JP2003231666A - Fumaric acid diester and liquid crystal polymer therefrom - Google Patents
Fumaric acid diester and liquid crystal polymer therefromInfo
- Publication number
- JP2003231666A JP2003231666A JP2002027582A JP2002027582A JP2003231666A JP 2003231666 A JP2003231666 A JP 2003231666A JP 2002027582 A JP2002027582 A JP 2002027582A JP 2002027582 A JP2002027582 A JP 2002027582A JP 2003231666 A JP2003231666 A JP 2003231666A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diyl
- alkyl
- phenylene
- cyclohexane
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 Fumaric acid diester Chemical class 0.000 title claims abstract description 165
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 46
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Natural products OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 title claims abstract description 44
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 title abstract description 15
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 title abstract description 11
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims abstract description 9
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims abstract description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 53
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 45
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 19
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 6
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 6
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 claims description 5
- 125000005714 2,5- (1,3-dioxanylene) group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([*:1])OC([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004786 difluoromethoxy group Chemical group [H]C(F)(F)O* 0.000 claims description 4
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 claims description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 44
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 abstract description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- FWUIHQFQLSWYED-ONEGZZNKSA-N (e)-4-oxo-4-propan-2-yloxybut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)OC(=O)\C=C\C(O)=O FWUIHQFQLSWYED-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 38
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 13
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 13
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 11
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 8
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 8
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 7
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 7
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- BAXKSCVINAKVNE-SNAWJCMRSA-N (e)-4-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)\C=C\C(O)=O BAXKSCVINAKVNE-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004920 4-methyl-2-pentyl group Chemical group CC(CC(C)*)C 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 125000004345 1-phenyl-2-propyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monoethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC(O)=O XLYMOEINVGRTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- ZMQWRASVUXJXGM-VOTSOKGWSA-N (e)-4-cyclohexyloxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(=O)OC1CCCCC1 ZMQWRASVUXJXGM-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 2
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide Substances CCN=C=NCCCN(C)C LMDZBCPBFSXMTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyliminomethylidene-ethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN=C=NCCCN(C)C FPQQSJJWHUJYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQOLYVZQRLXSRV-YZEQDSILSA-N CCCC[C@H](CC1)CC[C@@H]1OC(/C=C/C(O)=O)=O Chemical compound CCCC[C@H](CC1)CC[C@@H]1OC(/C=C/C(O)=O)=O IQOLYVZQRLXSRV-YZEQDSILSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- MWJNGKOBSUBRNM-BQYQJAHWSA-N dibutan-2-yl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CCC(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)CC MWJNGKOBSUBRNM-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 2
- BLKQQTCUGZJWLN-VAWYXSNFSA-N dicyclohexyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound C1CCCCC1OC(=O)/C=C/C(=O)OC1CCCCC1 BLKQQTCUGZJWLN-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- FNMTVMWFISHPEV-AATRIKPKSA-N dipropan-2-yl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CC(C)OC(=O)\C=C\C(=O)OC(C)C FNMTVMWFISHPEV-AATRIKPKSA-N 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N n-ethenylacetamide Chemical group CC(=O)NC=C RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- XXQBEVHPUKOQEO-UHFFFAOYSA-N potassium superoxide Chemical compound [K+].[K+].[O-][O-] XXQBEVHPUKOQEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHDNWBVSZVPYQV-OWOJBTEDSA-N (E)-4-(1-adamantyloxy)-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)/C=C/C(=O)O)C3 RHDNWBVSZVPYQV-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- CSRPULGNFIOKDV-UHFFFAOYSA-N (E)-4-(2-cyanoethoxy)-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound C(C=CC(=O)O)(=O)OCCC#N CSRPULGNFIOKDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULPMRIXXHGUZFA-UHFFFAOYSA-N (R)-4-Methyl-3-hexanone Natural products CCC(C)C(=O)CC ULPMRIXXHGUZFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAIIXYUYRNFKPL-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(2-hydroxyethoxy)-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OCCOC(=O)\C=C\C(O)=O MAIIXYUYRNFKPL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- WLQXEFXDBYHMRG-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(oxiran-2-ylmethoxy)-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(=O)OCC1CO1 WLQXEFXDBYHMRG-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- QCAHYQPONLPBNQ-AATRIKPKSA-N (e)-4-cyclopentyloxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(=O)OC1CCCC1 QCAHYQPONLPBNQ-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=C(C=C)C=C1 ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCMMMSZEVVLCMD-UHFFFAOYSA-N 1-(ethenoxymethyl)-1-(methoxymethyl)cyclohexane Chemical compound C=COCC1(COC)CCCCC1 XCMMMSZEVVLCMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-1,2-ethanediol Chemical group OCC(O)C1=CC=CC=C1 PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KODNTHAUOGOFJY-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3OC2=C1 KODNTHAUOGOFJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- CYADZXMTKIHVMV-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-2-methylbutane Chemical compound CCC(C)(C)OC=C CYADZXMTKIHVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- IXHVFQAWXRNZCZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-[2-methyl-1-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-1-oxopropan-2-yl]peroxypropanoic acid Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C(C)(C)OOC(C)(C)C(O)=O IXHVFQAWXRNZCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 3-hexanone Chemical compound CCCC(=O)CC PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRMIETZFPZGBEB-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)benzonitrile Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(C#N)C=C1 ZRMIETZFPZGBEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWBOBFJWTXYXEF-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(3-hydroxypropoxy)phenyl]benzonitrile Chemical group C1=CC(OCCCO)=CC=C1C1=CC=C(C#N)C=C1 KWBOBFJWTXYXEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYMNZQQLKBEWPM-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(6-hydroxyhexoxy)phenyl]benzonitrile Chemical group C1=CC(OCCCCCCO)=CC=C1C1=CC=C(C#N)C=C1 SYMNZQQLKBEWPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUANGSLQWFBVEH-UHFFFAOYSA-N 4-butylcyclohexan-1-ol Chemical compound CCCCC1CCC(O)CC1 NUANGSLQWFBVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMXNFXBFNYHFAL-UHFFFAOYSA-N 5-methylhex-1-en-3-one Chemical compound CC(C)CC(=O)C=C CMXNFXBFNYHFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKXUSSPHXSXVAT-UHFFFAOYSA-N 6-[4-[2-(4-pentylphenyl)ethynyl]phenoxy]hexan-1-ol Chemical compound C1=CC(CCCCC)=CC=C1C#CC1=CC=C(OCCCCCCO)C=C1 QKXUSSPHXSXVAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCMCSZXRVWDVAW-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-1-hexanol Chemical compound OCCCCCCBr FCMCSZXRVWDVAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100439288 Bombyx mori nuclear polyhedrosis virus CG30 gene Proteins 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLSKZWAVRHITSZ-YROJFRDXSA-N C(CC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(C=C1)OCCCCCCO Chemical compound C(CC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(C=C1)OCCCCCCO SLSKZWAVRHITSZ-YROJFRDXSA-N 0.000 description 1
- OYJARAMYHGYIQQ-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCC)OC1=CC=C(C=C1)C1=NC=C(C=N1)OCCCCCC(CC)O Chemical compound C(CCCCCCCC)OC1=CC=C(C=C1)C1=NC=C(C=N1)OCCCCCC(CC)O OYJARAMYHGYIQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQOLYVZQRLXSRV-NYAHOXOESA-N CCCC[C@H](CC1)CC[C@@H]1OC(/C=C\C(O)=O)=O Chemical compound CCCC[C@H](CC1)CC[C@@H]1OC(/C=C\C(O)=O)=O IQOLYVZQRLXSRV-NYAHOXOESA-N 0.000 description 1
- VGJMMSMHZFBCKF-WGSAOQKQSA-N CCC[C@H]1CC[C@@H](CC1)c1ccc(OCCCCCCO)cc1 Chemical compound CCC[C@H]1CC[C@@H](CC1)c1ccc(OCCCCCCO)cc1 VGJMMSMHZFBCKF-WGSAOQKQSA-N 0.000 description 1
- CDWFOGHROCPRFN-NSCUHMNNSA-N CSCCOC(=O)/C=C/C(=O)O Chemical compound CSCCOC(=O)/C=C/C(=O)O CDWFOGHROCPRFN-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N D-xylopyranose Chemical group O[C@@H]1COC(O)[C@H](O)[C@H]1O SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N 0.000 description 1
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005264 High molar mass liquid crystal Substances 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 125000005337 azoxy group Chemical group [N+]([O-])(=N*)* 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ROPXFXOUUANXRR-BUHFOSPRSA-N bis(2-ethylhexyl) (e)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)\C=C\C(=O)OCC(CC)CCCC ROPXFXOUUANXRR-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000012718 coordination polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N dibutyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N dibutyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCCCC OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCC ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound COC(=O)CC(=C)C(=O)OC ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- IJBBERPAEBYDJT-UHFFFAOYSA-N dipropan-2-yl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CC(C)OC(=O)CC(=C)C(=O)OC(C)C IJBBERPAEBYDJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001303 disiloxanyl group Chemical group [H][Si]([*])([H])O[Si]([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- ABTUOFDRTJEXOY-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylbutanoate Chemical compound CCC(C)(C)C(=O)OC=C ABTUOFDRTJEXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSXOSWWUPHFFGN-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpentanoate Chemical compound CCCC(C)(C)C(=O)OC=C SSXOSWWUPHFFGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHCYHZWSPOZZLL-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C QHCYHZWSPOZZLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLIYROVGWCUKY-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-ethyl-2-methylbutanoate Chemical compound CCC(C)(CC)C(=O)OC=C WGLIYROVGWCUKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLHVSEPPILCZHH-UHFFFAOYSA-N ethenyl 4-tert-butylbenzoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)OC=C)C=C1 ZLHVSEPPILCZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N hydrochloric acid Substances Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical class OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- DBQGARDMYOMOOS-UHFFFAOYSA-N methyl 4-(dimethylamino)benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 DBQGARDMYOMOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006611 nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)C BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は位相差フィルムなど
の光学補償膜、液晶配向膜、光記録材料などに利用でき
るフマル酸ジエステルから得られる液晶性ポリマーと、
その原料である液晶骨格を有するフマル酸ジエステルに
関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a liquid crystalline polymer obtained from fumaric acid diester which can be used for an optical compensation film such as a retardation film, a liquid crystal alignment film, an optical recording material, and the like.
The present invention relates to a fumaric acid diester having a liquid crystal skeleton as a raw material thereof.
【０００２】[0002]
【従来の技術】側鎖型液晶ポリマーは、位相差フィルム
などの光学異方体フィルム（特開平９−２０８９５
７）、液晶配向膜（特開昭６２−７０４０７）、偏光ビ
ームスプリッター（特開平１１−１００５７５）、リラ
イタブル記録媒体なとの光散乱モード記録材料（特開平
１０−６２７３９）に利用されている。このような用途
には従来、重合が容易なアクリル酸エステル系のポリマ
ーが一般的に用いられてきた。しかしながら、アクリル
酸エステル系モノマー（例えば、下記の化合物ＡＣ１）
を重合して得られるホモポリマーは耐熱性、機械的強度
などが低い。そこで、多官能なアクリル酸エステルとの
共重合を行うなどの化学的な方法や、フィーラーを添加
するなどの物理的な手法により耐熱性、機械的な強度の
向上が試みられている。
2. Description of the Related Art A side chain type liquid crystal polymer is an optically anisotropic film such as a retardation film (see JP-A-9-20895).
7), a liquid crystal alignment film (Japanese Patent Laid-Open No. 62-70407), a polarizing beam splitter (Japanese Patent Laid-Open No. 11-100575), a rewritable recording medium, and a light scattering mode recording material (Japanese Patent Laid-Open No. 10-62739). For such applications, acrylic acid ester-based polymers, which are easy to polymerize, have been generally used. However, acrylic ester monomers (eg, compound AC1 below)
The homopolymer obtained by polymerizing the is poor in heat resistance and mechanical strength. Therefore, attempts have been made to improve heat resistance and mechanical strength by a chemical method such as copolymerization with a polyfunctional acrylic acid ester or a physical method such as adding a feeler.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的の第一
は、耐熱性、耐光性、機械的強度に優れ、誘電率異方
性、屈折率異方性などの必要な特性を有する液晶性ポリ
マーの原料となるモノマーを提供することである。本発
明の目的の第二は、そのモノマーを単独重合、あるいは
他のモノマーと共重合させて得られる液晶性ポリマーを
提供することである。本発明の目的の第三は、その液晶
性ポリマーを用いた光学補償膜、液晶配向膜または光散
乱モード記録材料などを提供することである。The first object of the present invention is to provide a liquid crystallinity which is excellent in heat resistance, light resistance and mechanical strength and has necessary properties such as dielectric anisotropy and refractive index anisotropy. It is to provide a monomer as a raw material of a polymer. The second object of the present invention is to provide a liquid crystalline polymer obtained by homopolymerizing the monomer or copolymerizing the monomer with another monomer. The third object of the present invention is to provide an optical compensation film, a liquid crystal alignment film, a light scattering mode recording material and the like using the liquid crystalline polymer.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者は上記の問題を
解決すべく鋭意検討したところ、特定の液晶骨格を有す
るフマル酸ジエステル誘導体を重合して得られる液晶性
ポリマーが、耐熱性、機械的強度、耐光性などを兼ね備
えていることを見出し、本発明を完成するに至った。本
発明は以下の構成を取る。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made extensive studies to solve the above-mentioned problems, and found that a liquid crystalline polymer obtained by polymerizing a fumaric acid diester derivative having a specific liquid crystal skeleton has high heat resistance and mechanical properties. The present invention has been completed by discovering that it also has the desired strength and light resistance. The present invention has the following configurations.
【０００５】（１）下記の式（１）で表されるフマル酸
ジエステル。
（式中、Ｒ1は水素、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＣＦ2Ｈ、−
ＣＦＨ2、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ2Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣ
Ｓ、−Ｆ、−Ｃｌまたは炭素数１〜２０のアルキルであ
り、アルキルの１個の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−Ｓ−、−
ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯ−で置き換えられて
もよく；Ａ1、Ａ2またはＡ3はシクロヘキサン−１，４
−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１〜４個
の水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，
４−ジイル、１，４−フェニレン、１〜４個の水素がハ
ロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン
−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイ
ル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６
−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、また
はフルオレン−２，７−ジイルであり；ｍは１または０
であり；ｎは１〜２０の整数であり；Ｒ2は炭素数１〜
２０のアルキルであり；Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立し
て単結合、−ＣＦ 2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＨ2Ｏ−、
−ＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2−、また
は−Ｃ≡Ｃ−である。）(1) Fumaric acid represented by the following formula (1)
Diester.
(In the formula, R1Is hydrogen, -CN, -CF3, -CF2H,-
CFH2, -OCF3, -OCF2H, -NCO, -NC
S, -F, -Cl or alkyl having 1 to 20 carbons.
, One alkyl -CH2-Is -O-, -S-,-
Replaced by COO-, -OCO- or -CO-
Well; A1, A2Or A3Is cyclohexane-1,4
-Diyl, cyclohexene-1,4-diyl, 1 to 4
Cyclohexane-1, in which the hydrogen in the
4-diyl, 1,4-phenylene, 1 to 4 hydrogens
1,4-phenylene, pyridine substituted with a rogen
-2,5-diyl, pyridazine-2,5-diyl, pyri
Midine-2,5-diyl, naphthalene-2,6-diyl
1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6
-Diyl, 1,3-dioxane-2,5-diyl, also
Is fluorene-2,7-diyl; m is 1 or 0
And n is an integer from 1 to 20; R2Has 1 to 1 carbon atoms
20 alkyl; Z1And Z2Are each independent
Single bond, -CF 2O-, -OCF2-, -CH2O-,
-OCH2-, -CH = CH-, -CH2CH2-And again
Is -C≡C-. )
【０００６】（２）Ｒ1が−ＣＮであり、Ａ1、Ａ2また
はＡ3がシクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキ
セン−１，４−ジイル、１〜４個の水素がフッ素で置き
換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−
フェニレン、１〜４個の水素がハロゲンで置き換えられ
た１，４−フェニレンであり、Ｒ2が分岐または環状の
炭素数１〜２０のアルキルであり、Ｚ1が単結合であ
る、前記（１）項に記載のフマル酸ジエステル。(2) R 1 is --CN, A 1 , A 2 or A 3 is cyclohexane-1,4-diyl, cyclohexene-1,4-diyl, and 1 to 4 hydrogens are replaced by fluorine. Cyclohexane-1,4-diyl, 1,4-
Phenylene, 1,4-phenylene in which 1 to 4 hydrogens are replaced with halogens, R 2 is branched or cyclic alkyl having 1 to 20 carbons, and Z 1 is a single bond; ) The fumaric acid diester as described in the above item.
【０００７】（３）Ｒ1が炭素数１〜２０のアルキルで
あり、Ａ1またはＡ2がシクロヘキサン−１，４−ジイ
ル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１〜４個の水素
がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジ
イル、１，４−フェニレン、１〜４個の水素がハロゲン
で置き換えられた１，４−フェニレンであり、ｍが０で
あり、Ｚ1が単結合である、前記（１）項に記載のフマ
ル酸ジエステル。(3) R 1 is alkyl having 1 to 20 carbons, A 1 or A 2 is cyclohexane-1,4-diyl, cyclohexene-1,4-diyl, and 1 to 4 hydrogens are fluorine. Substituted cyclohexane-1,4-diyl, 1,4-phenylene, 1,4-phenylene in which 1 to 4 hydrogens are replaced by halogen, m is 0, and Z 1 is a single bond. The fumaric acid diester according to item (1) above.
【０００８】（４）Ｒ1が炭素数１〜２０のアルキルで
あり、ｍが０であり、Ｒ2が直鎖または分岐の炭素数１
〜２０のアルキルであり、Ｚ1が−Ｃ≡Ｃ−である、前
記（１）項に記載のフマル酸ジエステル。(4) R 1 is alkyl having 1 to 20 carbons, m is 0, and R 2 is linear or branched and has 1 carbon.
The fumaric acid diester according to item (1) above, which is alkyl of 20 to 20 and Z 1 is —C≡C—.
【０００９】（５）下記の式（２）で表される繰り返し
単位を少なくとも１つ含むポリマー。
（式中、Ｒ1は水素、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＣＦ2Ｈ、−
ＣＦＨ2、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ2Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣ
Ｓ、−Ｆ、−Ｃｌまたは炭素数１〜２０のアルキルであ
り、アルキルの１個の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−Ｓ−、−
ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯ−で置き換えられて
もよく；Ａ1、Ａ2またはＡ3はシクロヘキサン−１，４
−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１〜４個
の水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，
４−ジイル、１，４−フェニレン、１〜４個の水素がハ
ロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン
−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイ
ル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６
−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、また
はフルオレン−２，７−ジイルであり；ｍは１または０
であり；ｎは１〜２０の整数であり；Ｒ2は炭素数１〜
２０のアルキルであり；Ｚ1またはＺ2は単結合、−ＣＦ
2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ≡Ｃ−である。）(5) A polymer containing at least one repeating unit represented by the following formula (2). (In the formula, R 1 is hydrogen, —CN, —CF 3 , —CF 2 H, —
CFH 2, -OCF 3, -OCF 2 H, -NCO, -NC
S, -F, alkyl of -Cl or a C 1-20 1 alkyl amino -CH 2 - is -O -, - S -, -
COO -, - OCO- or -CO- may be replaced by; A 1, A 2 or A 3 is cyclohexane-1,4
-Diyl, cyclohexene-1,4-diyl, cyclohexane-1, in which 1 to 4 hydrogens have been replaced by fluorine,
4-diyl, 1,4-phenylene, 1,4-phenylene in which 1 to 4 hydrogens are replaced by halogen, pyridine-2,5-diyl, pyridazine-2,5-diyl, pyrimidine-2,5- Diyl, naphthalene-2,6-diyl, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6
-Diyl, 1,3-dioxane-2,5-diyl, or fluorene-2,7-diyl; m is 1 or 0
And n is an integer of 1 to 20; R 2 is a carbon number of 1 to
20 alkyl; Z 1 or Z 2 is a single bond, —CF
2 O -, - OCF 2 - , - CH 2 O -, - OCH 2 -, - C
H = CH -, - CH 2 CH 2 -, - is C≡C-. )
【００１０】（６）Ｒ1が−ＣＮであり、Ａ1、Ａ2また
はＡ3がシクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキ
セン−１，４−ジイル、１〜４個の水素がフッ素で置き
換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−
フェニレン、１〜４個の水素がハロゲンで置き換えられ
た１，４−フェニレンであり、Ｒ2が分岐または環状の
炭素数１〜２０のアルキルであり、Ｚ1が単結合であ
る、前記（５）項に記載のポリマー。(6) R 1 is --CN, A 1 , A 2 or A 3 is cyclohexane-1,4-diyl, cyclohexene-1,4-diyl, and 1 to 4 hydrogens are replaced by fluorine. Cyclohexane-1,4-diyl, 1,4-
Phenylene, 1,4-phenylene in which 1 to 4 hydrogens are replaced by halogens, R 2 is branched or cyclic C 1-20 alkyl, and Z 1 is a single bond; ) Section.
【００１１】（７）Ｒ1が炭素数１〜２０のアルキルで
あり、Ａ1またはＡ2がシクロヘキサン−１，４−ジイ
ル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１〜４個の水素
がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジ
イル、１，４−フェニレン、１〜４個の水素がハロゲン
で置き換えられた１，４−フェニレンであり、ｍが０で
あり、Ｚ1が単結合である、前記（５）項に記載のポリ
マー。(7) R 1 is alkyl having 1 to 20 carbons, A 1 or A 2 is cyclohexane-1,4-diyl, cyclohexene-1,4-diyl, and 1 to 4 hydrogens are fluorine. Substituted cyclohexane-1,4-diyl, 1,4-phenylene, 1,4-phenylene in which 1 to 4 hydrogens are replaced by halogen, m is 0, and Z 1 is a single bond. The polymer according to item (5) above.
【００１２】（８）Ｒ1が炭素数１〜２０のアルキルで
あり、ｍが０であり、Ｒ2が直鎖または分岐の炭素数１
〜２０のアルキルであり、Ｚ1が−Ｃ≡Ｃ−である、前
記（５）項に記載のポリマー。(8) R 1 is alkyl having 1 to 20 carbons, m is 0, and R 2 is a linear or branched C 1
The polymer according to item (5) above, wherein the alkyl is -20 and Z 1 is -C≡C-.
【００１３】（９）前記（５）〜（８）のいずれか１項
に記載のポリマーを用いた光学補償膜、液晶配向膜また
は光散乱モード記録材料。(9) An optical compensation film, a liquid crystal alignment film or a light scattering mode recording material using the polymer described in any one of (5) to (8) above.
【００１４】本発明のフマル酸ジエステルは以下の特徴
を持つ。
１．前記液晶骨格における連結基が、光や水分などに不
安定であるアゾ、ジアゾ、アゾキシ基などを含まない。
２．フマル酸ジエステルの片方のエステル基に、液晶性
の発現に寄与する骨格を、アルキレン鎖などのスペーサ
ーを介して結合しているため、ポリマーになったときに
液晶相を持ちやすい。このようなフマル酸ジエステルを
重合して得られる本発明のポリマーは以下の特徴を示
す。
３．ポリメチレン主鎖のすべての炭素に置換基が結合し
ているため、耐熱性、機械的強度に優れている。
４．液晶骨格は主鎖からの立体的な拘束を受けにくい。
したがって、液晶性を発現しやすいので、液晶温度範囲
が広い。
５．モノマーの構造が光に安定な構造であるので、対応
するポリマーも耐光性に優れている。
このように従来のアクリル系高分子液晶にはない優れた
性能を示す。The fumaric acid diester of the present invention has the following features. 1. The linking group in the liquid crystal skeleton does not include an azo group, a diazo group, an azoxy group and the like which are unstable to light and moisture. 2. Since the skeleton that contributes to the development of liquid crystallinity is bonded to one ester group of the fumaric acid diester via a spacer such as an alkylene chain, it tends to have a liquid crystal phase when it becomes a polymer. The polymer of the present invention obtained by polymerizing such a fumaric acid diester has the following characteristics. 3. It has excellent heat resistance and mechanical strength because the substituents are bonded to all carbon atoms of the polymethylene main chain. 4. The liquid crystal skeleton is less likely to be sterically constrained by the main chain.
Therefore, since the liquid crystal property is easily exhibited, the liquid crystal temperature range is wide. 5. Since the structure of the monomer is stable to light, the corresponding polymer is also excellent in light resistance. In this way, it exhibits excellent performance not found in conventional acrylic polymer liquid crystals.
【００１５】本発明において「液晶性」なる用語は、単
に化合物（モノマー、ポリマー）が液晶相を示すという
意味に限定されず、それ自体が液晶相を示さなくとも、
他の液晶化合物と混合したときにその液晶相を阻害せ
ず、液晶組成物の構成要素として活用できる特性をも包
含して意味する。式（１）で表されるフマル酸ジエステ
ル誘導体を化合物（１）またはモノマー（１）と称する
ことがある。また、式（２）で表されるポリマーをポリ
マー（２）と称することがある。In the present invention, the term "liquid crystallinity" is not limited to the meaning that a compound (monomer or polymer) exhibits a liquid crystal phase, and even if the compound itself does not exhibit a liquid crystal phase,
It also means that it does not hinder the liquid crystal phase when mixed with other liquid crystal compounds and can be utilized as a constituent element of a liquid crystal composition. The fumaric acid diester derivative represented by the formula (1) may be referred to as a compound (1) or a monomer (1). Further, the polymer represented by the formula (2) may be referred to as a polymer (2).
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】本発明の化合物をより具体的に説
明する。本発明の化合物は式（１）で表されるフマル酸
ジエステルである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The compound of the present invention will be described more specifically. The compound of the present invention is a fumaric acid diester represented by the formula (1).
【００１７】式（１）において、Ｒ1は水素、直鎖また
は分岐の炭素数１〜２０のアルキル、−ＣＮ、−Ｃ
Ｆ3、−ＣＦ2Ｈ、−ＣＦＨ2、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ
2Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−Ｆまたは−Ｃｌである。
アルキルの１個の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ
Ｏ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯ−で置き換えられてもよ
い。Ｒ 1は、ポリマーが液晶性を持ちやすいという点
で、水素、直鎖のアルキルまたは直鎖のアルコキシが好
ましい。直鎖のアルキル、アルコキシの具体例として
は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、メトキ
シ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチル
オキシ、ノニルオキシ、デシルオキシがあげられる。一
方でＲ1は、ポリマーの液晶性を損ねることなく誘電率
異方性を大きくすることができるという点で、−ＣＮ、
−ＣＦ3、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ2Ｈ、または−Ｆが好ま
しい。In equation (1), R1Is hydrogen, straight chain or
Is branched alkyl having 1 to 20 carbon atoms, -CN, -C
F3, -CF2H, -CFH2, -OCF3, -OCF
2H, -NCO, -NCS, -F or -Cl.
One alkyl -CH2-Is -O-, -S-, -CO
May be replaced with O-, -OCO- or -CO-
Yes. R 1Is that polymers tend to have liquid crystallinity.
And hydrogen, linear alkyl or linear alkoxy are preferred.
Good Specific examples of straight-chain alkyl and alkoxy
Is methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl,
Xyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, methoki
Ci, ethoxy, propyloxy, butyloxy, pliers
Luoxy, hexyloxy, heptyloxy, octyl
Examples include oxy, nonyloxy, and decyloxy. one
R in one1Is the dielectric constant without deteriorating the liquid crystallinity of the polymer.
-CN, in that anisotropy can be increased,
-CF3, -OCF3, -OCF2H or -F is preferred
Good
【００１８】Ａ1、Ａ2またはＡ3は、シクロヘキサン−
１，４−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１
〜４個の水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン
−１，４−ジイル、１，４−フェニレン、１個から４個
の水素がフッ素、塩素などのハロゲンで置き換えられた
１，４−フェニレン、１，１’−ビフェニレン−４，
４’−ジイル、シクロヘキシルフェニル−４，４’−ジ
イル、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５
−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−
２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタ
レン−２，６−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−
ジイル、またはフルオレン−２，７−ジイルである。こ
の中で具体的には以下の環が好ましい。A 1 , A 2 or A 3 is cyclohexane-
1,4-diyl, cyclohexene-1,4-diyl, 1
Cyclohexane-1,4-diyl in which 4 hydrogens are replaced by fluorine, 1,4-phenylene, 1,4-phenylene in which 1 to 4 hydrogens are replaced by halogen such as fluorine and chlorine, 1 , 1'-biphenylene-4,
4'-diyl, cyclohexylphenyl-4,4'-diyl, pyridine-2,5-diyl, pyridazine-2,5
-Diyl, pyrimidine-2,5-diyl, naphthalene-
2,6-diyl, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl, 1,3-dioxane-2,5-
It is diyl or fluorene-2,7-diyl. Of these, the following rings are specifically preferred.
【００１９】 [0019]
【００２０】Ｒ2は直鎖、分岐または環状の炭素数１〜
２０のアルキルである。好ましい直鎖のアルキルはメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルである。好ましい
分岐のアルキルは、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ
−ブチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−
メチルブチル、ｓｅｃ−ヘキシル、４−メチル−２−ペ
ンチル、ｓｅｃ−ヘプチル、ｓｅｃ−オクチルである。
また、好ましい環状アルキルは、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロドデシル、４−メチルシクロヘキシル、
４−エチルシクロヘキシル、４−プロピルシクロヘキシ
ル、４−ブチルシクロヘキシル、４−ペンチルシクロヘ
キシル、４−ヘキシルシクロヘキシル、４−ヘプチルシ
クロヘキシル、４−オクチルシクロヘキシル、４−ノニ
ルシクロヘキシル、４−デシルシクロヘキシル、トラン
ス−４−シクロヘキシルシクロヘキシル、トランス−４
−（４−メチルシクロヘキシル）シクロヘキシル、トラ
ンス−４−（４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシ
ル、トランス−４−（４−プロピルシクロヘキシル）シ
クロヘキシル、トランス−４−（４−ペンチルシクロヘ
キシル）シクロヘキシル、トランス−４−（４−ヘキシ
ルシクロヘキシル）シクロヘキシル、トランス−４−
（４−ヘプチルシクロヘキシル）シクロヘキシル、トラ
ンス−４−（４−オクチルシクロヘキシル）シクロヘキ
シル、ノルボニル、カンフェニル、トリシクロデシル、
アダマンチル、ジメチルアダマンチルである。R 2 is a linear, branched or cyclic C 1 -C 1
20 alkyls. Preferred straight chain alkyls are methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl,
Heptyl, octyl, nonyl and decyl. Preferred branched alkyls are isopropyl, sec-butyl, t
-Butyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-
Methylbutyl, sec-hexyl, 4-methyl-2-pentyl, sec-heptyl, sec-octyl.
Further, preferred cyclic alkyl is cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclododecyl, 4-methylcyclohexyl,
4-ethylcyclohexyl, 4-propylcyclohexyl, 4-butylcyclohexyl, 4-pentylcyclohexyl, 4-hexylcyclohexyl, 4-heptylcyclohexyl, 4-octylcyclohexyl, 4-nonylcyclohexyl, 4-decylcyclohexyl, trans-4-cyclohexyl Cyclohexyl, trans-4
-(4-methylcyclohexyl) cyclohexyl, trans-4- (4-ethylcyclohexyl) cyclohexyl, trans-4- (4-propylcyclohexyl) cyclohexyl, trans-4- (4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl, trans-4- ( 4-hexylcyclohexyl) cyclohexyl, trans-4-
(4-heptylcyclohexyl) cyclohexyl, trans-4- (4-octylcyclohexyl) cyclohexyl, norbonyl, camphenyl, tricyclodecyl,
It is adamantyl and dimethyl adamantyl.
【００２１】Ｒ2が嵩高い方がモノマーの反応性が高
い。反応性の高さは環状アルキル＞分岐アルキル＞直鎖
アルキルの順である。Ｒ2が嵩高くない方がポリマーの
液晶性が高い。液晶性は直鎖アルキル＞分岐アルキル＞
環状アルキルの順で高い。これらの性質をバランスよく
有する点で、Ｒ2は分岐アルキルが好ましく、中でもイ
ソプロピルが特に好ましい。The bulkier R 2 is, the higher the reactivity of the monomer is. The degree of reactivity is in the order of cyclic alkyl> branched alkyl> straight chain alkyl. The liquid crystallinity of the polymer is higher when R 2 is not bulky. Liquid crystal is straight-chain alkyl> branched alkyl>
Higher in the order of cyclic alkyl. From the viewpoint of having these properties in a well-balanced manner, R 2 is preferably branched alkyl, and particularly preferably isopropyl.
【００２２】Ｚ1またはＺ2はそれぞれ独立して、単結
合、−ＣＦ2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣ
Ｈ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2−、または−Ｃ
≡Ｃ−である。単結合または−Ｃ≡Ｃ−である場合、液
晶ポリマーの屈折率異方性を大きくすることができるの
で好ましい。−ＣＦ2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＨ2Ｏ
−、−ＯＣＨ2−、または−ＣＨ2ＣＨ2−の場合は、液
晶骨格の柔軟性が増大し、比較的低い粘性を有するポリ
マーが得られるので好ましい。Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —CH 2 O—, —OC.
H 2 -, - CH = CH -, - CH 2 CH 2 -, or -C
≡C−. A single bond or -C≡C- is preferable because the refractive index anisotropy of the liquid crystal polymer can be increased. -CF 2 O -, - OCF 2 -, - CH 2 O
-, - OCH 2 -, or -CH 2 CH 2 - in the case of the liquid crystal flexibility of the backbone increases, the polymer having a relatively low viscosity can be obtained.
【００２３】本発明の液晶ポリマーの末端基、環、結合
基を適当に選ぶことによって高い液晶性が得られる。ポ
リマーの液晶温度範囲を室温付近に制御するためには、
ｍが０である下記の（１−１）〜（１−７）が好まし
い。
（式中、Ｒ1、Ａ1、Ａ2は前記と同一の意味を示す）High liquid crystallinity can be obtained by appropriately selecting the terminal group, ring and bonding group of the liquid crystal polymer of the present invention. To control the liquid crystal temperature range of the polymer near room temperature,
The following (1-1) to (1-7) in which m is 0 are preferable. (In the formula, R 1 , A 1 and A 2 have the same meanings as described above.)
【００２４】さらに、液晶相の温度範囲を高温度領域ま
で広げるには、ｍが１である下記の（１−８）〜（１−
１９）が好ましい。
（式中、Ｒ1、Ａ1、Ａ2は前記と同一の意味を示す）Further, in order to extend the temperature range of the liquid crystal phase to a high temperature range, the following (1-8) to (1-
19) is preferred. (In the formula, R 1 , A 1 and A 2 have the same meanings as described above.)
【００２５】ｎは１〜２０の整数であり、ポリマーが液
晶相を持ちやすいという点で３〜１１が好ましい。N is an integer of 1 to 20, and is preferably 3 to 11 in that the polymer easily has a liquid crystal phase.
【００２６】［フマル酸ジエステル誘導体の製造方法］
モノマー（１）は、次の方法に従って製造できる。すな
わち、無水マレイン酸とアルコール（Ｒ2ＯＨ）とのエ
ステル化によりマレイン酸モノエステル（ａ）とし、こ
のエステル（ａ）を異性化することでフマル酸モノエス
テル（ｂ）を製造する。アルコール誘導体（ｃ）はヒド
ロキシル基を含む液晶骨格とω−ブロモアルカノール
を、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水素化ナトリウムなどの塩基によりエーテル化する
ことで製造する。次いで、フマル酸モノエステル（ｂ）
とアルコール誘導体（ｃ）を、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミドあるいは１−エチル−３−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）カルボジイミド塩酸塩などの縮合剤を用い
てエステル化することで、フマル酸ジエステルモノマー
（１）を製造する。[Method for producing fumaric acid diester derivative]
Monomer (1) can be produced according to the following method. That is, maleic anhydride and an alcohol (R 2 OH) are esterified to give a maleic acid monoester (a), and the ester (a) is isomerized to produce a fumaric acid monoester (b). The alcohol derivative (c) is produced by etherifying a liquid crystal skeleton containing a hydroxyl group and a ω-bromoalkanol with a base such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate or sodium hydride. Then, fumaric acid monoester (b)
The fumaric acid diester monomer (1) is produced by esterifying the alcohol derivative (c) and the alcohol derivative (c) with a condensing agent such as dicyclohexylcarbodiimide or 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride. .
【００２７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ａ1、Ａ2、Ａ3、Ｚ1、Ｚ2、ｍ、ｎ
は前記と同一の意味を示す）
前述の製造方法により化合物番号［１］〜［１０６］の
化合物を製造できる。[0027] (In the formula, R 1 , R 2 , A 1 , A 2 , A 3 , Z 1 , Z 2 , m, n
Represents the same meaning as described above.) Compounds [1] to [106] can be produced by the above production method.
【００２８】 [0028]
【００２９】 [0029]
【００３０】 [0030]
【００３１】 [0031]
【００３２】 [0032]
【００３３】 [0033]
【００３４】 [0034]
【００３５】 [0035]
【００３６】 [0036]
【００３７】 [0037]
【００３８】 [0038]
【００３９】［共重合体の製造方法］モノマー（１）は
重合性を有する。ラジカル重合、アニオン重合、配位重
合、リビング重合などの反応によってポリマーが得られ
る。モノマー（１）の１つを重合させると単独重合体が
得られる。このポリマーは式（２）で表される繰り返し
単位を有する。少なくとも２つのモノマー（１）を共重
合させると共重合体が得られる。モノマー（１）と他の
重合性化合物を共重合させても共重合体が得られる。共
重合体において、式（２）で表される繰り返し単位はラ
ンダム、ブロック、交互、グラフトなどのいずれであっ
てもよい。モノマー（１）は、下記の式（３）で表され
る液晶性を示さないフマル酸ジエステル（以下、モノマ
ー（３）という）またはビニル系モノマーと共重合する
ことができる。最初に、共重合に適したモノマー（３）
を示す。
[Method for producing copolymer] The monomer (1) has a polymerizability. A polymer is obtained by reactions such as radical polymerization, anionic polymerization, coordination polymerization, living polymerization and the like. A homopolymer is obtained by polymerizing one of the monomers (1). This polymer has a repeating unit represented by the formula (2). A copolymer is obtained by copolymerizing at least two monomers (1). A copolymer is also obtained by copolymerizing the monomer (1) with another polymerizable compound. In the copolymer, the repeating unit represented by the formula (2) may be random, block, alternating or graft. The monomer (1) can be copolymerized with a fumaric acid diester having no liquid crystallinity represented by the following formula (3) (hereinafter referred to as the monomer (3)) or a vinyl-based monomer. First, a monomer suitable for copolymerization (3)
Indicates.
【００４０】モノマー（３）において、Ｒ3またはＲ4は
１価の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素である。
これらの基の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。
これらの基の炭素は硫黄（Ｓ）、窒素（Ｎ）、リン
（Ｐ）およびケイ素（Ｓｉ）などのヘテロ原子に置き換
えられてもよい。これらの炭化水素基は非環式、単環
式、縮合多環式、または架橋環式である。脂肪族炭化水
素基の好ましい炭素数は１〜１４であり、芳香族炭化水
素の好ましい炭素数は６〜２０である。これらの１価基
の具体例を直鎖アルキル、分岐アルキル、シクロアルキ
ル、アリール、ハロゲン、またはヘテロ原子を含有する
アルキルの順に示す。In the monomer (3), R 3 or R 4 is a monovalent aliphatic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon.
The hydrogen in these groups may be replaced by halogen.
The carbons in these groups may be replaced by heteroatoms such as sulfur (S), nitrogen (N), phosphorus (P) and silicon (Si). These hydrocarbon groups are acyclic, monocyclic, fused polycyclic, or bridged cyclic. The aliphatic hydrocarbon group preferably has 1 to 14 carbon atoms, and the aromatic hydrocarbon group preferably has 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of these monovalent groups are shown in the order of linear alkyl, branched alkyl, cycloalkyl, aryl, halogen, or alkyl containing a hetero atom.
【００４１】直鎖アルキルの具体例は、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル
である。分岐アルキルの具体例は、イソプロピル、ｓｅ
ｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ−アミル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ｓｅｃ−ヘキシル、
４−メチル−２−ペンチル、ｓｅｃ−ヘプチル、ｓｅｃ
−オクチルである。シクロアルキルの具体例は、シクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、アダマンチル、ジメチルアダマンチルである。ア
リールの具体例は、フェニル、ベンジル、１−フェニル
−１−エチル、３−フェニルプロピル、１−フェニル−
２−プロピル、１−フェニル−１−プロピルである。Specific examples of linear alkyl are methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl. Specific examples of branched alkyl include isopropyl, se
c-butyl, t-butyl, sec-amyl, isopentyl, neopentyl, t-pentyl, sec-hexyl,
4-methyl-2-pentyl, sec-heptyl, sec
-Octyl. Specific examples of cycloalkyl are cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, adamantyl, dimethyladamantyl. Specific examples of aryl include phenyl, benzyl, 1-phenyl-1-ethyl, 3-phenylpropyl, 1-phenyl-
2-propyl and 1-phenyl-1-propyl.
【００４２】ハロゲンを含有するアルキルの具体例はト
リフルオロメチル、トリフルオロメチルエチル、ヘキサ
フルオロイソプロピル、パーフルオロイソプロピル、パ
ーフルオロブチルエチル、パーフルオロオクチルエチ
ル、２−クロロエチル、１−ブトキシ−２−プロピルで
ある。ヘテロ原子を含有するアルキルの具体例はメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキ
シ；メトキシメチル、メトキシエチルなどのアルコキシ
アルキル、シアノメチル、シアノエチル、シアノブチル
などのシアノアルキル；ヒドロキシ、ヒドロキシエチ
ル、ヒドロキシエチルチオエチル（ＨＯ−ＣＨ2ＣＨ2−
Ｓ−ＣＨ2ＣＨ2−）、ヒドロキシブチルなどのヒドロキ
シアルキル；またはトリメチルシリル、トリメチルシロ
キシプロピルなどの含ケイ素基である。Specific examples of the alkyl containing halogen include trifluoromethyl, trifluoromethylethyl, hexafluoroisopropyl, perfluoroisopropyl, perfluorobutylethyl, perfluorooctylethyl, 2-chloroethyl, 1-butoxy-2-propyl. Is. Specific examples of the alkyl containing a hetero atom include alkoxy such as methoxy, ethoxy, propoxy and butoxy; alkoxyalkyl such as methoxymethyl and methoxyethyl; cyanoalkyl such as cyanomethyl, cyanoethyl and cyanobutyl; hydroxy, hydroxyethyl and hydroxyethylthioethyl. (HO-CH 2 CH 2 -
S-CH 2 CH 2 —), hydroxyalkyl such as hydroxybutyl; or a silicon-containing group such as trimethylsilyl and trimethylsiloxypropyl.
【００４３】Ｒ3とＲ4が対称（Ｒ3＝Ｒ4）であるモノマ
ー（３）は共重合性がよく、モノマー（１）との共重合
に適している。好ましいモノマー（３）はフマル酸ジエ
チル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジブチル、フ
マル酸ジシクロヘキシル、フマル酸ジ１−フェニル−２
−プロピル、フマル酸ジｓｅｃ−ブチル、フマル酸ジｔ
−ブチル、フマル酸ジ２−エチルヘキシルである。なか
でも、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジｓｅｃ−ブ
チルは特に好ましい。The monomer (3) in which R 3 and R 4 are symmetrical (R 3 = R 4 ) has good copolymerizability and is suitable for copolymerization with the monomer (1). Preferred monomers (3) are diethyl fumarate, diisopropyl fumarate, dibutyl fumarate, dicyclohexyl fumarate, di1-phenyl-2 fumarate.
-Propyl, di-sec-butyl fumarate, di-t-fumarate
-Butyl, di2-ethylhexyl fumarate. Among them, diisopropyl fumarate and disec-butyl fumarate are particularly preferable.
【００４４】Ｒ３とＲ４が非対称の場合（Ｒ３≠
Ｒ４）、好ましいＲ３はイソプロピル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、およびシクロヘキシ
ルである。好ましいＲ４は炭素数１〜１２のアルキル、
シクロアルキル、およびアリールである。アリールとし
ては１−フェニル−２−エチル、１−フェニル−２−プ
ロピルが好ましい。また、Ｒ4はトリフルオロメチル、
トリメチルシリル、シアノ、ヒドロキシを含有するアル
キル、シクロアルキルおよびアリールも好ましい。When R 3 and R 4 are asymmetric (R 3 ≠
R < 4 >), preferred R < 3 > is isopropyl, sec-butyl, t-butyl, cyclopentyl, and cyclohexyl. Preferred R 4 is alkyl having 1 to 12 carbons,
Cycloalkyl and aryl. As aryl, 1-phenyl-2-ethyl and 1-phenyl-2-propyl are preferable. R 4 is trifluoromethyl,
Also preferred are trimethylsilyl, cyano, hydroxy containing alkyls, cycloalkyls and aryls.
【００４５】非対称なモノマー（３）の具体例を示す。
Ｒ3とＲ4とを明確に区別するために、＝の記号を用い
た。具体例はフマル酸イソプロピル＝メチル、フマル酸
イソプロピル＝エチル、フマル酸イソプロピル＝プロピ
ル、フマル酸イソプロピル＝ブチル、フマル酸イソプロ
ピル＝ｓｅｃ−ブチル、フマル酸イソプロピル＝ｔ−ブ
チル、フマル酸イソプロピル＝イソアミル、フマル酸イ
ソプロピル＝ｓｅｃ−アミル、フマル酸イソプロピル＝
ｓｅｃ−ヘキシル、フマル酸イソプロピル＝４−メチル
−２−ペンチル、フマル酸イソプロピル＝２−エチルヘ
キシル、フマル酸イソプロピル＝オクチル、フマル酸イ
ソプロピル＝シクロヘキシル、フマル酸イソプロピル＝
ノニル、フマル酸ｔ−ブチル＝ｓｅｃ−ブチル、フマル
酸ｔ−ブチル＝シクロヘキシル、フマル酸ｔ−ブチル＝
４−メチル−２−ペンチル、フマル酸ｔ−ブチル＝２−
エチルヘキシル、フマル酸イソプロピル＝シクロヘキシ
ル、フマル酸イソプロピル＝シクロペンチルなどのジア
ルキルエステルである。Specific examples of the asymmetric monomer (3) are shown below.
The symbol = is used to clearly distinguish R 3 and R 4 . Specific examples are isopropyl fumarate = methyl, isopropyl fumarate = ethyl, isopropyl fumarate = propyl, isopropyl fumarate = butyl, isopropyl fumarate = sec-butyl, isopropyl fumarate = t-butyl, isopropyl fumarate = isoamyl, fumarate. Isopropyl acid = sec-amyl, isopropyl fumarate =
sec-hexyl, isopropyl fumarate = 4-methyl-2-pentyl, isopropyl fumarate = 2-ethylhexyl, isopropyl fumarate = octyl, isopropyl fumarate = cyclohexyl, isopropyl fumarate =
Nonyl, t-butyl fumarate = sec-butyl, t-butyl fumarate = cyclohexyl, t-butyl fumarate =
4-methyl-2-pentyl, t-butyl fumarate = 2-
Dialkyl esters such as ethylhexyl, isopropyl fumarate = cyclohexyl, isopropyl fumarate = cyclopentyl and the like.
【００４６】具体例はフマル酸イソプロピル＝２−フェ
ニル−１−エチル、フマル酸イソプロピル＝３−フェニ
ルプロピル、フマル酸イソプロピル＝１−フェニル−２
−プロピル、フマル酸イソプロピル＝１−フェニル−１
−プロピルなどのアリールを含有したエステルであり、
フマル酸イソプロピル＝（トリメチルシリル）プロピ
ル、フマル酸ｔ−ブチル＝（トリメチルシリル）プロピ
ル、フマル酸シクロヘキシル＝（トリメチルシリル）プ
ロピル、フマル酸イソプロピル＝（３−トリス（トリメ
チルシロキシ）シリル）プロピル、フマル酸イソプロピ
ル＝３−（ペンタメチル）ジシロキサニル）プロピルな
どのケイ素を含有したエステルであり、フマル酸Ｎ、Ｎ
−ジメチルアミノエチル＝イソプロピル、フマル酸ｔ−
ブチル＝１−ブトキシ−２−プロピル、フマル酸２−シ
アノエチル＝イソプロピル、フマル酸２−ヒドロキシエ
チル＝イソプロピル、フマル酸グリシジル＝イソプロピ
ル、フマル酸イソプロピル＝ジエチルホスフォメチル、
フマル酸２−メチルチオエチル＝イソプロピル、フマル
酸イソプロピル＝２−ヒドロキシエチルチオエチル＝イ
ソプロピルなどのヘテロ原子を含有したエステルであ
る。具体例はフマル酸パーフルオロオクチルエチル＝イ
ソプロピル、フマル酸トリフルオロメチル＝イソプロピ
ル、フマル酸ペンタフルオロエチル＝イソプロピル、フ
マル酸ヘキサフルオロイソプロピル＝イソプロピルなど
のハロゲンを含有したエステルである。Specific examples are isopropyl fumarate = 2-phenyl-1-ethyl, isopropyl fumarate = 3-phenylpropyl, isopropyl fumarate = 1-phenyl-2.
-Propyl, isopropyl fumarate = 1-phenyl-1
An ester containing an aryl such as propyl,
Isopropyl fumarate = (trimethylsilyl) propyl, t-butyl fumarate = (trimethylsilyl) propyl, cyclohexyl fumarate = (trimethylsilyl) propyl, isopropyl fumarate = (3-tris (trimethylsiloxy) silyl) propyl, isopropyl fumarate = 3 A silicon-containing ester such as-(pentamethyl) disiloxanyl) propyl, the fumaric acid N, N
-Dimethylaminoethyl = isopropyl, fumaric acid t-
Butyl = 1-butoxy-2-propyl, 2-cyanoethyl fumarate = isopropyl, 2-hydroxyethyl fumarate = isopropyl, glycidyl fumarate = isopropyl, isopropyl fumarate = diethylphosphomethyl,
Esters containing a hetero atom such as 2-methylthioethyl fumarate = isopropyl and isopropyl fumarate = 2-hydroxyethylthioethyl = isopropyl. Specific examples are perfluorooctylethyl fumarate isopropyl, trifluoromethyl fumarate isopropyl, pentafluoroethyl fumarate isopropyl, hexafluoroisopropyl fumarate isopropyl, and other halogen-containing esters.
【００４７】好ましい非対称フマル酸ジエステルはフマ
ル酸イソプロピル＝エチル、フマル酸イソプロピル＝ブ
チル、フマル酸イソプロピル＝ブチル、フマル酸イソプ
ロピル＝アミル、フマル酸イソプロピル＝ｓｅｃ−ブチ
ル、フマル酸イソプロピル＝ｔ−ブチル、フマル酸イソ
プロピル＝シクロヘキシル、フマル酸イソプロピル＝シ
クロペンチル、フマル酸イソプロピル＝１−フェニル−
２−プロピル、フマル酸イソプロピル＝パーフルオロイ
ソプロピルである。これらのうち、フマル酸イソプロピ
ル＝２−ヒドロキシエチル、フマル酸イソプロピル＝２
−シアノエチルが性能の点から特に好ましい。Preferred asymmetric fumarate diesters are isopropyl fumarate = ethyl, isopropyl fumarate = butyl, isopropyl fumarate = butyl, isopropyl fumarate = amyl, isopropyl fumarate = sec-butyl, isopropyl fumarate = t-butyl, fumarate. Isopropyl acid cyclohexyl, Isopropyl fumarate = Cyclopentyl, Isopropyl fumarate = 1-phenyl-
2-propyl, isopropyl fumarate = perfluoroisopropyl. Of these, isopropyl fumarate = 2-hydroxyethyl, isopropyl fumarate = 2
-Cyanoethyl is particularly preferable in terms of performance.
【００４８】次に、ビニル系モノマーを例示する。この
ビニル系モノマーは化合物（１）と共重合し、生成した
共重合体に皮膜形成性と機械的強度を付与することがで
きれば特に限定されない。好ましいビニル系モノマーは
オレフィン系炭化水素を主体とするビニル系モノマーで
ある。具体例は酢酸ビニル、ピバリン酸ビニル、２，２
−ジメチルブタン酸ビニル、２，２−ジメチルペンタン
酸ビニル、２−メチル−２−ブタン酸ビニル、プロピオ
ン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、２−エチル−２−メ
チルブタン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルである。具
体例はＮ−ビニルアセトアミドなどのビニルアセトアミ
ドである。具体例はｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸ビニ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸ビニル、安息香酸
ビニルなどの芳香族ビニル系単量体である。具体例はス
チレン、ｏ−、ｍ−、ｐ−クロロスチレン、ｏ−、ｍ
−、ｐ−クロロメチルスチレン、α−メチルスチレンな
どのスチレン誘導体である。具体例は塩化ビニル、フッ
化ビニルなどのハロゲン化ビニルである。Next, vinyl monomers will be exemplified. The vinyl-based monomer is not particularly limited as long as it can be copolymerized with the compound (1) and impart film-forming property and mechanical strength to the resulting copolymer. A preferred vinyl-based monomer is a vinyl-based monomer mainly containing an olefinic hydrocarbon. Specific examples are vinyl acetate, vinyl pivalate, 2,2
And vinyl carboxylates such as vinyl dimethylbutanoate, vinyl 2,2-dimethylpentanoate, vinyl 2-methyl-2-butanoate, vinyl propionate, vinyl stearate and vinyl 2-ethyl-2-methylbutanoate. A specific example is vinyl acetamide, such as N-vinyl acetamide. Specific examples are aromatic vinyl monomers such as vinyl p-tert-butylbenzoate, vinyl N, N-dimethylaminobenzoate, and vinyl benzoate. Specific examples are styrene, o-, m-, p-chlorostyrene, o-, m.
Styrene derivatives such as-, p-chloromethylstyrene and α-methylstyrene. Specific examples are vinyl halides such as vinyl chloride and vinyl fluoride.
【００４９】具体例はエチルビニルエーテル、ヒドロキ
シブチルモノビニルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルビニル
エーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエ
ーテルなどのビニルエーテルである。具体例はα、β−
ビニルナフタレンなどのナフタレン誘導体である。具体
例はメチルビニルケトン、イソブチルビニルケトンなど
のアルキルビニルケトンである。具体例はブタジエン、
イソプレンなどのジエンである。具体例はメチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチ
ル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）
アクリレート、フェニル（メタ）アクリレートなどの
（メタ）アクリル酸エステルである。具体例はジメチル
イタコネート、ジエチルイタコネート、ジブチルイタコ
ネート、ジイソプロピルイタコネートなどのイタコネー
トである。Specific examples are vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, hydroxybutyl monovinyl ether, tert-amyl vinyl ether and cyclohexanedimethanol methyl vinyl ether. Specific examples are α, β-
It is a naphthalene derivative such as vinylnaphthalene. Specific examples are alkyl vinyl ketones such as methyl vinyl ketone and isobutyl vinyl ketone. Specific examples are butadiene,
Diene such as isoprene. Specific examples are methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth).
(Meth) acrylic acid esters such as acrylate and phenyl (meth) acrylate. Specific examples are itaconates such as dimethyl itaconate, diethyl itaconate, dibutyl itaconate and diisopropyl itaconate.
【００５０】好ましいビニル系モノマーのその他の具体
例は液晶性を有するアクリル酸誘導体である。この誘導
体はポリマー（２）の液晶相の温度範囲を調節するため
に用いる。共重合に適したアクリル酸誘導体の代表例を
示す。Another specific example of the preferred vinyl-based monomer is an acrylic acid derivative having liquid crystallinity. This derivative is used for controlling the temperature range of the liquid crystal phase of the polymer (2). Representative examples of acrylic acid derivatives suitable for copolymerization are shown below.
【００５１】 [0051]
【００５２】前記のビニル系モノマーは、１種のみを用
いてもよいし、２種以上を併用してもよい。The above vinyl-based monomers may be used alone or in combination of two or more.
【００５３】熱重合によるポリマー（２）あるいはその
共重合体は、各種の保護膜、液晶表示素子の配向膜など
への応用が可能である。光重合によるポリマー（２）あ
るいはその共重合体は、熱重合のそれと同様な応用のほ
かに、偏光させた紫外線は重合性分子を偏光の方向に揃
えて重合させるので、ラビングレスの配向膜などへの応
用が可能である。ポリマー（２）あるはその共重合体は
光学異方性を有するため、単独で位相差板として使用す
るか、他の位相差板と組み合わせることにより、偏光
板、円偏光板、楕円偏光板、色補償板、視覚補償板など
の光学フィルムへの応用、あるいは、光散乱を利用した
リライタブル記録材料（光散乱モード記録材料）への応
用が可能である。The polymer (2) obtained by thermal polymerization or its copolymer can be applied to various protective films, alignment films for liquid crystal display devices and the like. The polymer (2) by photopolymerization or its copolymer has the same application as that of thermal polymerization, and since polarized UV rays polymerize the polymerizable molecules by aligning them in the direction of polarization, rubbingless alignment films, etc. Can be applied to. Since the polymer (2) or its copolymer has optical anisotropy, it can be used as a retardation plate alone or in combination with another retardation plate to prepare a polarizing plate, a circularly polarizing plate, an elliptically polarizing plate, It can be applied to an optical film such as a color compensating plate and a visual compensating plate, or to a rewritable recording material utilizing light scattering (light scattering mode recording material).
【００５４】モノマー（１）の重合によりポリマー
（２）を製造するには、目的とする用途により適した重
合方法を選択する。例えば、敏速に重合させることが必
要な場合は、紫外線あるいは電子線などのエネルギーを
照射することにより重合させる方法が好ましい。その
際、ポリマー（２）は、モノマー（１）、および必要に
応じて、前述した他のフマル酸ジエステル、ビニル系モ
ノマーあるいは（メタ）アクリル系モノマーとを、光ラ
ジカル重合開始剤の存在下で重合させることによって得
られる。光ラジカル重合開始剤としては、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−（４
−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２
−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−
モルホリノプロパン−１、および２，４−ジエチルキサ
ントンとｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチルの混合物な
どがあげられる。In order to produce the polymer (2) by polymerizing the monomer (1), a polymerization method suitable for the intended use is selected. For example, when quick polymerization is required, a method of irradiating with energy such as ultraviolet rays or electron beams is preferable. At that time, the polymer (2) is mixed with the monomer (1) and, if necessary, the above-mentioned other fumaric acid diester, vinyl-based monomer or (meth) acrylic-based monomer in the presence of a photoradical polymerization initiator. It is obtained by polymerizing. As the photo-radical polymerization initiator, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1
-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 1- (4
-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, benzyl dimethyl ketal, 2
-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-
Examples thereof include morpholinopropane-1, and a mixture of 2,4-diethylxanthone and methyl p-dimethylaminobenzoate.
【００５５】光学異方性薄膜を製造するには、配向処理
したガラス板に、モノマー（１）ならびに光ラジカル重
合開始剤、必要に応じて他のモノマーとの混合物（以降
モノマー混合物と略記する）を注入し、配向状態とした
後、紫外線により重合（紫外線硬化）させる方法が好ま
しい。または、ラビング処理したトリアセチルセルロー
スの薄膜にモノマー混合物を塗布して配向させ、紫外線
硬化させる方法が好ましい。後者の方法の場合は、塗布
時のレベリング性、配向性を調整するためにモノマー混
合物に有機溶剤を加え、塗布した後、溶剤を除去して紫
外線硬化することもできる。To produce an optically anisotropic thin film, a glass plate subjected to orientation treatment is mixed with the monomer (1), a photoradical polymerization initiator and, if necessary, other monomers (hereinafter abbreviated as a monomer mixture). It is preferable to use a method of injecting and aligning and then polymerizing (ultraviolet curing) with ultraviolet rays. Alternatively, a method in which a monomer mixture is applied to a rubbing-treated triacetylcellulose thin film for orientation and ultraviolet curing is preferable. In the case of the latter method, an organic solvent may be added to the monomer mixture in order to adjust the leveling property and orientation at the time of coating, and after coating, the solvent may be removed and ultraviolet curing may be performed.
【００５６】好ましい有機溶剤はアニソール、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、メチルイソブチルケトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノ
ン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノ
ン、３−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノ
ン、４−ヘプタノン、２，６−ジメチル−４−ヘプタノ
ン、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノ
ール、イソプロピルアルコール、メチルセルソルブ、酢
酸メチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メ
チルなどである。Preferred organic solvents are anisole, dioxane, tetrahydrofuran, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, 3-hexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4 -Heptanone, 2,6-dimethyl-4-heptanone, n-butanol, 2-butanol, cyclohexanol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl acetate and the like.
【００５７】均一な膜厚に塗布する方法としては、マイ
クログラビアコート法、グラビアコート法、ワイヤーバ
ーコード法、デップコート法、スプレーコート法、メニ
スカスコート法などが挙げられる。光学異方性薄膜の厚
さは所望とする位相差値により異なり、位相差値は光学
異方性薄膜の複屈折率により異なるが、好ましくは０．
０５〜５０μｍ、より好ましくは０．１〜２０μｍ、さ
らに好ましくは０．５〜１０μｍ程度である。光学異方
性薄膜のヘイズ値は１．５％以下、透過率で８０％以上
であることが好ましく、より好ましくはヘイズ値で１．
０％、透過率で８５％以上である。可視光領域で透過率
がこれらを満たすことが好ましい。ヘイズ値がこれ以上
の場合には、偏光性能に問題を生じ、透過率が低いと液
晶表示素子に用いた場合に明るさの損失の点で許容でき
ない。Examples of the method for applying a uniform film thickness include a microgravure coating method, a gravure coating method, a wire bar code method, a dip coating method, a spray coating method and a meniscus coating method. The thickness of the optically anisotropic thin film depends on the desired retardation value, and the retardation value depends on the birefringence of the optically anisotropic thin film, but preferably 0.
05 to 50 μm, more preferably 0.1 to 20 μm, and further preferably 0.5 to 10 μm. The optically anisotropic thin film preferably has a haze value of 1.5% or less and a transmittance of 80% or more, more preferably a haze value of 1.
It is 0% and the transmittance is 85% or more. It is preferable that the transmittance satisfies these in the visible light region. When the haze value is more than this, a problem occurs in the polarization performance, and when the transmittance is low, it is unacceptable in terms of loss of brightness when used in a liquid crystal display device.
【００５８】また、液晶配向膜などを製造する場合に
は、熱による重合が好ましい。かかる重合は液晶性フマ
ル酸ジエステルモノマー（１）及び必要に応じて他のモ
ノマー成分とを、ラジカル重合開始剤の存在下で０〜１
５０℃の反応温度で１〜１００時間程度反応させること
によって実施される。前記重合開始剤としては、例え
ば、過酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキシジカ
ーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサ
ノエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチ
ルパーオキシジイソブチレート、ジ−ｔ−ブチルパーオ
キシド（ＤＴＢＰＯ）、過酸化ラウロイル、２，２′−
アゾビスイソ酪酸ジメチル（ＭＡＩＢ）、アゾビスイソ
ブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスシクロヘキサン
カルボニトリル（ＡＣＮ）などが挙げられる。When producing a liquid crystal alignment film or the like, polymerization by heat is preferable. The polymerization is carried out by mixing the liquid crystalline fumaric acid diester monomer (1) and, if necessary, other monomer components with 0-1 in the presence of a radical polymerization initiator.
The reaction is carried out at a reaction temperature of 50 ° C. for about 1 to 100 hours. Examples of the polymerization initiator include benzoyl peroxide, diisopropylperoxydicarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxydiisobutyrate, diester. -T-butyl peroxide (DTBPO), lauroyl peroxide, 2,2'-
Dimethyl azobisisobutyrate (MAIB), azobisisobutyronitrile (AIBN), azobiscyclohexanecarbonitrile (ACN) and the like can be mentioned.
【００５９】配向膜の製造には、上述の方法により得ら
れたポリマーを有機溶媒に溶解してスピンコート法もし
くはラングミュアー・ブロージェット法、印刷法などに
より薄膜を形成する。膜厚は１〜１００ｎｍが液晶の配
向制御の点で好ましい。In the production of the alignment film, the polymer obtained by the above method is dissolved in an organic solvent to form a thin film by a spin coating method, a Langmuir blow jet method, a printing method or the like. The film thickness is preferably 1 to 100 nm from the viewpoint of controlling the alignment of the liquid crystal.
【００６０】[0060]
【実施例】以下、実施例により本発明の詳細を説明す
る。実施例中に記載した相転移温度においてＣは結晶、
Ｎはネマチック相、ＳＸは未同定のスメクチック相、Ｉ
は等方性液体、Ｔｍはポリマーの融点を示す。ポリマー
の重量平均分子量（Ｍｗ）、多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は
ＧＰＣ（ゲル・パーミェーション・クロマトグラフィ
ー）の測定（排除限界１０００万のカラムを用い、分子
量公知の標準ポリスチレンから換算）により算出した。EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples. C is crystalline at the phase transition temperatures described in the examples,
N is a nematic phase, SX is an unidentified smectic phase, I
Is an isotropic liquid, and Tm is the melting point of the polymer. The weight average molecular weight (Mw) and the polydispersity (Mw / Mn) of the polymer were calculated by GPC (gel permeation chromatography) measurement (using a column having an exclusion limit of 10 million and converted from standard polystyrene of known molecular weight). .
【００６１】［フマル酸ジエステル誘導体の製造］
実施例１
フマル酸モノ（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）
の製造
（第１段階）無水マレイン酸６３ｇ、トランス−４−ブ
チルシクロヘキサノール１００ｇ、酢酸ナトリウム５ｇ
をフラスコに仕込み、７０℃で３時間加熱攪拌した。室
温まで冷やした後、水２００ｍｌを加え激しく攪拌する
とスラリーが得られた。濾過して得られた結晶を風乾
し、シクロヘキサンで再結晶することで、１１０ｇのマ
レイン酸モノ（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）
を得た。プロトンＮＭＲを測定したところ、δ＝６．３
９ｐｐｍに、マレイン酸の２重結合に由来するＪ値１．
８Ｈｚのダブレット（２重線）が観測されたので目的物
であることを確認した。融点は６６℃であった。[Production of Fumarate Diester Derivative] Example 1 Fumarate mono (trans-4-butylcyclohexyl)
(First stage) 63 g of maleic anhydride, 100 g of trans-4-butylcyclohexanol, 5 g of sodium acetate
Was charged into a flask and heated and stirred at 70 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, 200 ml of water was added and vigorously stirred to obtain a slurry. The crystals obtained by filtration were air-dried and recrystallized from cyclohexane to give 110 g of mono (trans-4-butylcyclohexyl) maleate.
Got When proton NMR was measured, δ = 6.3.
The J value derived from the double bond of maleic acid was 1 ppm at 9 ppm.
Since a doublet (double line) of 8 Hz was observed, it was confirmed to be the target. The melting point was 66 ° C.
【００６２】（第２段階）マレイン酸モノ（トランス−
４−ブチルシクロヘキシル）９０ｇ、水５０ｍｌを３０
０ｍｌのフラスコに仕込み、８０℃まで加熱し攪拌し
た。そこへテトラエチルアンモニウムブロマイド２ｇ、
過酸化カリウム２ｇを加え２時間攪拌をつづけた。加熱
を止めて室温までもどし、反応溶液を水４００ｍｌに注
ぎ込むと結晶が得られた。濾過して得られた結晶を風乾
し、シクロヘキサンで再結晶することで、８０ｇのフマ
ル酸モノ（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）を得
た。プロトンＮＭＲを測定したところδ＝６．８６ｐｐ
ｍに、フマル酸の２重結合に由来するＪ値１．８Ｈｚの
ダブレット（２重線）が観測されたので目的物であるこ
とを確認した。融点は６８℃であった。(Step 2) Maleic acid mono (trans-
4-butylcyclohexyl) 90 g, water 50 ml 30
The mixture was placed in a 0 ml flask, heated to 80 ° C. and stirred. 2 g of tetraethylammonium bromide,
2 g of potassium peroxide was added and stirring was continued for 2 hours. The heating was stopped, the temperature was returned to room temperature, and the reaction solution was poured into 400 ml of water to obtain crystals. The crystals obtained by filtration were air dried and recrystallized from cyclohexane to obtain 80 g of mono (trans-4-butylcyclohexyl fumarate). When proton NMR was measured, δ = 6.86 pp
In m, a doublet (double line) with a J value of 1.8 Hz derived from a double bond of fumaric acid was observed, and thus it was confirmed that the target product was obtained. The melting point was 68 ° C.
【００６３】第１段階および第２段階の方法に準じ、フ
マル酸モノシクロヘキシル（融点８５〜８７℃）、フマ
ル酸モノシクロペンチル、フマル酸モノアダマンチル、
フマル酸モノイソプロピル、フマル酸モノ−ｔ−ブチ
ル、フマル酸モノ トランス−４−ペンチル−シクロヘ
キシル−４−シクロヘキシルを得た。According to the method of the first step and the second step, monocyclohexyl fumarate (melting point 85-87 ° C.), monocyclopentyl fumarate, monoadamantyl fumarate,
Monoisopropyl fumarate, mono-t-butyl fumarate and mono trans-4-pentyl-cyclohexyl-4-cyclohexyl fumarate were obtained.
【００６４】（第３段階）４´−ヒドロキシ−４−シア
ノ−１，１´−ビフェニル５０．７ｇ、６−ブロモヘキ
サノール５０ｇ、炭酸カリウム７７ｇをジメチルホルム
アミド３００ｍｌに加え、９０℃で３時間攪拌した。３
Ｎの塩酸１Ｌに反応液を注ぎ込むと白色の結晶が析出し
たので、これを濾過して分取した。得られた結晶を水で
よく洗浄した後、乾燥して７４．２ｇの４−（６−ヒド
ロキシヘキシルオキシ）−４´−シアノ−１，１´−ビ
フェニルを得た。このものは液晶相を示し、その相転移
温度は、Ｃ ８７．５ Ｎ １１１ Ｉであった。(Third stage) 50.7 g of 4'-hydroxy-4-cyano-1,1'-biphenyl, 50 g of 6-bromohexanol and 77 g of potassium carbonate were added to 300 ml of dimethylformamide and stirred at 90 ° C for 3 hours. . Three
When the reaction solution was poured into 1 L of N-hydrochloric acid, white crystals were precipitated, which were filtered and collected. The obtained crystals were thoroughly washed with water and then dried to obtain 74.2 g of 4- (6-hydroxyhexyloxy) -4'-cyano-1,1'-biphenyl. This product exhibited a liquid crystal phase and its phase transition temperature was C 87.5 N 111 I.
【００６５】前記に準じた方法により以下の化合物を製
造した。
４−（３−ヒドロキプロピルオキシ）−４´−シアノ−
１，１´−ビフェニル（相転移温度：Ｃ ９９ Ｎ １
０７ Ｉ）
４−[２−（４−ペンチルフェニル）エチニル]−（６−
ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゼン（相転移温度：Ｃ
８２ Ｎ ９２．６ Ｉ）
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−（６
−ヒドロキシヘキシルオキシ）ベンゼン（相転移温度：
Ｃ ６１ ＳｍＸ ６９ Ｉ）
２−（４−ノニルオキシフェニル）−５−（６−ヒドロ
キシオクチルオキシ）ピリミジン（相転移温度：ＳＸ
８７ Ｉ）
４−（トランス、トランス−４−プロピルシクロヘキシ
ル−４−シクロヘキシル）−（６−ヒドロキシヘキシル
オキシ）ベンゼン（相転移温度：Ｃ １８８ Ｎ１９
９．７ Ｉ）The following compounds were produced by the method according to the above. 4- (3-hydroxypropyloxy) -4'-cyano-
1,1′-biphenyl (Phase transition temperature: C 99 N 1
07 I) 4- [2- (4-pentylphenyl) ethynyl]-(6-
Hydroxyhexyloxy) benzene (Phase transition temperature: C
82 N 92.6 I) 4- (trans-4-propylcyclohexyl)-(6
-Hydroxyhexyloxy) benzene (phase transition temperature:
C 61 SmX 69 I) 2- (4-nonyloxyphenyl) -5- (6-hydroxyoctyloxy) pyrimidine (phase transition temperature: SX
87 I) 4- (trans, trans-4-propylcyclohexyl-4-cyclohexyl)-(6-hydroxyhexyloxy) benzene (phase transition temperature: C 188 N19
9.7 I)
【００６６】（第４段階）
化合物［３２］フマル酸 トランス−４−ブチルシクロ
ヘキシル ６−（４´−シアノ−１，１´−ビフェニル
−４−イルオキシ）ヘキシルの製造
フマル酸 モノ（トランス−４−ブチルシクロヘキシ
ル）５ｇ、４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）−４
´−シアノ−１，１´−ビフェニル４．３ｇを塩化メチ
レン１００ｍｌに溶かし５℃まで冷やし、そこへジメチ
ルアミノピリジン０．５ｇ、１−エチル−３−（３−ジ
メチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩４．２ｇ
を加え室温で１２時間攪拌した。水５０ｍｌを加え分
液、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィー
で精製、エタノール、酢酸エチルを混合した溶媒で再結
晶を行い５．３ｇのフマル酸 トランス−４−ブチルシ
クロヘキシル ６−（４´−シアノ−１，１´−ビフェ
ニル−４−イルオキシ）ヘキシル［３２］を得た。1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：０．８９（３Ｈ、ｔ）、１．３〜２．０（２３
Ｈ、ｍ）、３．９３（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、
４．１９（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、４．２０（１
Ｈ、ｍ）、６．８０（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、６．８
２（２Ｈ、ｓ）、７．１１（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、
７．２５（４Ｈ、ｓ）。
相転移温度：Ｃ ７０ （Ｎ ５９．６） Ｉ(Step 4) Preparation of Compound [32] Fumaric acid trans-4-butylcyclohexyl 6- (4'-cyano-1,1'-biphenyl-4-yloxy) hexyl Fumarate mono (trans-4-) Butylcyclohexyl) 5 g, 4- (6-hydroxyhexyloxy) -4
4.3 g of ′ -cyano-1,1′-biphenyl was dissolved in 100 ml of methylene chloride and cooled to 5 ° C., and 0.5 g of dimethylaminopyridine and 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride 4 were added thereto. .2g
Was added and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, the layers were separated, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography and recrystallized from a mixed solvent of ethanol and ethyl acetate to give 5.3 g of trans-4-butylcyclohexyl fumarate 6- (4′-cyano). -1,1'-biphenyl-4-yloxy) hexyl [32] was obtained. 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 0.89 (3H, t), 1.3 to 2.0 (23
H, m), 3.93 (2H, t, J = 6.3 Hz),
4.19 (2H, t, J = 6.3Hz), 4.20 (1
H, m), 6.80 (2H, d, J = 9 Hz), 6.8
2 (2H, s), 7.11 (2H, d, J = 9Hz),
7.25 (4H, s). Phase transition temperature: C 70 (N 59.6) I
【００６７】実施例１の方法に準じ、以下のフマル酸ジ
エステルモノマー製造した。
実施例２
化合物［３１］：フマル酸 トランス−４−ブチルシク
ロヘキシル ３−（４´−シアノ−１，１´−ビフェニ
ル−４−イルオキシ）プロピル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：０．８８（３Ｈ、ｔ）、１．３〜２．０（１７
Ｈ、ｍ）、４．１２（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、
４．２１（１Ｈ、ｍ）、４．４２（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．
３Ｈｚ）、６．８３（２Ｈ、ｓ）、６．９９（２Ｈ、
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．５３（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈ
ｚ）、７．６６（４Ｈ、ｓ）
相転移温度：Ｃ １１１ （Ｎ １０２．５）ＩAccording to the method of Example 1, the following fumaric acid diester monomer was produced. Example 2 Compound [31]: trans-4-butylcyclohexyl fumarate 3- (4′-cyano-1,1′-biphenyl-4-yloxy) propyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 0.88 (3H, t), 1.3 to 2.0 (17)
H, m), 4.12 (2H, t, J = 6.3 Hz),
4.21 (1H, m), 4.42 (2H, t, J = 6.
3 Hz), 6.83 (2H, s), 6.99 (2H,
d, J = 9 Hz), 7.53 (2H, d, J = 9H)
z), 7.66 (4H, s) Phase transition temperature: C 111 (N 102.5) I
【００６８】実施例３
化合物［３０］：フマル酸 シクロヘキシル ６−（４
´−シアノ−１，１´−ビフェニル−４−イルオキシ）
ヘキシル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：１．３〜２．０（１８Ｈ、ｍ）、３．９５（１
Ｈ、ｍ）、４．０１（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、
４．２２（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、６．８４（２
Ｈ、ｓ）、６．９８（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．５
３（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．６６（４Ｈ、ｓ）
融点：６９℃Example 3 Compound [30]: Cyclohexyl fumarate 6- (4
′ -Cyano-1,1′-biphenyl-4-yloxy)
Hexyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 1.3 to 2.0 (18H, m), 3.95 (1
H, m), 4.01 (2H, t, J = 6.3 Hz),
4.22 (2H, t, J = 6.3Hz), 6.84 (2
H, s), 6.98 (2H, d, J = 9 Hz), 7.5
3 (2H, d, J = 9Hz), 7.66 (4H, s) Melting point: 69 ° C
【００６９】実施例４
化合物［２７］：フマル酸 イソプロピル ６−（４´
−シアノ−１，１´−ビフェニル−４−イルオキシ）ヘ
キシル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：１．２８（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．３
〜１．９（８Ｈ、ｍ）、４．０１（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．
３Ｈｚ）、４．２１（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、
５．１１（１Ｈ、ｍ）、６．８３（２Ｈ、ｓ）、６．９
８（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．５３（２Ｈ、ｄ、Ｊ
＝９Ｈｚ）、７．６６（４Ｈ、ｓ）
融点：７８℃Example 4 Compound [27]: Isopropyl fumarate 6- (4 '
-Cyano-1,1'-biphenyl-4-yloxy) hexyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 1.28 (6H, d, J = 6.3Hz), 1.3
˜1.9 (8H, m), 4.01 (2H, t, J = 6.
3Hz), 4.21 (2H, t, J = 6.3Hz),
5.11 (1H, m), 6.83 (2H, s), 6.9
8 (2H, d, J = 9Hz), 7.53 (2H, d, J
= 9 Hz), 7.66 (4H, s) Melting point: 78 ° C
【００７０】実施例５
化合物［２６］：フマル酸 イソプロピル ３−（４´
−シアノ−１，１´−ビフェニル−４−イルオキシ）プ
ロピル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：１．２８（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、２．２
０（２Ｈ、ｍ）、４．１２（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈ
ｚ）、４．３５（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、５．１
１（１Ｈ、ｍ）、６．８３（２Ｈ、ｓ）、６．９９（２
Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、７．５３（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．
０Ｈｚ）、７．６６（４Ｈ、ｓ）
融点：９７℃Example 5 Compound [26]: Isopropyl fumarate 3- (4 '
-Cyano-1,1'-biphenyl-4-yloxy) propyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 1.28 (6H, d, J = 6.3Hz), 2.2
0 (2H, m), 4.12 (2H, t, J = 6.3H
z), 4.35 (2H, t, J = 6.3Hz), 5.1
1 (1H, m), 6.83 (2H, s), 6.99 (2
H, d, J = 9 Hz), 7.53 (2H, d, J = 9.
0Hz), 7.66 (4H, s) Melting point: 97 ° C
【００７１】実施例６
化合物［２２］：フマル酸 エチル ６−（４´−シア
ノ−１，１´−ビフェニル−４−イルオキシ）ヘキシル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：１．３１（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．３
〜１．９５（８Ｈ、ｍ）、４．０１（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝
６．３Ｈｚ）、４．２１（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈ
ｚ）、４．２５（２Ｈ、ｑ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、６．８
５（２Ｈ、ｓ）、６．９８（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈ
ｚ）、７．５３（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．６
６（４Ｈ、ｓ）
融点：７０℃Example 6 Compound [22]: ethyl fumarate 6- (4'-cyano-1,1'-biphenyl-4-yloxy) hexyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 1.31 (3H, t, J = 7.2Hz), 1.3
~ 1.95 (8H, m), 4.01 (2H, t, J =
6.3 Hz), 4.21 (2H, t, J = 6.3H)
z), 4.25 (2H, q, J = 7.2 Hz), 6.8
5 (2H, s), 6.98 (2H, d, J = 9.0H
z), 7.53 (2H, d, J = 9.0 Hz), 7.6
6 (4H, s) Melting point: 70 ° C
【００７２】実施例７
化合物［１５］：フマル酸 トランス−４−ブチルシク
ロヘキシル ６−〔４−（トランス−４−プロピルシク
ロヘキシル）フェニルオキシ〕ヘキシル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：０．８９（６Ｈ、ｔ）、１．１〜２．０（３０
Ｈ、ｍ）、３．９３（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、
４．１９（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、６．８０（２
Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８２（２Ｈ、ｓ）、
７．１１（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）
融点：６５℃Example 7 Compound [15]: Fumaric acid trans-4-butylcyclohexyl 6- [4- (trans-4-propylcyclohexyl) phenyloxy] hexyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 0.89 (6H, t), 1.1 to 2.0 (30
H, m), 3.93 (2H, t, J = 6.3 Hz),
4.19 (2H, t, J = 6.3Hz), 6.80 (2
H, d, J = 9.0 Hz), 6.82 (2H, s),
7.11 (2H, d, J = 9.0Hz) Melting point: 65 ° C
【００７３】実施例８
化合物［１２］：フマル酸 シクロヘキシル ６−〔４
−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）フェニル
オキシ〕ヘキシル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：０．８９（３Ｈ、ｔ）、１．１〜２．０（ｍ）、
３．９２（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、４．２０（２
Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、６．８０（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝
９．０Ｈｚ）、６．８４（２Ｈ、ｓ）、７．１１（２
Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）
性状：油状物Example 8 Compound [12]: cyclohexyl fumarate 6- [4
-(Trans-4-hexylcyclohexyl) phenyloxy] hexyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 0.89 (3H, t), 1.1 to 2.0 (m),
3.92 (2H, t, J = 6.3Hz), 4.20 (2
H, t, J = 6.3 Hz), 6.80 (2H, d, J =
9.0 Hz), 6.84 (2H, s), 7.11 (2
H, d, J = 9.0 Hz) Property: oily substance
【００７４】実施例９
化合物［４］：フマル酸 エチル ６−〔（トランス−
４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ〕ヘキシ
ル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：０．８９（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．１
〜２．０（２２Ｈ、ｍ）、３．９２（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝
６．３Ｈｚ）、４．２０（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈ
ｚ）、４．２５（２Ｈ、ｑ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）６．８０
（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８４（２Ｈ、
ｓ）、７．１１（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）
融点：４３℃Example 9 Compound [4]: Ethyl fumarate 6-[(trans-
4-propylcyclohexyl) phenyloxy] hexyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 0.89 (3H, t, J = 7.2Hz), 1.1
~ 2.0 (22H, m), 3.92 (2H, t, J =
6.3 Hz), 4.20 (2H, t, J = 6.3H)
z), 4.25 (2H, q, J = 7.2Hz) 6.80
(2H, d, J = 9.0 Hz), 6.84 (2H,
s), 7.11 (2H, d, J = 9.0Hz) Melting point: 43 ° C
【００７５】実施例１０
化合物［４２］：フマル酸 エチル ６−〔４−（２−
（４−ペンチルフェニル）エチニル）フェニルオキシ〕
ヘキシル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：０．８９（６Ｈ、ｔ）、１．１〜２．０（ｍ）、
３．９２（２Ｈ、ｔ）、４．２０（２Ｈ、ｔ）、４．２
５（２Ｈ、ｑ）、６．８４（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈ
ｚ）、６．８５（２Ｈ、ｓ）、７．１３（２Ｈ、ｄ、Ｊ
＝９．０Ｈｚ）、７．４１（２Ｈ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、
７．４４（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）
融点：５７．５℃Example 10 Compound [42]: ethyl fumarate 6- [4- (2-
(4-Pentylphenyl) ethynyl) phenyloxy]
Hexyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 0.89 (6H, t), 1.1 to 2.0 (m),
3.92 (2H, t), 4.20 (2H, t), 4.2
5 (2H, q), 6.84 (2H, d, J = 9.0H
z), 6.85 (2H, s), 7.13 (2H, d, J
= 9.0 Hz), 7.41 (2H, J = 9.0 Hz),
7.44 (2H, d, J = 9.0Hz) Melting point: 57.5 ° C
【００７６】実施例１１
化合物［５５］：フマル酸 イソプロピル ［２−（４
−ノニルオキシフェニル）ピリミジン−５−イルオキ
シ］オクチル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：０．８８（３Ｈ、ｔ）、１．２０〜２．００
（ｍ）、１．２８（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、４．
０１（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、４．２０（２Ｈ、
ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、５．１１（１Ｈ、ｍ）、６．８
３（２Ｈ、ｓ）、６．９６（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、
７．５３（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、８．７１（２
Ｈ、ｓ）
融点：７８℃Example 11 Compound [55]: Isopropyl fumarate [2- (4
-Nonyloxyphenyl) pyrimidin-5-yloxy] octyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 0.88 (3H, t), 1.20 to 2.00
(M), 1.28 (6H, d, J = 6.3Hz), 4.
01 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.20 (2H,
t, J = 6.3 Hz), 5.11 (1H, m), 6.8
3 (2H, s), 6.96 (2H, d, J = 9Hz),
7.53 (2H, d, J = 9.0Hz), 8.71 (2
H, s) Melting point: 78 ° C
【００７７】実施例１２
化合物［７３］：フマル酸 イソプロピル ６−〔（ト
ランス、トランス−４−プロピルシクロヘキシル−４−
シクロヘキシル）フェニルオキシ〕ヘキシル1
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：０．８７（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、０．８
〜２．０（ｍ）、１．２８（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．３Ｈ
ｚ）、３．９３（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、４．２
０（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．３Ｈｚ）、５．１１（１Ｈ、
ｍ）、６．８０（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、６．８
３（２Ｈ、ｓ）、７．１１（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９．０Ｈ
ｚ）
相転移温度：Ｃ ６３ ＳＡ １２８ ＩExample 12 Compound [73]: Isopropyl fumarate 6-[(trans, trans-4-propylcyclohexyl-4-
Cyclohexyl) phenyloxy] hexyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 0.87 (3H, t, J = 7.2Hz), 0.8
~ 2.0 (m), 1.28 (6H, d, J = 6.3H
z), 3.93 (2H, t, J = 6.3 Hz), 4.2
0 (2H, t, J = 6.3Hz), 5.11 (1H,
m), 6.80 (2H, d, J = 9.0 Hz), 6.8
3 (2H, s), 7.11 (2H, d, J = 9.0H
z) Phase transition temperature: C 63 SA 128 I
【００７８】実施例１３
化合物［１０２］：フマル酸 イソプロピル ［２−
（４−プロピルフェニル）ナフタレン−６−イルオキ
シ］ヘキシル１
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、９０ＭＨｚ）：δ（ｐｐ
ｍ）：０．９８（３Ｈ、ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．２
８（６Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．２Ｈｚ）、１．３〜２．０
（ｍ）、２．６５（２Ｈ、ｔ、Ｊ＝８Ｈｚ）、４．０２
〜４．２９（４Ｈ、ｍ）、５．１０（１Ｈ、ｍ）、６．
８３（２Ｈ、ｓ）、７．１１〜７．３１（４Ｈ、ｍ）、
７．５７〜７．９４（６Ｈ、ｍ）
融点：８７℃Example 13 Compound [102]: Isopropyl fumarate [2-
(4-Propylphenyl) naphthalen-6-yloxy] hexyl 1 H-NMR (CDCl 3 , 90 MHz): δ (pp
m): 0.98 (3H, t, J = 7.2Hz), 1.2
8 (6H, d, J = 6.2Hz), 1.3 to 2.0
(M), 2.65 (2H, t, J = 8Hz), 4.02
~ 4.29 (4H, m), 5.10 (1H, m), 6.
83 (2H, s), 7.11 to 7.31 (4H, m),
7.57 to 7.94 (6H, m) Melting point: 87 ° C
【００７９】［液晶性フマル酸ジエステルポリマーの製
造］
実施例１４
フマル酸 イソプロピル ６−（４´−シアノ−１，１
´−ビフェニル−４−イルオキシ）ヘキシル［２７］の
重合
フマル酸 イソプロピル ６−（４´−シアノ−１，１
´−ビフェニル−４−イルオキシ）ヘキシル０．７５
ｇ、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル（以後ＡＣ
Ｎと略す）０．０２ｇをアンプルにとり、一旦、−６０
℃に冷却して真空ポンプで十分脱気を行った後、封管し
た。封管したアンプルを８０℃で１８時間反応させた。
アンプル内の内容物をテトラヒドロフラン８ｍｌに溶解
し、メタノール１００ｍｌに投入して沈殿させた。この
操作を３回行った後、メタノールで十分洗浄し、減圧下
で乾燥させ０．３ｇのポリフマル酸 イソプロピル ６
−（４´−シアノ−１，１´−ビフェニル−４−イルオ
キシ）ヘキシル［Ｐ１］を得た。
重量平均分子量（ＭW） ５００００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） １．８７
相転移温度：Ｔｍ ４５ Ｎ ８５ Ｉ
このポリマーは室温でネマチック液晶相を示した。[Production of Liquid Crystalline Fumarate Diester Polymer] Example 14 Isopropyl fumarate 6- (4'-cyano-1,1)
Polymerization of'-biphenyl-4-yloxy) hexyl [27] Isopropyl fumarate 6- (4'-cyano-1,1
′ -Biphenyl-4-yloxy) hexyl 0.75
g, azobiscyclohexanecarbonitrile (hereinafter AC
(Abbreviated as N) 0.02g is put in an ampoule,
After cooling to ℃ and sufficiently degassing with a vacuum pump, the tube was sealed. The sealed ampoule was reacted at 80 ° C. for 18 hours.
The content in the ampoule was dissolved in 8 ml of tetrahydrofuran and poured into 100 ml of methanol for precipitation. After performing this operation 3 times, it was thoroughly washed with methanol and dried under reduced pressure to obtain 0.3 g of isopropyl polyfumarate 6
-(4'-cyano-1,1'-biphenyl-4-yloxy) hexyl [P1] was obtained. The weight average molecular weight (M W) 50000 Polydispersity (Mw / Mn) 1.87 Phase transition temperature: Tm 45 N 85 I The polymer exhibited a nematic liquid crystal phase at room temperature.
【００８０】実施例１５
化合物［４］２ｇ、ＡＣＮ０．０５５ｇを用い、８０℃
で７２時間反応した以外は、実施例１に準じた操作によ
り０．９５ｇのポリマー［Ｐ２］を得た。
重量平均分子量（Ｍｗ） ２５０００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） ２．１９
相転移温度：Ｔｍ １１４ Ｎ １５９ Ｉ
このものはネマチック液晶相を示した。Example 15 Using 2 g of compound [4] and 0.055 g of ACN, 80 ° C.
By the same procedure as in Example 1 except that the reaction was performed for 72 hours, 0.95 g of a polymer [P2] was obtained. Weight average molecular weight (Mw) 25000 Polydispersity (Mw / Mn) 2.19 Phase transition temperature: Tm 114 N 159 I This product showed a nematic liquid crystal phase.
【００８１】実施例１６
化合物［１２］０．７５ｇ、ＡＣＮ０．００１９ｇを用
い、８０℃で１８時間反応した以外は、実施例１に準じ
た操作により０．４ｇのポリマー［Ｐ３］を得た。
重量平均分子量（Ｍｗ） ４５０００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） １．９６
相転移温度：Ｔｍ １００ （Ｎ ７０） Ｉ
このポリマーはネマチック液晶相を示した。Example 16 0.4 g of polymer [P3] was obtained by the same procedure as in Example 1 except that 0.75 g of compound [12] and 0.0019 g of ACN were used and the reaction was carried out at 80 ° C. for 18 hours. Weight average molecular weight (Mw) 45000 Polydispersity (Mw / Mn) 1.96 Phase transition temperature: Tm 100 (N 70) I This polymer showed a nematic liquid crystal phase.
【００８２】実施例１７
化合物［３１］０．６ｇ、ベンゼン０．３ｍｌ、ＡＣＮ
０．０１５ｇを用い、８０℃で７２時間反応した以外
は、実施例１に準じた操作により０．５２ｇのポリマー
［Ｐ４］を得た。
重量平均分子量（Ｍｗ） ５４０００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） ２．９０
相転移温度：Ｔｍ １００ Ｎ １１３ Ｉ
このポリマーはネマチック液晶相を示した。溶媒を添加
した場合も対応する液晶ポリマーが得られる。Example 17 0.6 g of compound [31], 0.3 ml of benzene, ACN
0.52 g of polymer [P4] was obtained by the same procedure as in Example 1 except that 0.015 g was used and the reaction was carried out at 80 ° C. for 72 hours. Weight average molecular weight (Mw) 54000 Polydispersity (Mw / Mn) 2.90 Phase transition temperature: Tm 100 N 113 I This polymer showed a nematic liquid crystal phase. The corresponding liquid crystal polymer is also obtained when a solvent is added.
【００８３】実施例１８
化合物［４２］２ｇ、アゾビスイソブチロニトリル０．
０５ｇを用い、８０℃で２４時間反応した以外は、実施
例１に準じた操作により０．６５ｇのポリマー［Ｐ５］
を得た。
重量平均分子量（Ｍｗ） ３２０００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） １．９０
重合開始剤の種類をＡＩＢＮにした場合も、高分子量の
液晶高分子が得られた。Example 18 2 g of compound [42], azobisisobutyronitrile 0.
0.65 g of polymer [P5] was obtained by the same procedure as in Example 1 except that the reaction was carried out at 80 ° C. for 24 hours using 05 g.
Got Weight average molecular weight (Mw) 32000 Polydispersity (Mw / Mn) 1.90 Even when AIBN was used as the type of the polymerization initiator, a high molecular weight liquid crystal polymer was obtained.
【００８４】実施例１９
化合物［５５］１．５ｇ、ＡＣＮ０．０３１ｇを用い、
８０℃で２４時間反応した以外は、実施例１に準じた操
作により０．５３ｇのポリマー［Ｐ６］を得た。
重量平均分子量（Ｍｗ） １９０００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） １．５５
相転移温度：Ｔｍ ７９．１ ＳＸ ９３ Ｉ
このポリマーはスメクチック液晶相を示した。液晶構造
を最適化することでスメクチック相を示す液晶高分子も
得ることができた。Example 19 Using 1.5 g of compound [55] and 0.031 g of ACN,
The procedure of Example 1 was repeated except that the reaction was carried out at 80 ° C. for 24 hours to obtain 0.53 g of a polymer [P6]. Weight average molecular weight (Mw) 19000 Polydispersity (Mw / Mn) 1.55 Phase transition temperature: Tm 79.1 SX 93 I This polymer showed a smectic liquid crystal phase. By optimizing the liquid crystal structure, a liquid crystal polymer showing a smectic phase could be obtained.
【００８５】実施例２０
化合物［７３］０．７ｇ、ＡＣＮ０．０１５ｇを用い、
９０℃で２４時間反応した以外は、実施例１と同様の操
作により０．６ｇのポリマー［Ｐ７］を得た。
重量平均分子量（Ｍｗ） １９００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） １．１２
相転移温度：Ｔｍ ２５０ Ｎ ２７０ Ｉ
このポリマーはネマチック液晶相を示した。液晶骨格構
造を３環構造（一般式（１）においてｍが１の場合）に
することでＮＩ点の高い液晶高分子を得ることができ
た。Example 20 Using 0.7 g of compound [73] and 0.015 g of ACN,
0.6 g of a polymer [P7] was obtained by the same operation as in Example 1 except that the reaction was carried out at 90 ° C for 24 hours. Weight average molecular weight (Mw) 1900 Polydispersity (Mw / Mn) 1.12. Phase transition temperature: Tm 250 N 270 I This polymer showed a nematic liquid crystal phase. A liquid crystal polymer having a high NI point could be obtained by making the liquid crystal skeleton structure a tricyclic structure (when m is 1 in the general formula (1)).
【００８６】実施例２１
化合物［１０２］０．５６ｇ、ジｔ−ブチルパーオキシ
ド０．０１ｇを用い、１２０℃で１６時間反応した以外
は、実施例１と同様の操作により０．３４ｇのポリマー
［Ｐ８］を得た。
重量平均分子量（Ｍｗ） ７０００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） １．３３
相転移温度 ： Ｔｍ １１８ Ｎ １７５ ＩExample 21 0.34 g of polymer [in the same manner as in Example 1 except that 0.56 g of compound [102] and 0.01 g of di-t-butyl peroxide were used and the reaction was carried out at 120 ° C. for 16 hours. P8] was obtained. Weight average molecular weight (Mw) 7000 Polydispersity (Mw / Mn) 1.33 Phase transition temperature: Tm 118 N 175 I
【００８７】［ビニルエーテルとの共重合］
実施例２２
フマル酸 シクロヘキシル ６−（４´−シアノ−１，
１´−ビフェニル−４−イルオキシ）ヘキシル［３０］
とシクロヘキシルビニルエーテルとの共重合
フマル酸 シクロヘキシル ６−（４´−シアノ−１，
１´−ビフェニル−４−イルオキシ）ヘキシル１ｇ、シ
クロヘキシルビニルエーテル０．２６ｇ、アゾビスシク
ロヘキサンカルボニトリル０．０５ｇをアンプルにと
り、一旦、−６０℃に冷却して真空ポンプで十分脱気を
行った後、封管した。封管したアンプルを８０℃で２４
時間反応させた。アンプル内の内容物をテトラヒドロフ
ラン１０ｍｌに溶解し、メタノール２００ｍｌに投入し
て沈殿させた。この操作を３回行った後、メタノールで
十分洗浄し、減圧下で乾燥させ０．７ｇの共重合体［Ｃ
Ｐ１］を得た。
重量平均分子量（ＭW） ３９０００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） １．４６
相転移温度：Ｔｍ ６３ Ｎ ８０ Ｉ
このポリマーはネマチック液晶相を示した。[Copolymerization with vinyl ether] Example 22 Cyclohexyl fumarate 6- (4'-cyano-1,
1'-biphenyl-4-yloxy) hexyl [30]
Of cyclohexyl vinyl ether with cyclohexyl vinyl ether cyclohexyl fumaric acid 6- (4'-cyano-1,
1'-biphenyl-4-yloxy) hexyl (1 g), cyclohexyl vinyl ether (0.26 g) and azobiscyclohexanecarbonitrile (0.05 g) were placed in an ampoule, and once cooled to -60 ° C and sufficiently deaerated with a vacuum pump, I sealed it. Seal the sealed ampoule at 80 ℃ for 24 hours
Reacted for hours. The content in the ampoule was dissolved in 10 ml of tetrahydrofuran and poured into 200 ml of methanol for precipitation. After performing this operation 3 times, it was sufficiently washed with methanol and dried under reduced pressure to obtain 0.7 g of the copolymer [C
P1] was obtained. The weight average molecular weight (M W) 39000 Polydispersity (Mw / Mn) 1.46 Phase transition temperature: Tm 63 N 80 I The polymer exhibited a nematic liquid crystal phase.
【００８８】［Ｒ3＝Ｒ4であるフマル酸ジエステルとの
共重合］
実施例２３
フマル酸 イソプロピル ６−（４´−シアノ−１，１
´−ビフェニル−４−イルオキシ）ヘキシル［２７］と
ジシクロヘキシルフマル酸との共重合
フマル酸 イソプロピル ６−（４´−シアノ−１，１
´−ビフェニル−４−イルオキシ）ヘキシル０．９ｇ、
フマル酸ジシクロヘキシル０．５６ｇ、アゾビスシクロ
ヘキサンカルボニトリル０．０４８ｇ、ベンゼン０．５
ｍｌをアンプルにとり、一旦、−６０℃に冷却して真空
ポンプで十分脱気を行った後、封管した。封管したアン
プルを８０℃で７２時間反応させた。アンプル内の内容
物をテトラヒドロフラン１５ｍｌに溶解し、メタノール
２００ｍｌに投入して沈殿させた。この操作を３回行っ
た後、メタノールで十分洗浄し、減圧下で乾燥させ１．
０４ｇの共重合体［ＣＰ２］を得た。
重量平均分子量（ＭW） ３７０００
多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ） ２．１９
相転移温度：Ｔｍ １１４ Ｎ １５９ Ｉ
このポリマーはネマチック液晶相を示した。[Copolymerization with fumaric acid diester in which R 3 = R 4 ] Example 23 Isopropyl fumarate 6- (4'-cyano-1,1)
Copolymerization of'-biphenyl-4-yloxy) hexyl [27] and dicyclohexyl fumaric acid Isopropyl fumarate 6- (4'-cyano-1,1
'-Biphenyl-4-yloxy) hexyl 0.9 g,
Dicyclohexyl fumarate 0.56 g, azobiscyclohexanecarbonitrile 0.048 g, benzene 0.5
An aliquot (ml) was taken, cooled to -60 ° C, sufficiently deaerated with a vacuum pump, and then sealed. The sealed ampoule was reacted at 80 ° C. for 72 hours. The content in the ampoule was dissolved in 15 ml of tetrahydrofuran and poured into 200 ml of methanol for precipitation. After performing this operation 3 times, it was sufficiently washed with methanol and dried under reduced pressure.
04 g of copolymer [CP2] was obtained. The weight average molecular weight (M W) 37000 Polydispersity (Mw / Mn) 2.19 Phase transition temperature: Tm 114 N 159 I The polymer exhibited a nematic liquid crystal phase.
【００８９】［光重合による液晶性フマル酸ジエステル
ポリマーフィルムの製造］
実施例２４
化合物［３２］１００ｍｇ、光重合開始剤２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン４ｍ
ｇからなる組成物を調製した。セルギャップが２０ミク
ロンとなるように一方がテフロン（登録商標）板とガラ
ス板を張り合わせたセルを作製した。このセルに前記の
組成物を８０℃で注入した。同温度を保持したまま、ガ
ラス面側から高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ2）を用いて
１０分間紫外線を照射した。照射後セルを室温に戻して
ガラスとテフロン板を剥離してフィルムを得た。このフ
ィルムはムラがなく透明であった。このポリマーの重量
平均分子量は４００００であった。鉛筆硬度試験では３
Ｈを示し硬度が大きいことが判った。（ＡＣ１）のホモ
ポリマーであるアクリル系ポリマー（分子量６０００
０）の鉛筆硬度は２Ｈであった。このことから本発明の
フマル酸ポリマーはアクリル系ポリマーよりも硬度が大
きく、機械的強度に優れていることが分かる。[Production of Liquid Crystalline Fumarate Diester Polymer Film by Photopolymerization] Example 24 Compound [32] 100 mg, photopolymerization initiator 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one 4 m
A composition consisting of g was prepared. A cell in which a Teflon (registered trademark) plate and a glass plate were bonded together so that the cell gap was 20 μm was produced. The above composition was injected into this cell at 80 ° C. While maintaining the same temperature, ultraviolet rays were irradiated from the glass surface side for 10 minutes using a high pressure mercury lamp (120 W / cm 2 ). After irradiation, the cell was returned to room temperature and the glass and Teflon plate were peeled off to obtain a film. This film was even and transparent. The weight average molecular weight of this polymer was 40,000. 3 in pencil hardness test
It was found that the hardness was H and the hardness was high. (AC1) homopolymer acrylic polymer (molecular weight 6000
The pencil hardness of 0) was 2H. From this, it is understood that the fumaric acid polymer of the present invention has higher hardness and better mechanical strength than the acrylic polymer.
【００９０】［配向膜の製造］
実施例２５
ポリマー［Ｐ１］をクロロホルムに溶解して１重量％の
溶液を調製した。この溶液をＩＴＯ膜を有するガラス基
板にスピンコートした後、十分乾燥させ膜厚３０ｎｍの
薄膜を得た。ついてラビングによる配向処理を行いツイ
ステッドネマチック用の液晶表示素子を作製した。偏光
板を取り付け液晶配向性、電気応答性を調べた。その結
果、液晶が均一に配向しており本発明の高分子体が配向
膜として優れていることが判った。また得られた液晶表
示素子も、電界に対する光学応答が速く、優れているこ
とが判った。[Production of Alignment Film] Example 25 The polymer [P1] was dissolved in chloroform to prepare a 1% by weight solution. This solution was spin-coated on a glass substrate having an ITO film and then sufficiently dried to obtain a thin film having a film thickness of 30 nm. Then, an alignment treatment by rubbing was performed to manufacture a liquid crystal display device for twisted nematic. A polarizing plate was attached and liquid crystal orientation and electric response were examined. As a result, it was found that the liquid crystal was uniformly aligned and the polymer of the present invention was excellent as an alignment film. It was also found that the obtained liquid crystal display element was excellent in that the optical response to an electric field was fast.
【００９１】[0091]
【発明の効果】本発明の化合物であるフマル酸ジエステ
ルを重合して得られる単独重合体、共重合体は液晶性、
耐熱性、耐光性、機械的強度を有しており、位相差フィ
ルムなどの光学補償膜、液晶配向膜、光散乱モード記録
材料などに使用できる。The homopolymer or copolymer obtained by polymerizing the fumaric acid diester which is the compound of the present invention has a liquid crystallinity,
It has heat resistance, light resistance, and mechanical strength, and can be used for optical compensation films such as retardation films, liquid crystal alignment films, and light scattering mode recording materials.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1337 ５２０ Ｇ０２Ｆ 1/1337 ５２０ Ｆターム(参考） 2H090 HB16Y HC05 KA05 MB01 2H091 FA11X FA11Z FB02 LA03 LA04 4H006 AA01 AB46 BJ20 BJ50 BP30 KA06 QN30 4J100 AL39P AL91P BA02P BA04P BA40P BA42P BA50P BB01P BB07P BB12P BB17P BB18P BC02P BC04P BC08P BC09P BC12P BC43P BC44P BC48P BC49P BC69P BC73P CA01 JA32 JA39 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme coat (reference) G02F 1/1337 520 G02F 1/1337 520 F term (reference) 2H090 HB16Y HC05 KA05 MB01 2H091 FA11X FA11Z FB02 LA03 LA04 4H006 AA01 AB46 BJ20 BJ50 BP30 KA06 QN30 4J100 AL39P AL91P BA02P BA04P BA40P BA42P BA50P BB01P BB07P BB12P BB17P BB18P BC02P BC04P BC08P BC09P BC12P BC43P BC44P BC48P BC49P BC69P BC39P BC73P
Claims (9)
テル。 （式中、Ｒ1は水素、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＣＦ2Ｈ、−
ＣＦＨ2、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ2Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣ
Ｓ、−Ｆ、−Ｃｌまたは炭素数１〜２０のアルキルであ
り、アルキルの１個の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−Ｓ−、−
ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯ−で置き換えられて
もよく；Ａ1、Ａ2またはＡ3はシクロヘキサン−１，４
−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１〜４個
の水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，
４−ジイル、１，４−フェニレン、１〜４個の水素がハ
ロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン
−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイ
ル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６
−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、また
はフルオレン−２，７−ジイルであり；ｍは１または０
であり；ｎは１〜２０の整数であり；Ｒ2は炭素数１〜
２０のアルキルであり；Ｚ1およびＺ2はそれぞれ独立し
て単結合、−ＣＦ 2Ｏ−、−ＯＣＦ2−、−ＣＨ2Ｏ−、
−ＯＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2−、また
は−Ｃ≡Ｃ−である。）1. Fumaric acid diees represented by the following formula (1):
Tell. (In the formula, R1Is hydrogen, -CN, -CF3, -CF2H,-
CFH2, -OCF3, -OCF2H, -NCO, -NC
S, -F, -Cl or alkyl having 1 to 20 carbons.
, One alkyl -CH2-Is -O-, -S-,-
Replaced by COO-, -OCO- or -CO-
Well; A1, A2Or A3Is cyclohexane-1,4
-Diyl, cyclohexene-1,4-diyl, 1 to 4
Cyclohexane-1, in which the hydrogen in the
4-diyl, 1,4-phenylene, 1 to 4 hydrogens
1,4-phenylene, pyridine substituted with a rogen
-2,5-diyl, pyridazine-2,5-diyl, pyri
Midine-2,5-diyl, naphthalene-2,6-diyl
1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6
-Diyl, 1,3-dioxane-2,5-diyl, also
Is fluorene-2,7-diyl; m is 1 or 0
And n is an integer from 1 to 20; R2Has 1 to 1 carbon atoms
20 alkyl; Z1And Z2Are each independent
Single bond, -CF 2O-, -OCF2-, -CH2O-,
-OCH2-, -CH = CH-, -CH2CH2-And again
Is -C≡C-. )
シクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキセン−
１，４−ジイル、１〜４個の水素がフッ素で置き換えら
れたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−フェニ
レン、１〜４個の水素がハロゲンで置き換えられた１，
４−フェニレンであり、Ｒ2が分岐または環状の炭素数
１〜２０のアルキルであり、Ｚ1が単結合である、請求
項１に記載のフマル酸ジエステル。2. R 1 is —CN and A 1 , A 2 or A 3 is cyclohexane-1,4-diyl, cyclohexene-
1,4-diyl, cyclohexane-1,4-diyl in which 1 to 4 hydrogens are replaced by fluorine, 1,4-phenylene, 1 to 4 hydrogens are replaced by halogen 1,
The fumaric acid diester according to claim 1, which is 4-phenylene, R 2 is branched or cyclic alkyl having 1 to 20 carbon atoms, and Z 1 is a single bond.
Ａ1またはＡ2がシクロヘキサン−１，４−ジイル、シク
ロヘキセン−１，４−ジイル、１〜４個の水素がフッ素
で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、
１，４−フェニレン、１〜４個の水素がハロゲンで置き
換えられた１，４−フェニレンであり、ｍが０であり、
Ｚ1が単結合である、請求項１に記載のフマル酸ジエス
テル。3. R 1 is alkyl having 1 to 20 carbons,
A 1 or A 2 is cyclohexane-1,4-diyl, cyclohexene-1,4-diyl, cyclohexane-1,4-diyl in which 1 to 4 hydrogens are replaced by fluorine,
1,4-phenylene, 1,4-phenylene in which 1 to 4 hydrogens are replaced by halogen, m is 0,
The fumaric acid diester according to claim 1, wherein Z 1 is a single bond.
ｍが０であり、Ｒ2が直鎖または分岐の炭素数１〜２０
のアルキルであり、Ｚ1が−Ｃ≡Ｃ−である、請求項１
に記載のフマル酸ジエステル。4. R 1 is alkyl having 1 to 20 carbons,
m is 0 and R 2 is a linear or branched carbon number 1 to 20
Is alkyl of Z 1 and Z 1 is -C≡C-.
The fumaric acid diester described in.
少なくとも１つ含むポリマー。 （式中、Ｒ1は水素、−ＣＮ、−ＣＦ3、−ＣＦ2Ｈ、−
ＣＦＨ2、−ＯＣＦ3、−ＯＣＦ2Ｈ、−ＮＣＯ、−ＮＣ
Ｓ、−Ｆ、−Ｃｌまたは炭素数１〜２０のアルキルであ
り、アルキルの１個の−ＣＨ2−は−Ｏ−、−Ｓ−、−
ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−または−ＣＯ−で置き換えられて
もよく；Ａ1、Ａ2またはＡ3はシクロヘキサン−１，４
−ジイル、シクロヘキセン−１，４−ジイル、１〜４個
の水素がフッ素で置き換えられたシクロヘキサン−１，
４−ジイル、１，４−フェニレン、１〜４個の水素がハ
ロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン
−２，５−ジイル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイ
ル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６
−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、また
はフルオレン−２，７−ジイルであり；ｍは１または０
であり；ｎは１〜２０の整数であり；Ｒ2は炭素数１〜
２０のアルキルであり；Ｚ1またはＺ2は単結合、−ＣＦ
２Ｏ−、−ＯＣＦ 2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−
ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ≡Ｃ−である。）5. A repeating unit represented by the following formula (2):
A polymer comprising at least one. (In the formula, R1Is hydrogen, -CN, -CF3, -CF2H,-
CFH2, -OCF3, -OCF2H, -NCO, -NC
S, -F, -Cl or alkyl having 1 to 20 carbons.
, One alkyl -CH2-Is -O-, -S-,-
Replaced by COO-, -OCO- or -CO-
Well; A1, A2Or A3Is cyclohexane-1,4
-Diyl, cyclohexene-1,4-diyl, 1 to 4
Cyclohexane-1, in which the hydrogen in the
4-diyl, 1,4-phenylene, 1 to 4 hydrogens
1,4-phenylene, pyridine substituted with a rogen
-2,5-diyl, pyridazine-2,5-diyl, pyri
Midine-2,5-diyl, naphthalene-2,6-diyl
1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6
-Diyl, 1,3-dioxane-2,5-diyl, also
Is fluorene-2,7-diyl; m is 1 or 0
And n is an integer from 1 to 20; R2Has 1 to 1 carbon atoms
20 alkyl; Z1Or Z2Is a single bond, -CF
TwoO-, -OCF 2-, -CH2O-, -OCH2-,-
CH = CH-, -CH2CH2− And −C≡C−. )
シクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘキセン−
１，４−ジイル、１〜４個の水素がフッ素で置き換えら
れたシクロヘキサン−１，４−ジイル、１，４−フェニ
レン、１〜４個の水素がハロゲンで置き換えられた１，
４−フェニレンであり、Ｒ2が分岐または環状の炭素数
１〜２０のアルキルであり、Ｚ1が単結合である、請求
項５に記載のポリマー。6. R 1 is —CN and A 1 , A 2 or A 3 is cyclohexane-1,4-diyl, cyclohexene-
1,4-diyl, cyclohexane-1,4-diyl in which 1 to 4 hydrogens are replaced by fluorine, 1,4-phenylene, 1 to 4 hydrogens are replaced by halogen 1,
The polymer according to claim 5, which is 4-phenylene, R 2 is branched or cyclic alkyl having 1 to 20 carbon atoms, and Z 1 is a single bond.
Ａ1またはＡ2がシクロヘキサン−１，４−ジイル、シク
ロヘキセン−１，４−ジイル、１〜４個の水素がフッ素
で置き換えられたシクロヘキサン−１，４−ジイル、
１，４−フェニレン、１〜４個の水素ハロゲンで置き換
えられた１，４−フェニレンであり、ｍが０であり、Ｚ
1が単結合である、請求項５に記載のポリマー。7. R1Is alkyl having 1 to 20 carbon atoms,
A1Or A2Is cyclohexane-1,4-diyl, shik
Rohexene-1,4-diyl, 1 to 4 hydrogens are fluorine
Cyclohexane-1,4-diyl substituted with
Replace with 1,4-phenylene, 1 to 4 hydrogen halogens
The obtained 1,4-phenylene, m is 0, Z
1The polymer of claim 5, wherein is a single bond.
ｍが０であり、Ｒ2が直鎖または分岐の炭素数１〜２０
のアルキルであり、Ｚ1が−Ｃ≡Ｃ−である、請求項５
に記載のポリマー。8. R 1 is alkyl having 1 to 20 carbons,
m is 0 and R 2 is a linear or branched carbon number 1 to 20
Is alkyl and Z 1 is —C≡C—.
The polymer described in.
マーを用いた光学補償膜、液晶配向膜または光散乱モー
ド記録材料。9. An optical compensation film, a liquid crystal alignment film, or a light scattering mode recording material using the polymer according to claim 5.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002027582A JP4088863B2 (en) | 2002-02-05 | 2002-02-05 | Fumaric acid diester and its liquid crystalline polymer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002027582A JP4088863B2 (en) | 2002-02-05 | 2002-02-05 | Fumaric acid diester and its liquid crystalline polymer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003231666A true JP2003231666A (en) | 2003-08-19 |
| JP4088863B2 JP4088863B2 (en) | 2008-05-21 |
Family
ID=27773390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002027582A Expired - Fee Related JP4088863B2 (en) | 2002-02-05 | 2002-02-05 | Fumaric acid diester and its liquid crystalline polymer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4088863B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005179557A (en) * | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Chisso Corp | Low refractive index anisotropic compound, its composition, polymer or polymer composition of them |
| WO2006115112A1 (en) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal composition comprising the same, and polymer produced using them |
| JP2016085413A (en) * | 2014-10-28 | 2016-05-19 | Jsr株式会社 | Liquid crystal aligning agent, method for manufacturing liquid crystal display element, liquid crystal alignment film, liquid crystal display element, polymer and compound |
| JP2018193411A (en) * | 2017-05-12 | 2018-12-06 | 川崎化成工業株式会社 | Method of producing fumarate ester homopolymer |
-
2002
- 2002-02-05 JP JP2002027582A patent/JP4088863B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005179557A (en) * | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Chisso Corp | Low refractive index anisotropic compound, its composition, polymer or polymer composition of them |
| WO2006115112A1 (en) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal composition comprising the same, and polymer produced using them |
| TWI394822B (en) * | 2005-04-20 | 2013-05-01 | Nissan Chemical Ind Ltd | Polymerizable liquid crystal compounds and polymerizable liquid crystal compositions containing the same, and polymers obtainable therefrom |
| JP2016085413A (en) * | 2014-10-28 | 2016-05-19 | Jsr株式会社 | Liquid crystal aligning agent, method for manufacturing liquid crystal display element, liquid crystal alignment film, liquid crystal display element, polymer and compound |
| JP2018193411A (en) * | 2017-05-12 | 2018-12-06 | 川崎化成工業株式会社 | Method of producing fumarate ester homopolymer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4088863B2 (en) | 2008-05-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4608852B2 (en) | Liquid crystalline vinyl ketone derivatives and polymers thereof | |
| US6824709B2 (en) | Fluorene derivatives and their polymers | |
| JP4923380B2 (en) | Low refractive index anisotropic compounds, compositions and polymers or polymer compositions thereof | |
| US7157124B2 (en) | Polymerizable compounds and their polymers | |
| JP4296821B2 (en) | Maleimide derivatives and polymers thereof | |
| US6673267B2 (en) | Phenylacetylene compound, liquid crystal composition, polymer, optically anisotropic product, and liquid crystal or optical element | |
| JP2008239873A (en) | Biphenyl and terphenyl compound and polymerizable liquid composition containing the same | |
| JP4296761B2 (en) | N-substituted maleimide and polymer thereof | |
| JP2012214756A (en) | Polymerizable naphthoic acid phenyl compound | |
| JP4839627B2 (en) | Tetrahydroxybenzene tetraester derivative and polymer thereof | |
| JP4617641B2 (en) | Liquid crystalline compounds and polymers having optically active groups | |
| US8168734B2 (en) | Lateral alpha-substituted acrylate compound and polymer thereof | |
| JP4770038B2 (en) | Polymerizable liquid crystal compound and optical anisotropic body | |
| JP3900987B2 (en) | Optically active fumaric acid diester derivative and liquid crystal polymer thereof | |
| JP3925288B2 (en) | Itaconic acid derivatives and polymers thereof | |
| JP4165062B2 (en) | Compound having difluoromethyleneoxy and polymer thereof | |
| JP4088863B2 (en) | Fumaric acid diester and its liquid crystalline polymer | |
| JP4016670B2 (en) | Liquid crystalline sorbic acid ester and polymer thereof | |
| JP4766291B2 (en) | Polymerizable liquid crystal compound, composition, and optical anisotropic body | |
| KR101649178B1 (en) | Polymerizable naphthalene compound | |
| JP3832301B2 (en) | Liquid crystalline fumaric acid diester and its polymer | |
| JP4165096B2 (en) | Muconic acid diester and its polymer | |
| JP4221995B2 (en) | Optically active vinyl ether and cholesteric liquid crystal polymer derived therefrom | |
| JP4039281B2 (en) | Cyclopropane compound and polymer thereof | |
| KR20160001773A (en) | Thienothiophenes liquid crystal compounds, liquid crystal compositions containing TT, and electro-optical device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041015 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070130 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070330 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070619 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070820 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070821 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070907 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071018 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071102 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080201 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080214 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110307 Year of fee payment: 3 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110307 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110307 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120307 Year of fee payment: 4 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120307 Year of fee payment: 4 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120307 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130307 Year of fee payment: 5 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130307 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130307 Year of fee payment: 5 |
|
| R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130307 Year of fee payment: 5 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130307 Year of fee payment: 5 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130307 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140307 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |