JP2003119205A - 重合禁止剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高温に加熱した場合でも、ビニル化合物の重
合を効果的に防止する、重合禁止剤を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）特定のＮ−オキシル−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジン誘導体、特に好
ましくは下記一般式（１−１）で表される化合物および
（Ｂ）（ｂ−１）フェノール系重合禁止剤、（ｂ−２）
フェノチアジン系重合禁止剤、（ｂ−３）金属塩系重合
禁止剤および（ｂ−４）ニトロソ系重合禁止剤から選ば
れる少なくとも一種の重合禁止剤を含有する重合禁止剤
組成物。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、重合禁止剤組成物
に関し、詳しくは、Ｎ−オキシル−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジン誘導体と他の特定の重合禁
止剤とを含有してなる重合禁止剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】アク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル等のα、β−不
飽和カルボン酸エステル、スチレン、アクリルアミド等
のビニル化合物は、重合しやすく、製造工程、蒸留精製
時、貯蔵あるいは輸送時にしばしば重合することが知ら
れている。該ビニル化合物の重合を防止するために従来
ハイドロキノン、ハイドロキノンモノアルキルエーテル
等のフェノール化合物が用いられてきたが、これらの化
合物はその効果が未だ十分ではなかった。

【０００３】特公昭４５−１０５４号公報には、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン
−１−オキシル等を添加してなるアクリル酸単量体を安
定化する方法が提案されており、特公昭５４−３８５３
号公報には、重合抑制剤として、２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ヒドロキシピペリジル−１−オキシル、
ジチオカルバミン酸銅を使用してなるメタクリル酸の製
法が記載されており、特開平６−３４５６８１号公報に
は、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノオキシル
等のＮ−オキシル化合物、ハイドロキノン等のフェノー
ル化合物およびフェノチアジン化合物を用いる（メタ）
アクリル酸およびそのエステルの重合防止方法が記載さ
れており、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノオ
キシル等のＮ−オキシル化合物と共に、マンガン塩化合
物、銅塩化合物、２，２，６，６−テトラメチルピペラ
ジン化合物およびニトロソ化合物よりなる群から選択さ
れる一種以上を用いる（メタ）アクリル酸およびそのエ
ステルの重合防止方法が記載されている。ところがここ
で提案されている２，２，６，６−テトラメチル−４−
ヒドロキシピペリジル−１−オキシル等の低級の化合物
を使用した場合には、蒸留時等の高温にさらされる環境
下においては揮発してその効果が失われてしまうという
欠点があった。

【０００４】一方、特開昭６０−３６５０１号公報に
は、多官能のＮ−オキシル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジン誘導体からなる重合禁止剤が提案
されているが、これを単独で使用した場合にはその効果
が不十分であった。

【０００５】従って、本発明の目的は、高温に加熱した
場合でも、ビニル化合物の重合を効果的に防止する、重
合禁止剤を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
を行った結果、Ｎ−オキシル−２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジン誘導体および他の特定の重合禁
止剤を組み合わせて得られる重合禁止剤組成物が、上記
目的を達成しえることを知見した。

【０００７】即ち、本発明は、上記知見に基づきなされ
たもので、（Ａ）下記一般式（１）で表されるＮ−オキ
シル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン
誘導体および（Ｂ）（ｂ−１）フェノール系重合禁止
剤、（ｂ−２）フェノチアジン系重合禁止剤、（ｂ−
３）金属塩系重合禁止剤および（ｂ−４）ニトロソ系重
合禁止剤から選ばれる少なくとも一種の重合禁止剤を含
有する重合禁止剤組成物を提供するものである。

【０００８】

【化３】

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、上記要旨をもってなる本発
明の重合禁止剤組成物について詳述する。

【００１０】まず、本発明の重合禁止剤組成物の（Ａ）
成分の前記一般式（１）で表されるＮ−オキシル−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン誘導体につ
いて説明する。

【００１１】前記一般式（１）中、Ｒ₃ で表される低級
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル等があげられる。また、Ｒ₂ 、Ｒ₄ およびＲ
₅ で表されるアルキル基としては、例えば、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第
三ブチル、アミル、第三アミル、ヘキシル、ヘプチル、
オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘ
キシル、ドデシル、２−メチルウンデシル、２−メチル
ドデシル、テトラデシル、２−メチルトリデシル、ヘキ
サデシル、２−ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシ
ル、ドコシル、テトラコシル、２−デシルテトラデシ
ル、２−デシルペンタデシル、２−ウンデシルテトラデ
シル、２−ウンデシルペンタデシル、トリアコンチル等
があげられ、アルケニル基としては、例えば、アリル、
デセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニ
ル、オクタデセニル等があげられる。

【００１２】また、Ａで表されるアシル基はＡ（ＯＨ）
_2+n で表されるカルボン酸の残基であり、該カルボン酸
としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、セバチン酸、デカ
メチレンジカルボン酸、マレイン酸、イタコン酸、アセ
チレンジカルボン酸、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロン酸、チオジプロピオン
酸、チオジグリコール酸、メチレンビスチオジグリコー
ル酸、イミノジ酢酸、酒石酸、リンゴ酸、チオリンゴ
酸、ジヒドロ酒石酸、エポキシコハク酸、３，４−ジオ
キシチオフェンジカルボン酸、１，４−ビスカルボキシ
エチレンピペラジン、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル
酸、５−ビシクロ〔２．２．１〕ヘプテン−２，３−ジ
カルボン酸、５−ビシクロ〔２．２．２〕ヘプテンジカ
ルボン酸、トリカルバリル酸、クエン酸、アセチルクエ
ン酸、ブタン−１，２，３−トリカルボン酸、３−ブテ
ン−１，２，３−トリカルボン酸、トリメリット酸、ブ
タン−１，２，３，４−テトラカルボン酸、１，１，
２，２−エテンテトラカルボン酸、７−ビシクロ〔２．
２．２〕オクテン−２，３，５，６−テトラカルボン
酸、１，１，２，３−プロパンテトラカルボン酸、ピロ
メリット酸、１，６，７，８，９，１４−テトラデカン
ヘキサカルボン酸、１，６，８，１４−テトラデカンテ
トラカルボン酸、ニトリロトリ酢酸、ニトリロトリプロ
ピオン酸等があげられる。

【００１３】また、Ａで表されるカルバモイル基は、２
＋ｎ価のポリイソシアネートから誘導されるものであ
り、該ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレン
ジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、イソシアナトメチルシクロヘキサンイソシアネー
ト、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート
等があげられる。また、Ａで表される無機酸素酸からの
２＋ｎ価の基における該無機酸素酸としては、例えば、
リン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸、置換ホ
スホン酸、置換亜ホスホン酸、ケイ酸、ジ有機ケイ酸、
ホウ酸、炭酸等があげられる。

【００１４】また、Ｇを提供することができる二価フェ
ノール類としては、例えば、ハイドロキノン、４，４’
−イソプロピリデンビスフェノール（ビスフェノール
Ａ）、４，４’−シクロヘキシリデンビスフェノール、
４，４’−メチレンビスフェノール、４，４’−スルホ
ビスフェノール、２，５−ジ第三ブチルハイドロキノ
ン、２，３，６−トリメチルハイドロキノン、２−メチ
ルレゾルシン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−
６−第三ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−エチル−６−第三ブチルフェノール）、２，２’
−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチルシクロ
ヘキシル）フェノール〕、２，２’−ｎ−ブチリデンビ
ス（４，６−ジメチルフェノール）、ビス−１，１−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジメチルフェニル）
−３，５，５−トリメチルヘキサン、２，２’−シクロ
ヘキシリデンビス（４−エチル−６−第三ブチルフェノ
ール）、２，２’−イソプロピルベンジリデンビス（４
−エチル−６−第三ブチルフェノール）、２，２’−チ
オビス（４−第三ブチル−６−メチルフェノール）、
２，２’−チオビス（４−メチル−６−第三ブチルフェ
ノール）、２，２’−チオビス（４，６−ジ第三ブチル
フェノール）、４，４’−メチレンビス（２−メチル−
６−第三ブチルフェノール）、４，４’−イソプロピリ
デンビス（２−フェニルエチルフェノール）、４，４’
−ｎ−ブチリデンビス（３−メチル−６−第三ブチルフ
ェノール）、４，４’−シクロヘキシリデンビス（２−
第三ブチルフェノール）、４，４’−シクロヘキシリデ
ンビス（２−シクロヘキシルフェノール）、４，４’−
ベンジリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノ
ール）、４，４’−オキソビス（３−メチル−６−イソ
プロピルフェノール）、４，４’−チオビス（２−メチ
ル−６−第三ブチルフェノール）、４，４’−チオビス
（３−メチル−６−第三ブチルフェノール）、４，４’
−スルホビス（３−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブ
チルベンジル）スルフィド等があげられる。

【００１５】また、Ｇを提供することができる二価アル
コール類としては、例えば、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−
プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２
−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−
ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチ
レングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，１０
−デカンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、
１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−フェニ
ルジメタノール、水添ビスフェノールＡ、３，９−ビス
（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，
４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカ
ン等があげられる。

【００１６】また、Ｇを提供することができる二価アミ
ン類としては、例えば、エチレンジアミン、プロピレン
ジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ウンデカメチレン
ジアミン、ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、３，
９−ビス（３−アミノプロピル）−２，４，８，１０−
テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、Ｎ，Ｎ’−
ジメチルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン等があげられる。

【００１７】而して、本発明の重合禁止剤組成物の
（Ａ）成分の前記一般式（１）で表されるＮ−オキシル
−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン誘導
体としては、具体的には、例えば、ビス（１−オキシル
−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ドデカンジオネート、ビス
（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）テレフタレート、ビス（１−オキシル−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）フタ
レート、ビス（９−オキシル−９−アザ−８，８，１
０，１０−テトラメチル−３−エチル−１，５−ジオキ
サスピロ〔５．５〕−３−ウンデシルメチル）メチルイ
ミノジアセテート、ビス（１−オキシル−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）・２−ブチル−２
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）シトレート、トリス（１−オキシル−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニト
リロトリアセテート、トリス（１−オキシル−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブタントリカ
ルボキシレート、トリス（１−オキシル−２，２，６，
６−テトラメチル）トリメリテート、ビス（１−オキシ
ル−２，２，６，６−テトラメチル）モノ（トリデシ
ル）トリメリテート、テトラ（１−オキシル−２，２，
６，６−テトラメチル）ピロメリテート、テトラ（１−
オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）−１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン
テトラアセテート、テトラ（１−オキシル−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，
３，４−ブタンテトラカルボキシレート、トリス（１−
オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）・モノ（イソトリデシル）−１，２，３，４−ブ
タンテトラカルボキシレート、ビス（１−オキシル−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ
（イソトリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカ
ルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−（トリス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジルオキシカルボニル）ブチルカルボ
ニルオキシ）エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキ
サスピロ〔５．５〕ウンデカン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−
オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）オキサアミド、２，４，６−トリス（１−オキシ
ル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオ
キシ）−ｓ−トリアジン、２−ジエチルアミノ−４，６
−ビス（９−オキシル−９−アザ−８，８，１０，１０
−テトラメチル−３−エチル−１，５−ジオキサスピロ
〔５．５〕ウンデシルメトキシ）−ｓ−トリアジン、２
−第三オクチルアミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリア
ジン／Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジア
ミン重縮合物、ビス（９−オキシル−９−アザ−８，
８，１０，１０−テトラメチル−３−エチル−１，５−
ジオキサスピロ〔５．５〕−３−ウンデシルメチル）カ
ーボネート、ビス（９−オキシル−９−アザ−８，８，
１０，１０−テトラメチル−３−エチル−１，５−ジオ
キサスピロ〔５．５〕−３−ウンデシルメチル）・水添
ビスフェノールＡ・カーボネート、トリス（１−オキシ
ル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
ホスファイト、テトラ（１−オキシル−２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）・ビスフェノールＡ
・ジホスファイト、トリス（１−オキシル−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ホスフェー
ト、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル−
ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）ホスホネート、フェニル−ビス（１−
オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）ホスフィネート等があげられる。

【００１８】これらＮ−オキシル−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジン誘導体の中でも、下記一般
式（１−１）で表されるエステル化合物が特に好適に使
用される。

【００１９】

【化４】

【００２０】次に、本発明の重合禁止剤組成物の（Ｂ）
成分の重合禁止剤について説明する。本発明の（Ｂ）成
分として使用される（ｂ−１）フェノール系重合禁止剤
としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール、カテコール等があげられ、好ましくは、ハイド
ロキノン、ｐ−メトキシフェノールである。

【００２１】また、本発明の（Ｂ）成分として使用され
る（ｂ−２）フェノチアジン系重合禁止剤としては、例
えば、フェノチアジン、ビス（α−メチルベンジル）フ
ェノチアジン、３，７−ジオクチルフェノチアジン、ビ
ス（α、α−ジメチルベンジル）フェノチアジン等があ
げられ、好ましくは、フェノチアジンである。

【００２２】また、本発明の（Ｂ）成分として使用され
る（ｂ−３）金属塩系重合禁止剤としては、例えば、ジ
メチルジチオカルバミン酸、ジエチルジチオカルバミン
酸、ジプロピルジチオカルバミン酸、ジブチルジチオカ
ルバミン酸、ジフェニルジチオカルバミン酸、蟻酸、酢
酸、オクタン酸、ナフテン酸、エチレンジアミン四酢酸
等の銅塩あるいはマンガン塩等があげられ、好ましく
は、ジメチルジチオカルバミン酸、ジエチルジチオカル
バミン酸、ジプロピルジチオカルバミン酸、ジブチルジ
チオカルバミン酸、ジフェニルジチオカルバミン酸等の
ジアルキルジチオカルボン酸金属塩化合物である。

【００２３】本発明の（Ｂ）成分として使用される（ｂ
−４）ニトロソ系重合禁止剤としては、例えば、ｐ−ニ
トロソフェノール、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ
−ニトロソフェニルヒドロキシアミンのアンモニウム塩
（クペロン）等があげられ、好ましくは、Ｎ−ニトロソ
フェニルヒドロキシアミンのアンモニウム塩（クペロ
ン）である。

【００２４】本発明の重合禁止剤組成物は、前記（Ａ）
成分１００重量部に対し、前記（Ｂ）成分を、好ましく
は１０〜２００重量部、より好ましくは５０〜１５０重
量部含有する。

【００２５】本発明の重合禁止剤組成物は、ビニル化合
物の重合禁止剤として使用され、該ビニル化合物として
は、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和カルボン酸；該不
飽和カルボン酸と一価の又は多価のアルコール（例え
ば、メタノール、エタノール、ブタノール、アリルアル
コール、オクタノール、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、プロピレング
リコール、ネオペンチルグリコール、１，４−ブタンジ
オール、１，３−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールエタン、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソ
シアネート、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジ
トリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等）
とのエステルあるいは一価または多価のアルコールとの
エステルあるいは一価または多価アミン（例えば、アン
モニア、メチルアミン、オクチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジブチルアミン、エチレンジアミン、ジエチレント
リアミン、ピペラジン、１，６−ヘキサメチレンジアミ
ン、メラミン等）とのアマイド；多価カルボン酸および
多価アルコールから得られるポリヒドロキシエステルの
（メタ）アクリレート；不飽和ジカルボン酸（および他
のカルボン酸（例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、トリメット酸、プロメリット酸、テトラヒド
ロフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸等））
と多価アミンとから得られる不飽和ポリエステルあるい
は不飽和ポリアミド；ジイソシアネート（例えば、ジイ
ソシアネートとしてはトルエンジイソシアネート、ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、イソシアナトメチルシ
クロヘキサンイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、イソフォロンジイソシアネート等）と多価ア
ルコールとから得られる末端イソシアネートを有するウ
レタン化合物とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレー
トとの反応により得られるウレタンアクリレート；ビス
フェノール類あるいはポリオールのポリグリシジルエー
テルと（メタ）アクリル酸との反応により得られるエポ
キシアクリレート；ジカルボン酸無水物とグリシジル
（メタ）アクリレートとの反応により得られる直鎖状ポ
リエステル；両末端にカルボキシ基を有するポリエステ
ルまたはポリアミドとグリシジル（メタ）アクリレート
とを反応させて得られるジ（メタ）アクリル変性ポリエ
ステルまたはポリアミド；芳香族ビニル化合物；アクリ
ロニトリル等があげられる。

【００２６】上記ビニル化合物の具体例としては、例え
ば、メチル−、エチル−、ブチル−、イソオクチル−ま
たは２−ヒドロキシエチル−アクリレート、メチル−ま
たはエチル−メタクリレート、エチレングリコールジア
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
１，４−ブタンジオールジアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソ
シアヌレートトリアクリレート、ジペンタエリスリトー
ル−テトラ〜ヘキサアクリレート、グリセリンジアクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリ
スリトールトリメタクリレート、エチレングリコールジ
クロネート、ジアリルマレート、ビス（アクリロイルオ
キシエチルフェニル）プロパン、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、エチレンビスアクリルアミド、ヘキサメ
チレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルア
ミド、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヘキサメ
チレンジカーバメート、ビス（２−ヒドロキシ−３−ア
クリロイルオキシプロピル）ヘキサメチレンジカーバメ
ート、６−イソシアナトヘキサンカルバモイルオキシエ
チルアクリレート、６−イソシアナトヘキサンカルバモ
イルオキシエチルメタクリレート、フタル酸ジアリル、
マロン酸ジアリル、ジビニルアジペート、ジビニルフタ
レート、酢酸ビニル、イソブチルビニルエーテル、エチ
レングリコールジビニルエーテル、スチレン、アクリロ
ニトリル、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルホ
スフェート、アクロレイン、メタクロレイン、ブタジエ
ン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、ビニルピ
リジン、塩化ビニル、スチレン、α−メチルスチレン、
ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、スチレンスルホン
酸、アクリロニトリル等があげられる。

【００２７】本発明の重合禁止剤組成物は、ビニル化合
物の製造、精製、貯蔵あるいは輸送の任意の段階で添加
することができ、その添加量はビニル化合物に対して
０．００１〜３重量％が好適である。本発明の重合禁止
剤組成物は、ビニル化合物が加温されることにより発生
するラジカルを捕捉する効果がある。これは本発明の重
合禁止剤組成物の（Ａ）成分であるＮ−オキシル−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン誘導体がニ
トロキシラジカルになることにより、ラジカル捕捉剤と
して効果を発揮するからである。

【００２８】

【実施例】以下、本発明を実施例、比較例によって具体
的に説明するが、本発明は以下の実施例により制限され
るものではない。

【００２９】（実施例１）蒸留装置付きフラスコに、２
−ヒドロキシエチルアクリレートおよび下記の表１、表
２および表３に示した配合成分および配合量の試験化合
物を入れ、投入量の約半分を蒸留し、蒸留に得られたも
のおよびフラスコに残存したものについて赤外分光分析
により残存二重結合の量を求め、その減少率をそれぞれ
重合率Ａおよび重合率Ｂとした。その結果を下記の表
１、表２および表３に示した。

【００３０】なお、下記の表１、表２および表３中、試
験化合物の配合量の単位はｐｐｍであり、試験化合物の
欄の各記号は、それぞれ下記の化合物を示す。 ＨＡ−１：ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）セバケート ＨＡ−２：ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）テレフタレート ＨＡ−３：ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）フタレート ＨＡ−４：テトラ（１−オキシル−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボキシレート ＨＡ−５：１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジノール ＰＨ−１：ハイドロキノン ＰＨ−２：ｐ−メトキシフェノール ＰＴ−１：フェノチアジン ＣＵ−１：ジブチルアミノジチオカルボン酸銅塩

【００３１】

【表１】

【００３２】

【表２】

【００３３】

【表３】

【００３４】上記の表１、表２および表３に示した結果
から明らかなように、重合禁止剤を全く使用しない場合
（比較例１−１）には、加熱によって容易に重合が進行
する。また、重合禁止剤を使用した場合においても、本
発明の（Ａ）成分または（Ｂ）成分をそれぞれ単独で使
用した場合（比較例１−２〜１−６）には、重合の抑制
効果はいまだ十分なものではない。さらにＮ−オキシル
−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル化合
物の中でも本発明の（Ａ）成分と異なる化合物を他の重
合禁止剤と組み合わせて使用した場合（比較例１−７お
よび１−８）も、重合抑制効果は小さいものしか得られ
ない。

【００３５】これに対して、（Ａ）成分のＮ−オキシル
−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル誘導
体と（Ｂ）成分のフェノール系重合禁止剤、フェノチア
ジン系重合禁止剤、金属塩系重合禁止剤またはニトロソ
系重合禁止剤とを組み合わせた本発明の重合禁止剤組成
物を使用した場合（実施例１−１〜１−１０）には、大
きな重合抑制効果が得られる。

【００３６】

【発明の効果】本発明の重合禁止剤組成物は、高温に加
熱した場合でも、ビニル化合物の重合を効果的に防止す
ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 凌治 埼玉県さいたま市白幡５丁目２番13号 旭 電化工業株式会社内 (72)発明者 南部 洋子 埼玉県さいたま市白幡５丁目２番13号 旭 電化工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4J011 NA02 NA15 NA16 NA18 NA26 NA29

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）下記一般式（１）で表されるＮ−
   オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
   ジン誘導体および（Ｂ）（ｂ−１）フェノール系重合禁
   止剤、（ｂ−２）フェノチアジン系重合禁止剤、（ｂ−
   ３）金属塩系重合禁止剤および（ｂ−４）ニトロソ系重
   合禁止剤から選ばれる少なくとも一種の重合禁止剤を含
   有する重合禁止剤組成物。 【化１】
2. 【請求項２】 （Ａ）Ｎ−オキシル−２，２，６，６−
   テトラメチル−４−ピペリジン誘導体が下記一般式（１
   −１）で表される化合物である請求項１記載の重合禁止
   剤組成物。 【化２】
3. 【請求項３】 （ｂ−１）フェノール系重合禁止剤がハ
   イドロキノンまたはｐ−メトキシフェノールである請求
   項１または２記載の重合禁止剤組成物。
4. 【請求項４】 （ｂ−２）フェノチアジン系重合禁止剤
   がフェノチアジンである請求項１または２記載の重合禁
   止剤組成物。
5. 【請求項５】 （ｂ−３）金属塩系重合禁止剤がジチオ
   カルバミン酸金属塩化合物である請求項１または２記載
   の重合禁止剤組成物。
6. 【請求項６】 （ｂ−４）ニトロソ系重合禁止剤がＮ−
   ニトロソフェニルヒドロキシアミンのアンモニウム塩で
   ある請求項１または２記載の重合禁止剤組成物。