JP2004095156A - テストモードのために選択的にイネーブルされる出力回路を有するメモリ装置及びそのテスト方法 - Google Patents

テストモードのために選択的にイネーブルされる出力回路を有するメモリ装置及びそのテスト方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2004095156A
JP2004095156A JP2003303322A JP2003303322A JP2004095156A JP 2004095156 A JP2004095156 A JP 2004095156A JP 2003303322 A JP2003303322 A JP 2003303322A JP 2003303322 A JP2003303322 A JP 2003303322A JP 2004095156 A JP2004095156 A JP 2004095156A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
output
signal
circuit
control signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003303322A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4870325B2 (ja
Inventor
Sung-Ryul Kim
金 成 律
Jong-Bok Tcho
楚 鍾 福
Woo-Seop Jeong
鄭 又 燮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2004095156A publication Critical patent/JP2004095156A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4870325B2 publication Critical patent/JP4870325B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/1201Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details comprising I/O circuitry
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/48Arrangements in static stores specially adapted for testing by means external to the store, e.g. using direct memory access [DMA] or using auxiliary access paths
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1051Data output circuits, e.g. read-out amplifiers, data output buffers, data output registers, data output level conversion circuits
    • G11C7/1066Output synchronization
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells

Landscapes

  • Dram (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

【課題】 テストモードのために選択的にイネーブルされる出力回路を有するメモリ装置及びそのテスト方法を提供する。
【解決手段】 メモリ装置は各々の内部データラインからデータを受信する回路及び各々のデータ入出力ピンに連結される回路である複数のデータ出力回路を含む。メモリ装置は外部印加制御信号に応答して、各々に対応するデータ入出力ピンを駆動する複数のデータ出力回路のサブセットを選択的にイネーブルするデータ出力制御回路をさらに含む。データ出力制御回路は選択的に複数のデータ出力回路のサブセットが各々対応するデータ入出力ピンにハイインピーダンスを提供するように動作する。本発明は、装置及び方法として実現できる。
【選択図】   図4

Description

 本発明はメモリ装置及びそのテスト方法に係り、特に、テスト効率を向上させるための内部回路を有するメモリ装置及びそのテスト方法に関する。
 一般的に、半導体メモリ装置は使用者に販売される前に工場でテスト装置によってあらかじめその不良の有無が検査される。従来のテスト装置の一例が特許文献1に開示されている。一方、上記テスト装置が半導体メモリ装置を検査するのにかかる時間は製品コストを上昇させる直接的な要因として作用している。したがって、検査時間を短縮させるための多くの努力が行われている。
 製品の検査項目を減らすのは難しいので、全体の検査時間を減らすために一般的に複数の製品が並列にテストされる。その結果、一つのテスト装置によって同時にテストできる製品の数に比例してテスト時間が減少する。
 半導体メモリ装置には、2進データを入出力するための多数のデータ入出力ピン及び半導体メモリ装置の制御のための多数の制御ピンが備えられている。このような半導体メモリ装置の検査のために、テスト装置の入出力ピンは半導体メモリ装置のデータ入出力ピン及び制御ピンと連結される。ここで、制御ピンに印加される制御信号は、各製品に共通に適用される信号であるので、テスト装置の制御信号出力ピンには多数の製品の制御ピンが共通に連結される。したがって、半導体メモリ装置の制御ピン数は、同時に検査できる製品数には影響を与えない。しかし、半導体メモリ装置のデータ出力信号は、各製品によって違うので、検査される全ての製品のデータ入出力ピンはテスト装置の入出力ピンに1:1に連結されなければならない。したがって、各製品のデータ入出力ピン数によって同時に検査できる製品数が決定される。
 半導体メモリ装置は、一回に入出力できる2進データの個数によってX4、X8、X16製品に分類される。X4製品は4個のデータ入出力ピンを備え、一回に4個のデータを処理できる。X8製品は8個のデータ入出力ピンを備え、一回に8個のデータを処理できる。また、X16製品は16個のデータ入出力ピンを備え、一回に16個のデータを処理できる。
 ここで、X16製品のデータ入出力ピン数は、X8製品のデータ入出力ピン数の2倍であるので、一つのテスト装置で同時に検査できるX16製品数はX8製品数に比べて半分に減少する。
 一般的なX16半導体メモリ装置がテスト装置に連結された状態が図1に示されている。
 図1は、従来のDDR SDRAM(Double Data Rate Synchronous DRAM)がテスト装置に連結された状態を示すブロック図である。
 図1に示すように、多数のX16DDR SDRAM10各々の制御信号入力ピン11はDRAMテスト装置20の制御信号入力ピン21各々に共通に連結される。また、X16DDR SDRAM10各々のデータ入出力ピン12は、DRAMテスト装置20のデータ入出力ピン22各々に1:1に連結される。X16DDR SDRAM10はDRAMテスト装置20から出力される制御信号によってデータ入出力ピン12を通じて当該データをDRAMテスト装置20のデータ入出力ピン22に出力したり、またはデータ入出力ピン22から出力されるデータを入力したりする。
 DRAMテスト装置20はデータ入出力ピン22に入力されるデータを検査して、当該DDR SDRAMの不良の有無をチェックする。
図1のように、従来はX16DDRSDRAMのデータ入出力ピン12の全てがDRAMテスト装置20のデータ入出力ピン22に各々1:1に連結されるので、同時に検査できるX16DDR SDRAMの数が同時に検査できるX8DDRSDRAMの数に比べて極めて限定される。
 図2は、図1に示すDDR SDRAMの内部回路を示すブロック図である。
 図2で、DDR SDRAMの内部回路30は内部回路決定部31、コマンドデコーダ32、制御信号発生部33、第1及び第2入力バッファ34,35、DQ(Data input/output)バッファ制御部36、第1及び第2書込み制御部37,38、複数のDQバッファ39及び複数のドライバ40を備える。内部回路決定部31は、所定の制御信号PINOUTを出力してDDR SDRAMの入出力データピン数及びそれによる内部回路を決定する。コマンドデコーダ32は、外部から入力される制御信号C0,C1,...CXに応答して複数の制御命令を出力する。
 制御信号発生部33は、コマンドデコーダ32から出力されるデータ書込み命令WRITEに応答して制御信号PBUFENを活性化させて出力する。制御信号PBUFENは、第1及び第2入力バッファ34,35をターンオンまたはターンオフするための信号である。
 第1及び第2入力バッファ34,35は、制御信号PBUFENが活性化されるとターンオンされる。第1及び前記第2入力バッファ34,35は外部から入力される書込み禁止信号UDM,LDMに応答して、各々制御信号UDMT,LDMTを活性化する。制御信号UDMT,LDMTによって第1及び第2書込み制御部37,38が動作する。
 第1及び第2書込み制御部37,38は、各々8個ずつのデータ入出力ピン12に入力されるデータの書込み動作を制御する。より詳細に説明すると、第1書込み制御部37は、制御信号UDMTが非活性状態である時、第1書込み制御部37によって制御される8個のデータ入出力ピン12に入力されるデータがメモリセル(図示せず)に書込まれなくする。また、制御信号LDMTが非活性状態である時、第2書込み制御部38は第2書込み制御部38によって制御される8個のデータ入出力ピン12に入力されるデータのメモリセルへの書込みを防止する。
 ここで、第1及び前記第2入力バッファ34,35、第1及び前記第2書込み制御部37,38及び前記制御信号発生部33はDDR SDRAMのテスト動作では使われず、DDR SDRAMのデータ書込みWRITE動作で使われる。DQバッファ制御部36は、コマンドデコーダ32から出力されるデータ読出しし命令READに応答して制御信号PTRSTを出力する。制御信号PTRSTはデータ読出しし命令READに応答してイネーブルされ、所定時間が過ぎればディセーブルされる。制御信号PTRSTがイネーブルされれば、データ入出力ピン12からデータが出力される。
 複数のDQバッファ39は、複数のドライバ40を介してデータ入出力ピン12に各々連結される。複数のDQバッファ39各々は制御信号PINOUTによってオン・オフされる。結局、制御信号PINOUTによってデータの入出力に使われるDQバッファ39の数が決定され、データ入出力ピン12の数が決定される。
 また、制御信号PTRSTがイネーブルされれば、複数のDQバッファ39がメモリセルのデータ、すなわち、内部データライン14上に生成されたデータDO0,DO1,DO3,...DO15を外部クロック信号に同期して内部信号を発生する。
 複数のドライバ40各々は内部信号を受信し、データ入出力ピン12を介してデータDQ0,DQ1,DQ3,...DQ15を出力する。
 複数のDQバッファ39及び複数のドライバ40は、制御信号PTRSTがディセーブルされれば、ハイインピーダンス状態に遷移し、データDQ0,DQ1,DQ3,...DQ15を出力しない。
 一方、大きな外部ロードキャパシタンスについて高速にデータDO0,DO1,DO3,...DO15を出力するために、複数のドライバ40はデータ入出力ピン12に増加された電流ソーシング/シンキング能力を提供する。複数のドライバ40はデータDO0,DO1,DO3,...DO15をデータ入出力ピン12を介してデータDQ0,DQ1,DQ3,...DQ15に出力する。
 図3は、テストモードでの図2に示されたDDR SDRAMの信号を示すタイミング図である。テストモードでコマンドデコーダ32がクロック信号CLKに同期してデータ読出し命令READを出力すれば、DQバッファ制御部36はデータ読出し命令READに応答して制御信号PTRSTをイネーブルする。
 制御信号PTRSTがイネーブルされると、DQバッファ39がターンオンされてドライバ40を制御し、ドライバ40を介してデータDQ0,DQ1,...DQ15が出力される。ここで、制御信号発生部33と第1及び第2入力バッファ34,35とはDDR SDRAMのテストモードでは使用されないので、制御信号PBUFENは非活性状態である。
 また、書込み禁止信号UDM,LDMが非活性状態であるので、制御信号UDMT,LDMTも非活性状態である。前述したように、従来のDDR SDRAMはデータ入出力ピンをテスト装置のデータ入出力ピンと各々1:1に連結して使用するので、同時に検査できる製品の数が限定される。
 したがって、一つのテスト装置で同時に検査できる半導体メモリ装置の数を増加させるためには、半導体メモリ装置のデータ入出力ピン数を減少させる必要がある。
米国特許第5,157,664号公報
 本発明が解決しようとする課題は、データ出力ピンのセットがテスティング構成で共通に連結されることを許すように、データ出力回路のサブセットが選択的にイネーブルされうるDDR SDRAMのようなメモリ装置を提供することである。
 前記課題を達成するために、本発明の実施例で、メモリ装置は各々の内部データラインからデータを受信する回路と各々のデータ入出力ピンに連結される回路である複数のデータ出力回路とを含む。前記メモリ装置は、外部印加制御信号に応答して、各々に対応するデータ入出力ピンを駆動する複数のデータ出力回路のサブセットを選択的にイネーブルするデータ出力制御回路をさらに含む。前記データ出力制御回路は、選択的に複数のデータ出力回路のサブセットが各々対応するデータ入出力ピンにハイインピーダンスを提供するように動作できる。前記複数のデータ出力回路のサブセットに各々対応する前記データ入出力ピンはテスト構成で共通に連結される。
 本発明の追加の実施例で、データ出力制御回路は第1外部印加制御信号に応答してテストモードコマンド信号及び読出し命令を発生させるコマンドデコーダと、前記コマンドデコーダに連結され、前記テストモードコマンド信号、前記読出し命令、及び第2外部印加制御信号に応答して前記複数のデータ出力回路のサブセットを選択的にイネーブルするデータ出力選択回路とを含む。前記データ出力選択回路は複数のグループ制御信号を受信し、前記グループ制御信号のうちの一つに各々応答して出力制御信号を各々発生するデータ出力制御回路と、複数の外部印加書込み禁止信号のうちの一つを各々受信し、グループ制御信号のうちの一つを各々発生する複数の書込み禁止信号入力バッファ回路を含む。前記複数のデータ出力回路のサブセットの各々は、前記出力制御信号のうちの一つを各々受信するように構成でき、前記出力制御信号に応答してイネーブルされ、ディセーブルされるよう動作する。追加の実施例によれば、前記データ出力制御回路は前記コマンドデコーダによって発生する読出し命令に応答して、前記複数のデータ出力回路の全体にイネーブル信号を印加する第1出力制御回路と、第1グループ制御信号を受信し、前記複数のデータ出力回路の第1サブセットのための第1グループイネーブル信号を発生する第2出力制御回路と、第2グループ制御信号を受信し、前記複数のデータ出力回路の第2サブセットのための第2グループイネーブル信号を発生する第3出力制御回路とを含む。
 本発明の他の実施例で、前記データ出力制御回路は前記コマンドデコーダによって発生するテストモードコマンド信号に応答して、前記複数の書込み禁止信号入力バッファをイネーブルする書込み禁止信号入力バッファ制御回路をさらに備える。前記書込み禁止信号入力バッファ制御回路は、前記コマンドデコーダからのデータ書込み命令に応答して、書込み禁止信号入力バッファ制御信号を出力する制御信号発生回路と、前記書込み禁止信号入力バッファ制御信号及び前記テストモードコマンド信号を論理的に結合し、前記複数の書込み禁止信号入力バッファ回路に書込み禁止信号入力バッファ制御信号を各々印加する論理回路とを含む。
 前記複数の書込み禁止信号入力バッファ回路の書込み禁止信号入力バッファ回路は、第1状態の第1書込み禁止信号入力バッファ制御信号に応答して、書込み禁止信号を基準電圧と比較し、第1グループ制御信号を出力する電圧比較回路を含む。前記書込み禁止信号入力バッファ回路は、第2状態の前記第1書込み禁止信号入力バッファ制御信号に応答して、前記第1グループ制御信号をグラウンド電圧の信号となるようにする出力制御回路をさらに含む。前記複数のデータ出力回路のデータ出力回路は、内部データラインからデータを受信し、前記データ出力制御回路から出力制御信号を受信し、それに応答して外部クロック信号に同期される同期データ信号を発生するDQバッファ回路と、前記同期データ信号に応答して入出力ピンを駆動するドライバ回路とを含む。
 本発明はメモリ装置をテスティングする方法として実現できる。特に、本発明の実施例で、各々の内部データラインから各々データを受信する回路とメモリ装置の各々の入出力ピンに各々連結される回路である複数のデータ出力回路とを備えるメモリ装置は、前記メモリ装置が各々対応するデータ入出力ピンにロードを駆動する前記複数のデータ出力回路のサブセットを選択的にイネーブルするように制御信号を印加することによってテストされる。複数のデータ出力回路の第1及び第2サブセット各々の第1及び第2データ出力回路に連結される入出力ピンは、一つの外部データラインに共通に連結される。前記第1及び第2データ出力回路は前記制御信号に応答して択一的にイネーブルし、前記メモリ装置の第1及び第2の他の内部データラインからのデータを有するように前記外部データラインを駆動する。前記第1データ出力回路は、前記第2データ出力回路がイネーブルされる時、前記外部データラインにハイインピーダンスを提供する。
 本発明のテスト効率を向上させるための内部回路を有する半導体メモリ装置及びそのテスト方法によれば、テスト装置に連結される半導体メモリ装置のデータ入出力ピン数を減少させることができる。
 以下、添付した図面を参照して、本発明の望ましい実施例を説明することによって、本発明を詳細に説明する。各図面に付された同一参照符号は同一部材を表わす。
 図4は、本発明の実施例によるDDR SDRAMの一部のブロック図である。図4に示すように、内部回路100はコマンドデコーダ110と、外部の書込み禁止信号DM1,DM2を受信する第1及び第2書込み禁止信号入力バッファ130,140を制御する書込み禁止信号入力バッファ制御部120と、データ出力選択回路150を含むデータ出力制御回路101とを含む。第1及び第2データ出力装置160,170はDQバッファ回路161,171とドライバ162、172とを含むデータ出力回路の第1及び第2セットを含む。
 また、内部回路100は、内部回路決定部31と、第1書込み制御部37及び第2書込み制御部38とをさらに備える。メモリセル、センスアンプのようなメモリ装置の他の部分は説明を簡略化するために図示されておらず、当業者に周知の前記他の部分の動作は詳細説明を省略する。ここで、前述の説明はDDR SDRAMに関連するが、本発明はメモリを含むハイブリッド装置を含む他のメモリ装置にも適用されうる。
 コマンドデコーダ110は、外部の制御信号を入力するための複数の制御信号入力ピン310を含む。コマンドデコーダ110は制御信号入力ピン310を介して外部の制御信号C0,C1,...CXの入力に応答し、複数の内部制御命令を出力する。ここで、外部の制御信号C0,C1,...CXはチップ選択信号/CS、ローアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CAS及び記録イネーブル信号/WEを含む。複数の内部制御命令は(前記メモリ装置がテストモードであるかの可否を表わす)MRS命令MRS、データ読出し命令READ、データ書込み命令WRITEを含む。MRS命令MRSは、DDR SDRAMをノーマルモードまたはテストモードに転換させる。書込み禁止信号入力バッファ制御部120は、MRS命令MRSに応答して制御信号PBPUBを活性化する。制御信号PBPUBは、第1書込み禁止信号入力バッファ130及び第2書込み禁止信号入力バッファ140を制御する。第1書込み禁止信号入力バッファ130及び第2書込み禁止信号入力バッファ140は、制御信号PBPUBが活性化される時にターンオンされる。
 第1書込み禁止信号入力バッファ130及び第2書込み禁止信号入力バッファ140は、制御信号入力ピン320を介して入力される第1及び第2書込み禁止信号DM1,DM2に応答して、各々第1及び第2グループ制御信号DMT1,DMT2を生成する。
 データ出力選択回路150は、第1出力制御部151と、第2出力制御部152及び第3出力制御部153とを含む。第1出力制御部151は、コマンドデコーダ110から出力されるデータ読出し命令READに応答して第1出力制御信号PTRSTを生成する。第1出力制御信号PTRSTは、データ読出し命令READに応答してイネーブルされ、所定時間が過ぎればディセーブルされる。第2出力制御部152にMRS命令MRS及び第1グループ制御信号DMT1が入力され、第3出力制御部153にはMRS命令MRS及び第2グループ制御信号DMT2が入力される。
 第2出力制御部152は、MRS命令MRSが入力され、第1グループ制御信号DMT1が活性化されることによって第2出力制御信号RDDM1を活性化する。
 第3出力制御部153は、MRS命令MRSが入力され、第2グループ制御信号DMT2が活性化されることによって第3出力制御信号RDDM2を活性化する。
 第1データ出力装置160は、第1DQバッファ161及び第1ドライバ162を各々含む第1セットのデータ出力回路163を含む。第2データ出力装置170は、第2DQバッファ171及び第2ドライバ172を各々含む第2セットのデータ出力回路173を含む。
 また、第1データ出力装置160に第1入出力ピングループ330が連結され、第2データ出力装置170に第2入出力ピングループ340が連結される。
 第1入出力ピングループ330は、複数個の第1データ入出力ピン331を含み、第2入出力ピングループ340は複数個の第2データ入出力ピン341を含む。
 テスト時に、第1入出力ピングループ330及び第2入出力ピングループ340の各々のデータ入出力ピン331,341は共通の外部データラインによってテスト装置に連結される。
 したがって、データ読出しテスト時には入出力ピングループ別に分けてデータ読出しテストを反復し、データ書込みテスト時には全体グループを一回でデータ書込みを行う。
 第1DQバッファ161は、第1及び第2出力制御信号PTRST,RDDM1と、内部データライン165の第1グループ内部データDO0DO7及び外部クロック信号を論理演算して所定の制御信号DOKP,DOKN(図9参照)を各々出力する。
 第1ドライバ162は、制御信号DOKP,DOKNによって第1グループデータDQ0DQ7を出力し、またはハイインピーダンス状態となると、データDQ0DQ7を出力しない。
 ドライバがハイインピーダンス状態に変われば、ハイインピーダンス状態のドライバがデータを出力しないので、ドライバはハイインピーダンス状態ではない他のドライバに連結されるデータ入出力ピンから出力されるデータには影響を与えない。
 第2DQバッファ171もやはり、第1及び第3出力制御信号PTRST,RDDM2と、内部データライン175の第2グループ内部データDO8DO15及び外部クロック信号とを論理演算して所定の制御信号DOKP,DOKN(図9参照)を各々生成する。第2ドライバ172は、制御信号DOKP,DOKNによって第2グループデータDQ8DQ15を出力し、またはハイインピーダンス状態となると、第2グループデータDQ8DQ15を出力しない。
 ここで、第1DQバッファ161及び前記第1ドライバ162は、第2出力制御信号RDDM1が活性状態である時、第1グループデータDQ0DQ7を出力する。
 第2出力制御信号RDDM1が非活性状態となれば、第1出力制御信号PTRSTが活性状態であっても第1DQバッファ161及び前記第1ドライバ162はハイインピーダンス状態となる。
 第2DQバッファ171及び前記第2ドライバ172もやはり、第3出力制御信号RDDM2が活性状態である時、第2グループデータDQ8DQ15を出力する。
 第3出力制御信号RDDM2が非活性状態となれば、第1出力制御信号PTRSTが活性状態であっても第2DQバッファ171及び第2ドライバ172はハイインピーダンス状態となる。
 第1または第2ドライバ162,172は、第1または第2グループ内部データDO0DO7,DO8DO15が外部の大きなロードキャパシタ(図示せず)に高速に出力させるように、大きな電流駆動能力を有する。
 ここで、DRAM内部回路は、非常に小さな電流だけにしか耐えられないので、DRAM内部のデータを外部の大きなロードキャパシタに出力するためには、外部に伝送する前にその電流量を増加しなければならない。
 したがって、第1及び第2ドライバ162,172のように大きな電流駆動能力を有した回路によってDRAM内部のデータは電流量が増加し、出力される。
 内部回路決定部31と、第1及び第2書込み制御部37,38の構成及び具体的な動作は、前述したものと同一であるので、説明は省略する。
 図4では第1データ出力部160及び第2データ出力部170だけを例として説明したが、第1データ出力部160は多数の第1サブデータ出力部を含み、第2データ出力部170も、多数の第2サブデータ出力部をさらに含んでもよい。
 この時、第2出力制御部152は、多数の第1サブデータ出力部を制御するために多数の第2サブ出力制御部をさらに含んでもよい。
 また、第3出力制御部153も、多数の第2サブデータ出力部を制御するために多数の第3サブ出力制御部をさらに含んでもよい。
 ここで、第1書込み禁止信号入力バッファ130は、多数の第2サブ出力制御部を制御するために多数の第2グループ制御信号を出力する。第2書込み禁止信号入力バッファ140も、多数の第3サブ出力制御部を制御するために多数の第3グループ制御信号を出力する。
 図5は、図4に示された内部回路の典型的な動作を示すタイミングチャートである。
 図5で、テスト装置によって多数の外部入力信号/CS,/RAS,/CAS,/WEが制御信号入力ピン310に入力されれば、コマンドデコーダ110はDDR SDRAMのテストモード進入のためのMRS命令MRSを出力する。
 MRS命令MRSが受信されることによって、書込み禁止信号入力バッファ制御部120は制御信号PBPUBを活性化し、制御信号PBPUBが活性化されることによって第1及び第2書込み禁止信号入力バッファ130,140がターンオンされる。
 この後、テスト装置によってデータ読出しのための多数の外部入力信号/CS,/RAS,/CAS,/WEが入力されれば、コマンドデコーダ110は第1データ読出し命令READを出力する。
 第1データ読出し命令READによって、第1出力制御部151は第1出力制御信号PTRSTを所定時間イネーブルして出力する。
 また、テスト装置によって第1及び第2書込み禁止信号入力バッファ130,140に第1及び第2書込み禁止信号DM1,DM2が入力される。第1及び第2書込み禁止信号DM1,DM2はDDR SDRAMのデータ入出力ピンから出力されるデータを多数のグループに分類し、各グループ別に順次データを読出すために使われる制御信号である。
 したがって、第1書込み禁止信号DM1が活性化されれば、第1DQバッファ161及び第1ドライバ162によって第1グループデータDQ0〜DQ7が出力され、第2書込み禁止信号DM2が活性化されれば、第2DQバッファ171及び第2ドライバ172によって第2グループデータDQ8〜DQ15が出力される。図5ではデータDQ0〜DQ7が出力された後、データDQ8〜DQ15が出力されることが示される。
 テスト装置によって第1書込み禁止信号DM1が活性状態となり、第2書込み禁止信号DM2が非活性状態となれば、第1書込み禁止信号入力バッファ130は第1グループ制御信号DMT1を活性化する。この時、第2書込み禁止信号入力バッファ140は第2書込み禁止信号DM2が非活性状態であるので、第2グループ制御信号DMT2を非活性状態に出力する。
 また、第1グループ制御信号DMT1が活性化されることによって、第2出力制御部152は第2出力制御信号RDDM1を活性化する。第3出力制御部153は第2グループ制御信号DMT2が非活性状態であるので、第3出力制御信号RDDM2を非活性状態に出力する。第1DQバッファ161及び第1ドライバ162は第2出力制御信号RDDM1が活性化されることによって、データDQ0〜DQ7を出力する。
 しかし、図5に示すように、第2DQバッファ171及び第2ドライバ172は第3出力制御信号RDDM2が非活性状態であるので、ハイインピーダンス状態となり、データDQ8〜DQ15を出力しない。
 この後、コマンドデコーダ110が第2データ読出しし命令READを出力し、テスト装置によって非活性状態の第1書込み禁止信号DM1及び活性状態の第2書込み禁止信号DM2が入力される。
 第1データ読出し動作と同様に、第2書込み禁止信号DM2が活性化され、第2グループ制御信号DMT2及び第3出力制御信号RDDM2が活性化されて、第2DQバッファ171及び第2ドライバ172はデータDQ8〜DQ15を出力する。
 この時、第1DQバッファ161及び第1ドライバ162は第2出力制御信号RDDM1が非活性状態であるので、ハイインピーダンス状態となり、データDQ0〜DQ7を出力しない。
 図6は、図4に示された書込み禁止信号入力バッファ制御部の詳細なブロック回路図である。
 図6のように、書込み禁止信号入力バッファ制御部120は、制御信号発生部121及び論理回路122を含む。制御信号発生部121の構成及び具体的な動作は図2に示す制御信号発生部33と同一であるので、その詳細説明は省略する。
 論理回路122は、制御信号発生部121から出力される制御信号PBUFEN及びコマンドデコーダ110から出力されるMRS命令MRSを論理演算して制御信号PBPUBを出力する。論理回路122は望ましくNORゲートとするのがいい。
 ここで、論理回路122は、制御信号PBUFENが“ハイ”でも“ロー”でも良く、テストモードでMRS命令MRSが“ハイ”であるので、常に“ロー”の制御信号PBPUBを出力する。したがって、MRS命令MRSが入力されれば、第1及び第2書込み禁止信号入力バッファ130,140がターンオンされる。
 図7は、図4に示された第1及び第2書込み禁止信号入力バッファの詳細なブロック回路図である。
 図7に示すように、第1及び第2書込み禁止信号入力バッファ130,140は電圧比較回路131及び出力制御回路132を備える。
 電圧比較回路131は、制御信号PBPUBに応答して基準電圧VREFと第1電圧レベルを有する書込み禁止信号DM1またはDM2の電圧レベルとを比較して電位差による第2電圧レベルを有する制御信号DMT1またはDMT2をノードNODE1に出力する。電圧比較回路131は、望ましく差動増幅器でとするのがよい。電圧比較回路131は、第1及び第2PMOS負荷トランジスタP1,P2と、第1及び第2NMOS差動トランジスタN1,N2と、PMOSスイッチングトランジスタP3と、負荷Rとを備える。
 第1及び第2PMOS負荷トランジスタP1,P2は、電流ミラーを構成する。
 第1及び第2NMOS差動トランジスタN1,N2は、所定の基準電圧VREFと、第1電圧レベルを有する書込み禁止信号DM1またはDM2とを各々ゲート入力として受取って電圧レベルを比較してノードNODE1に第2電圧レベルを有する制御信号DMT1またはDMT2を出力する。
 基準電圧VREFは、別途の基準電圧発生回路(図示せず)から発生する信号であって、一定の電圧レベルを有するPMOSスイッチングトランジスタP3は、制御信号PBPUBに応答して差動増幅器の動作をオン/オフさせる。PMOSスイッチングトランジスタP3は、第1及び第2PMOS負荷トランジスタP1,P2のソースにドレインが連結され、内部電圧VDDにソースが連結され、制御信号PBPUBをゲート入力する。出力制御回路132は、電圧比較回路131がオフ状態である時、制御信号DMT1またはDMT2をグラウンドレベルで出力させる。
 出力制御回路132は、望ましくNMOSトランジスタN3とするのがよい。NMOSトランジスタN3は、ノードNODE1にドレインが連結され、グラウンドにソースが連結され、制御信号PBPUBがゲート入力される。ここで、第1書込み禁止信号入力バッファ130と前記第2書込み禁止信号入力バッファ140との差異は、電圧比較回路131に入力される書込み禁止信号と、ノードNODE1に出力される制御信号とが違うことである。
 より詳細に説明すれば、電圧比較回路131に入力される書込み禁止信号が第1書込み禁止信号入力バッファ130である場合には、第1書込み禁止信号DM1であり、第2書込み禁止信号入力バッファ140である場合には、第2書込み禁止信号DM2である。また、ノードNODE1に出力される信号が第1入力バッファ130である場合には、第1グループ制御信号DMT1であり、第2書込み禁止信号入力バッファ140である場合には、第2グループ制御信号DMT2である。
 このように構成された第1入力バッファ130の動作を以下説明する。
 書込み禁止信号入力バッファ制御部120(図4参照)から制御信号PBPUBが“ロー”に出力されれば、PMOSスイッチングトランジスタP3がターンオンされて電圧比較回路131がターンオンされる。電圧比較回路131は基準電圧VREFと第1電圧レベルを有する第1書込み禁止信号DM1の電圧レベルとを比較してノードNODE1に第2電圧レベルを有する第1グループ制御信号DMT1を出力する。
 この時、出力制御回路132は、制御信号PBPUBが“ロー”であるので、ターンオフされる。一方、制御信号PBPUBが“ハイ”であれば、電圧比較回路131がターンオフされ、出力制御回路132がターンオンされてノードNODE1はグラウンド電圧レベルに接近する。
 図8は、図4に示す第2及び第3出力制御部の詳細図である。
 図8のように、第2及び第3出力制御部152,153はNANDゲート51及びインバータ52,53を備える。NANDゲート51は書込み禁止信号入力バッファ130または140(図4参照)から出力される制御信号DMT1またはDMT2とMRS命令MRSとを論理演算し、インバータ52,53はNANDゲート51の出力信号を論理演算して制御信号RDDM1またはRDDM2を出力する。
 ここで、第2出力制御部152と前記第3出力制御部153との差異点は、NANDゲート51に入力される信号と、インバータ53から出力される信号とが違うということである。より詳細に説明すれば、NANDゲート51に入力される信号が、第2出力制御部152である場合には、第1グループ制御信号DMT1であり、第3出力制御部153である場合には、第2グループ制御信号DMT2である。
 また、インバータ53から出力される信号が、第2出力制御部152である場合には、第2出力制御信号RDDM1であり、第3出力制御部153である場合には、第3出力制御信号RDDM2である。
 図9は、図4に示す第1及び第2DQバッファと第1及び第2ドライバの詳細回路図である。
 図9で、第1及び第2DQバッファ161,171は第1論理回路60、第2論理回路70、第3論理回路80を備える。
 第1論理回路60は、制御信号RDDM1またはRDDM2と第1出力制御信号PTRSTとを外部クロック信号CLKDQと共に論理演算し、一対の内部制御信号TRSTB,TRSTを出力する。第1論理回路60はNANDゲート61、伝送ゲート62及びインバータ63,64,65を含む。NANDゲート61は制御信号RDDM1またはRDDM2と第1出力制御信号PTRSTとを論理演算する。
 伝送ゲート62のゲート各々には外部クロック信号CLKDQと外部クロックバー信号CLKDQBとがそれぞれ入力される。外部クロックバー信号CLKDQBは、外部クロック信号CLKDQがインバータ63を介して反転された信号である。伝送ゲート62は外部クロック信号CLKDQ及び外部クロックバー信号CLKDQBによってターンオンされる。
 インバータ64は、伝送ゲート62を介してNANDゲート61から受信される信号を反転させて第1内部制御信号TRSTを出力する。また、インバータ65は、第1内部制御信号TRSTを反転させて第2内部制御信号TRSTBを出力する。
 第2論理回路70は、データDOが外部クロック信号に同期するように、データDOを外部クロック信号CLKDQと論理演算して内部データDO1を出力する。
 第2論理回路70は、インバータ71,73,74及び伝送ゲート72を含む。インバータ71はデータDOを反転させる。
 伝送ゲート72のゲート各々には外部クロック信号CLKDQと外部クロックバー信号CLKDQBとがそれぞれ入力される。外部クロックバー信号CLKDQBは外部クロック信号CLKDQがインバータ63を介して反転された信号である。
 伝送ゲート72は、外部クロック信号CLKDQ及び外部クロックバー信号CLKDQBによってターンオンされる。
 インバータ73は、伝送ゲート72を介してインバータ71から出力される信号を反転させて内部データDO1を出力する。また、インバータ74は内部データDO1を反転させてインバータ73に入力させる。第3論理回路80は第1及び2内部制御信号TRST,TRSTB各々と内部データDO1とを論理演算して制御信号DOKN,DOKPを出力する。第3論理回路80はNORゲート81、NANDゲート83及びインバータ82,84を含む。
 NORゲート81は第2内部制御信号TRSTBと前記内部データDO1とを論理演算し、インバータ82はNORゲート81の出力信号を反転させて、制御信号DOKPを出力する。また、NANDゲート83は、第1内部制御信号TRSTと内部データDO1とを論理演算し、インバータ84はNANDゲート83の出力信号を反転させて、制御信号DOKNを出力する。
 ここで、第1DQバッファ161と前記第2DQバッファ171との差異点は、NANDゲート61とインバータ71とに入力される信号が違うということである。
 より詳細に説明すれば、NANDゲート61に入力される信号が、第1DQバッファ161である場合には、第1出力制御信号RDDM1であり、第2DQバッファ171である場合には、第2出力制御信号RDDM2である。
 また、インバータ71に入力される信号が、第1DQバッファ161である場合には、第1グループ内部データDO0DO7であり、第2DQバッファ171である場合には、第2グループ内部データDO8DO15である。第1及び第2ドライバ162,172は各々PMOSトランジスタ91及びNMOSトランジスタ92を含む。PMOSトランジスタ91は、制御信号DOKPをゲート入力し、内部電圧VDDにソースが連結され、出力ノードNOUTにドレインが連結される。
 NMOSトランジスタ92は、制御信号DOKNをゲート入力し、グラウンドにソースが連結され、出力ノードNOUTにドレインが連結される。制御信号DOKP,DOKNによってPMOSトランジスタ91及び前記NMOSトランジスタ92が各々制御され、出力ノードNOUTにデータDQが出力される。
 制御信号DOKP,DOKNによるデータDQの状態を表で示せば、次のようになる。
Figure 2004095156
 <表1>に示したように、制御信号DOKNが“ロー”であり、制御信号DOKPが“ハイ”である場合、出力ノードNOUTはハイインピーダンス状態となってデータDQは出力されない。
 ここで、第1と第2ドライバ162,172との差異点は、出力ノードNOUTに出力される信号が違うということである。
 出力ノードNOUTに出力される信号が、第1ドライバ162である場合には、第1グループデータDQ0〜DQ7であり、第2ドライバ172である場合には、第2グループデータDQ8〜DQ15である。
 図10は、本発明によるテスト効率を向上させるための内部回路を有するDDR SDRAMがテスト装置に連結される状態を示すブロック図である。
 図10に示すように、テスト装置200には多数の制御信号出力ピン210,220及び多数のデータ入出力ピン230が備えられる。
 DDR SDRAM300には多数の制御信号入力ピン310,320及び多数の入出力ピングループ330,340が備えられる。入出力ピングループ330,340各々は多数のデータ入出力ピン331,341を含む。テストのために、入出力ピングループ330のデータ入出力ピン331及び入出力ピングループ340のデータ入出力ピン341は相互に導線によって連結される。
 多数の制御信号出力ピン210には多数のDDR SDRAM300の制御信号入力ピン310が共通に連結され、制御信号出力ピン220には制御信号入力ピン320が共通に連結される。
 多数のデータ入出力ピン230には多数のDDR SDRAM300各々の一つのグループ330または340の該当するデータ入出力ピン331または341だけが1:1に各々連結される。
 前述したように、本発明によれば、データ入出力ピンの各グループ別にデータが出力されるので、DDR SDRAMの多数の入出力ピングループのうち、一つのグループのデータ入出力ピンだけがテスト装置の入出力ピンに連結される。したがって、テスト装置に連結されるDDR SDRAMのデータ入出力ピン数が減少するので、一つのテスト装置で同時にテストできるDDR SDRAMの数が増加する。
 図11は、本発明によるテスト効率を向上させるための内部回路を有するDDR SDRAMのテスト過程を示すフローチャートである。
 フローチャート(1000)は、次のような過程で実行される。多数の入出力ピンを、第1及び第2入出力ピングループを含む入出力ピングループに区分する(1001)。そして、第1入出力ピングループの各入出力ピンを残りの入出力ピングループの各入出力ピン及び導線によって1:1に電気的に連結する(1002)。
 この後、第1入出力ピングループに対応する第1データ出力部を介してデータを読出す(1003)。ここで、第1データ出力部グループからデータが出力される時、残りのグループのデータ出力部はハイインピーダンス状態となってデータが出力されない。
 また、第2入出力ピングループに対応する第2データ出力部を介してデータを読出す(1004)。ここでも、段階1003と同様に、残りのグループのデータ出力部はハイインピーダンス状態となる。
 ついで、追加入出力ピングループ、すなわち、追加のデータ出力部グループが存在しているか否かがチェックされる(1005)。追加入出力ピングループが存在する場合、当該入出力ピングループに対応するデータ出力部を介してデータを読出テストが行われて段階1005にリターンされる。
 また、追加のデータ出力部グループが存在しない場合には、テストを終了する。
 図12は、図11に示されたフローチャートのテスト過程をより詳細に示すフローチャートである。
 フローチャート(1100)は、次のような過程で実行される。
 テスト装置によってDDR SDRAMの制御信号入力ピン310にテストモードの進入のための制御信号CO,C1,...CXが入力される(1101)。コマンドデコーダ110はテストモード進入のためのMRS命令MRSを出力する(1102)。MRS命令MRSに応答して、入力バッファ制御部120から出力された制御信号PBPUBによって第1及び第2書込み禁止信号入力バッファ130,140がターンオンされる(1103)。
 ついで、テスト装置によってデータ読出しのための制御信号がコマンドデコーダ110に入力される(1104)。コマンドデコーダ110は第1データ読出しし命令READを出力する(1105)。テスト装置によって第1及び第2書込み禁止信号入力バッファ130,140に第1及び第2書込み禁止信号DM1,DM2が各々入力される(1106)。
 第1及び第2書込み禁止信号入力バッファ130,140は第1及び第2記入制御信号DM1,DM2に応答して、第1及び第2グループ制御信号DMT1,DMT2を出力する。第2出力制御部152は、第1グループ制御信号DMT1に応答して、第2出力制御信号RDDM1を出力し、第3出力制御部153は、第2グループ制御信号DMT2に応答して、第3出力制御信号RDDM2を出力する。
 第2及び第3出力制御信号RDDM1,RDDM2によって、データが出力されるデータ出力部グループを除外した残りのデータ出力部グループが、ハイインピーダンス状態となる(1107)。
 データが出力される当該データ出力部グループからデータが出力される(1108)。
 この後、追加のデータ読出しのための制御信号のコマンドデコーダ110への入力有無をチェックして入力される場合、段階1105にリターンして前記過程を反復して行う(1109)。
 追加データ読出しのための制御信号が入力されない場合、データ読出しテストを終了する。
 本発明は、図面に示された実施例を参考として説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施例が可能である。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決めなければならない。
 本発明のテスト効率を向上させるための内部回路を有する半導体メモリ装置及びそのテスト方法によれば、一つのテスト装置で同時にテストできる半導体メモリ装置の数を増加させてテスト時間を短縮させることができる。
従来のDDR SDRAMがテスト装備に連結される状態を示すブロック図である。 図1に示されたDDR SDRAMの内部回路を示すブロック図である。 図2に示されたDDR SDRAMの内部回路の主要入出力信号についてのタイミングチャートである。 本発明の実施例によるDDR SDRAMの内部回路を示すブロック図である。 図4に示された内部回路の典型的な動作を示すタイミングチャートである。 本発明の実施例による図4の回路についての典型的な書込み禁止信号入力バッファ制御部のブロック図である。 本発明の実施例による図4の回路についての典型的な第1及び第2書込み禁止信号入力バッファのブロック図である。 本発明の実施例による図4の回路についての典型的な第2及び第3出力制御部のブロック図である。 本発明の実施例による図4の回路についての典型的な第1及び第2DQバッファ及び典型的な第1及び第2ドライバのブロック図である。 本発明の実施例によるDDR SDRAM及びテスティング装置の連結を示すブロック図である。 本発明の実施例によるDDR SDRAMについての典型的なテスト動作を示すフローチャートである。 本発明の追加の実施例によるDDR SDRAMについての典型的なテスト動作を示すフローチャートである。
符号の説明
    31  内部回路決定部
    37,38  第1、第2書込み制御部
   100  内部回路
   101  データ出力制御回路
   110  コマンドデコーダ
   120  書込み禁止信号入力バッファ制御部
   130,140  第1、第2書込み禁止信号入力バッファ
   150  データ出力選択回路
   151,152,153  第1、第2、第3出力制御部
   160,170  第1、第2データ出力装置
   161,171  第1、第2DQバッファ
   162,172  第1、第2ドライバ
   163,173  第1セット、第2セットのデータ出力回路
   165,175  内部データライン
   310,320  制御信号入力ピン
   330,340  第1、第2入出力ピングループ
   331,341  第1、第2データ入出力ピン

Claims (14)

  1.  各々の内部データラインからデータを受信する回路と各々のデータ入出力ピンに連結される回路である複数のデータ出力回路と、
     外部印加制御信号に応答して、各々に対応するデータ入出力ピンを駆動する複数のデータ出力回路のサブセットを選択的にイネーブルするデータ出力制御回路と、
    を備えることを特徴とするメモリ装置。
  2.  前記データ出力制御回路は、
    選択的に複数のデータ出力回路のサブセットが各々対応するデータ入出力ピンにハイインピーダンスを提供することを特徴とする請求項1に記載のメモリ装置。
  3.  データ出力制御回路は、
     第1外部印加制御信号に応答してテストモードコマンド信号及び読出し命令を発生させるコマンドデコーダと、
     前記コマンドデコーダに連結され、前記テストモードコマンド信号、前記読出し命令、及び第2外部印加制御信号に応答して前記複数のデータ出力回路のサブセットを選択的にイネーブルするデータ出力選択回路と、
    を備えることを特徴とする請求項1に記載のメモリ装置。
  4.  前記データ出力選択回路は、
     複数のグループ制御信号を受信し、前記グループ制御信号のうちの一つに各々応答して出力制御信号を各々発生するデータ出力制御回路と、
     複数の外部印加書込み禁止信号のうちの一つを各々受信し、グループ制御信号のうちの一つを各々発生する複数の書込み禁止信号入力バッファ回路と、を備え、
     前記複数のデータ出力回路のサブセットの各々は、前記出力制御信号のうちの一つを各々受信し、前記出力制御信号に応答してイネーブルされ、ディセーブルされることを特徴とする請求項3に記載のメモリ装置。
  5.  前記データ出力制御回路は、
     前記コマンドデコーダによって発生する読出し命令に応答して、前記複数のデータ出力回路の全体にイネーブル信号を印加する第1出力制御回路と、
     第1グループ制御信号を受信し、前記複数のデータ出力回路の第1サブセットのための第1グループイネーブル信号を発生する第2出力制御回路と、
     第2グループ制御信号を受信し、前記複数のデータ出力回路の第2サブセットのための第2グループイネーブル信号を発生する第3出力制御回路と、
    を備えることを特徴とする請求項4に記載のメモリ装置。
  6.  前記データ出力制御回路は、
     前記コマンドデコーダによって発生するテストモードコマンド信号に応答して、前記複数の書込み禁止信号入力バッファ回路をイネーブルする書込み禁止信号入力バッファ制御回路をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載のメモリ装置。
  7.  前記書込み禁止信号入力バッファ制御回路は、
     前記コマンドデコーダからのデータ書込み命令に応答して、書込み禁止信号入力バッファ制御信号を出力する制御信号発生回路と、
     前記書込み禁止信号入力バッファ制御信号及び前記テストモードコマンド信号を論理的に結合し、前記複数の書込み禁止信号入力バッファ回路に書込み禁止信号入力バッファ制御信号を各々印加する論理回路と、
    をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載のメモリ装置。
  8.  前記複数の書込み禁止信号入力バッファ回路の書込み禁止信号入力バッファ回路は、
     第1状態の第1書込み禁止信号入力バッファ制御信号に応答して、書込み禁止信号を基準電圧と比較し、第1グループ制御信号を出力する電圧比較回路と、
     第2状態の前記第1書込み禁止信号入力バッファ制御信号に応答して、前記第1グループ制御信号をグラウンド電圧の信号とする出力制御回路と、
    を備えることを特徴とする請求項7に記載のメモリ装置。
  9. 前記複数のデータ出力回路のデータ出力回路は、
     内部データラインからデータを受信し、前記データ出力制御回路から出力制御信号を受信し、それに応答して外部クロック信号に同期する同期データ信号を発生するDQバッファ回路と、
     前記同期データ信号に応答して入出力ピンを駆動するドライバ回路と、
    を備えることを特徴とする請求項4に記載のメモリ装置。
  10.  ダブルデータレート同期式ランダムアクセスメモリとして動作される請求項1に記載のメモリ装置。
  11.  各々の内部データラインから各々データを受信する回路とメモリ装置の各々のデータ入出力ピンに各々連結される回路である複数のデータ出力回路とを備えるメモリ装置のテスト方法において、
     各々対応するデータ入出力ピンにロードを駆動する前記複数のデータ出力回路のサブセットを選択的にイネーブルするように前記メモリ装置に制御信号を印加する段階を含むことを特徴とするメモリ装置のテスト方法。
  12.  前記複数のデータ出力回路の第1及び第2サブセット各々の第1及び第2データ出力回路に連結される入出力ピンを外部データラインに共通に連結する段階と、
     前記制御信号に応答して前記第1及び第2データ出力回路を択一的にイネーブルし、前記メモリ装置の第1及び第2の他の内部データラインからのデータを有するように前記外部データラインを駆動する段階と、
    をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載のメモリ装置のテスト方法。
  13.  前記第1データ出力回路は、
    前記第2データ出力回路がイネーブルされる時、前記外部データラインにハイインピーダンスを提供することを特徴とする請求項12に記載のメモリ装置のテスト方法。
  14.  前記メモリ装置の第1及び第2の他の内部データラインからのデータを有するように前記外部データラインを駆動するために、前記制御信号に応答して前記第1及び第2データ出力回路を択一的にイネーブルする段階は、
     前記メモリ装置のコマンドデコーダからテストモードコマンド信号を発生する段階と、
     前記テストモードコマンド信号に応答して前記メモリ装置の複数の書込み禁止信号入力バッファ回路をイネーブルする段階と、
     前記コマンドデコーダから第1読出し命令を発生させる段階と、
     前記複数の書込み禁止信号入力バッファ回路のうち第1書込み禁止信号入力バッファ回路の入力から第1書込み禁止信号を遷移する段階と、
     前記第1読出し命令及び前記第1書込み禁止信号の遷移に応答して、前記複数のデータ出力回路の第1サブセットをイネーブルし、第1セットの内部データラインからのデータを有するように外部データラインのセットを駆動する段階と、
     前記コマンドデコーダから第2読出し命令を発生させる段階と、
     前記複数の書込み禁止信号入力バッファ回路のうち第2書込み禁止信号入力バッファ回路の入力から第2書込み禁止信号を遷移する段階と、
     前記第2読出し命令及び前記第2書込み禁止信号の遷移に応答して、前記複数のデータ出力回路の第2サブセットをイネーブルし、第2セットの内部データラインからのデータを有するように前記外部データラインのセットを駆動する段階と、
    を含むことを特徴とする請求項12に記載のメモリ装置のテスト方法。
JP2003303322A 2002-08-29 2003-08-27 テストモードのために選択的にイネーブルされる出力回路を有するメモリ装置及びそのテスト方法 Expired - Fee Related JP4870325B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2002-051532 2002-08-29
KR10-2002-0051532A KR100450682B1 (ko) 2002-08-29 2002-08-29 테스트 효율을 향상시키기 위한 내부회로를 가지는 반도체메모리 장치 및 그 테스트 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004095156A true JP2004095156A (ja) 2004-03-25
JP4870325B2 JP4870325B2 (ja) 2012-02-08

Family

ID=31973570

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003303322A Expired - Fee Related JP4870325B2 (ja) 2002-08-29 2003-08-27 テストモードのために選択的にイネーブルされる出力回路を有するメモリ装置及びそのテスト方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7168017B2 (ja)
JP (1) JP4870325B2 (ja)
KR (1) KR100450682B1 (ja)
TW (1) TWI226068B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007272577A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Nec Corp バッファ回路、および、バッファ制御方法
US7549092B2 (en) 2005-09-29 2009-06-16 Hynix Semiconductor, Inc. Output controller with test unit

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200512758A (en) * 2003-09-18 2005-04-01 Nanya Technology Corp Test driving method of semiconductor memory device
JP3901151B2 (ja) * 2003-12-25 2007-04-04 セイコーエプソン株式会社 ドライバic並びにドライバic及び出力装置の検査方法
DE102004014243A1 (de) * 2004-03-24 2005-07-28 Infineon Technologies Ag Integrierter Baustein mit einer Ausgangsschaltung, Testsystem zum Testen eines solchen integrierten Bausteins und ein Testverfahren
US20050240783A1 (en) * 2004-04-21 2005-10-27 Riospring, Inc. Monitoring a voltage level of a power supply for a disk drive
KR100716733B1 (ko) * 2005-05-30 2007-05-14 삼성전자주식회사 반도체 장치 및 그 테스트 방법
JP2007066026A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Renesas Technology Corp 半導体装置とその試験方法及び製造方法
JP5125028B2 (ja) * 2006-08-18 2013-01-23 富士通セミコンダクター株式会社 集積回路
US7725791B2 (en) * 2006-10-20 2010-05-25 Texas Instruments Incorporated Single lead alternating TDI/TMS DDR JTAG input
KR100907930B1 (ko) * 2007-07-03 2009-07-16 주식회사 하이닉스반도체 테스트 시간을 줄일 수 있는 반도체 메모리 장치
KR100911186B1 (ko) * 2008-02-14 2009-08-06 주식회사 하이닉스반도체 반도체 장치 및 그 장치의 데이터 출력 방법
TWI401690B (zh) * 2008-12-24 2013-07-11 Phison Electronics Corp 快閃儲存裝置及其測試方法與測試系統
US8429470B2 (en) 2010-03-10 2013-04-23 Micron Technology, Inc. Memory devices, testing systems and methods
JP5235202B2 (ja) * 2010-04-19 2013-07-10 株式会社アドバンテスト 試験装置および試験方法
US8612812B2 (en) * 2010-12-30 2013-12-17 Hynix Semiconductor Inc. Semiconductor memory device, test circuit, and test operation method thereof
US8522089B2 (en) * 2011-01-21 2013-08-27 Freescale Semiconductor, Inc. Method of testing asynchronous modules in semiconductor device
JP2015008029A (ja) 2013-06-26 2015-01-15 マイクロン テクノロジー, インク. 半導体装置
KR102542584B1 (ko) * 2016-03-11 2023-06-14 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리의 입력 장치 및 이를 포함하는 반도체 메모리 장치
CN116844624B (zh) * 2022-03-25 2024-06-07 长鑫存储技术有限公司 一种控制方法、半导体存储器和电子设备
CN115598495B (zh) * 2022-09-16 2024-01-30 深圳市奇普乐芯片技术有限公司 芯片测试配置生成方法、测试方法、装置及电子设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0729378A (ja) * 1993-07-09 1995-01-31 Sony Corp メモリおよびその制御回路
JPH08235898A (ja) * 1995-02-28 1996-09-13 Nec Corp 半導体装置
JPH10106290A (ja) * 1996-10-02 1998-04-24 Toshiba Corp 半導体装置、半導体装置の検査方法及び半導体装置の検査装置
JP2000231799A (ja) * 1999-02-10 2000-08-22 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4495603A (en) * 1980-07-31 1985-01-22 Varshney Ramesh C Test system for segmented memory
DE59101394D1 (de) * 1990-05-10 1994-05-19 Siemens Ag Integrierter halbleiterspeicher mit paralleltestmöglichkeit und redundanzverfahren.
US5864565A (en) * 1993-06-15 1999-01-26 Micron Technology, Inc. Semiconductor integrated circuit having compression circuitry for compressing test data, and the test system and method for utilizing the semiconductor integrated circuit
JPH08227597A (ja) * 1995-02-21 1996-09-03 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JPH08235852A (ja) * 1995-02-28 1996-09-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
TW334566B (en) * 1996-02-26 1998-06-21 Sanyo Electric Co Non-volatile semiconductor memory device
US5910923A (en) * 1997-10-23 1999-06-08 Texas Instruments Incorporated Memory access circuits for test time reduction
JP2002311091A (ja) * 2001-04-10 2002-10-23 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2002324393A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2002358800A (ja) * 2001-05-28 2002-12-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0729378A (ja) * 1993-07-09 1995-01-31 Sony Corp メモリおよびその制御回路
JPH08235898A (ja) * 1995-02-28 1996-09-13 Nec Corp 半導体装置
JPH10106290A (ja) * 1996-10-02 1998-04-24 Toshiba Corp 半導体装置、半導体装置の検査方法及び半導体装置の検査装置
JP2000231799A (ja) * 1999-02-10 2000-08-22 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7549092B2 (en) 2005-09-29 2009-06-16 Hynix Semiconductor, Inc. Output controller with test unit
JP2007272577A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Nec Corp バッファ回路、および、バッファ制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4870325B2 (ja) 2012-02-08
US20040042312A1 (en) 2004-03-04
US7168017B2 (en) 2007-01-23
KR20040020087A (ko) 2004-03-09
TW200409134A (en) 2004-06-01
KR100450682B1 (ko) 2004-10-01
TWI226068B (en) 2005-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4870325B2 (ja) テストモードのために選択的にイネーブルされる出力回路を有するメモリ装置及びそのテスト方法
US6470467B2 (en) Synchronous semiconductor memory device capable of performing operation test at high speed while reducing burden on tester
US7441156B2 (en) Semiconductor memory device having advanced test mode
US7017090B2 (en) Semiconductor module including semiconductor memory device shiftable to test mode as well as semiconductor memory device used therein
JP2002042498A (ja) 半導体記憶装置、補助装置および試験装置
US8024627B2 (en) Semiconductor memory device, operating method thereof, and compression test method thereof
JP2011112411A (ja) 半導体装置
JP3736714B2 (ja) 半導体メモリのウエハバーンインテスト回路
US20030116763A1 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP4656747B2 (ja) 半導体装置
US5654924A (en) Semiconductor memory device capable of operating with potentials of adjacent bit lines inverted during multi-bit test
JP2002230999A (ja) 半導体集積回路装置とテスト方法及び半導体集積回路装置の製造方法
JP2002230998A (ja) 半導体記憶装置
JP2004046927A (ja) 半導体記憶装置
US20040141380A1 (en) Synchronous output buffer, synchronous memory device and method of testing access time
JP2010091524A (ja) 半導体装置とテスト方法
JP2001035194A (ja) 半導体記憶装置
JP2012038377A (ja) 半導体装置及びその試験方法
KR20000061559A (ko) 리프레시 테스트를 위한 반도체 집적회로
JP2003059294A (ja) 半導体記憶装置
JPH07240100A (ja) 半導体メモリ装置の信頼性試験のためのテスト回路
JP2010003388A (ja) 半導体記憶装置およびそのテスト方法
US20050276131A1 (en) Semiconductor memory device and burn-in test method therefor
KR100498414B1 (ko) 반도체메모리장치를위한테스트보드및테스트방법
JP2000251496A (ja) 半導体集積回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060803

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090602

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090623

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090924

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100601

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100927

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20101008

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110315

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110615

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110705

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111004

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111025

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111117

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141125

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees