JP2006253325A - 磁性材料の製造方法、磁性材料および高密度磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】 所望の粒径の強磁性規則合金相の磁性ナノ粒子を有する磁性材料を効率よく得る。
【解決手段】 支持体上に、強磁性規則合金相を形成し得る合金ナノ粒子及び融合防止剤を含有するナノ粒子分散液を塗布して塗布膜を形成することと、該塗布膜に加熱処理を施して合金ナノ粒子を強磁性化することと、を含む。ここで、前記融合防止剤が、耐熱温度が５００℃以上で、かつナノ粒子分散液の分散溶媒に可溶な無機物であることが好ましい。また、前記加熱処理が、レーザー光の照射によって実施されることが好ましい。
【選択図】 なし

Description

本発明は、磁性材料の製造方法、磁性材料および高密度磁気記録媒体に関し、特に、ＭＲＡＭ等に用いることが可能な磁性材料の製造方法、磁性材料および高密度磁気記録媒体に関する。

磁気記録媒体に使用する磁性体の粒子サイズを小さくする事は磁気記録密度を高くする上で必要である。たとえば、ビデオテープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く用いられている磁気記録媒体では，強磁性体の質量が同じ場合、粒子サイズを小さくしていった方がノイズは下がる。

ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金は、規則化時に発生する歪みのために結晶磁気異方性が大きく、粒子サイズを小さくしても強磁性を示すことから、磁気記録密度向上に有望な素材である。

ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型合金を形成しうる合金ナノ粒子を形成した場合、その構造は面心立方晶となる。面心立方晶は通常、軟磁性あるいは常磁性を示す。軟磁性あるいは常磁性では記録媒体用には適していない。そこで、磁気記録媒体に必要な９５．５ＫＡ／ｍ以上の保持力を有する強磁性規則合金を得るには、５００℃以上で熱処理をする必要があった。しかしながら、熱処理後も粒径を維持したまま、支持体上に分散するのは困難であった。
また、支持体上に合金ナノ粒子を塗布した磁気記録媒体を熱処理するには、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテート、ポリカ−ボネート、ポリアミド（脂肪族ポリアミドやアラミド等の芳香族ポリアミドを含む）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾール等の有機物支持体を使用した場合、支持体そのものの耐熱性が問題になり、また、ガラス、アルミナ、Ｓｉ、ＳｉＯ₂等の無機物支持体の場合においても、熱処理時の歪みの発生等が問題となり実用に供することができなかった。

このような問題を回避するために、支持体への熱の影響が少ない手法として、レーザー光による加熱を用いる特許文献１などが知られている。レーザー光を用いた加熱によって支持体の材質に拘らず強磁性規則合金を得ることができる。
特開２００３−２６０４０９号公報

しかしながら、レーザー光を用いた加熱による強磁性化によっても、処理後のナノ粒子には一部に融合が見られ、目的とする粒径を維持できない場合がある。その結果、期待する磁気記録密度が得られないことがある。またレーザー光以外の加熱処理では、加熱処理における融合を回避するために加熱条件を細かく設定する必要がある。
従って、本発明は、所望の粒径の強磁性規則合金相の磁性ナノ粒子を有する磁性材料を効率よく得ることができる磁性材料の製造方法、このような磁性材料および高密度磁性記録媒体を提供することを目的とする。

本発明の磁性材料の製造方法は、支持体上に、強磁性規則合金相を形成し得る合金ナノ粒子及び融合防止剤を含有するナノ粒子分散液を塗布して塗布膜を形成することと、該塗布膜に加熱処理を施して合金ナノ粒子を強磁性化することと、を含む。
ここで、前記融合防止剤が、耐熱温度が５００℃以上で、かつナノ粒子分散液の分散溶媒に可溶な無機物であることが好ましい。
また、前記加熱処理が、レーザー光の照射によって実施されることが好ましい。
本発明の磁性材料は、上記製造方法によって製造されたものである。
更に本発明の高密度磁気記録媒体は、上記製造方法によって得られた磁性材料を含む磁性層を有するものである。

本発明では、ナノ粒子分散液に融合防止剤が含まれているので、強磁性化のために加熱処理によって磁性ナノ粒子が融合することがない。これにより、ナノ粒子の粒径が変化することなく所望の粒径且つ磁性規則合金相の磁性ナノ粒子を得ることができる。

本発明によれば、所望の粒径の強磁性規則合金相の磁性ナノ粒子を有する磁性材料を効率よく得ることができる。

本発明の磁性材料の製造方法は、支持体上に、強磁性規則合金相を形成し得る合金ナノ粒子及び融合防止剤を含有するナノ粒子分散液を塗布して塗布膜を形成することと、該塗布膜に加熱処理を施して合金ナノ粒子を強磁性化することと、を含む。
本発明において、強磁性規則合金相を形成し得る合金ナノ粒子磁性材料は、下記（ａ）〜（ｂ）に示すようにして製造される。まず、（ａ）強磁性規則合金相を形成し得る合金ナノ粒子を作製する（合金ナノ粒子作製工程）。（ｂ）作製した合金ナノ粒子を含有する塗布液を支持体上に塗布して塗布膜を形成する（塗布膜形成工程）。（ｃ）形成した塗布膜にレーザー光を照射することで強磁性層を形成する（強磁性層形成工程）ことで、支持体上に強磁性層が形成された磁性材料が製造される。以下、磁性材料の製造方法について詳細に説明する。

〔合金ナノ粒子作製工程〕
強磁性規則合金相を形成し得る合金ナノ粒子（以下、単に「合金ナノ粒子」ということがある）を作製するには気相法や液相法、その他公知の合金ナノ粒子形成法を用いることができる。量産性に優れることを考慮すると、液相法が好ましい。液相法としては、従来から知られている種々の方法を適用することができる。液相法としては、沈殿法で分類すると、（１）１級アルコールを用いるアルコール還元法、（２）２価または３価のアルコールを用いるポリオール還元法、（３）熱分解法、（４）超音波分解法、（５）強力還元法、などがある。また、反応系で分類すると、（６）高分子存在法、（７）高沸点溶媒法、（８）正常ミセル法、（９）逆ミセル法、などがある。これらに改良を加えた還元法を適用することが好ましく、還元法のなかでも粒子径が制御しやすい逆ミセル法が特に好ましい。

〔逆ミセル法〕
逆ミセル法は、少なくとも（１）２種の逆ミセル溶液を混合して還元反応を行う還元工程と、（２）還元反応後に所定温度で熟成する熟成工程と、を有する。以下、各工程について説明する。

（１）還元工程
まず、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と、還元剤を含有する還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（１）を調製する。

前記界面活性剤としては、油溶性界面活性剤が用いられる。具体的には、スルホン酸塩型（例えばエーロゾルＯＴ（東京化成製））、４級アンモニウム塩型（例えばセチルトリメチルアンモニウムブロマイド）、エーテル型（例えば、ペンタエチレングリコールドデシルエーテル）などが挙げられる。非水溶性界面活性剤の界面活性剤量は、２０〜２００ｇ／リットルであることが好ましい。

前記界面活性剤を溶解する非水溶性有機溶媒として好ましいものは、アルカン類、エーテル類などが挙げられる。アルカン類としては、炭素数７〜１２のものが好ましく、具体的にはヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカンなどである。エーテル類としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテルなどが好ましい。

還元剤水溶液中の還元剤としては、アルコール類；ポリオール類；Ｈ₂；ＨＣＨＯ、Ｓ₂Ｏ₆ ^2-、Ｈ₂ＰＯ₂ ^-，ＢＨ₄ ^-，Ｎ₂Ｈ₅ ⁺、Ｈ₂ＰＯ₃ ^-などを含む化合物；を単独で使用、または２種以上を併用することが好ましい。水溶液中の還元剤量は、金属塩１ｍｏｌに対して３〜５０ｍｏｌであることが好ましい。

ここで、逆ミセル溶液（１）溶液中の水と界面活性剤との質量比（水／界面活性剤）は、２０以下となるようにすることが好ましい。質量比が２０以下であると、沈殿の生成を抑え、粒子径をそろえやすいという利点がある。質量比は、１５以下とすることが好ましく、０．５〜１０とすることがより好ましい。なお、逆ミセル溶液（１）溶液とともに、目的に応じて上記質量比や使用原料を変えた逆ミセル溶液などを調製し、これらを併用しても良い。

上記とは別に、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と金属塩水溶液とを混合した逆ミセル溶液（２）を調製する。界面活性剤および非水溶性溶媒の条件（使用する物質、濃度など）については、逆ミセル溶液（１）の場合と同様である。なお、逆ミセル溶液（１）と同種のものまたは異種のものを使用することができる。また、逆ミセル溶液（２）中の水と界面活性剤との質量比も逆ミセル溶液（１）の場合と同様であり、逆ミセル溶液（１）の質量比と同一としても良く、異なっていても良い。また、逆ミセル溶液（２）とともに、目的に応じて上記質量比や使用原料を変えた逆ミセル溶液などを調製し、これらを併用しても良い。

金属塩水溶液に含有される金属塩としては、作製しようとするナノ粒子が所望の強磁性規則合金を形成し得るように、適宜選択することが好ましい。金属塩を適宜選択することで、卑な金属と貴な金属とが合金を形成した強磁性規則合金を形成し得るナノ粒子が作製される。

ここで形成可能な強磁性規則合金としては、ＣｕＡｕ型強磁性規則合金、Ｃｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金及び希土類系強磁性合金を挙げることができ、このうちＣｕＡｕ型強磁性規則合金、Ｃｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金であることが磁気異方性定数および耐酸化性の観点から好ましい。
ＣｕＡｕ型強磁性規則合金としては、ＦｅＮｉ、ＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＣｏＡｕなどが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔであることが好ましい。ＦｅＰｔが最も磁気異方性定数が大きいことから特に好ましい。
Ｃｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金としては、Ｎｉ₃Ｆｅ、ＦｅＰｄ₃、Ｆｅ₃Ｐｔ、ＦｅＰｔ₃、ＣｏＰｔ₃、Ｎｉ₃Ｐｔ、ＣｒＰｔ₃、Ｎｉ₃Ｍｎが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ₃、ＦｅＰｔ₃、ＣｏＰｔ₃、Ｆｅ₃Ｐｄ、Ｆｅ₃Ｐｔ、Ｃｏ₃Ｐｔが好ましい。
希土類系強磁性合金としては、ＳｍＣｏ₅、Ｓｍ₂Ｃｏ₁₇、Ｎｄ₃Ｆｅ₁₆Ｂ、Ｎｄ₂Ｆｅ₁₄Ｂ、Ｓｍ₂Ｆｅ₁₇Ｎ₃などが好ましい。これらは、熱揺らぎに対して強磁性を維持できる最小安定粒子径が小さいため、高密度磁気記録媒体用の材料として有望である。なお、これらの合金は非常に酸化されやすいため、粒子を酸化防止層で被覆するなど、作製工程における抗酸化の対策を講じることが好ましい。

このような強磁性規則合金を形成可能な金属塩としては、具体的には、Ｈ₂ＰｔＣｌ₆、Ｋ₂ＰｔＣｌ₄、Ｐｔ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₂、Ｎａ₂ＰｄＣｌ₄、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、ＰｄＣｌ₂、Ｐｄ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₂、ＨＡｕＣｌ₄、Ｆｅ₂（ＳＯ₄）₃、Ｆｅ（ＮＯ₃）₃、（ＮＨ₄）₃Ｆｅ（Ｃ₂Ｏ₄）₃、Ｆｅ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃、ＮｉＳＯ₄、ＣｏＣｌ₂、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、Ｓｍ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₃、ＳｍＣｌ₃、Ｓｍ（ＮＯ₃）₃、Ｓｍ₂（Ｃ₂Ｏ₄）₃、Ｓｍ₂（ＳＯ₄）₃、Ｎｄ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₃、ＮｄＣｌ₃、Ｎｄ（ＮＯ₃）₃、Ｎｄ₂（Ｃ₂Ｏ₄）₃、Ｎｄ₂（ＳＯ₄）₃、Ｈ₂ＢＯ₃、ＮａＢＨ₄などが挙げられる。

金属塩水溶液中の濃度（金属塩濃度として）は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌであることが好ましく、１〜１００μｍｏｌ／ｍｌであることがより好ましい。０．１μｍｏｌ／ｍｌよりも少ない場合は、収率が低くて実用に適さない場合があり、１０００μｍｏｌ／ｍｌを超えた場合は作製された合金ナノ粒子の粒子径が不揃いとなる場合があるので、それぞれ好ましくない。

また、２元系合金に、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ等の第三元素を加える事で強磁性規則合金への変態温度を下げることが好ましい。これらの第三元素は、それぞれの第三元素の前駆体を、前記金属塩溶液に予め添加しておくことが好ましい。添加量としては、全体量（２元合金＋第三元素）に対し、１〜３０ａｔｍ％が好ましく、５〜２５ａｔｍ％がより好ましい。１ａｔｍ％よりも少ない場合は変態温度を下がらない場合があり、３０ａｔｍ％を超えると規則相へ変態しても強磁性とならない場合があるので、それぞれ好ましくない。

以上のようにして調製した逆ミセル溶液（１）と（２）とを混合する。混合方法としては、特に限定されるものではないが、還元の均一性を考慮して、逆ミセル溶液（１）を撹拌しながら、逆ミセル溶液（２）を添加していって混合することが好ましい。混合終了後、還元反応を進行させることになるが、その際の温度は−５〜３０℃の範囲で一定の温度とすることが好ましい。−５℃より低い温度では水相が凝結して還元反応が不均一になるといった問題が生じる場合があり、３０℃を超えると、凝集または沈殿が起こりやすく系が不安定となる場合があるので、それぞれ好ましくない。好ましい還元温度は０〜２５℃であり、より好ましくは５〜２５℃である。ここで、前記「一定温度」とは、設定温度をＴ（℃）とした場合、当該ＴがＴ±３℃の範囲にあることをいう。なお、このようにした場合であっても、当該Ｔの上限および下限は、上記還元温度（−５〜３０℃）の範囲にあるものとする。

還元反応の時間は、逆ミセル溶液の量などにより適宜設定する必要があるが、１〜３０分とすることが好ましく、５〜２０分とすることがより好ましい。１分より短い時間では核形成が不十分であり、３０分を越えると粒子成長が始まって、作製される合金ナノ粒子の粒子径が不揃いとなる場合があるので、それぞれ好ましくない。

還元反応は、粒径分布の単分散性に大きな影響を与えるため、できるだけ高速攪拌しながら行うことが好ましい。好ましい攪拌装置は高剪断力を有する攪拌装置であり、詳しくは、攪拌羽根が基本的にタービン型あるいはパドル型の構造を有し、さらに、その羽根の端もしくは、羽根と接する位置に鋭い刃を付けた構造であり、羽根をモーターで回転させる攪拌装置である。具体的には、ディゾルバー（特殊機化工業製）、オムニミキサー（ヤマト科学製）、ホモジナイザー（ＳＭＴ製）などの装置が有用である。これらの装置を用いることにより、単分散なナノ粒子を安定な分散液として合成することができる。

前記逆ミセル溶液（１）および（２）の少なくともいずれかに、アミノ基、カルボキシ基またはスルフィン酸基を１〜３個有する少なくとも１種の分散剤を、作製しようとする金属ナノ粒子１モル当たり、０．００１〜１０モル添加することが好ましい。
かかる分散剤を添加することで、より単分散で、凝集の無いナノ粒子を得ることが可能となる。添加量が、０．００１未満では、ナノ粒子の単分散性をより向上させることできない場合があり、１０モルを超えると凝集が起こる場合がある。

前記分散剤としては、金属ナノ粒子表面に吸着する基を有する有機化合物が好ましい。具体的には、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基またはスルフィン酸基を１〜３個有するものであり、これらを単独または併用して用いることができる。好ましくはアミノ基、カルボキシ基を１〜３個有するものである。構造式としては、Ｒ−ＮＨ₂、ＮＨ₂−Ｒ−ＮＨ₂、ＮＨ₂−Ｒ（ＮＨ₂）−ＮＨ₂、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ₃Ｈ、ＳＯ₃Ｈ−Ｒ−ＳＯ₃Ｈ、ＳＯ₃Ｈ−Ｒ（ＳＯ₃Ｈ）−ＳＯ₃Ｈ、Ｒ−ＳＯ₂Ｈ、ＳＯ₂Ｈ−Ｒ−ＳＯ₂Ｈ、ＳＯ₂Ｈ−Ｒ（ＳＯ₂Ｈ）−ＳＯ₂Ｈで表される化合物であり、式中のＲは直鎖、分岐または環状の飽和、不飽和の炭化水素である。

分散剤として特に好ましい化合物はオレイン酸である。オレイン酸はコロイドの安定化において周知の界面活性剤であり、Ｆｅナノ粒子を保護するのに用いられてきた。オレイン酸の比較的長い（たとえば、オレイン酸は１８炭素鎖を有し、長さは〜２０オングストローム（〜２ｎｍ）である。オレイン酸は脂肪族ではなく二重結合が１つある）鎖は粒子間の強い磁気相互作用を打ち消す重要な立体障害を与えることができる。エルカ酸やリノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸同様に（たとえば、８〜２２の間の炭素原子を有する長鎖有機酸を単独でまたは組み合わせて用いることができる）用いられる。オレイン酸は（オリーブ油など）容易に入手できる安価な天然資源であるので好ましい。また、オレイン酸から誘導されるオレイルアミンもオレイン酸同様有用な分散剤である。

以上のような還元工程では、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金相中のＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化還元電位が卑な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以下の金属）が還元され、極小サイズで単分散な状態で析出するものと考えられる。その後、昇温段階および後述する熟成工程において、析出した卑な金属を核とし、その表面で、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の酸化還元電位が貴な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以上の金属）が卑な金属で還元されて置換、析出する。イオン化した卑な金属は還元剤で再度還元されて析出すると考えられる。このような繰返しによって、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金ナノ粒子が得られる。

（２）熟成工程
還元反応終了後、反応後の溶液を熟成温度まで昇温する。前記熟成温度は、３０〜９０℃で一定の温度とするが、その温度は、前記還元反応の温度より高くする。また、熟成時間は、５〜１８０分とする。熟成温度および時間が上記範囲より高温長時間側にずれると、凝集または沈殿が起きやすく、逆に低温短時間側にずれると、反応が完結しなくなり組成が変化する。好ましい熟成温度および時間は４０〜８０℃および１０〜１５０分であり、より好ましい熟成温度および時間は４０〜７０℃および２０〜１２０分である。

ここで、前記「一定温度」とは、還元反応の温度の場合と同義（但し、この場合、「還元温度」は「熟成温度」となる）であるが、特に、上記熟成温度の範囲（３０〜９０℃）内で、前記還元反応の温度より５℃以上高いことが好ましく、１０℃以上高いことがより好ましい。５℃未満では、処方通りの組成が得られないことがある。

以上のような熟成工程では、還元工程で還元析出した卑な金属上に貴な金属が析出する。すなわち、卑な金属上でのみ貴な金属の還元が起こり、卑な金属と貴な金属とが別々に析出することが無いため、効率良くＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ強磁性規則合金を形成し得る合金ナノ粒子を、高収率で処方組成比どおりに作製することが可能で、所望の組成に制御することができる。また、熟成の際の温度で撹拌速度を適宜調整することで、得られる合金ナノ粒子の粒径を所望なものとすることができる。

前記熟成を行った後は、水と１級アルコールとの混合溶液で前記熟成後の溶液を洗浄し、その後、１級アルコールで沈殿化処理を施して沈殿物を生成させ、該沈殿物を有機溶媒で分散させる洗浄・分散工程を設けることが好ましい。かかる洗浄工程を設けることで、不純物が除去され、磁気記録媒体の磁性層を塗布により形成する際の塗布性をより向上させることができる。上記洗浄および分散は、少なくともそれぞれ１回、好ましくは、それぞれ２回以上行う。

洗浄で用いる前記１級アルコールとしては、特に限定されるものではないが、メタノール、エタノール等が好ましい。体積混合比（水／１級アルコール）は、１０／１〜２／１の範囲にあることが好ましく、５／１〜３／１の範囲にあることがより好ましい。水の比率が高いと、界面活性剤が除去されにくくなることがあり、逆に１級アルコールの比率が高いと、凝集を起こしてしまうことがある。

以上のようにして、溶液中に分散した合金ナノ粒子が得られる。当該ナノ粒子は単分散であり、凝集することなく均一に分散した状態を保っている。

ナノ粒子の最外層は酸化防止の観点から貴な金属にすることが好ましいが、凝集しやすいため、本発明では貴な金属と卑な金属の合金であることが好ましい。

ナノ粒子の粒径評価には透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができる。ナノ粒子の結晶系を決めるにはＴＥＭによる電子回折でもよいが、Ｘ線回折を用いた方が精度が高いため好ましい。ナノ粒子の内部の組成分析には、電子線を細く絞ることができるＦＥ−ＴＥＭにＥＤＡＸを付け評価することが好ましい。ナノ粒子の磁気的性質の評価は振動試料型磁力計（ＶＳＭ）を用いて行うことができる。

〔塗布膜形成工程〕
液相法で調製したナノ粒子は、該ナノ粒子が溶液中に分散した状態となっているため、この溶液に適宜溶媒等を添加し、ナノ粒子の含有量を０．０１〜０．１ｇ／リットルとして、塗布液（ナノ粒子分散液）を調製する。調製した塗布液を支持体上に塗布して塗布膜を形成する。塗布量としては、ナノ粒子の含有量等の条件によるが、０．０１〜１ｇ／ｍ²程度とすることが好ましい。

ここで、塗布液を調製するために用いられる溶媒としては、合金ナノ粒子作製工程で使用した非水溶性有機溶媒と同様のもの、すなわち、アルカン類、エーテル類などが使用可能である。このうち、後述する融合防止剤の溶解性の観点から、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカンなどが好ましい。

本発明では、この塗布液中に、添加成分として融合防止剤が含まれている。この融合防止剤によって、加熱処理時に合金ナノ粒子同士が融合することを防止することができる。
融合防止剤としては、合金ナノ粒子を分散させる溶媒に可溶なものであり、耐熱温度が５００℃以上であるものが好ましい。融合防止剤の耐熱温度が５００℃より低いと、加熱処理の際に分解して、融合防止効果が得られない場合があるので、好ましくない。なおここで耐熱温度とは、融合防止剤が熱分解を始める温度のことをいう。
また、磁気記録媒体への用途性を考慮すると、融合防止剤は非磁性のものが好ましい。このような融合防止剤としては、非磁性の金属酸化物を用いることが好ましく、シリカ、チタニア、ポリシロキサンから選ばれる少なくとも１種の無機物であることがより好ましい。

このような融合防止剤としては、具体的にはオルガノシリカゾル（例えば、シーアイ化成製ナノテックＳｉＯ₂）、オルガノチタニアゾル（例えば、シーアイ化成製ナノテックＴｉＯ₂）、シリコーン樹脂（例えば、東レ・ダウコーニング・シリコーン製トレフィルＲ９１０）などを挙げることができる。

前記融合防止剤の添加量は、合金ナノ粒子の全体積に対して、１〜５０％であることが好ましく、２〜３０％であることがより好ましい。１％より少ないと融合防止剤としての効果が得られない場合があり、５０％より多いと乾燥させた際に融合防止剤が凝集して析出する場合があるので、好ましくない。

支持体としては、無機物および有機物のいずれも使用することができる。ハードディスクなどへの用途性を考慮すると、無機物を使用することが好ましく、磁気テープやフロッピー（登録商標）ディスクなどへの用途性を考慮すると、有機物を使用することが好ましい。

無機物の支持体としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ合金（Ａｌ−Ｍｇ合金、Ｍｇ−Ａｌ−Ｚｎなど）、ガラス、石英、カーボン、シリコン、セラミックス等が用いられる。これらの支持体は耐衝撃性に優れ、また薄型化や高速回転に適した剛性を有する。また、有機物支体に比べ熱に強い特徴を有している。

有機物の支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類；ポリオレフィン類；セルローストリアセテート、ポリカ−ボネート、ポリアミド（脂肪族ポリアミドやアラミド等の芳香族ポリアミドを含む）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾール等を用いることができる。

支持体上への塗布液の塗布方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。

塗布液の塗布後には、乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥工程としては、通常行われている条件をそのまま適用することができ、例えば、送風式の定温乾燥機を使用して４０〜２５０℃の温度で、５〜６０分の乾燥条件を適用することができる。

〔強磁性層形成工程〕
液相法あるいは気相法で作製した強磁性規則合金を形成し得るナノ粒子は不規則相である。一般に、不規則相では強磁性は得られないため、規則相とするために加熱処理（アニール）する必要がある。加熱処理温度は示差熱分析（ＤＴＡ）を用い、ナノ粒子を構成する合金が規則不規則変態する変態温度を求め、その温度以上で行うことが必要である。
加熱処理に用いる装置は、一般に、所望の温度でナノ粒子を加熱することができる手段であればよく、例えば電気炉を挙げることができる。電気炉の場合には、例えば３５０〜５００℃で５〜３００分の加熱条件を適用することができる。

強磁性層形成工程において支持体の種類に制限されず且つ効率よく簡便に強磁性化するための加熱処理として、形成した塗布膜にレーザー光を照射するレーザー光照射処理を施すことが好ましい。レーザー光を塗布膜に照射することによって、塗布膜中のナノ粒子だけを選択的に加熱することができる。このため、５００℃以上の変態温度となる場合でも、テープ、フロッピー（登録商標）ディスク等の磁気記録媒体に用いられる有機物の支持体も使用することができ、また、ガラス、アルミナ、Ｓｉ、ＳｉＯ₂等の特定の無機物支持体であっても加熱処理時に歪みが発生することがない。また、レーザー光による加熱は、昇温・冷却速度が速いという特徴がある。従って、支持体に有機物を使用しても、熱による変形や変質を防ぎ、電気炉によるアニールよりもナノ粒子が融合しにくく、短時間で効率良くナノ粒子の合金相を規則化することができる。

レーザーの波長は、紫外から赤外まで用いることができるが、有機物の支持体は紫外域に吸収を持つことから、可視から赤外域のレーザー光を用いる事が好ましい。レーザー出力は、塗布膜を短時間で加熱するため、０．１Ｗ以上が好ましく、０．３Ｗ以上がより好ましい。出力が高すぎるとアブレーションを起こしてナノ粒子が支持体から剥離したり、有機物支持体も熱の影響を受けたりすることがあるため、３Ｗ以下が好ましい。レーザーの波長及び出力の観点から、好ましく用いられるレーザーとしては、Ａｒイオンレーザー、Ｃｕ蒸気レーザー、ＨＦ化学レーザー、色素レーザー、ルビーレーザー、ＹＡＧレーザー、ガラスレーザー、チタンサファイアレーザー、アレキサンドライトレーザー、ＧａＡｌＡｓアレイ半導体レーザー等が挙げられる。但し、本発明の製造方法では、これらのレーザーに限られるものではない。

レーザー光は、アレイ状に配置されたレーザー発振機から発振することが好ましい。このような複数のレーザー発振機からレーザー光を照射することで、効率よく強磁性層を形成することが可能になる。

レーザー光を走査する際の線速度は、相変態が十分に起き、かつ、アブレーションを起こさないといった効果を得るため、０．１〜１０ｍ／ｓとすることが好ましく、０．２〜５ｍ／ｓとすることがより好ましい。

支持体に熱の影響を与えないという観点から、支持体とナノ粒子層との間に、レーザー反射層を設けることが好ましい。レーザー光反射層を設けることで、基板に達するレーザー光をほとんど、もしくは完全にカットすることが可能となり、支持体の熱による変形や変質の防止効果をより向上させることができる。

レーザー光反射層を構成する材料としては、レーザー光を反射し得るものであれば特に限定されず、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ，Ｐｄ、ＳｉＣ、Ａｌ＋ＴｉＯ₂等が挙げられ、これらは、レーザー光反射層中に分散している事が好ましい。レーザー光反射層は、上記材料をスパッタリングや蒸着などして形成することができる。レーザー光反射層の厚さは、薄すぎると熱が拡散しやすく、厚すぎると反射率が低下することがあるため、３０〜１０００ｎｍとすることが好ましく、５０〜３００ｎｍとすることがより好ましい。

レーザー加熱した後は、ナノ粒子層の有機物は炭化している。これらの層を安定に存在させるためには、ポリマーに結合剤を塗布し、浸透させることが好ましい。結合剤としては、ポリウレタン樹脂；ポリエステル系樹脂；ポリアミド系樹脂；塩化ビニル系樹脂；スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂；ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂；エポキシ樹脂；フェノキシ樹脂；ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂；などから単独あるいは複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいのは、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂である。

加熱処理後、規則結晶化された磁性ナノ粒子の保磁力は、９５．５〜３９８ｋＡ／ｍ（１２００〜５０００Ｏｅ）が好ましく、磁気記録媒体に適用した場合、記録ヘッドが対応できるという観点から９５．５〜２７８．６ｋＡ／ｍ（１２００〜３５００Ｏｅ）が好ましい。ナノ粒子の粒径は１〜１００ｎｍが好ましく、より好ましくは３〜２０ｎｍであり、さらに好ましくは３〜１０ｎｍである。粒子サイズが小さすぎると超常磁性となり好ましくない。磁気記録媒体として用いるにはナノ粒子を最密充填することが記録容量を高くする上で好ましく、そのためには、ナノ粒子のサイズの標準偏差は２０％未満が好ましく、１５％以下がより好ましく、さらに好ましくは５％以下である。

本発明の製造方法により得られた磁性材料は、ビデオテープ、コンピューターテープ、フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスクに好ましく用いることができる。また、ＭＲＡＭへの適用も好ましい。

〔磁気記録媒体〕
本発明の製造方法で得られた磁性材料は、既述のように、ビデオテープ、コンピューターテープ等の磁気テープ；フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク；等の少なくとも磁性層を有する磁気記録媒体に好ましく用いることができる。

かかる磁気記録媒体は、磁性材料上に形成されたナノ粒子層（磁性ナノ粒子層）のほかに、必要に応じて他の層を有してなる。例えば、ディスクの場合、ナノ粒子層の反対側の面に磁性層や非磁性層を設けることができる。テープの場合、ナノ粒子層の反対側の不溶性支持体面上にバック層を設けることが好ましい。

例えば、ナノ粒子層上に非常に薄い保護膜を形成することで、耐磨耗性を改善し、さらにその保護膜上に潤滑剤を塗布して滑り性を高めることによって、十分な信頼性を有する磁気記録媒体とすることができる。

保護膜の材質としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸化物；窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素などの窒化物；炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物；グラファイト、無定型カーボンなどの炭素（カーボン）；等があげられるが、特に好ましくは、一般に、ダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる硬質の非晶質のカーボンである。

カーボンからなるカーボン保護膜は、非常に薄い膜厚で十分な耐磨耗性を有し、摺動部材に焼き付きを生じ難いため、保護膜の材料としては好適である。カーボン保護膜の形成方法として、ハードディスクにおいては、スパッタリング法が一般的であるが、ビデオテープ等の連続成膜を行う必要のある製品ではより成膜速度の高いプラズマＣＶＤを用いる方法が多数提案されている。従って、これらの方法を適用することが好ましい。中でもプラズマインジェクションＣＶＤ（ＰＩ−ＣＶＤ）法は成膜速度が非常に高く、得られるカーボン保護膜も硬質かつピンホールが少ない良質な保護膜が得られると報告されている（例えば、特開昭６１−１３０４８７号公報、特開昭６３−２７９４２６号公報、特開平３−１１３８２４号公報等）。

このカーボン保護膜は、ビッカース硬度で１０００Ｋｇ／ｍｍ²以上であることが好ましく、２０００Ｋｇ／ｍｍ²以上であることがより好ましい。また、その結晶構造はアモルファス構造であり、かつ非導電性であることが好ましい。そして、カーボン保護膜として、ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンドライクカーボン）膜を使用した場合、この構造はラマン光分光分析によって確認することができる。すなわち、ダイヤモンド状炭素膜を測定した場合には、１５２０〜１５６０ｃｍ^-1にピークが検出されることによって確認することができる。炭素膜の構造がダイヤモンド状構造からずれてくるとラマン光分光分析により検出されるピークが上記範囲からずれるとともに、保護膜としての硬度も低下する。

このカーボン保護膜を形成するための炭素原料としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等のアルカン；エチレン、プロピレン等のアルケン；アセチレン等のアルキン；をはじめとした炭素含有化合物を用いることが好ましい。また、必要に応じてアルゴンなどのキャリアガスや膜質改善のための水素や窒素などの添加ガスを加えることができる。

カーボン保護膜の膜厚が厚いと、電磁変換特性の悪化や磁性ナノ粒子層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと耐磨耗性が不足する。従って、膜厚は、２．５〜２０ｎｍとすることが好ましく、５〜１０ｎｍとすることがより好ましい。また、この保護膜と基板となる磁性ナノ粒子層の密着性を改善するために、あらかじめ磁性ナノ粒子層表面を不活性ガスでエッチングしたり、酸素等の反応性ガスプラズマに曝して表面改質したりする事が好ましい。

磁性ナノ粒子層は電磁変換特性を改善するため重層構成としたり、磁性ナノ粒子層の下に公知の非磁性下地層や中間層を有したりしていてもよい。走行耐久性および耐食性を改善するため、既述のように、上記磁性ナノ粒子層もしくは保護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。添加する潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。

炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類；ステアリン酸ブチル等のエステル類；オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類；リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類；ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類；ステアリルアミン等のアミン類；などが挙げられる。

フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_nまたはこれらの共重合体等である。

また、炭化水素系潤滑剤のアルキル基の末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシル基などの極性官能基を有する化合物が、摩擦力を低減する効果が高く好適である。さらに、この分子量は、５００〜５０００、好ましくは１０００〜３０００である。５００未満では揮発性が高く、また潤滑性が低いなることがある。また、５０００を超えると、粘度が高くなるため、スライダーとディスクが吸着しやすく、走行停止やヘッドクラッシュなどを発生しやすくなることがある。このパーフルオロポリエーテルは、具体例的には、アウジモンド社製のＦＯＭＢＬＩＮ、デュポン社製のＫＲＹＴＯＸなどの商品名で市販されている。

極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類；亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類；トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類；二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤；などが挙げられる。

前記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用される。これらの潤滑剤を磁性ナノ粒子層もしくは保護膜上に付与する方法としては、潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させればよい。

防錆剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、プリン、ピリミジン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した誘導体；ベンゾチアゾール、２−メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環類およびこの誘導体；等が挙げられる。

既述のように、磁気記録媒体が磁気テープ等の場合は、非磁性支持体の磁性ナノ粒子層が形成されていない面にバックコート層（バッキング層）が設けられていてもよい。バックコート層は、非磁性支持体の磁性ナノ粒子層が形成されていない面に、研磨材、帯電防止剤などの粒状成分と結合剤とを公知の有機溶剤に分散したバックコート層形成塗料を塗布して設けられる層である。粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができ、また結合剤としてはニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独またはこれらを混合して使用することができる。また、ナノ粒子分散液の塗布面およびバックコート層が形成される面には、公知の接着剤層が設けられていてもよい。

以上のようにして製造される磁気記録媒体は、表面の中心線平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて、好ましくは０．１〜５ｎｍ、より好ましくは１〜４ｎｍの範囲とする。このように、極めて優れた平滑性を有する表面とすることが、高密度記録用の磁気記録媒体として好ましいからである。このような表面を得る方法として、磁性層を形成した後にカレンダー処理を施す方法が挙げられる。また、バーニッシュ処理を施してもよい。

得られた磁気記録媒体は、適宜、打ち抜き機で打ち抜いたり、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断したりして使用することができる。

（物理特性）
本発明の磁気記録媒体の磁性層の保磁力Ｈｃは９５．５ｋＡ／ｍ（１２００Ｏｅ）〜９５５ｋＡ／ｍ（１２０００Ｏｅ）が好ましく、１５９〜４７８ｋＡ／ｍ（２０００〜６０００Ｏｅ）がより好ましい。保磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤは０．６以下が好ましい。

以下、実施例をもとに本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

［実施例１］
（ＦｅＰｔ合金ナノ粒子の作製）
高純度Ｎ₂ガス中で下記の操作を行った。
ＮａＢＨ₄（和光純薬製）０．４８ｇをＨ₂Ｏ（脱酸素処理済み）１８ｍｌに溶解した還元剤水溶液に、エーロゾルＯＴ（東京化成製）１２．４ｇをデカン（和光純薬製）１２０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（１）を調整した。

三シュウ酸アンモニウム鉄（Ｆｅ（ＮＨ₄）₃（Ｃ₂Ｏ₄）₃）（和光純薬製）０．４４ｇと塩化白金酸カリウム（Ｋ₂ＰｔＣｌ₄）（和光純薬製）０．４１ｇとをＨ₂Ｏ（脱酸素処理済み）１８ｍｌに溶解した金属塩水溶液に、エーロゾルＯＴ１２．４ｇをデカン１２０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（２）を調整した。

ＮａＢＨ₄（和光純薬製）０．１２ｇをＨ₂Ｏ（脱酸素処理済み）４．５ｍｌに溶解した金属塩水溶液に、エーロゾルＯＴ３．１ｇをデカン３０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（３）を調整した。

Ｂｉｃｉｎｅ（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン；同仁化学研究所製）０．０１ｇをＨ₂Ｏ（脱酸素処理済み）４．５ｍｌに溶解した金属塩水溶液に、エーロゾルＯＴ３．１ｇをデカン３０ｍｌに溶解したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（４）を調整した。

逆ミセル溶液（１）を２２℃でオムニミキサー（ヤマト科学製）で高速撹拌しながら、逆ミセル溶液（２）を瞬時に添加した。４分後、さらに、逆ミセル溶液（３）を瞬時に添加した。さらに２分後、オレイルアミン３ｍｌを瞬時に添加した。この２分後に、マグネチックスターラー撹拌に変更して、４０℃に昇温したあと、１１０分間熟成し、逆ミセル溶液（４）を瞬時に添加してさらに１０分撹拌した。室温に冷却後、オレイン酸（和光純薬製）３ｍｌを添加、混合して、大気中に取り出した。逆ミセルを破壊するために、Ｈ₂Ｏ４５０ｍｌとメタノール４５０ｍｌとの混合溶液を添加して水相と油相とに分離した。油相側に金属ナノ粒子が分散した状態が得られた。油相側を取り出し、Ｈ₂Ｏ９００ｍｌとメタノール３００ｍｌとの混合液で１回洗浄した。その後、メタノールを２５００ｍｌ添加して金属ナノ粒子にフロキュレーションを起こさせて沈降させた。上澄み液を除去して、ヘプタン（和光純薬製）４０ｍｌを添加して再分散した。さらにメタノール２００ｍｌ添加による沈降とヘプタン４０ｍｌ分散を２回繰り返して、最後にヘプタン１５ｍｌを添加してＦｅＰｔ合金ナノ粒子含有液を得た。また、組成はＦｅ／Ｐｔ＝５５／４５ａｔｍ％であった。

合金ナノ粒子が４質量％となるように調節したＦｅＰｔ合金ナノ粒子含有溶液（溶媒：デカンに置換）に融合防止剤としてシリコーン樹脂（東レ・ダウコーニング・シリコーン製トレフィルＲ９１０）を１質量％含むデカン溶液を、合金ナノ粒子の質量に対してシリコーン樹脂の質量が３０％となるように添加して撹拌し、塗布液（１）を作製した。

厚さ１．１ｍｍの石英ガラス基板に、ＦｅＰｔ合金ナノ粒子を０．０４ｍｇ／ｍｌ含有する塗布液（１）をＦｅＰｔ合金ナノ粒子が０．５ｇ／ｍ²になるように塗布し、乾燥して塗布膜を形成した。

形成した塗布膜に下記条件でレーザー光を照射してナノ粒子層を形成して、磁性材料Ａを作製した。
半導体レーザー・・・波長８０８ｎｍ
レーザビーム径・・・１．５×１８０μｍ
線速度・・・０．６ｍ／ｓ
パワー・・・０．７Ｗ

［実施例２］
融合防止剤をオルガノシリカゾル（シーアイ化成製ナノテックＳｉＯ₂）とした以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｂを作製した。

［実施例３］
融合防止剤をオルガノチタニアゾル（シーアイ化成製ナノテックＴｉＯ₂）とした以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｃを作製した。

［実施例４］
融合防止剤添加量を合金ナノ粒子の質量の１０％とした以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｄを作製した。

［実施例５］
融合防止剤添加量を合金ナノ粒子の質量の５％とした以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｅを作製した。

［実施例６］
融合防止剤添加量を合金ナノ粒子の質量の４５％とした以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｆを作製した。

［実施例７］
支持体を厚さ４０μｍのＰＰＴＡフィルム（ＰＰＴＡ：ポリパラフェニレンテレフタルアミド、旭化成株式会社製「アラミカ」）とした以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｇを作製した。

［実施例８］
融合防止剤添加量を合金ナノ粒子の質量の０．８％とした以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｈを作製した。

［実施例９］
融合防止剤添加量を合金ナノ粒子の質量の７５％とした以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｉを作製した。

（実施例１０）
加熱処理方法を電気炉とし、窒素雰囲気下５００℃で２５分の条件で行った（処理条件についてご確認の上、加筆をお願い致します）以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｊを作製した。

［比較例１］
融合防止剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｋを作製した。

［比較例２］
合金ナノ粒子分散溶媒をトルエンにし、融合防止剤をポリスチレンとした以外は、実施例１と同様にして、磁性材料Ｌを作製した。

＜特性評価＞
（１）粒径：レーザー照射後の磁性材料のサンプルから、スパチュラでナノ粒子を掻き落とし、ヘプタン中に分散させた後に、銅メッシュに載せて乾燥させ、ＴＥＭ用サンプルを作製した。透過型電子顕微鏡で加速電圧８０ｋＶの条件で撮影を行い、Carl Zeiss製画像処理システム（ＫＳ３００）を用いて、平均粒径および粒径分布を求めた。結果を表１に示す。

（２）Ｘ線回折：水晶の無反射試料板上に、レーザー照射後の磁性材料のサンプルから、歪が入らないようにスパチュラでナノ粒子を掻き落とし、乾燥する事でＸ線回折用サンプルを作製した。理学電機製Ｘ線回折装置で管電圧５０ＫＶ 管電流３００ｍＡの条件でＣｕＫα線を発生させゴニオメータを用いた粉末法でＸ線回折を行った。結晶構造から不規則相、規則相を区別した。結果を表１に示す。

（３）磁気特性：実施例１〜７および比較例１〜３のそれぞれの磁気特性は、東英工業製の高感度磁化ベクトル測定機と同社製ＤＡＴＡ処理装置とを使用し、印加磁場７９０ｋＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）でＨｃを測定した。結果を表１に示す。

実施例１〜１０および比較例１および２の磁性材料Ａ〜Ｌでは、ナノ粒子は規則相であり、良好な磁気特性を有することが確認できた。また、支持体に耐熱性ポリマーを使用しても、その形状に変化は見られなかった（実施例１〜１０）。しかし、比較例１および２では融合防止剤の効果が得られないため、平均粒径や粒径の変動係数が大きくなってしまっているのに対し、実施例１〜１０では融合防止剤の効果により、小サイズかつ単分散な粒子を生成できており、磁気密度向上に適した有望な磁性材料であることがわかる。
さらに、実施例１〜１０の結果より、その効果は添加量が１〜５０％の範囲（実施例１〜７）でより顕著に発現し、さらに電気炉による加熱処理を行ったとき（実施例１０）よりもレーザー光で加熱処理行ったとき（実施例１〜７）の方がより顕著に発現することもわかった。

以上、本発明によれば、支持体が有機物および無機物のいずれであっても、その材質や形状等を変化させずに、合金ナノ粒子の粒径を変えることなく、合金ナノ粒子の合金相を、効率良く、強磁性規則合金相とすることが可能な磁性材料を得ることができる。

Claims (8)

1. 支持体上に、強磁性規則合金相を形成し得る合金ナノ粒子及び融合防止剤を含有するナノ粒子分散液を塗布して塗布膜を形成することと、該塗布膜に加熱処理を施して合金ナノ粒子を強磁性化することと、を含む磁性材料の製造方法。
2. 前記融合防止剤が、耐熱温度が５００℃以上で、かつナノ粒子分散液の分散溶媒に可溶な無機物であることを特徴とする請求項１に記載の磁性材料の製造方法。
3. 前記融合防止剤が、非磁性の金属酸化物であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁性材料の製造方法。
4. 前記合金ナノ粒子が、ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金相を形成しうる合金ナノ粒子であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項記載の磁性材料の製造方法。
5. 前記加熱処理が、レーザー光の照射によって実施されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載の磁性材料の製造方法。
6. 前記レーザー光の照射が、アレイ状に配置されたレーザー光発振機から発振されたものであることを特徴とする請求項５に記載の磁性材料の製造方法。
7. 請求項１〜６のいずれか１項記載の製造方法により製造されたことを特徴とする磁性材料。
8. 請求項１〜６のいずれか１項記載の製造方法により得られた磁性材料を含む磁性層を有する高密度磁気記録媒体。