JP2003337410A - 光重合性組成物、光重合性画像形成材及びそれを用いた画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 酸素による重合阻害を抑止し、高感度で、解
像性に優れ、且つ、セーフライト性に優れ、基板に対す
る密着性、安定性に優れた光重合性組成物を提供する。 【解決手段】 下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）
成分、（Ｄ）成分並びに（Ｅ）成分を含有してなること
を特徴とする光重合性組成物。 （Ａ）エチレン性不飽和化合物 （Ｂ）７５０〜１２００ｎｍに吸収極大を有する赤外吸
収性のフタロシアニン色素 （Ｃ）光重合開始剤 （Ｄ）カチオン性色素 （Ｅ）可視光に非増感性の可視光吸収色素

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、酸素による重合阻
害の影響が抑制された光重合性組成物、並びに、光重合
性画像形成材及びそれを用いた画像形成方法に関し、プ
リント配線板、液晶表示素子、プラズマディスプレイ、
カラーフィルター、有機エレクトロルミネッセンス、薄
型トランジスタ等における導体回路や電極基板の形成に
有用であり、特に、半導体レーザー等を用いた近赤外レ
ーザー光による直接描画に好適な光重合性組成物、並び
に、光重合性画像形成材及びそれを用いた画像形成方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、例えば、プリント配線板等に
おける導体回路の形成は、感光性組成物からなるレジス
ト材として、液状レジスト材又はドライフィルムレジス
ト材が用いられ、銅張積層板の該銅張面等の基板上に、
液状レジスト材を塗布し乾燥させるか、或いは、支持フ
ィルムと被覆フィルムでサンドイッチしたドライフィル
ムレジスト材の被覆フィルムを剥離してラミネートする
かして形成された感光性レジスト材層を有する銅張積層
板を、回路パターンが描かれたマスクフィルムを通して
露光した後、マスクフィルムを剥離し、現像処理するこ
とによって回路パターンに対応したレジスト画像を形成
し、次いで、エッチング処理等してレジスト材に覆われ
ていない銅張部を除去した後、レジスト材を除去するこ
とにより、マスクフィルムに描かれた回路パターンを基
板上に形成するという方法が採られている。

【０００３】前述のレジスト材の中で、ドライフィルム
レジスト材は基板上への層形成が容易である反面、支持
フィルムを介して画像露光されること、及びレジスト材
層の膜厚が２０〜７０μｍと厚いこと等から高解像度が
得られ難いという欠点を有しているのに対して、液状レ
ジスト材は高解像度が得られるものとして注目されてい
る。しかしながら、液状レジスト材の場合、レジスト材
層を構成する感光性組成物が光重合性組成物であると、
レジスト材層の膜厚を薄くしたとき、酸素による重合阻
害を顕著に受け感度が数十〜数百分の１に低下するとい
う欠点があり、その感度の低下を防止すべく、露光雰囲
気を窒素ガス或いはアルゴンガス等の不活性ガスに置換
する方法、及び、レジスト材層上に酸素遮断層を設ける
方法等が知られているものの、いずれの方法も、装置或
いは工程数の増加等、経済上及び作業上の不利さを免れ
得ないものであった。

【０００４】一方、近年の電子機器における機能向上や
軽薄短小化の流れ等から、回路の高密度化が求められ、
それに伴うレジスト材の解像度の向上が求められている
ことに対して、レーザー光を用いることにより、マスク
フィルムを用いずに、コンピューターのデジタル情報に
基づいて直接描画する方法が、高解像度の回路の形成が
可能な方法として注目されている。しかしながら、レー
ザー光による露光においては、レジスト材としての感光
性組成物の感度、解像度が未だ満足できるには到っては
いないのが現状である。

【０００５】これに対して、特開２０００−１２２２７
３には、エチレン性不飽和化合物、フタロシアニン色素
などの赤外吸収色素、重合開始剤、及び可視光の照射に
よって重合開始剤を増感しない可視光吸収色素を含有す
る感光性組成物を用いることにより、白色灯下のような
明るい環境下においても作業可能で、赤外光に対して高
い感度を有することが開示されている。しかし、本発明
者の検討によれば、上述した従来法であっても依然とし
て導体回路となる銅表面上において光重合性組成物が不
安定であり、経時により重合反応が進行し、現像性が低
下する問題点があることを把握した。特に高活性な光重
合性組成物においてその傾向が顕著であり、安定的に画
像形成を行うのが困難であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の従来
技術に鑑みてなされたものであって、従って、本発明
は、酸素による重合阻害の影響が抑制され高感度である
と共に、解像性に優れ、且つ、セーフライト性にも優れ
ており明室での取扱が可能であり、特に、導体金属表面
上において高い安定性を有するといった全ての特性を同
時に満たす光重合性組成物、並びに、光重合性画像形成
材及びそれを用いた画像形成方法を提供することを目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、（Ａ）エチレン性不飽和
化合物、赤外吸収性のフタロシアニン増感色素（Ｂ）、
光重合開始剤（Ｃ）及び非増感性の可視光吸収色素
（Ｅ）を含有する赤外感光性の光重合性組成物におい
て、更にカチオン性色素（Ｄ）を組み合わせることによ
り前記目的が達成できることを見い出し本発明を完成し
たもので、従って、本発明は、下記の（Ａ）成分、
（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分並びに（Ｅ）成分
を各々別々の成分として含有してなる光重合性組成物、
並びに、基板上に該光重合性組成物の層が形成されてな
る光重合性画像形成材、及び、該光重合性画像形成材の
光重合性組成物層を７５０〜１２００ｎｍの波長域の近
赤外レーザー光により走査露光した後、アルカリ現像液
で現像処理する画像形成方法、を要旨とする。

【０００８】（Ａ）エチレン性不飽和化合物 （Ｂ）７５０ｎｍ以上１２００ｎｍ以下に吸収極大を有
する赤外吸収性のフタロシアニン色素 （Ｃ）光重合開始剤 （Ｄ）カチオン性色素 （Ｅ）可視光に非増感性の可視光吸収色素

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の光重合性組成物を構成す
る（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物は、光重合性組
成物が活性光線の照射を受けたときに、後述する（Ｂ）
成分及び（Ｃ）成分の光重合開始系の作用により高分子
量化し、更に架橋、硬化するような、ラジカル重合性の
エチレン性不飽和二重結合を分子内に少なくとも１個有
する化合物である。

【００１０】本発明における（Ａ）エチレン性不飽和化
合物は、エチレン性不飽和基を少なくとも分子内に二個
以上有する化合物であり、好ましくはエチレン性不飽和
基が（メタ）アクリル基の化合物である。なお、ここで
（メタ）アクリル基はメタクリル基又はアクリル基を示
す。

【００１１】分子内に二個以上の（メタ）アクリル基を
有する化合物としては通称アクリルモノマーと呼ばれる
低分子化合物、ノボラックエポキシアクリレートのよう
なオリゴマー、樹脂側鎖にアクリル基を有するポリマー
等、低分子から高分子のものを好ましく用いることが出
来る。中でも低分子のアクリルモノマーとオリゴマー又
はポリマーを組み合わせて用いるのが好ましい。好まし
いアクリルモノマー、オリゴマー、ポリマーを以下に具
体的に例示する。

【００１２】好ましいアクリルモノマーとしては、エチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、ヘキサメチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ノナメチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アク
リレート、テトラメチロールエタントリ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド付加ト
リ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロ
ピレンオキサイド付加トリ（メタ）アクリレート、グリ
セロールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ
（メタ）アクリレート、グリセロールプロピレンオキサ
イド付加トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ソル
ビトールペンタ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘ
キサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。以上挙げた
アクリルモノマーの中では分子内に三個以上の（メタ）
アクリル基を有する化合物が特に好ましいものである。

【００１３】好ましいアクリルオリゴマーとしてはエポ
キシアクリレート樹脂を挙げることができる。中でもア
ルカリ可溶性となる酸性基、具体的にはカルボキシル基
を有するエポキシアクリレート樹脂が好ましいものであ
る。具体的には、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、ビス
フェノールＦエポキシ樹脂、ビスフェノールＳエポキシ
樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾール
ノボラックエポキシ樹脂、トリスフェノールエポキシ樹
脂等に（メタ）アクリル酸を反応させ、さらに、マレイ
ン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、
メチルテトラヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒ
ドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタ
ル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタ
ル酸等の多塩基酸またはその誘導体である多塩基酸無水
物で変性した樹脂である。以上挙げたエポキシアクリレ
ート樹脂の中でも、特に、アルカリ可溶性のノボラック
エポキシアクリレート樹脂が好ましいものである。

【００１４】エポキシアクリレート樹脂としては、酸価
が２０〜２００ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであるのが好ましく、
３０〜１８０ｍｇ・ＫＯＨ／ｇであるのが特に好まし
い。又、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによ
る重量平均分子量が２，０００〜１００，０００である
のが好ましく、３，０００〜８０，０００であるのが特
に好ましい。

【００１５】好ましい樹脂側鎖に（メタ）アクリル基を
有するポリマーとしては、カルボキシル基を有するビニ
ル樹脂のカルボキシル基の一部にグリシジル（メタ）ア
クリレートや３，４−エポキシシクロヘキシルメチル
（メタ）アクリレートのようなエポキシ基と（メタ）ア
クリル基を有する化合物を反応させたポリマーを挙げる
ことができる。

【００１６】なお、カルボキシル基を有するビニル樹脂
としては、（メタ）アクリル酸や無水マレイン酸、クロ
トン酸等のカルボキシル基を有するビニルモノマーとス
チレン、α−メチルスチレン、ビニルフェノール、（メ
タ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エ
チルエステル、（メタ）アクリル酸プロピルエステル、
（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル
酸ペンチルエステル、（メタ）アクリル酸ヘキシルエス
テル、（メタ）アクリル酸ドデシルエステル、（メタ）
アクリル酸ベンジルエステル、（メタ）アクリル酸２−
エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキ
シメチルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチ
ルエステル、アクリロニトリル等を挙げることができ
る。

【００１７】以上説明した好ましい側鎖に（メタ）アク
リル基を有するポリマーは酸価が３０〜２５０ｍｇ・Ｋ
ＯＨ／ｇであるのが好ましく、５０〜２００ｍｇ・ＫＯ
Ｈ／ｇであるのが特に好ましい。又、ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィーによる重量平均分子量が５，０
００〜２００，０００であるのが好ましく、３，０００
〜１００，０００であるのが特に好ましい。

【００１８】前述したように本発明では（Ａ）エチレン
性不飽和化合物としてアクリルモノマーとアクリルオリ
ゴマー又はアクリルポリマーを併用して用いるのが好ま
しいが、その好ましい配合比率はアクリルモノマー５〜
５０重量％に対して、アクリルオリゴマー又はポリマー
を９５〜５０重量％の範囲である。特にアクリルモノマ
ー１０〜３０重量％に対してアクリルオリゴマー又はポ
リマーを９０〜３０重量％の範囲にすると良い。

【００１９】又、本発明の光重合性組成物を構成する
（Ｂ）成分の７５０〜１２００ｎｍに吸収極大を有する
赤外吸収性のフタロシアニン化合物は、増感色素として
機能し光重合性組成物が活性光線の照射を受けたとき
に、その光を効率よく吸収し、その光励起エネルギーを
後述する（Ｃ）成分の光重合開始剤に伝え、該（Ｃ）成
分を分解し、前記（Ａ）成分のエチレン性不飽和化合物
の高分子量化を誘起する活性ラジカルを発生させる増感
機能を有する化合物である。７５０〜１２００ｎｍの範
囲に吸収極大フタロシアニン系色素（Ｂ）としては、下
記一般式(I) で表される構造のフタロシアニン錯体のフ
タロシアニン系色素が好ましい。

【００２０】

【化１】

【００２１】〔式(I) 中、Ｍはフタロシアニン錯体を形
成する中心金属を示し、ベンゼン環は置換基を有してい
てもよく、該置換基が互いに連結して縮合環を形成して
いてもよく、その場合、該縮合環は更に置換基を有して
いてもよい。〕

【００２２】ここで、式(I)におけるＭとしては、例え
ば、周期律表のIa族、Ib族、IIa 族、IIb 族、IIIa族、
IIIb族、IVa 族、IVb 族、Va族、Vb族、VIb 族、VIIb
族、VIII族等の種々の金属原子が挙げられ、又、ベンゼ
ン環及び縮合環の置換基としては、例えば、更に置換基
を有していてもよい炭素数１〜１０程度のアルキル基、
同じく炭素数１〜１５程度のアルコキシ基、同じくカル
ボキシル基、同じくビニル基、同じくアクリロイル基、
同じくフェニル基、同じくフェノキシ基、同じくアルキ
ルチオ基、同じくフェニルチオ基、同じくアミノ基、同
じくシリル基、及び、ヒドロキシル基、ニトロ基、シア
ノ基、ハロゲン原子等が挙げられ、複数の置換基を有す
る場合は同一でも異なっていてもよい。

【００２３】このようなフタロシアニン系色素として
は、例えば、特開昭６４−６０６６０号公報、特開平１
−１００１７１号公報、特開平３−３１２４７号公報、
特開平４−１５２６３号公報、特開平４−１５２６４号
公報、特開平４−１５２６５号公報、特開平４−１５２
６６号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開平２−
１３８３８２号公報に記載のアルキルフタロシアニン化
合物、特開平３−７７８４０号公報、特開平３−１００
０６６号公報に記載のアシロキシフタロシアニン化合
物、特開平４−３４８１６８号公報に記載のアルコキシ
フタロシアニン化合物、特開昭６０−２３４５１号公
報、特開昭６１−２１５６６２号公報、特開昭６１−２
１５６６３号公報、特開昭６３−２７０７６５号公報、
特開平１−２８７１７５号公報、特開平２−４３２６９
号公報、特開平２−２９６８８５号公報、特開平３−４
３４６１号公報、特開平３−２６５６６４号公報、特開
平３−２６５６６５号公報に記載のナフタロシアニン化
合物、特開平１−１０８２６４号公報、特開平１−１０
８２６５号公報に記載のジナフタロシアニン化合物等が
挙げられる。

【００２４】以上の中で、本発明においては、前記一般
式(I) で表されるＭが銅等のIb族、亜鉛等のIIb 族、ア
ルミニウム等のIIIb族、錫等のIVb 族、バナジウム等の
Va族の金属原子を中心金属とする錯塩であって、４個の
ベンゼン環、又は４個の縮合環としてのナフタレン環の
各々に同一の置換基を有するものが好ましく、それらの
好ましいフタロシアニン系色素を、吸収極大（λｍａｘ
）及び吸収極大（λ _max ）におけるモル吸光係数
（ε）と共に、以下に具体的に例示する。尚、以下の例
示において、Ｍｅはメチル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐ
ｈはフェニル基をそれぞれ示す。

【００２５】

【化２】

【００２６】

【化３】

【００２７】

【化４】

【００２８】

【化５】

【００２９】

【化６】

【００３０】

【化７】

【００３１】

【化８】

【００３２】

【化９】

【００３３】

【化１０】

【００３４】

【化１１】

【００３５】

【化１２】

【００３６】又、本発明の光重合性組成物を構成する
（Ｃ）成分の光重合開始剤は、前記（Ｂ）成分の増感色
素の存在下で光照射されたときに、前記（Ａ）成分のエ
チレン性不飽和化合物の高分子量化を誘起する活性ラジ
カルを発生するラジカル発生剤であって、例えば、ハロ
ゲン化炭化水素誘導体類、ヘキサアリールビイミダゾー
ル化合物類、チタノセン化合物類、有機硼素錯体類、カ
ルボニル化合物類、及び有機過酸化物類等が挙げられ
る。

【００３７】そのハロゲン化炭化水素誘導体類として
は、例えば、特開昭５３−１３３４２８号公報、英国特
許１３８８４９２号明細書、若林等;Bull.Chem.Soc.Jap
an;42,2924(1969)、F.C.Schaefer等;J.Org.Chem.;29,15
27(1964)等に記載されるｓ−トリアジン化合物、具体的
には、例えば、２，４，６−トリス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ｎ−プロピル
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロ
エチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’
−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−
ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メチルスチ
リル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メ
トキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロロメチル
−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチ
リル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロ
ロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフ
チル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（４−エトキシナフチル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔４−
（２−エトキシエチル）ナフチル〕−４，６−ビス（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジ
メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−アセナフチル−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニ
ルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４−メチル
−６−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２，４，６
−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−
メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−
トリブロモメチル−ｓ−トリアジン等が挙げられ、中
で、ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン化合物
が好ましい。

【００３８】又、そのヘキサアリールビイミダゾール化
合物類としては、例えば、特公平６−２９２８５号公報
等に記載される化合物、具体的には、例えば、２，２’
−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−
テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−
クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−
クロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフ
ェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジ
クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニ
ルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジ
クロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ
−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェ
ニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロ
ロフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブ
ロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ヨ
ードフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−
ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ−
クロロ−ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス
（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ
フェニルビイミダゾール等が挙げられる。

【００３９】又、そのチタノセン化合物類としては、例
えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５
１１９７号、特開昭６３−４１４８４号、特開平２−２
４９号、特開平２−４７０５号、特開平５−８３５８８
号各公報等に記載される化合物、具体的には、例えば、
ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロライド、ジシ
クロペンタジエニルチタニウムビスフェニル、ジシクロ
ペンタジエニルチタニウムビス（２，４−ジフルオロフ
ェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス
（２，６−ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエ
ニルチタニウムビス（２，４，６−トリフルオロフェニ
ル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，
３，５，６−テトラフルオロフェニル）、ジシクロペン
タジエニルチタニウムビス（２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニ
ル）チタニウムビス（２，６−ジフルオロフェニル）、
ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス
（２，４，６−トリフルオロフェニル）、ジ（メチルシ
クロペンタジエニル）チタニウムビス（２，３，５，６
−テトラフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタ
ジエニル）チタニウムビス（２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニ
ウムビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１−ピロリル）
フェニル〕等が挙げられる。

【００４０】又、その有機硼素錯体類としては、例え
ば、特開平８−２１７８１３号、特開平９−１０６２４
２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８８６
８６号、特開平９−１８８７１０号各公報、及び、Kun
z,Martin “Rad Tech'98.Proceeding April 19-22,199
8,Chicago ”等に記載の有機硼素アンモニウム錯体、特
開平６−１５７６２３２号、特開平６−１７５５６１
号、特開平６−１７５５６４号各公報等に記載の有機硼
素スルホニウム錯体或いは有機硼素オキソスルホニウム
錯体、特開平６−１７５５５３号、特開平６−１７５５
５４号各公報等に記載の有機硼素ヨードニウム錯体、特
開平９−１８８７１０号公報等に記載の有機硼素ホスホ
ニウム錯体、特開平６−３４８０１１号、特開平７−１
２８７８５号、特開平７−１４０５８９号、特開平７−
２９２０１４号、特開平７−３０６５２７号各公報等に
記載の有機硼素遷移金属配位錯体等が挙げられる。

【００４１】又、そのカルボニル化合物類としては、具
体的には、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾ
フェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベン
ゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−クロ
ロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、ミヒラ
ーケトン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジエトキ
シアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル
アセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニ
ル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ
−イソプロピルフェニル）ケトン、１−トリクロロメチ
ル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン、α−ヒドロキシ−
２−メチルフェニルプロパノン、２−メチル−（４’−
（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロ
パノン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２
−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサン
トン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエ
チルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサ
ントン、２−クロロチオキサントン等のチオキサントン
誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエ
チルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体
等が挙げられる。

【００４２】又、その有機過酸化物類としては、具体的
には、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ア
セチルアセトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパー
オキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、
３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド等のケトンパーオキサイド、３，５，５−トリメチル
ヘキサノイルパーオキサイド、スクシニックアシッドパ
ーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジ
クロロベンゾイルパーオキサイド、ｍ−トルオイルパー
オキサイド等のジアシルパーオキサイド、ｔ−ブチルハ
イドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイ
ド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、
ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチ
ルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，
１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイ
ド等のハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオ
キサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミル
パーオキサイド、１，３（又は１，４）−ビス（ｔ−ブ
チルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメ
チル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、
２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキ
シ）ヘキシン−３等のジアルキルパーオキサイド、１，
１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、
１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−
トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（ｔ−ブチル
パーオキシ）ブタン等のパーオキシケタール、ｔ−ブチ
ルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシオクト
エート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチル
パーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−
３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパ
ーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエー
ト等のアルキルパーエステル、ジ−２−エチルヘキシル
パーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシ
ジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシジ
カーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカ
ーボネート、ビス（３−メチル−３−メトキシブチル）
パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソ
プロピルカーボネート等のパーオキシカーボネート、及
び、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−
テトラ（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−オクチルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，
４’−テトラ（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｐ−イソプロピ
ルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，
３’，４，４’−テトラ（アミノパーオキシカルボニ
ル）ベンゾフェノン、カルボニルビス（ｔ−ブチルパー
オキシ２水素２フタレート）、カルボニルビス（ｔ−ヘ
キシルパーオキシ２水素２フタレート）等が挙げられ
る。

【００４３】本発明において、（Ｃ）成分の光重合開始
剤としては、以上の中で、ハロゲン化炭化水素誘導体類
としてのｓ−トリアジン化合物、及び有機硼素錯体類が
好ましく、特に、下記一般式(II)で表される有機硼素錯
体が好ましい。

【００４４】

【化１３】

【００４５】〔式(II)中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、及びＲ⁴
は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキニル基、置換基を有していても
よいアリール基、置換基を有していてもよい脂環式基、
又は置換基を有していてもよい複素環基を示し、これら
はその置換基が互いに連結して環状構造を形成していて
もよく、Ｘ⁺ は対カチオンを示す。〕

【００４６】ここで、式(II)におけるＲ¹ 、Ｒ² 、
Ｒ³ 、及びＲ⁴ が、アルキル基又は脂環式基であるとき
の炭素数は１〜１０程度、アルケニル基又はアルキニル
基又は脂環式基であるときの炭素数は３〜２０程度、ア
リール基であるときの炭素数は６〜３０程度であるの
が、それぞれ好ましく、アリール基としてはフェニル基
が特に好ましい。又、それらの置換基としては、例え
ば、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル
基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。

【００４７】中で、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、及びＲ⁴ のうち
の三つが置換基を有していてもよいアリール基で、一つ
が置換基を有していてもよいアルキル基であるトリアリ
ールアルキル硼素錯体が好ましい。

【００４８】これらの有機硼素錯体における好ましいア
ニオンの具体例としては、例えば、ｎ−ブチル−トリフ
ェニル硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−メチル
フェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，
４，６−トリメチルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチ
ル−トリス（ｐ−メトキシフェニル）硼素アニオン、ｎ
−ブチル−トリス（ｍ−クロロフェニル）硼素アニオ
ン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−クロロフェニル）硼素ア
ニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｍ−フルオロフェニル）
硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−フルオロフェ
ニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，６−ジ
フルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス
（２，４，６−トリフルオロフェニル）硼素アニオン、
ｎ−ブチル−トリス（２，３，４，５，６−ペンタフル
オロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｍ
−トリフルオロメチルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブ
チル−トリス（３，５−ジ−トリフルオロメチルフェニ
ル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，６−ジフ
ルオロ−３−ピロリルフェニル）−硼素アニオン、ｎ−
ヘキシル−トリス（ｍ−フルオロフェニル）硼素アニオ
ン等が挙げられる。

【００４９】又、その対カチオンＸ⁺ としては、例え
ば、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ア
ルソニウムカチオン、スチボニウムカチオン、オキソニ
ウムカチオン、スルホニウムカチオン、セレノニウムカ
チオン、スタンノニウムカチオン、ヨードニウムカチオ
ン等のオニウム化合物、及び、遷移金属配位カチオン等
を挙げることができるが、中で、アンモニウムカチオン
が好ましく、テトラアルキル（炭素数１〜１０）アンモ
ニウムカチオンが特に好ましい。

【００５０】以上の前記一般式(II)で表される有機硼素
錯体の中で、本発明において好ましい有機硼素錯体を、
以下に具体的に例示する。尚、以下の例示において、Ｍ
ｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｂｕはブチル基を
それぞれ示す。

【００５１】

【化１４】

【００５２】

【化１５】

【００５３】

【化１６】

【００５４】

【化１７】

【００５５】

【化１８】

【００５６】本発明（Ｄ）のカチオン性色素は、「カラ
ーケミカル辞典」（有機合成化学協会編集、１９８８
年、（株）シーエムシー発行）に記載の種々の化合物を
挙げることができる。ここでカチオン性色素（Ｄ）とし
ては、（Ｂ）成分や（Ｅ）成分とは異る別個の成分とし
て用いる必要がある。カチオン性色素は色素構造の一部
にアンモニウム塩、オキソニウム塩、スルホニウム塩、
ヨードニウム塩構造等のカチオン部位を有するものであ
り、メチン系、アゾ系、インドール系、トリフェニルメ
タン系、オキサジン系、アントラキノン系等の種々のカ
チオン色素が好ましく用いられる。

【００５７】カチオン性色素は、導体回路となる銅のよ
うな金属上での感光層の安定化に効果があり、塗布後の
経時により感光層が徐徐に硬化、現像性が低下する現象
を上記に挙げたカチオン性色素により抑止することがで
きる。

【００５８】例えば、カチオンイエロー３Ｇ、カチオン
イエローＧＬ、カチオンフラビン１０Ｇ、カチオンイエ
ロー５ＧＬ、カチオンオレンジＲ、カチオンブラウン３
ＧＬ、カチオンピンクＦＧ、カチオンブリリアントレッ
ド４Ｇ、カチオンレッドＧＴＬ、カチオンレッドＢＬ
Ｈ、カチオンレッド６Ｂ、カチオンレッド５Ｂ、カチオ
ンブルー５Ｇ、カチオンブルーＧＲＬ、カチオンブルー
ＧＬＨ、カチオンネービーブルーＲＬＨ等の市販カチオ
ン染料を挙げることができる。

【００５９】上述したようなカチオン性色素は、通常可
視光領域に吸収極大を有するものであるが、更に７５０
〜１２００ｎｍの赤外光領域に吸収を有するカチオン性
色素の場合では感光層の安定化効果のみならず、高感度
化にも寄与するためより好ましいものである。

【００６０】赤外吸収性カチオン色素として、具体的に
は、例えば、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等の複
素原子がポリメチン（−ＣＨ＝）_n 鎖で結合された構造
であって、その複素原子が複素環を形成し、ポリメチン
鎖を介して複素環が結合された構造の、キノリン系（所
謂、シアニン系）、インドール系（所謂、インドシアニ
ン系）、ベンゾチアゾール系（所謂、チオシアニン
系）、ピリリウム系、チアピリリウム系、スクアリリウ
ム系、クロコニウム系、アズレニウム系等の広義の所謂
シアニン系色素を挙げることが出来る。

【００６１】具体的には、下記の化合物が挙げられる。

【００６２】

【化１９】

【００６３】

【化２０】

【００６４】

【化２１】

【００６５】

【化２２】

【００６６】次に本発明（Ｅ）の可視光に非増感性の可
視光吸収色素について説明する。可視光に非増感性の可
視光吸収色素は波長４００〜７８０ｎｍの可視光領域に
おいて光吸収能を有するが、可視光照射によって本発明
（Ｃ）の重合開始剤を分解、活性ラジカルを生じせしめ
ない色素をいう。ここで（Ｅ）成分は、（Ｂ）成分や
（Ｄ）成分とは別個の成分として用いる必要がある。

【００６７】このような機能の確認は、（Ｅ）の存在
化、非存在化で分光感度を測定し、可視光領域において
分光感度が変化しないことにより可能である。なお、分
光感度については「新・感光性樹脂 （角田 隆弘著
印刷学会出版部 昭和５６年）」等に記載の公知の測定
手法が用いられる。

【００６８】非増感性の可視光吸収色素については上記
の機能を有するものであれば特に制限を受けないが、上
述の機能を有するものとして有機顔料を挙げることがで
きる。例えば、ファーストイエローＧ、ファーストイエ
ロー１０Ｇ、ジスアゾイエローＡＡＡ、ジスアゾイエロ
ーＡＡＭＸ、ジスアゾイエローＡＡＯＴ、ジスアゾイエ
ローＡＡＯＡ、フラバンスロンイエロー、ジスアゾイエ
ローＡＡＰＴ、ジスアゾイエローＨ１０Ｇ、ジスアゾイ
エローＨＲ、クロモフタルイエローＧＲ、ファストイエ
ローＦＧＬ、ファストイエロー１０ＧＸ、タートラジン
レーキ、メチンイエロー、サンセットイエローレーキ、
アンスラピリミジンイエロー、イソインドリノンイエロ
ーＧ、イソインドリノンイエローＲ、銅アゾメチンイエ
ロー、ベンズイミダゾロンイエローＨ２Ｇ、キノフタロ
ンイエロー、ニッケルジオキシンイエロー、ジニトロア
ニリンオレンジ、ピラゾロンオレンジ、ジアニシジンオ
レンジ、ペルシアンオレンジレーキ、ベンズイミダゾロ
ンオレンジＨＬ、ペリノンオレンジ、ピランスロンオレ
ンジ、パラレッド、ナフトールレッドＦＲＲ、レーキレ
ッド４Ｒ、ナフトールカーミンＦＢ、ナフトールレッド
Ｍ、ブリリアントファストスカーレット、ナフトールレ
ッドＢＳ、ナフトールレッドＲＮ、ピラゾロンレッド、
パーマネントレッド２Ｂ（Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ又はＭ
ｎ）、リソールレッド、ボンレーキレッドＣ、レーキレ
ッドＣ、ブリリアントカーミン６Ｂ、ボルドー１０Ｂ、
ボンマルーンＭ、ブリリアントスカーレットＧ、ローダ
ミン６Ｇレーキ、マダーレーキ、チオインジゴボルド
ー、ナフトールレッドＦＧＲ、ブリリアントカーミンＢ
Ｓ、キナクリドンマゼンタ、ペリレンバーミリオン、ナ
フトールカーミンＦＢＢ、ペリレンレッドＢＬ、クロモ
フタールスカーレット、アンスアンスロンレッド、ナフ
トールレッドＦ５ＲＫ、エリスロシンレーキ、ジアント
ラキノニルレッド、ペリレンレッド、ペリレンマルー
ン、ベンズイミダゾロンカーミンＨＦ４Ｃ、ペリレンス
カーレット、アラマンスレーキ、キナクリドンレッド
Ｅ、ピランスロンレッド、ローダミンＢレーキ、メチル
バイオレットレーキ、アリザリンマルーンレーキ、キナ
クリドンレッド、ジオキサジンバイオレット、チオイン
ジゴマゼンタ、ビクトリアブルーレーキ、ビクトリアブ
ルー６Ｇレーキ、フタロシアニンブルーＲ、フタロシア
ニンブルーＧ、フタロシアニンブルーＥ、無金属フタロ
シアニン、アルカリブルーＧ、インダスロンブルー、イ
ンジゴカルミンレーキ、ブリリアントグリーンレーキ、
マラカイトグリーンレーキ、フタロシアニングリーン、
ピグメントグリーンＢ、ニッケルアゾイエロー、フタロ
シアニングリーン６Ｙ、ベンズイミダゾロンブラウンＨ
ＦＲ、アニリンブラック等の市販有機顔料を挙げること
ができる。

【００６９】以上挙げた有機顔料は有機溶剤に対して溶
解性を示さないため、３本ロール、サンドミル、ロール
ミル、ジェットミル等の公知の分散処理方法により粒径
が１ミクロン以下、好ましくは０．５ミクロン以下の微
粒子分散状態になるように処理するのが好ましい。分散
状態を安定化させるため、高分子分散剤、界面活性剤等
を併用することも可能である。

【００７０】以上説明した本発明の必須構成成分の好ま
しい含有割合は、（Ａ）エチレン性不飽和化合物１００
重量部に対して、（Ｂ）７５０〜１２００ｎｍに吸収極
大を有する赤外吸収性のフタロシアニン０．５〜１５重
量部、好ましくは１〜１０重量部、（Ｃ）重合開始剤が
２〜３０重量部、より好ましくは５〜２０重量部、
（Ｄ）カチオン性色素０．２〜１０重量部、より好まし
くは０．５〜８重量部、（Ｅ）非増感性の可視光吸収色
素が１〜４０重量部、より好ましくは５〜３０重量部の
範囲である。

【００７１】尚、前記光重合性組成物には、必要に応じ
て、ノニオン性、アニオン性、カチオン性、両性、及び
弗素系等の界面活性剤等の塗布性改良剤、消泡剤、可視
画性付与剤、着色剤、密着性向上剤、現像性改良剤、紫
外線吸収剤、及び重合安定剤等の添加剤が添加されてい
てもよい。

【００７２】本発明の前記光重合性組成物は、通常、前
記各成分を適当な溶剤に溶解或いは分散させた塗布液
を、基板上に塗布した後、加熱、乾燥させて、該基板上
に前記光重合性組成物の層を形成することにより光重合
性画像形成材として用いられるが、中で、絶縁基材表面
に導電層を有する基板の該導電層上に前記光重合性組成
物をレジスト材層として形成することによる導体回路形
成用等の光重合性画像形成材としての使用形態が好適で
ある。

【００７３】ここで、その基板における絶縁基材として
は、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレ
イミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹
脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、飽和ポリエステル
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルフォン樹脂、ア
クリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、弗素樹脂等の熱
可塑性樹脂等の樹脂、紙、ガラス、及び、アルミナ、シ
リカ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等の無機物等が挙
げられ、又、ガラス布基材エポキシ樹脂、ガラス不織布
基材エポキシ樹脂、紙基材エポキシ樹脂、紙基材フェノ
ール樹脂等に代表される複合材料であってもよい。これ
らの絶縁基材の厚さは、通常、０．０２〜１０ｍｍ程度
である。

【００７４】これらの絶縁基材表面に形成される導電層
の構成材料としては、例えば、銅、金、銀、クロム、亜
鉛、錫、アルミニウム、鉛、ニッケル、酸化インジウ
ム、酸化錫、酸化インジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）、
半田等の金属が挙げられ、前記絶縁基材表面への導電層
の形成方法としては、例えば、前記金属の箔を加熱、圧
着ラミネートするか、前記金属をスパッタリング、蒸
着、メッキする等の方法が採られる。これら導電層の厚
さは、通常、１〜１００μｍ程度である。

【００７５】又、前記基板上に塗布する際の溶剤として
は、使用成分に対して十分な溶解度を持ち、良好な塗膜
性を与えるものであれば特に制限はないが、例えば、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブアセテート等のセロソル
ブ系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコー
ルジメチルエーテル等のプロピレングリコール系溶剤、
酢酸ブチル、酢酸アミル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジ
エチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−
ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、乳酸
メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル
等のエステル系溶剤、ヘプタノール、ヘキサノール、ジ
アセトンアルコール、フルフリルアルコール等のアルコ
ール系溶剤、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン等
のケトン系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の高極性溶剤、或い
はこれらの混合溶剤、更にはこれらに芳香族炭化水素を
添加したもの等が挙げられる。中でもエーテル系の溶媒
が好ましく、更にはプロピレングリコール系がより好ま
しい。溶剤の使用割合は、光重合性組成物の総量に対し
て、通常、重量比で１〜２０倍程度の範囲である。この
塗布溶媒に対する溶解性は、（Ｂ）成分の方が（Ｅ）成
分よりも高い。

【００７６】又、その塗布方法としては、従来公知の方
法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、スプレー塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブ
レード塗布、スクリーン塗布、及びカーテン塗布等を用
いることができる。その際の塗布量は、乾燥膜厚として
１〜３０μｍ程度とするのが好ましく、２〜２０μｍ程
度とするのが特に好ましい。尚、その際の乾燥は、例え
ば、熱風循環式オーブン、ホットプレート等を用いて、
４０〜１２０℃程度の温度、１０秒〜１０分間程度の時
間とするのが好ましい。

【００７７】本発明において、前記画像形成材の光重合
性組成物層を画像露光する光源としては、カーボンアー
ク、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンラン
プ、ＨｅＮｅレーザー、アルゴンイオンレーザー、ＹＡ
Ｇレーザー、ＨｅＣｄレーザー、半導体レーザー、ルビ
ーレーザー等のレーザー光源が挙げられるが、７５０〜
１２００ｎｍの波長域、更には７５０〜９００ｎｍの波
長域の近赤外レーザー光を発生する光源が好ましく、例
えば、ルビーレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体レーザ
ー等の固体レーザーを挙げることができ、特に、小型で
長寿命な半導体レーザーやＹＡＧレーザーが好ましい。
これらのレーザー光源をビームに絞り、画像データに基
づいて走査露光した後、アルカリ現像液にて現像処理し
画像が形成される。

【００７８】又、その走査露光方法も、特に限定される
ものではないが、例えば、平面走査露光方式、外面ドラ
ム走査露光方式、内面ドラム走査露光方式等が挙げら
れ、光学系によりビームに絞って露光強度を好ましくは
１ＭＷ／ｃｍ² 以上、更に好ましくは１．５ＭＷ／ｃｍ
² 以上とし、ビームスポット径を、好ましくは１〜３０
μｍ、更に好ましくは２〜２０μｍ、走査速度を、好ま
しくは５０〜５００ｍ／秒、更に好ましくは１００〜４
００ｍ／秒、走査密度を、好ましくは２，０００ｄｐｉ
以上、更に好ましくは４，０００ｄｐｉ以上として、走
査露光する。

【００７９】又、現像処理におけるアルカリ現像液とし
ては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リ
チウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、メタ
珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウ
ム、第二燐酸アンモニウム、第三燐酸アンモニウム、硼
酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等の無
機アルカリ塩、モノメチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、
トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、モノブチルアミン、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ
イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン等
の有機アミン化合物、テトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の４
級アンモニウム塩等の水溶液が用いられる。中で、無機
アルカリ塩である炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のア
ルカリ金属の炭酸塩が好ましい。

【００８０】アルカリ現像液における前記アルカリの濃
度は、好ましくは０．０５〜３重量％程度、更に好まし
くは０．１〜２重量％程度とし、ｐＨは８〜１３程度が
好ましい。尚、現像液には、必要に応じて、アニオン
性、ノニオン性、両性等の界面活性剤や、アルコール等
の有機溶剤を加えることができる。

【００８１】現像処理は、浸漬現像、スプレー現像、ス
ピン現像、ブラシ現像、超音波現像等により、好ましく
は、１５〜３５℃程度の温度、５秒〜３分程度の時間で
なされる。現像後は、乾燥し、更に、その後、必要に応
じて、形成された画像の密着性向上等を目的として、１
００〜２５０℃程度の温度範囲でポストベーク処理がな
される。

【００８２】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。尚、以下の実施例及び
比較例で用いた光重合性組成物のエチレン性不飽和化合
物、増感色素、光重合開始剤、及びその他成分を以下に
示す。

【００８３】＜エチレン性不飽和化合物＞ （Ａ−１）エポキシ当量２０６のクレゾールノボラック
エポキシ樹脂（東都化成社製「エポトートＹＤＣＮ７０
４」）２０６重量部、アクリル酸７２重量部、テトラエ
チルアンモニウムクロライド０．２重量部、及びメチル
ハイドロキノン０．５重量部を、ジエチレングリコール
エチルエーテルアセテート１９２重量部中に加えて１１
０℃で５時間反応させた後、テトラヒドロフタル酸無水
物１２１．６重量部を加えて１００℃で３時間反応させ
た。 （Ａ−２）ペンタエリスリトールトリアクリレート

【００８４】＜増感色素＞ （Ｂ−１）具体例Ｒ１１で示したフタロシアニン系色素 ＜光重合開始剤＞ （Ｃ−１）具体例Ｂ１６で示した有機硼素錯体 （Ｃ−２）具体例Ｂ２７で示した有機硼素錯体 ＜カチオン性色素＞ （Ｄ−６）具体例Ｄ−６で示したカチオン性色素 （Ｄ−１０）具体例Ｄ−１０で示したカチオン性色素

【００８５】＜非増感性の可視光吸収色素＞ （Ｅ−１）アントラキノン系の赤顔料、Ｃ．Ｉ．Ｒｅｄ
１７７（チバガイギー社製）１５ｇ、高分子分散剤ＢＹ
Ｋ−１６１（ビックケミー社製）５ｇ、溶剤としてプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧ
ＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によりプレミキシングをお
こなった。これをペイントシェーカーにより６時間分散
処理をおこなった。ビーズはインキ液に対し重量で３倍
量の０．５ｍｍφのジルコニアビーズを用いた。このよ
うにして得られた分散処理インキを下記のようにして顔
料粒度を測定した。分散処理インキをＰＧＭＥＡで４０
０倍に希釈した後、５分間超音波処理（ＢＲＡＮＳＯＮ
社製）を行いレーザードップラ定器マイクロトラップＵ
ＰＡ（リーズ＆ノースラップ社製）により測定したとこ
ろ顔料粒径０．２μ以下の粒子は全粒子の９０％以上で
あった。このようにして得られた分散インキを非増感性
の可視光吸収色素として用いた。

【００８６】（Ｅ−２）フタロシアニン系の緑顔料Ｃ．
Ｉ．Ｇｒｅｅｎ３６（大日本インキ社製）１５ｇ、高分
子分散剤ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製）５ｇ、溶
剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によりプレミ
キシングをおこなった。Ｅ−１と同様の分散処理を行っ
た後顔料粒径を測定したところ顔料粒径０．２μ以下の
粒子は全粒子の９０％以上であった。 （Ｅ−３）フタロシアニン系の青顔料Ｃ．Ｉ．Ｂｌｕｅ
１５；６（大日本インキ社製）１５ｇ、高分子分散剤Ｂ
ＹＫ−１６１（ビックケミー社製）５ｇ、溶剤としてプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ｐ
ＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によりプレミキシングを
おこなった。Ｅ−１と同様の分散処理を行った後顔料粒
径を測定したところ顔料粒径０．２μ以下の粒子は全粒
子の９０％以上であった。

【００８７】実施例１〜５、比較例１〜３ 厚さ０．２ｍｍのガラス布基材エポキシ樹脂絶縁基材の
表面に厚さ１８μｍの電解銅箔の導電層を有する銅張積
層基板（三菱瓦斯化学社製）を用い、その基板銅箔上
に、表１に示す各成分をプロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート３３０重量部に室温で攪拌して調
液した塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、コンベク
ションオーブンにて７０℃で２分間乾燥させることによ
り、膜厚５μｍの光重合性組成物層を有する導体回路形
成用の光重合性画像形成材を作製した。

【００８８】得られた各画像形成材につき、波長８３０
ｎｍの半導体レーザーを光源とする露光装置（Ｃｒｅｏ
社製「Ｔｒｅｎｄ Ｓｅｔｔｅｒ ３２４４Ｔ」）を用
いて、１５μｍのビームスポット径にて５００ｍＪ／ｃ
ｍ² 以下の各種の露光エネルギーで走査露光し、次い
で、０．８重量％の炭酸ナトリウム水溶液の現像液を、
２５℃の温度、１ｋｇ／ｃｍ² の圧力で３０秒間スプレ
ーすることにより現像処理して走査線画像を形成させ
た。その際、以下に示す方法で、光重合性組成物層の感
度、解像性、及び基板に対する密着性を評価し、結果を
表１に示した。

【００８９】＜感度＞画像部における現像前後の反射濃
度を反射濃度計（マクベス社製「ＲＤ−５１４」）を用
いて測定して以下の式に基づいて画像部の残膜率を算出
し、その残膜率が５０％となるに要する露光エネルギー
（ｍＪ／ｃｍ² ）を感度とした。 画像部の残膜率（％）＝〔（現像後の画像部の反射濃度
−基板表面の反射濃度）／（現像前の版面の反射濃度−
基板表面の反射濃度）〕×１００

【００９０】＜解像性＞線幅の異なる走査線及びその間
隔の画像を形成し、その最小の走査線及びその間隔の幅
（μｍ）を解像力とした。 ＜基板に対する密着性＞画像部に碁盤目状の切れ目を入
れ、セロテープ（登録商標）を貼着し剥離するとき、画
像部の剥がれのないものを「良好」、画像部に剥がれが
生じるものを「不良」とした。

【００９１】又、別に、前記で得られた各光重合性画像
形成材について、以下に示す方法でセーフライト性、基
板上における安定性を評価し、結果を表１に示した。 ＜セーフライト性＞画像形成材を、白色蛍光灯（三菱電
機社製「ネオルミスーパーＦＬＲ−４０」）の直下１．
５ｍの位置に光重合性組成物層を上にして１時間放置し
た後、前記と同様に画像露光及び現像処理を行い、放置
前の画像形成材との感度及び非露光部の溶解時間を比較
し、差が認められない場合を「良好」、差が生じる場合
を「不良」とした。 ＜基板上における安定性＞銅張り積層板に感光液を塗
布、乾燥した後、遮光した状況下で１日放置した後、Ｉ
Ｒレーザー露光並びに現像処理を行った。放置せずに露
光、現像処理をおこなったサンプルと同様の感度、解像
力をもち、非画線部における地汚れがないものを「良
好」とした。

【００９２】

【表１】

【００９３】

【発明の効果】本発明によれば、特に酸素遮断層を設け
なくても酸素による重合阻害の影響が抑制され高感度で
あると共に、解像性に優れ、且つ、セーフライト性にも
優れており明室での取扱が可能であり、特に、基板に対
する密着性、安定性にも優れた光重合性組成物、並び
に、光重合性画像形成材及びそれを用いた画像形成方法
を提供することができる。又、スプレー現像のような過
酷な現像処理条件下においても、これらの感度、解像性
等の性能を発現することができるものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/031 Ｇ０３Ｆ 7/031 Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA02 AA14 AB13 AB15 AB17 AC08 AD01 AD03 CA14 CA18 CA28 CA39 CA41 CA42 CA50 CC12 CC20 FA03 FA10 FA17 2H048 BA03 BA45 BA47 BA48 BB02 BB42 4J011 AC04 CA08 PA43 QA13 QA17 QA23 QB01 QB19 SA21 SA76 SA78 SA86 SA87 SA88 UA02 VA01 WA01

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）
   成分、（Ｄ）成分並びに（Ｅ）成分を含有してなること
   を特徴とする光重合性組成物。 （Ａ）エチレン性不飽和化合物 （Ｂ）７５０ｎｍ以上１２００ｎｍ以下に吸収極大を有
   する赤外吸収性のフタロシアニン色素 （Ｃ）光重合開始剤 （Ｄ）カチオン性色素 （Ｅ）可視光に非増感性の可視光吸収色素
2. 【請求項２】 （Ｄ）が赤外吸収性色素である請求項１
   記載の光重合性組成物。
3. 【請求項３】 （Ｅ）が基板上に光重合性組成物からな
   る層を塗布する際に用いる塗布溶剤に対する溶解性が
   ０．１％以下の着色顔料である請求項１又は２記載の光
   重合性組成物。
4. 【請求項４】（Ａ）成分がベンゼン骨格１ユニットに対
   して不飽和基を１ユニットよりも多く有する請求項１乃
   至３の何れかに記載の光重合性組成物。
5. 【請求項５】 （Ｂ）成分が、有機硼素錯体である請求
   項１乃至４のいずれかに記載の光重合性組成物。
6. 【請求項６】 基板上に請求項１〜５記載の光重合性組
   成物からなる層を形成してなることを特徴とする光重合
   性画像形成材。
7. 【請求項７】 基板上に形成した請求項１〜５記載の光
   重合性組成物からなる層を、７５０ｎｍ以上２００ｎｍ
   以下の波長域の近赤外レーザー光により走査露光した
   後、アルカリ現像液で現像処理することを特徴とする画
   像形成方法。