチされたローアドレスの遷移の可否を検出してアドレス遷移検出信号を出力するアドレス遷移検出部、アドレス遷移検出信号に応答してチップ動作を制御する制御信号を選択的に発生するチップ制御信号発生部、及び複数の単位ブロックを備え、複数の単位ブロックのそれぞれは複数のセルアレイ、複数のローディコーダ及び複数のカラムページを備えるが、1つの単位ブロック内に備えられた複数のカラムページは1つの単位ブロックページを構成して同時に活性化されることを特徴とする。
さらに、本発明はチップイネーブル信号に応答してページアドレスをラッチするページアドレスラッチ部、チップイネーブル信号に応答してローアドレスをラッチし、ラッチされたローアドレスを出力するローアドレスラッチ部、ラッチされたローアドレスの遷移の可否を検出してアドレス遷移検出信号を出力するアドレス遷移検出部、アドレス遷移検出信号に応答してチップ動作を制御する制御信号を選択的に発生するチップ制御信号発生部、複数のセルアレイを備える複数の単位ブロック、複数の単位ブロックと互いに入/出力データを交換するための共通データバス部、複数のカラムページを備える1つの単位ブロックページ、及び1つの単位ブロックページと互いに入/出力データを交換するためのデータバス部を備え、1つの単位ブロックページ内に備えられた複数のカラムページは同時に活性化されることを特徴とする。
本発明は次のような効果を提供する。
第一、ページバッファのアクセス時にセルアクセス動作を行わず、ページバッファに格納されたデータを直ちに出力することにより、チップ動作による電力の消耗を最少化してセルの信頼性を向上させることができるようにする。
第二、アドレスアサイン構造をローアドレス領域とページアドレス領域に再配置してセル動作の回数を減少させることにより、チップ駆動と関連した電力の消耗を最少化できるようにする。これにより、本発明がモバイル製品に適用される場合、バッテリ寿命を延長させることができるという効果を提供する。
図2は、本発明に係る実施形態の具現のためのアドレス領域の割当てを示す図である。
メモリを駆動するプロセスにおいて、最下位ビットに近い方でアドレスのアクセスが発生する確率が高い。このような特性を考慮し、本発明ではページアドレス領域を最下位ビット(LSB:Least Significant Bit)領域に位置するように割り当て、ページアドレス領域ではアドレス遷移検出信号ATD(Address Transition Detection)が発生しないようにする(No ATD領域)。したがって、ローアドレスが一定の場合ページアドレスがアクセスされると、FeRAMセルを駆動させずページアドレスバッファのセンスアンプに格納されたデータを直ちに出力することになる。
一方、アクセスされる確率の低いローアドレス領域は最上位ビット(MSB:Most Significant Bit)領域に位置するように割り当てる。そして、ローアドレスが変化する度にアドレス遷移検出信号ATDが発生するようにし、FeRAMセルを正常に駆動させるようにする。
ここで、ページアドレス領域は大きくカラムページアドレス領域とブロックページアドレス領域に区分する。このとき、カラムページアドレス領域が最下位ビット領域に最も近いように割り当て、ブロックページアドレス領域はローアドレス領域とカラムページアドレス領域の中間に位置するように割り当てる。
図3は、本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置の構成を示す図である。
本発明はチップイネーブル信号バッファ10、ページアドレスラッチ部20、ページディコーダ30、ローアドレスラッチ部40、ローディコーダ50、リセット信号遷移検出部60、アドレス遷移検出部70、ライトイネーブル信号遷移検出部80、合成部90及びチップ制御信号発生部100を備える。
先ず、チップイネーブル信号バッファ10はパッドから入力されるチップイネーブル信号CEB_PADをバッファリングしてチップイネーブル信号CEBを出力する。
ページアドレスラッチ部20は、パッドから入力されるページアドレスPADD_PAD<n:0>をチップイネーブル信号CEBに応答してラッチし、ラッチされたページアドレスPADD_LAT、PADDB_LATを出力する。ページディコーダ30は、ラッチされたページアドレスPADD_LAT、PADDB_LATをディコーディングする。ここで、ページアドレスラッチ部20とページディコーダ30はページアドレスバッファとして動作する。
ローアドレスラッチ部40は、パッドから入力されるローアドレスRADD_PAD<m:0>をチップイネーブル信号CEBとラッチ制御信号LAT_CONに応答してラッチし、ラッチされたローアドレスADD_LAT、ADDB_LATとローアドレスRADD_Lを出力する。ローディコーダ50は、ラッチされたローアドレスADD_LAT、ADDB_LATをディコーディングする。
リセット信号遷移検出部60は、チップアクセスの初期動作時にリセット信号RESETの遷移の可否をチップイネーブル信号CEBに応答して検出し、リセット遷移検出信号RTDを出力する。アドレス遷移検出部70は、ローアドレスラッチ部40でラッチされて出力されるローアドレスRADD_Lの遷移の可否を検出し、検出結果としてアドレス遷移検出信号ATD<m:0>を出力する。ライトイネーブル信号遷移検出部80は、ライトモード時にチップイネーブル信号CEBに応答してライトイネーブル信号WEBの遷移の可否を検出し、ライトイネーブル遷移検出信号WTDを出力する。
合成部90はリセット遷移検出信号RTDと、アドレス遷移検出信号ATD及びライトイネーブル遷移検出信号WTDを合成して遷移合成信号ATD_Sを出力する。チップ制御信号発生部100は、チップイネーブル信号CEBと遷移合成信号ATD_Sとしてメモリチップを駆動するためのチップ制御信号等を選択的に発生させる。
図4は、図3に示すページアドレスラッチ部20に関する詳細な構成を示す図である。
ページアドレスラッチ部20は、ページアドレス制御部21とインバータIV1〜IV4を備える。ここで、ページアドレス制御部21はチップイネーブル信号CEBの状態に従いパッドから入力されるページアドレスPADD_PADをラッチして選択的に出力する。
インバータIV1、IV2は、ノード(A)から印加される信号を非反転・遅延してラッチされたページアドレスPADD_LATを出力する。そして、インバータIV3、IV4はインバータIV1の出力信号を非反転・遅延してラッチされたページアドレスPADDB_LALを出力する。
図5は、図4に示すページアドレス制御部21に関する詳細な回路図である。
ページアドレス制御部21は伝送ゲートT1、T2及びインバータIV5〜IV7を備える。インバータIV5は、チップイネーブル信号CEBを反転させる。伝送ゲートT1、T2はターンオンとターンオフが互いに逆になされる。したがって、伝送ゲートT2がターンオン状態であれば、インバータIV6、IV7により予め伝送されたページアドレスPADD_PADがラッチされてノード(A)に出力される。
なお、伝送ゲートT2がターンオフ状態であれば、ターンオンされた伝送ゲートT1を介しインバータIV6に新たなページアドレスPADD_PADが伝達される。その後、伝送ゲートT1がターンオフされてページアドレスPADD_PADの伝送経路が遮断されると、ターンオンされた伝送ゲートT2によりインバータIV6、IV7はラッチ動作を行う。そして、ラッチされたページアドレスPADD_PADがノード(A)に出力される。
すなわち、ページアドレス制御部21はチップイネーブル信号CEBがローのとき、ページアドレスPADD_PADを反転してノード(A)に出力する。そして、チップイネーブル信号CEBがハイのとき、以前のページアドレスPADD_PADをラッチする。
図6は、図3に示すローアドレスラッチ部40に関する詳細な構成を示す図である。
ローアドレスラッチ部40はローアドレス制御部41、ラッチ制御部42及びインバータIV8〜IV11を備える。ここで、ローアドレス制御部41はパッドから入力されるローアドレスRADD_PADをチップイネーブル信号CEBの状態に従いラッチしてノード(B)に出力する。そして、ラッチ制御部42はノード(B)から印加される信号をラッチ制御信号LAT_CONの状態に従いラッチしてノード(C)に出力する。
ここで、ラッチ制御信号LAT_CONはメモリセル動作の活性化の可否によりその状態が決められる。すなわち、ラッチ制御信号LAT_CONはメモリセルの駆動が始まる時点でハイに遷移し、メモリセルの駆動が終る時点でローに遷移する。
一方、インバータIV8はノード(C)から印加される信号を反転してローアドレスRADD_Lをアドレス遷移検出部70に出力する。そして、IV9はインバータIV8の出力信号を反転してラッチされたローアドレスADD_LATを出力する。さらに、インバータIV10、IV11はインバータIV8の出力信号を非反転・遅延してラッチされたローアドレスADDB_LATを出力する。結局、インバータIV8〜IV11はローアドレスラッチ部40の出力部の役割を果たす。
図7は、図6に示すローアドレス制御部41及びラッチ制御部42に関する詳細な回路図である。
ローアドレス制御部41は伝送ゲートT3、T4及びインバータIV12〜IV14を備える。インバータIV12は、チップイネーブル信号CEBを反転させる。伝送ゲートT3、T4はターンオンとターンオフが互いに逆になされる。したがって、伝送ゲートT4がターンオン状態であれば、インバータIV13、IV14により予め伝送されたローアドレスRADD_PADがラッチされてノード(B)に出力される。
なお、伝送ゲートT4がターンオフ状態であれば、ターンオンされた伝送ゲートT3を介しインバータIV13に新たなローアドレスRADD_PADが伝達される。その後、伝送ゲートT3がターンオフされてローアドレスRADD_PADの伝送経路が遮断されると、ターンオンされた伝送ゲートT4によりインバータIV13、IV14はラッチ動作を行う。そして、ラッチされたローアドレスRADD_PADがノード(B)に出力される。
すなわち、ローアドレス制御部41はチップイネーブル信号CEBがローのとき、ローアドレスRADD_PADを反転してノード(B)に出力する。一方、チップイネーブル信号CEBがハイのとき、以前のローアドレスRADD_PADをラッチする。
なお、ラッチ制御部42は伝送ゲートT5、T6及びインバータIV15〜IV17を備える。インバータIV15は、ラッチ制御信号LAT_CONを反転して出力する。伝送ゲートT5は、ラッチ制御信号LAT_CONの状態に従いノード(B)の出力信号を選択的に出力する。
伝送ゲートT5の出力信号は、ラッチ構造のインバータIV15、IV16で一定時間のあいだラッチされる。伝送ゲートT6は、ラッチ制御信号LAT_CONの状態に従いインバータIV17の出力信号を選択的に出力する。
ここで、ラッチ制御信号LAT_CONはメモリセル動作の活性化の可否によりその状態が決められる。すなわち、ラッチ制御信号LAT_CONはメモリセルの駆動が始まる時点でハイに遷移し、メモリセルの駆動が終る時点でローに遷移する。
したがって、ラッチ制御部42はメモリセルが駆動されない区間ではラッチ制御信号LAT_CONがローとなり、ノード(B)の出力信号を反転してノード(C)に出力する。一方、ラッチ制御部42はメモリセルが駆動される区間ではラッチ制御信号がLAT_CONがハイとなり、ノード(B)の出力信号をラッチすることにより次の動作を待機する状態となる。
さらに、ラッチ制御部42はチップイネーブル信号CEBがハイの区間でラッチ制御信号LAT_CONがハイとなり、新たに入力されるアドレスがラッチ制御部42を通れないようにする。そして、チップイネーブル信号CEBが再びローにディスエーブルされるとラッチ制御信号LAT_CONもローにディスエーブルされ、ノード(B)から印加されるローアドレスをノード(C)に出力する。
図8は、図3に示すリセット信号遷移検出部60の詳細な回路図である。
リセット信号遷移検出部60は、リセット信号感知部61及びパルス発生部65を備える。
先ず、リセット信号感知部61は入力制御部62、駆動部63及びラッチ部64を備え、初期のリセット信号RESETの発生、及びチップイネーブル信号CEBの活性化を感知する。ここで、入力制御部62はインバータIV18及びNORゲートNOR1を備える。インバータIV18はリセット信号RESETを反転する。NORゲートNOR1は、リセット信号RESET及びチップイネーブル信号CEBのNOR演算を行ってノード(D)に出力する。
駆動部63は、電源電圧VCC印加端と接地電圧VSS印加端との間に直列連結されたPMOSトランジスタP1及びNMOSトランジスタN1を備える。ここで、PMOSトランジスタP1のゲート端子にはインバータIV18の出力が印加され、NMOSトランジスタN1のゲート端子にはNORゲートNOR1の出力が印加される。ラッチ部64はラッチ構造のインバータIV19、IV20を備え、ノード(E)から印加される信号をラッチしてノード(F)に出力する。
さらに、パルス発生部65は遅延部66、NANDゲートND1及びインバータIV24を備える。ここで、遅延部66は直列連結されてノード(F)の出力信号を反転・遅延するインバータIV21〜IV23を備える。NANDゲートND1は、遅延部66の出力信号及びノード(F)から印加される信号のNAND演算を行う。インバータIV24は、NANDゲートND1の出力を反転してリセット遷移検出信号RTDを出力する。
このような構成を有するリセット信号遷移検出部60の動作過程を、図9及び図10のタイミング図を参照しながら説明する。
先ず、チップイネーブル信号CEBがローにディスエーブルされた状態で電源電圧が供給される場合、リセット信号RESETの電圧レベルが電源電圧に従って徐々に上昇する。
リセット信号RESETが一定レベル以上にイネーブルされると、インバータIV18の出力によりPMOSトランジスタP1がターンオンされ、ノード(E)の電圧レベルがリセット信号RESETに従って徐々に上昇する。このとき、NMOSトランジスタN1はターンオフ状態を維持する。そして、前述のリセット信号RESETとノード(E)の電圧発生時点には多少の差が発生するが、これはCMOS動作領域において無視できる程度であり、図9にはその差を示していない。
その後、電源電圧が徐々に上昇して或る臨界電圧VCC以上になる場合、リセット信号RESETはハイからローに遷移する。これに伴い、NMOSトランジスタN1がターンオンされてノード(E)に接地電圧VSSを出力する。ノード(E)の出力信号は、ラッチ部64で一定時間のあいだラッチされる。
ここで、PMOSトランジスタP1はリセット信号RESETがローの場合、チップイネーブル信号CEBの電圧レベルと係わりなく引続きターンオフ状態を維持する。これに伴い、ノード(E)の電圧レベルが引続きロー状態を維持する。
次に、ノード(F)の電圧レベルがハイに遷移する場合、パルス発生部65は遅延部66の遅延時間ほど(T2)のパルス幅を有するリセット遷移検出信号RTDを発生する。
図10は、チップイネーブル信号CEBがリセット信号RESETよりT2の時間ほど遅くローにディスエーブルされる場合の動作タイミング図である。
もし、リセット信号RESETがチップイネーブル信号CEBより先にローにディスエーブルされる場合、チップイネーブル信号CEBによりNMOSトランジスタN1がターンオフ状態を維持することになり、ノード(E)の電圧レベルが引続きハイ状態を維持する。
以後、T3区間進入の際にチップイネーブル信号CEBがローに遷移すると、NMOSトランジスタN1がターンオンされてノード(E)の電圧がプルダウンされる。ノード(E)の出力信号は、ラッチ部64で一定時間のあいだラッチされる。
ここで、PMOSトランジスタP1はリセット信号RESETがローの場合、チップイネーブル信号CEBの電圧レベルと係わりなく引続きターンオフ状態を維持する。これに伴い、ノード(E)の電圧レベルが引続きロー状態を維持する。
したがって、ノード(F)の電圧レベルがハイに遷移する場合、パルス発生部65は遅延部66の遅延時間ほど(T3)のパルス幅を有するリセット遷移検出信号RTDを発生する。
図11は、チップイネーブル信号CEBがトグルされる場合の、本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置の動作タイミング図である。
先ず、パワーオン以後にリセット信号RESET及びチップイネーブル信号CEBがローにディスエーブルされ、1番目のローアドレスの入力時にリセット遷移検出信号RTDが発生する。このとき、パワーオンリセット以後1番目に入力されるローアドレスRADD_PAD(000...00)が変わらないため、アドレス遷移検出信号ATDは発生しない。
以後、合成部90はリセット遷移検出信号RTDのイネーブル時に遷移合成信号ATD_S、プリチャージ信号及びセンスアンプイネーブル信号SENを発生する。そして、チップ制御信号発生部100はメモリセル動作信号OUTを発生する。
次に、2番目に入力されるローアドレスRADD_PAD(100...00)が変わる場合も、チップイネーブル信号CEBがローにディスエーブルされる場合にのみラッチされたローアドレスRADD_Lが出力される。これに伴い、アドレス遷移検出部70はアドレス遷移検出信号ATDを発生し、チップ制御信号発生部100はアドレス遷移検出信号ATDに応答してメモリセル動作信号OUTを発生する。
結局、本発明はアドレス遷移検出信号ATD又はリセット遷移検出信号RTDが活性化される場合、センスアンプがイコライジングされて初期化状態を維持する。その他の残りの区間ではチップイネーブル信号CEBがハイにイネーブルされた場合にも、センスアンプが引続き活性化状態を維持する。したがって、センスアンプはチップイネーブル信号CEB及び出力イネーブル信号OEBにより以前のデータを直ちにアクセスして出力することができる。
図12は、チップイネーブル信号CEBがロー状態を維持する場合、本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置の動作タイミング図である。
先ず、パワーオン以後にリセット信号RESET及びチップイネーブル信号CEBがローにディスエーブルされ、1番目のローアドレスの入力時にリセット遷移検出信号RTDが発生する。ここで、チップイネーブル信号CEBがローの状態でリセット信号RESETがハイからローにディスエーブルされると、リセット信号RESETのディスエーブル時点に同期してリセット遷移検出信号RTDが発生する。
次に、チップイネーブル信号CEBがローにディスエーブルされた状態で、2番目に入力されるローアドレスRADD_PAD(100...00)が変わる場合、アドレス遷移検出部70はアドレス遷移検出信号ATDを発生する。チップ制御信号発生部100は、アドレス遷移検出信号ATDに応答してメモリセル動作信号OUTを発生する。
図13は、1番目のローアドレスによるチップ動作の際にチップイネーブル信号CEBによりリセット遷移検出信号RTDが発生することを示すタイミング図である。
先ず、パワーオン以後にリセット信号RESET及びチップイネーブル信号CEBがローにディスエーブルされ、1番目のローアドレスの入力時にリセット遷移検出信号RTDが発生する。ここで、リセット信号RESETよりチップイネーブル信号CEBがより遅くローにディスエーブルされると、チップイネーブル信号CEBのディスエーブル時点に同期してリセット遷移検出信号RTDが発生する。したがって、リセット信号RESET及びチップイネーブル信号CEBが全てローになる時点でリセット遷移検出信号RTDが発生する。
このとき、チップイネーブル信号CEBがハイの区間ではラッチ制御信号LAT_CONがハイとなり、リセット遷移検出信号RTDがハイの区間ではラッチ制御信号LAT_CONがローとなる。
したがって、ラッチ制御信号LAT_CONがローに遷移すると、ローアドレスRADD_Lがアドレス遷移検出部70に出力される。そして、合成部90は遷移合成信号ATD_Sを出力する。これに伴い、センスアンプイネーブル信号SENがローにディスエーブルされ、ワードラインWL、プレートラインPL及びビットラインBLがハイにイネーブルされる。そして、センスアンプイネーブル信号SENがハイに遷移すると、メモリセルに格納された出力データDOUTが出力される。
以後、プリチャージ区間でチップイネーブル信号CEBがハイにイネーブルされると、出力データDOUTがこれ以上出力されない。
図14は、1番目のローアドレスによるチップ動作の際にリセット信号RESTによりリセット遷移検出信号RTDが発生することを示すタイミング図である。
先ず、パワーオン以後にリセット信号RESETがディスエーブルされ、1番目のローアドレスの入力時にリセット遷移検出信号RTDが発生する。ここで、チップイネーブル信号CEBのディスエーブル状態でリセット信号RESETがローにディスエーブルされると、リセット信号RESETのディスエーブル時点に同期してリセット遷移検出信号RTDが発生する。
したがって、リセット信号RESET及びチップイネーブル信号CEBが全てローになる時点でリセット遷移検出信号RTDが発生する。このとき、ローアドレスRADD_Lが変わらない場合、リセット遷移検出信号RTDに応答して遷移合成信号ATD_Sが発生することになる。
ここで、チップイネーブル信号CEBがローの状態でラッチ制御信号LAT_CONはセルの駆動時にのみハイであり、残りの区間ではローにディスエーブルされる。しかし、リセット遷移検出信号RTDにより遷移合成信号ATD_Sが発生してセンスアンプイネーブル信号SENがディスエーブルされる。
したがって、ラッチ制御信号LAT_CONがハイに遷移すると、ワードラインWL、プレートラインPL及びビットラインBLがハイにイネーブルされる。そして、センスアンプイネーブル信号SENがハイに遷移すると、メモリセルに格納された出力データDOUTが正常に出力される。以後、チップイネーブル信号CEBがハイにイネーブルされると、出力データDOUTがこれ以上出力されない。
もし、図15に示されているように、チップイネーブル信号CEBがディスエーブル状態を維持する場合、出力データDOUTは引続き出力される。すなわち、センスアンプは以前のサイクルアドレスに該当するデータを引続き格納するため、ローアドレスが変わって新たなセル動作が始まる前までセンスアンプを活性化状態に維持する。
なお、ローアドレスが変わってアドレス遷移検出信号ATDが発生した場合にのみセンスアンプを初期化させる。このとき、センスアンプの活性化を制御する信号がセンスアンプイネーブル信号SENである。したがって、センスアンプイネーブル信号SENがハイに活性化されている間に、出力イネーブル信号OEB又はチップイネーブル信号CEBを利用して外部にデータを出力できるようになる。
結局、リード動作時にはメモリセルが動作しないにも拘らず、センスアンプは引続き活性化状態を維持する。したがって、以前のサイクルで入力されたローアドレスRADD_PADが変わらない場合、センスアンプに格納された該当ページアドレスが直ちに出力される。
さらに、ライト動作時にライトイネーブル信号WEBがローにディスエーブルされてライト命令が入力されると、合成部90はライトイネーブル遷移検出信号WTDに応答して遷移合成信号ATD_Sを発生する。これに伴い、チップ制御信号発生部100が動作することにより、該当するメモリセルにデータを正常にライトすることができるようになる。
図16は、チップイネーブル信号CEB及び出力イネーブル信号OEBがローに固定された場合、ローアドレスRADD_PADの変化時の動作タイミング図である。
先ず、チップイネーブル信号CEB及び出力イネーブル信号OEBがローの状態で、ローアドレスRADD_PADが変化する場合アドレス遷移検出信号ATDが発生する。これに伴い、遷移合成信号ATD_Sが発生してセンスアンプイネーブル信号SENがローにディスエーブルされる。
以後、遷移合成信号ATD_Sがローにディスエーブルされラッチ制御信号LAT_CONがハイにイネーブルされると、ワードラインWL、プレートラインPL及びビットラインBLがハイにイネーブルされる。次に、センスアンプイネーブル信号SENがハイにイネーブルされると、出力データDOUTが引続き出力される。
すなわち、チップイネーブル信号CEBがロー状態を維持する場合、ラッチ制御部42は入力されるローアドレスRADD_PADを引続き出力する。これに伴い、アドレス遷移検出部70はアドレス遷移検出信号ATDを発生して正常のチップ動作が行われるようにする。
もし、図17に示されているように、出力イネーブル信号OEBがハイにイネーブルされると、出力データDOUTはこれ以上出力されなくなる。
図18は、ライトイネーブル信号WEBの活性化に伴うライトイネーブル遷移検出信号WTDの動作タイミング図である。
先ず、リードサイクル区間ではライトイネーブル信号WEB及びセンスアンプイネーブル信号SENがハイ状態を維持して出力データDOUTが出力される。
以後、ライトサイクル区間ではライトイネーブル信号WEBがローに遷移し、これに伴いライトイネーブル遷移検出信号WTDが発生する。そして、ライトイネーブル遷移検出信号WTDにより遷移合成信号ATD_Sがイネーブルされる。
以後、ラッチ制御信号LAT_CONがハイにイネーブルされると、ワードラインWL、プレートラインPL及びビットラインBLがハイにイネーブルされ、センスアンプイネーブル信号SENがハイにイネーブルされる。したがって、チップ制御信号発生部100により該当セルに入力データDINがライトされて正常のライト動作を行うことができるようになる。
ここで、センスアンプは以前のアドレスサイクルで入力されたデータを引続き格納するため、ライトイネーブル遷移検出信号WTDが発生する以前まで引き続き活性化状態を維持する。
一方、図19は本発明に係る不揮発性強誘電体メモリの構成を示す図である。
本発明は、複数の単位ブロックBLK(0)〜BLK(m)を備える。1つの単位ブロックBLKは複数のセルアレイ、複数のローディコーダ及び複数のカラムページCPを備える。ここで、1つの単位ブロックBLK内に備えられた複数のカラムページCPは1つの単位ブロックページBPを構成する。ブロックページBP内部の複数のカラムページCPは同時に活性化又は非活性化される。さらに、同一の単位ブロックBLK内で同一の位置に位置するロー領域は同時に活性化又は非活性化される。
図20は、本発明に係る不揮発性強誘電体メモリの他の実施の形態を示す図である。
図20に示す実施の形態は、複数の単位ブロックBLK(0)〜BLK(m)、共通データバス部350、ブロックページBP及びデータバス部400を備える。1つの単位ブロックBLKは1つのメインローディコーダ、複数のサブローディコーダ、複数のセルアレイ及び複数のチップ選択部を備える。ここで、同一の単位ブロックBLK内で同一の位置に位置するロー領域は同時に活性化又は非活性化される。そして、複数のサブローディコーダは1つのメインローディコーダにより制御される。
複数のチップ選択部は、共通データバス部350の共通データバスCDBと連結される。複数のカラムページCPは、1つの単位ブロックページBPを構成して共通データバスCDBと連結される。ブロックページBP内部の複数のカラムページCPは同時に活性化又は非活性化され、データバス部400と連結される。
図21は、図20に示したブロックページBPの詳細な構成を示す図である。
1つのブロックページBPは、複数のカラムページCPを備える。1つのカラムページCPは、センスアンプバッファ部200及びカラム選択部300を備える。ここで、センスアンプバッファ部200は複数のセンスアンプS/Aを備え、複数のセンスアンプS/Aは複数の共通データバスCDBと一対一に対応して連結される。センスアンプイネーブル信号SENは全てのセンスアンプS/Aに共通に印加され、センスアンプS/Aの活性化の可否を決める。
さらい、カラム選択部300は複数のカラム選択スイッチ311を備え、複数のカラム選択スイッチ311は複数のセンスアンプS/Aと一対一に対応して連結される。そして、データバス部400の複数のデータバスは複数のカラム選択スイッチ311と連結されてカラム選択信号CS_SWの入/出力を制御する。
図22は、図21に示すセンスアンプS/A及びその周辺回路に関する詳細な回路図である。
センスアンプS/AはプルアップスイッチP3、PMOSラッチ増幅部210、イコライジング部220、NMOSラッチ増幅部230及びプルダウンスイッチN4を備える。
プルアップスイッチP3及びプルダウンスイッチN4は活性化調整スイッチであり、プルアップスイッチP3はセンスアンプイネーブル信号SEPに応答してPMOSラッチ増幅部210に電源電圧VCCを供給する。そして、プルダウンスイッチN4はセンスアンプイネーブル信号SENに応答してNMOSラッチ増幅部230に接地電圧VSSを供給する。ここで、センスアンプイネーブル信号SEP及びセンスアンプイネーブル信号SENは互いに逆の位相を有する。
PMOSラッチ増幅部210は、プルアップスイッチP3及びNMOSラッチ増幅部230との間に位置し、ラッチ構造で連結されたPMOSトランジスタP4、P5を備える。NMOSラッチ増幅部230は、PMOSラッチ増幅部210及びプルダウンスイッチN4の間に位置し、ラッチ構造で連結されたNMOSトランジスタN2、N3を備える。
イコライジング部220は、PMOSトランジスタP6を備える。PMOSトランジスタP6はPMOSトランジスタP4、NMOSトランジスタN2の共通ゲート端子とPMOSトランジスタP5、NMOSトランジスタN3の共通ゲート端子の間に連結され、ゲート端子にセンスアンプイコライジング信号SEQが印加される。
このような構成を有するセンスアンプS/Aは、イコライジング部220の非活性化時にPMOSラッチ増幅部210及びNMOSラッチ増幅部230が活性化されて正常の動作を行う。すなわち、センスアンプイネーブル信号SEP、SENの活性化時にPMOSトランジスタP3及びNMOSトランジスタN4がターンオンされ、PMOSラッチ増幅部210及びNMOSラッチ増幅部230が動作する。このとき、イコライジング信号SEQはハイとなり、PMOSトランジスタP6はターンオフ状態を維持する。
一方、イコライジング部220の活性化時にセンスアンプS/Aが非活性化される。すなわち、イコライジング信号SEQがローに遷移すればPMOSトランジスタP6がターンオンされ、センスアンプS/Aの増幅ノードをプルダウン及びイコライジングさせる。
一方、共通データバスプルアップ駆動部240はPMOSトランジスタP2を備える。PMOSトランジスタP2は、電源電圧VCC印加端と共通データバスCDBとの間に連結され、ゲート端子に共通データバスプルアップ信号CDBPUが印加される。共通データバスプルアップ駆動部240は、プリチャージ時にターンオンされて共通データバスCDBを電源電圧レベルにプリチャージさせる。
共通データバススイッチング部250は、ノード/Sのセンシング電圧を制御する共通データバス選択信号CDB_SWを共通データバスCDBに選択的に供給する。ここで、共通データバススイッチング部250は再格納時にその連結が遮断される。基準電圧制御部260は、基準電圧REFをノードSに選択的に供給するための基準電圧選択信号REF_SWを制御する。ここで、基準電圧制御部260はセンスアンプS/Aのセンシング時にターンオンされて基準電圧REFをノードSに供給する。
ライト駆動スイッチング部270は、ノード(G)とデータバス部400との間に連結され、データバス部400から印加されるライトデータを駆動してノード/Sに出力する。リード駆動スイッチング部280は、共通データバスCDBとノード(G)との間に連結され、ノード(G)から印加されるリードデータを駆動して共通データバスCDBに出力する。リード駆動スイッチング部280は、再格納時にカラム選択スイッチ310を介しセンスアンプS/Aから印加されるデータを再格納する。
カラム選択スイッチ310は、ノード/S及びノード(G)との間の選択的な連結を制御する。そして、カラム選択スイッチ311はノードS及びデータバス部400との間の選択的な連結を制御する。ライト動作時にデータバス部400を介し印加されるライトデータがカラム選択スイッチ311を介しセンスアンプS/Aに格納され、リード動作時にセンスアンプS/Aに格納されたリードデータがカラム選択スイッチ311を介しデータバス部400に出力される。
図23は、図22に示すセンスアンプS/Aに関する他の実施の形態である。
図23に示す実施の形態に係るセンスアンプS/Aは、以前のデータを格納及び復旧するための強誘電体キャパシタ部290を備える。ここで、強誘電体キャパシタ部290は複数の強誘電体キャパシタFC1〜FC4を備える。
強誘電体キャパシタFC1、FC2はその一端がPMOSトランジスタP4、NMOSトランジスタN2の共通ゲート端子と連結される。強誘電体キャパシタFC1の他の一端はセルプレートラインCPLと連結され、強誘電体キャパシタFC3の他の一端は接地電圧端と連結される。
なお、強誘電体キャパシタFC2、FC4はその一端がPMOSトランジスタP5、NMOSトランジスタN3の共通ゲート端子と連結される。強誘電体キャパシタFC2の他の一端はセルプレートラインCPLと連結され、強誘電体キャパシタFC4の他の一端は接地電圧端と連結される。
このような構成を有する強誘電体キャパシタ部290はセンスアンプS/Aの非活性化時にデータを格納し、電源が投入されてセンスアンプS/Aが活性化されると以前の状態のデータを復旧する。その他の構成は図22と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
図24は、図22及び図23に示すライト駆動スイッチング部270及びリード駆動スイッチング部280に関する詳細な回路図である。
先ず、ライト駆動スイッチング部270は電源電圧端と接地電圧端との間に直列連結されたPMOSトランジスタP7、P8、NMOSトランジスタN5、N6を備える。PMOSトランジスタP7はゲート端子にライト駆動信号WDPが印加される。PMOSトランジスタP8及びNMOSトランジスタN5は、共通ゲート端子がデータバス部400に連結される。NMOSトランジスタN6は、ゲート端子にライト駆動信号WDNが印加される。ここで、ライト駆動信号WDP及びライト駆動信号WDNは互いに逆の位相を有する。
さらに、リード駆動スイッチング部280は電源電圧端と接地電圧端との間に直列連結されたPMOSトランジスタP9、P10、NMOSトランジスタN7、N8を備える。PMOSトランジスタP9はゲート端子にリード駆動信号RDPが印加される。PMOSトランジスタP10及びNMOSトランジスタN7は、共通ゲート端子がノード(G)に連結され、共通ドレイン端子が共通データバスCDBに連結される。NMOSトランジスタN8は、ゲート端子にリード駆動信号RDNが印加される。ここで、リード駆動信号RDP及びリード駆動信号RDNは互いに逆の位相を有する。
図25は、図22及び図23に示すセンスアンプS/Aに関連する動作タイミング図である。
先ず、新たなローアドレスが入力されるとアドレス遷移検出信号ATDがイネーブルされる。これに伴い、プレートラインPL及びワードラインWLがイネーブルされてセル駆動が活性化される。そして、ライトイネーブル信号WEBの非活性化に伴いT2区間でデータ「1」をセンシングする。
以後、ページアドレスY<n:0>によりカラム選択信号CS_SW<n:0>が順次活性化される。そして、ライトイネーブル信号WEBのイネーブル時にプレートラインPL及びワードラインWLが活性化されてt3区間でデータ「0」をライトする。
図26は、図19に示す実施の形態に適用されるセンスアンプS/Aの動作タイミング図である。
先ず、新たなローアドレスが入力されるとアドレス遷移検出信号ATDがイネーブルされ、ライトイネーブル信号WEBがディスエーブルされる。これに伴い、プレートラインPL及びワードラインWLがイネーブルされてセル駆動が活性化される。このとき、プレートラインPLはT1の区間の間にハイ状態を維持する。そして、アドレス遷移検出信号ATDに応答してラッチ制御信号LAT_CONがハイにイネーブルされると、ラッチ制御部42で以前に入力されたローアドレスをラッチする。
次に、ライトイネーブル信号WEBのトグルに従いライトイネーブル遷移検出信号WTD_H(ハイの場合活性化される信号)がイネーブルされる。そして、ライトイネーブル遷移検出信号WTD_Hに応答してライト制御信号WCONが活性化される。ライトイネーブル遷移検出信号WTD_Hが活性化される場合、ページアドレスY<n:0>によりカラム選択信号CS_SW<n:0>が順次活性化される。
以後、tn区間でライトイネーブル信号WEBがイネーブルされ、ライトイネーブル遷移検出信号WTD_Hのディスエーブル時にライト制御信号WCON及びプレートラインPLがディスエーブルされる。ここで、ライト制御信号WCONはラッチ制御信号LAT_CONのディスエーブル状態を制御するための信号であり、ライト制御信号WCONのディスエーブルに従いラッチ制御信号LAT_CONがディスエーブルされる。プレートラインPLがディスエーブルされたあと一定時間が経過すれば、ワードラインWLがディスエーブルされる。
図27は、図20に示す実施の形態に適用されるセンスアンプS/Aの動作タイミング図である。
先ず、新たなローアドレスが入力されるとアドレス遷移検出信号ATDがイネーブルされ、ライトイネーブル信号WEBがディスエーブルされる。これに伴い、プレートラインPL及びワードラインWLがイネーブルされてセル駆動が活性化される。このとき、プレートラインPLは一定時間イネーブルされた後、ライト制御信号WCONが活性化される前までディスエーブル状態を維持する。そして、アドレス遷移検出信号ATDに応答してラッチ制御信号LAT_CONがハイにイネーブルされてプレートラインPLがハイにイネーブルされると、ラッチ制御部42で以前に入力されたローアドレスをラッチする。
次に、ライトイネーブル信号WEBのトグルに従いライトイネーブル遷移検出信号WTD_H(ハイの場合活性化される信号)がイネーブルされる。そして、ライトイネーブル遷移検出信号WTD_Hに応答してライト制御信号WCONが活性化される。ライトイネーブル遷移検出信号WTD_Hが活性化される場合、ページアドレスY<n:0>によりカラム選択信号CS_SW<n:0>が順次活性化される。
以後、tn区間でライトイネーブル信号WEBがイネーブルされ、ライトイネーブル遷移検出信号WTD_Hのディスエーブル時にライト制御信号WCON、プレートラインPL及びワードラインWLがディスエーブルされる。ここで、ライト制御信号WCONはラッチ制御信号LAT_CONのディスエーブル状態を制御するための信号であり、ライト制御信号WCONのディスエーブルに従いラッチ制御信号LAT_CONがディスエーブルされる。
図28は、ライトイネーブル信号WEBの活性化に伴うライトイネーブル遷移検出信号WTDの動作タイミング図である。
先ず、リードサイクル区間では入力されるローアドレスRADD_PADが一定であり、ライトイネーブル信号WEB及びセンスアンプイネーブル信号SENがハイ状態を維持して出力データDOUTが出力される。
以後、ライトサイクル区間では入力されるローアドレスRADD_PADが一定であり、ライトイネーブル信号WEBがローに遷移する。これに伴い、ライトイネーブル遷移検出信号WTDが発生する。そして、ライトイネーブル遷移検出信号WTDにより遷移合成信号ATD_Sがイネーブルされる。さらに、センスアンプイネーブル信号SENがローにディスエーブルされて出力データDOUTがこれ以上出力されない。
以後、遷移合成信号ATD_Sがディスエーブルされると、ラッチ制御信号LAT_CONがハイにイネーブルされ、ワードラインWL、プレートラインPL及びビットラインBLがハイにイネーブルされる。
次に、ライトイネーブル信号WEBがトグルされると、ライトイネーブル信号WEBに同期してカラム選択信号CS_SW<0>、CS_SW<1>、CS_SW<2>が順次イネーブルされる。以後、センスアンプイネーブル信号SENが活性化された状態で、チップ制御信号発生部100により該当セルに複数の入力データDINが順次ライトされ、正常のライト動作を行うことができるようになる。
ここで、センスアンプは以前のアドレスサイクルで入力されたデータを引続き格納するため、ライトイネーブル遷移検出信号WTDが発生する前まで引続き活性化状態を維持する。
図29は、図20に示すブロックページBPと連結されたデータバスバッファ部500の構成を示す図である。
データバスバッファ部500は複数のデータバスバッファ<0:n>を備え、複数のデータバスバッファ<0:n>はこれと対応するデータバス部400と連結される。したがって、複数のカラムページCPから出力されたデータ等はデータバスバッファ部500を介しバッファリングされてデータ入/出力バッファ部600に出力される。さらに、データ入/出力バッファ部600から入力されたデータ等はデータバスバッファ部500を介しバッファリングされてブロックページBPに出力される。
図30は、図20に示すセルアレイに関する詳細な回路図である。
セルアレイは、サブセルアレイ700及びメインビットラインロード制御部710を備える。
ここで、サブセルアレイ700のそれぞれのメインビットラインMBLは複数のサブビットラインSBLのうち1つのサブビットラインSBLと選択的に連結される。そして、メインビットラインMBLはチップ選択部と連結される。すなわち、サブビットライン選択信号SBSW1の活性化時にNMOSトランジスタN13がターンオンされて1つのサブビットラインSBLを活性化させる。さらに、1つのサブビットラインSBLには複数のセルCが連結される。
サブビットラインSBLは、サブビットラインプルダウン信号SBPDの活性化時にNMOSトランジスタN11のターンオンに従いグラウンドレベルにプルダウンされる。そして、サブビットラインプルアップ信号SBPUはサブビットラインSBLに供給される電源を制御するための信号である。すなわち、低電圧では電源電圧VCCより高い電圧を生成してサブビットラインSBLに供給する。
なお、サブビットライン選択信号SBSW2はNMOSトランジスタN12のスイッチングに従い、サブビットラインプルアップ信号SBPU印加端とサブビットラインSBLとの間の連結を制御する。
さらに、NMOSトランジスタN10はNMOSトランジスタN9とメインビットラインMBLとの間に連結され、ゲート端子がサブビットラインSBLと連結される。NMOSトランジスタN9は接地電圧端とNMOSトランジスタN10との間に連結され、ゲートを介しメインビットラインプルダウン信号MBPDが印加されてメインビットラインMBLのセンシング電圧を調整する。
なお、メインビットラインロード制御部710はPMOSトランジスタP11を備える。PMOSトランジスタP11は、ポンピング電圧VPP(又は電源電圧VCC)印加端とメインビットラインMBLとの間に連結され、ゲート端子にメインビットライン制御信号MBLCが印加される。ここで、PMOSトランジスタP11はメインビットライン制御信号MBLCの状態に従い、センシング時にメインビットラインMBLのロード役割を果たす。
一方、図31は本発明に係る不揮発性強誘電体メモリのライトモード時の動作タイミング図である。
先ず、t1区間進入の際にチップ選択信号CSB及びライトイネーブル信号WEBがローにディスエーブルされると、ライトモードアクティブ状態となる。これに伴い、ライト駆動スイッチング部270がイネーブルされ、センスアンプイネーブル信号SEN及びイコライジング信号SEQがディスエーブルされる。
以後、t2区間進入の際にワードラインWLがイネーブルされ、サブビットラインプルダウン信号SBPDがローにディスエーブルされてセルの格納ノードがグラウンドレベルに初期化される。そして、共通データバスプルアップ信号CDBPU及びセンスアンプイネーブル信号SEPがイネーブルされる。このとき、t2区間でワードラインWLはプレートラインPLより先に活性化される。したがって、初期動作時にセルの格納ノードの状態を安定させることにより、センシングマージンを向上させることができるようにする。
次に、データセンシング区間であるt3区間進入の際にプレートラインPLがポンピング電圧VPPレベルにイネーブルされ、メインビットラインMBLにセルデータが印加される。そして、サブビットラインプルダウン信号SBPDがディスエーブルされ、基準電圧選択信号REF_SW及び共通データバス選択信号CDB_SWがイネーブルされる。このとき、イコライジング信号SEQがハイにイネーブルされてイコライジング部220を非活性化させることにより、センスアンプS/Aを活性化させる。
t4区間進入の際にセンスアンプイネーブル信号SEP、基準電圧選択信号REF_SW及び共通データバス選択信号CDB_SWがディスエーブルされる。そして、センスアンプイネーブル信号SENがイネーブルされてセンスアンプS/Aが活性化される。
以後、t5区間進入の際にプレートラインPLがディスエーブルされ、サブビットライン選択信号SBSW2がポンピング電圧VPPレベルにイネーブルされる。そして、サブビットラインプルダウン信号SBPDがハイにイネーブルされてサブビットラインSBLの電圧レベルがグラウンドレベルとなる。さらに、メインビットラインMBL及びカラム選択信号CS_SWがイネーブルされ、共通データバスプルアップ信号CDBPUがディスエーブルされる。
次に、t6区間進入の際にワードラインWLの電圧レベルが上昇し、セルデータ「ハイ」をライトすることになる。そして、サブビットラインプルアップ信号SBPUがハイにイネーブルされ、サブビットライン選択信号SBSW2の電圧レベルが上昇してサブビットラインSBLの電圧レベルがポンピング電圧VPPレベルに上昇する。さらに、サブビットラインプルダウン信号SBPDがローにディスエーブルされる。
以後、t7区間進入の際にライトイネーブル信号WEB及びプレートラインPLがイネーブルされると、データ有効区間の間にセルデータ「0」を再格納する。このとき、メインビットラインMBLの電圧レベルがローにディスエーブルされる。そして、サブビットライン選択信号SBSW1の電圧レベルがポンピング電圧VPPレベルに上昇し、サブビットライン選択信号SBSW2がローにディスエーブルされてメインビットラインMBLのデータがサブビットラインSBLに出力される。このとき、リード駆動スイッチング部280及び共通データバスプルアップ信号CDBPUはイネーブルされ、ライト駆動スイッチング部270はディスエーブルされる。
ここで、セルのデータが「ハイ」の場合、センシング時にサブビットラインSBLの電圧が高いレベルとなる。したがって、セルCのスイッチングトランジスタの電流が大きくなり、セルデータ「ロー」から誘起されたメインビットラインMBLの電圧レベルが低くなる。
逆に、セルのデータが「ロー」の場合、リード時にサブビットラインSBLの電圧が低いレベルとなる。したがって、セルCのスイッチングトランジスタの電流が小さくなり、セルデータ「ハイ」から誘起されたメインビットラインMBLの電圧レベルが高くなる。
次に、t8区間進入の際にワードラインWLがプレートラインPLより先にディスエーブルされる。
次に、t9区間進入の際にプレートラインPL、サブビットライン選択信号SBSW1、サブビットラインプルアップ信号SBPU及びリード駆動スイッチング部280がローにディスエーブルされる。そして、サブビットラインプルダウン信号SBPD及びメインビットラインMBLがハイにイネーブルされる。
図32は、本発明に係る不揮発性強誘電体メモリのリードモード時の動作タイミング図である。
先ず、リードモード時にはライトイネーブル信号WEBが電源電圧レベルを維持する。そして、ライト駆動スイッチング部280がロー状態を維持する。t2区間進入の際に共通データバスプルアップ信号CDBPUが引続きハイ状態を維持する。以後、t5区間進入の際にリード駆動スイッチング部280が活性化され、t9区間に進入する前まで活性化状態を維持する。そして、t6区間以後にデータ出力有効区間を引続き維持する。
一方、図33は本発明に係る反復書込みの回数を示す図である。
図30に示されているように、従来の技術の場合サイクル進行の度にセルアクセス動作を行うことになる。したがって、メモリセルの破壊動作によりリード/ライト動作を行うための反復書込みのストレスが加えられることになる。
通常の強誘電体キャパシタは、反復書込みの回数が重なると貯蔵電荷能力が減少することになる。したがって、一定回数(10E12)以上の反復書込み動作が重なる場合、貯蔵電荷容量が引続き減少して劣化現象が発生することになる。
その反面、本発明は別途のページバッファ領域が存在し、ページバッファアクセス時にはセルアクセス動作を行わずページバッファで直ちにデータアクセスが可能であるようにする。したがって、ページ内のアクセス時にはセルが駆動しないため、セルアクセス時の累積反復書込みの回数が減少することになる。
結局、図33に示されているように、ページバッファのサイズが1000個のページアドレスで構成される場合、チップの再書込みサイクルの回数は1000倍減少することにより従来の技術に比べて反復書込みの回数(10E15)を拡張することができるようになる。
図34は、本発明に係る電力消費を示す図である。
図34に示されているように、従来の技術のセルアクセス時にはアドレス遷移検出信号ATDに応答し、ワードラインWL及びプレートラインPL等のチップ駆動と関連した全ての回路が動作を行うため多い電力が消耗される。
その反面、本発明に係るページバッファのアクセス時には一部のページアドレスと関連したディコーダ及びデータ入/出力バッファのみ動作することになり、電力の消耗が従来の技術に比べ減少する。
従来の不揮発性強誘電体メモリ制御装置に関する構成を示す図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置のアドレス領域割当ての設定を示す図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置の構成を示す図である。 図3に示すページアドレスラッチ部に関する詳細な構成を示す図である。 図4に示すページアドレス制御部に関する詳細な回路図である。 図3に示すローアドレスラッチ部に関する詳細な構成を示す図である。 図6に示すローアドレスラッチ部に関する詳細な回路図である。 図3に示すリセット信号遷移検出部に関する詳細な回路図である。 図3に示すリセット信号遷移検出部に関する動作タイミング図である。 図3に示すリセット信号遷移検出部に関する動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置に関する動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置に関する動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置に関する動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置に関する動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置に関する動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置に関する動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置に関する動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリ制御装置に関する動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリの構成を示す図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリの他の実施の形態を示す図である。 図20に示すブロックページに関する詳細な構成を示す図である。 図21に示すセンスアンプに関する詳細な回路図である。 図21に示すセンスアンプに関する詳細な回路図である。 図22及び図23に示すリード駆動スイッチング部及びライト駆動スイッチング部に関する詳細な回路図である。 図22及び図23に示すセンスアンプに関する動作を説明するための図である。 図22及び図23に示すセンスアンプに関する動作を説明するための図である。 図22及び図23に示すセンスアンプに関する動作を説明するための図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリの動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリのデータバスバッファ部に関する詳細な構成を示す図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリのセルアレイに関する詳細な回路図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリの動作タイミング図である。 本発明に係る不揮発性強誘電体メモリの動作タイミング図である。 本発明に係る再書込み回数と消費電力を説明するためのグラフである。 本発明に係る再書込み回数と消費電力を説明するためのグラフである。
符号の説明
10 チップイネーブル信号バッファ
20 ページアドレスラッチ部
21 ページアドレス制御部
30 ページディコーダ
40 ローアドレスラッチ部
41 ローアドレス制御部
42 ラッチ制御部
50 ローディコーダ
60 リセット信号遷移検出部
61 リセット信号感知部
62 入力制御部
63 駆動部
64 ラッチ部
65 パルス発生部
66 遅延部
70 アドレス遷移検出部
80 ライトイネーブル信号遷移検出部
90 合成部
100 チップ制御信号発生部
200 センスアンプバッファ部
210 PMOSラッチ増幅部
220 イコライジング部
230 NMOSラッチ増幅部
240 共通データバスプルアップ駆動部
250 共通データバススイッチング部
260 基準電圧制御部
270 ライト駆動スイッチング部
280 リード駆動スイッチング部
290 強誘電体キャパシタ部
300 カラム選択部
310、311 カラム選択スイッチ
350 共通データバス部
400 データバス部
500 データバスバッファ部
600 データ入/出力バッファ部
700 サブセルアレイ
710 メインビットラインロード制御部

Claims (28)

  1. ブロックページアドレス領域とカラムページアドレス領域に区分されたページアドレスを、チップイネーブル信号に応答しラッチしてディコーディングするページアドレスバッファ、
    前記チップイネーブル信号に応答してローアドレスをラッチし、ラッチされたローアドレスを出力するローアドレスラッチ部、
    前記ラッチされたローアドレスの遷移の可否を検出してアドレス遷移検出信号を出力するアドレス遷移検出部、及び
    前記アドレス遷移検出信号に応答し、チップ動作を制御する制御信号を選択的に発生するチップ制御信号発生部を備えることを特徴とする不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  2. 前記ページアドレスバッファは、前記チップイネーブル信号に応答して前記ページアドレスをラッチし、ラッチされたページアドレスを出力するページアドレスラッチ部、
    前記ラッチされたページアドレスをディコーディングするページディコーダを備えることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  3. 前記ローアドレスは最上位ビット領域に配置され、前記ページアドレスのうちカラムページアドレスは最下位ビット領域に配置され、前記ページアドレスのうちブロックページアドレスは前記ローアドレス及び前記カラムページアドレスの間の領域に配置されることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  4. ブロックページアドレス領域とカラムページアドレス領域に区分されたページアドレスを、チップイネーブル信号に応答しラッチしてディコーディングするページアドレスバッファ、
    前記チップイネーブル信号に応答してローアドレスをラッチし、ラッチされたローアドレスを出力するローアドレスラッチ部、
    前記ラッチされたローアドレスの遷移の可否を検出してアドレス遷移検出信号を出力するアドレス遷移検出部、
    前記チップイネーブル信号に応答し、リセット信号の遷移の可否を検出してリセット遷移検出信号を出力するリセット信号遷移検出部、
    前記チップイネーブル信号に応答し、ライトイネーブル信号の遷移の可否を検出してライトイネーブル遷移検出信号を出力するライトイネーブル信号遷移検出部、
    前記アドレス遷移検出信号、前記リセット遷移検出信号及び前記ライトイネーブル遷移検出信号に応答して遷移合成信号を出力する合成部、及び
    前記遷移合成信号に応答し、チップ動作を制御する制御信号を選択的に発生するチップ制御信号発生部を備えることを特徴とする不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  5. 前記ローアドレスは最上位ビット領域に配置され、前記ページアドレスのうちカラムページアドレスは最下位ビット領域に配置され、前記ページアドレスのうちブロックページアドレスは前記ローアドレス及び前記カラムページアドレスの間の領域に配置されることを特徴とする請求項4に記載の不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  6. 前記ページアドレスバッファは、前記チップイネーブル信号に応答してページアドレスをラッチし、ラッチされたページアドレスを出力するページアドレスラッチ部、
    前記ラッチされたページアドレスをディコーディングするページディコーダを備えることを特徴とする請求項4に記載の不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  7. 前記ページアドレスラッチ部は、前記チップイネーブル信号の状態に従い前記ページアドレスをラッチして選択的に出力するページアドレス制御部、及び
    前記ページアドレス制御部の出力を遅延して前記ラッチされたページアドレスを出力する第1の出力手段を備えることを特徴とする請求項6に記載の不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  8. 前記ローアドレスラッチ部は、前記チップイネーブル信号の状態に従い前記ローアドレスをラッチして選択的に出力するローアドレス制御部、
    ラッチ制御信号の状態に従い前記ローアドレス制御部の出力をラッチして選択的に出力するラッチ制御部、及び
    前記ラッチ制御部の出力を遅延して前記ラッチされたローアドレスを出力する第2の出力手段を備えることを特徴とする請求項4に記載の不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  9. 前記リセット信号遷移検出部は、メモリセルの動作初期に前記チップイネーブル信号がディスエーブルされた状態で前記リセット信号がローに遷移する前までハイ電圧レベルをラッチするリセット信号感知部、及び
    前記ハイ電圧レベルに従い一定の遅延時間ほどのパルス幅を有する前記リセット遷移検出信号を発生するパルス発生部を備えることを特徴とする請求項4に記載の不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  10. 前記リセット信号感知部は、前記リセット信号及び前記チップイネーブル信号の遷移を感知する入力制御部、
    前記入力制御部の出力に伴い駆動されて電源電圧又は接地電圧を選択的に出力する駆動部、及び
    前記駆動部の出力を一定時間のあいだラッチするラッチ部を備えることを特徴とする請求項9に記載の不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  11. 前記パルス発生部は、前記リセット信号感知部の出力を一定時間のあいだ遅延する遅延部、及び
    前記リセット信号感知部の出力と前記遅延部の出力の論理演算を行い、前記リセット遷移検出信号を発生する論理部を備えることを特徴とする請求項9に記載の不揮発性強誘電体メモリ制御装置。
  12. 複数の単位ブロックを備え、前記複数の単位ブロックのそれぞれは複数のセルアレイ、複数のローディコーダ及び複数のカラムページを備えるが、1つの単位ブロック内に備えられた前記複数のカラムページは1つの単位ブロックページを構成して同時に活性化されることを特徴とする不揮発性強誘電体メモリ。
  13. 前記複数のカラムページのそれぞれは、センスアンプイネーブル信号により活性化の可否が制御され、複数のビットラインと一対一に対応して連結される複数のセンスアンプを備えるセンスアンプバッファ部、
    前記複数のセンスアンプと一対一に対応して連結される複数のカラム選択スイッチを備えるカラム選択部、及び
    前記複数のカラム選択スイッチと連結されてカラム選択信号の入/出力を制御するデータバス部を備えることを特徴とする請求項12に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  14. 前記複数のセンスアンプのそれぞれは、前記センスアンプイネーブル信号の活性化時にセンスアンプを駆動するための電源を供給する活性化調整スイッチ、
    前記活性化調整スイッチの活性化時に前記センスアンプの両端ノードを増幅するラッチ増幅部、及び
    イコライジング信号の活性化時に前記センスアンプの両端ノードを初期化させるイコライジング部を備えることを特徴とする請求項13に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  15. 前記複数のセンスアンプのそれぞれは、メインビットラインプルアップ信号の活性化時にメインビットラインをプルアップさせるプルアップ駆動部、
    前記センスアンプの第1のノードと前記メインビットラインを選択的に連結するためのビットライン選択信号を制御するビットラインスイッチング部、
    前記センスアンプの第2のノードに基準電圧を選択的に供給するための基準電圧選択信号を制御する基準電圧制御部、
    前記センスアンプの両端ノードと前記データバス部を選択的に連結するためのカラム選択信号を制御するカラム選択スイッチ、
    前記データバス部から印加されるライトデータを駆動して前記カラム選択スイッチに出力するライト駆動スイッチング部、
    前記カラム選択スイッチから印加されるリードデータを駆動して前記メインビットラインに出力するリード駆動スイッチング部、及び
    前記センスアンプの非活性化データを格納し、前記センスアンプの活性化時に以前のデータを復旧する強誘電体キャパシタ部を備えることを特徴とする請求項14に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  16. 前記複数のカラムページのデータアクセス時にローアドレス及びリセット信号の遷移検出が発生しない場合、センスアンプが活性化状態を維持して前記センスアンプに格納されたデータが直ちにアクセスされることを特徴とする請求項12に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  17. 前記1つの単位ブロックページは、前記複数のカラムページから出力されるデータをバッファリングする複数のデータバスバッファを備えるデータバスバッファ部、及び
    前記データバスバッファ部の出力データ又は入力データをバッファリングするデータ入/出力バッファ部をさらに備えることを特徴とする請求項12に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  18. 複数のセルアレイを備える複数の単位ブロック、
    前記複数の単位ブロックと互いに入/出力データを交換するための共通データバス部、
    複数のカラムページを備える1つの単位ブロックページ、及び
    前記1つの単位ブロックページと互いに入/出力データを交換するためのデータバス部を備え、
    前記1つの単位ブロックページ内に備えられた前記複数のカラムページは同時に活性化されることを特徴とする不揮発性強誘電体メモリ。
  19. 前記複数の単位ブロックのそれぞれは前記複数のセルアレイ、1つのメインローディコーダ、複数のサブローディコーダ及び複数のチップ選択部を備えるが、前記複数のサブローディコーダは前記1つのメインローディコーダにより制御されることを特徴とする請求項18に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  20. 前記複数のカラムページのそれぞれは、センスアンプイネーブル信号により活性化の可否が制御され、複数の共通データバスと一対一に対応して連結される複数のセンスアンプを備えるセンスアンプバッファ部、及び
    前記複数のセンスアンプと一対一に対応して連結され、前記データバス部にカラム選択信号を出力する複数のカラム選択スイッチを備えるカラム選択部を備えることを特徴とする請求項19に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  21. 前記複数のセンスアンプのそれぞれは、前記センスアンプイネーブル信号の活性化時にセンスアンプを駆動するための電源を供給する活性化調整スイッチ、
    前記活性化調整スイッチの活性化時に前記センスアンプの両端ノードを増幅するラッチ増幅部、及び
    イコライジング信号の活性化時に前記センスアンプの両端ノードを初期化させるイコライジング部を備えることを特徴とする請求項20に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  22. 前記複数のセンスアンプのそれぞれは、共通データバスプルアップ信号の活性化時に共通データバスをプルアップさせるプルアップ駆動部、
    前記センスアンプの第1のノードと前記共通データバスを選択的に連結するための共通データバス選択信号を制御する共通データバススイッチング部、
    前記センスアンプの第2のノードに基準電圧を選択的に供給するための基準電圧選択信号を制御する基準電圧制御部、
    前記センスアンプの両端ノードと前記データバス部を選択的に連結するためのカラム選択信号を制御するカラム選択スイッチ、
    前記データバス部から印加されるライトデータを駆動して前記カラム選択スイッチに出力するライト駆動スイッチング部、
    前記カラム選択スイッチから印加されるリードデータを駆動して前記共通データバスに出力するリード駆動スイッチング部、及び
    前記センスアンプの非活性化データを格納し、前記センスアンプの活性化時に以前のデータを復旧する強誘電体キャパシタ部を備えることを特徴とする請求項21に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  23. 前記複数のカラムページのデータアクセス時にローアドレス及びリセット信号の遷移検出が発生しない場合、センスアンプが活性化状態を維持して前記1つの上位ブロックページに格納されたデータが直ちにアクセスされることを特徴とする請求項18に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  24. 前記データバス部と連結されて前記複数のカラムページから出力されるデータをバッファリングする複数のデータバスバッファを備えるデータバスバッファ部、及び
    前記データバスバッファ部の出力データ及び入力データをバッファリングするデータ入/出力バッファ部をさらに備えることを特徴とする請求項18に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  25. チップイネーブル信号に応答してページアドレスをラッチするページアドレスラッチ部、
    前記チップイネーブル信号に応答してローアドレスをラッチし、ラッチされたローアドレスを出力するローアドレスラッチ部、
    前記ラッチされたローアドレスの遷移の可否を検出してアドレス遷移検出信号を出力するアドレス遷移検出部、
    前記アドレス遷移検出信号に応答してチップ動作を制御する制御信号を選択的に発生するチップ制御信号発生部、及び
    複数の単位ブロックを備え、前記複数の単位ブロックのそれぞれは複数のセルアレイ、複数のローディコーダ及び複数のカラムページを備えるが、1つの単位ブロック内に備えられた前記複数のカラムページは1つの単位ブロックページを構成して同時に活性化されることを特徴とする不揮発性強誘電体メモリ。
  26. 前記ページアドレスは、ブロックページアドレス領域とカラムページアドレス領域に区分されることを特徴とする請求項25に記載の不揮発性強誘電体メモリ。
  27. チップイネーブル信号に応答してページアドレスをラッチするページアドレスラッチ部、
    前記チップイネーブル信号に応答してローアドレスをラッチし、ラッチされたローアドレスを出力するローアドレスラッチ部、
    前記ラッチされたローアドレスの遷移の可否を検出してアドレス遷移検出信号を出力するアドレス遷移検出部、
    前記アドレス遷移検出信号に応答してチップ動作を制御する制御信号を選択的に発生するチップ制御信号発生部、
    複数のセルアレイを備える複数の単位ブロック、
    前記複数の単位ブロックと互いに入/出力データを交換するための共通データバス部、
    複数のカラムページを備える1つの単位ブロックページ、及び
    前記1つの単位ブロックページと互いに入/出力データを交換するためのデータバス部を備え、
    前記1つの単位ブロックページ内に備えられた前記複数のカラムページは同時に活性化されることを特徴とする不揮発性強誘電体メモリ。
  28. 前記ページアドレスは、ブロックページアドレス領域とカラムページアドレス領域に区分されることを特徴とする請求項27に記載の不揮発性強誘電体メモリ。

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