JP2002533565A - 金属プライマー層を使用しないで銀ベース低放射率コーティングを製造するための方法及び装置並びにそれによる製造物品 - Google Patents

金属プライマー層を使用しないで銀ベース低放射率コーティングを製造するための方法及び装置並びにそれによる製造物品

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Abstract

(57)【要約】 赤外線反射性の、例えば銀を含有する多層を基体上に蒸着して、コーティングされた物品を形成するための方法が提供される。銀層上に保護性層を蒸着するために、１種以上のセラミックカソードを使用する。複数のセラミックカソードを使用することによって、従来技術に共通する金属プライマー層の必要性が除かれる。赤外線反射性層とセラミック層の両者は、同一コーティング区域で蒸着させることができる。このコーティング区域は、赤外線反射性層の特性に悪影響を与えることなく、実質的に酸化されたセラミックコーティング層を与えるのに十分な酸素を含有している。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 （発明の背景） （１．発明の分野） 本発明は概して、マグネトロンスパッタリング真空蒸着に関し、更に詳しくは
、金属プライマー層をオーバーレイ(overlaying, 上張り)しないで、赤外線反射
性金属層を有する多層コーティングのスタック(stack, 積み重ねた物)をスパッ
タリングすることに関し、また、それによって造られた物品にも関する。
【０００２】 （２．現在利用可能な技術の記述） 太陽光は、通常３つの広い領域（即ち、紫外領域、可視領域及び赤外領域）に
属する光エネルギーを含む。ビルの窓、自動車の窓等の、多くの商業的用途のた
めには、エネルギー（即ち、窓を通って、ビル若しくは自動車の中及び／又は外
に移動する熱）の量を低減させることが望ましい。この熱の低減は、これら３つ
の領域のいずれかからの移動する光エネルギーを低減することによって、効果を
挙げることができる。しかし、あまりにも多くの可視光エネルギーを除去するこ
とは、典型的には現実的ではない。そうすることは、人が窓を通して見る能力に
悪影響を及ぼすからである。従って、赤外線エネルギー等の剰余エネルギーをで
きるだけ多く遮断する(block out)ことが望ましい。なぜなら、そうすることが
、可視光の透過率に悪影響を及ぼすことなく、透過エネルギーを最も大幅に減少
させることとなるからである。
【０００３】 太陽からの赤外線エネルギーを低減させるために、ガラスの基体(substrate,
基材)上に、銀、金、アルミニウム、銅等の赤外線反射性金属層を蒸着する(depo
sit)ことが知られている。しかし、赤外線反射性金属のみが施された場合、可視
光をも反射する鏡様仕上げ(mirror-like finish)という結果になる。従って、通
常は、赤外線反射性層の一方側か又は両側に反射防止性層を与えて、赤外線エネ
ルギーは大幅に反射するが可視エネルギーは大幅に透過する基体を造る。これら
の反射防止性層は通常、誘電材料（幾らか挙げると、例えば、Ｚｎ2ＳｎＯ4、Ｉ
ｎ2ＳｎＯ4、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｓｉ3Ｎ4、Ｂｉ2Ｏ3等の金
属酸化物）で形成される。
【０００４】 赤外線反射性層及び反射防止性層は典型的には、スパッタリング技術において
マグネトロンスパッタリング真空蒸着として知られている技術を用いて、カソー
ド・スパッタリング・コーティング機(cathode sputtering coater, 陰極スパッ
タリング・コーター)でガラス基体上に形成される。反射防止性層は通常、反応
性雰囲気（例えば、酸素に富む雰囲気）中で金属又は金属合金のカソードをスパ
ッタリングして、金属酸化物の誘電性コーティングをガラス基体表面上に蒸着さ
せることによって、基体上に蒸着される。非反応性雰囲気（例えば、アルゴン等
の酸素を含有しない不活性雰囲気）中で、銀等の赤外線反射性金属で造られたカ
ソードをスパッタリングして、反射防止性層上に赤外線反射性層を蒸着する。金
属層を蒸着させ、また、赤外線反射性金属カソードの酸化を防止するために、酸
素なし雰囲気を使用する。後続の反射防止性層をスパッタリングする間、酸化又
は凝集作用(agglomeration)による銀層の破壊(breakdown)を防止するために、銀
層の上に、銅、ニオブ、チタン、タンタル、クロム、タングステン、亜鉛、イン
ジウム、ニッケル−クロム合金、類似金属等の保護性金属のプライマー層(prime
r layer, 下地層)を蒸着させる。
【０００５】 そのような金属プライマー層を形成する例は、米国特許第５，３１８，６８５
号明細書（これに言及することによって、その内容は本明細書に組み入れる）に
開示されている。これらの金属プライマー層は典型的には、約１０〜３０Å程度
の厚さであり、犠牲的である。即ち、金属プライマー層の厚さは、系のコーティ
ングパラメータに基づいて決定されるので、後続の反射防止性層をスパッタリン
グする間に、大抵の金属プライマー層は反応する（即ち、酸化する）。保護性金
属プライマー層は、完全に酸化すると透明になるので、酸化された金属プライマ
ー層は、コーティングされた基体の光透過率及び反射品質に悪影響を及ぼさない
。しかし、金属プライマー層の、この後続の酸化は容易には制御されず、この酸
化は、通常、決して完全ではない。更に、ある種の金属プライマーからの金属原
子は、赤外線反射性金属層の金属と合金化する傾向にあり、これによって、それ
ら２つの層の間の境界面が劣化する。
【０００６】 低放射率のコーティング済み基体を造ることに対しては一般に満足するもので
あるが、従来のコーティング方法に関しては、欠点が存在する。例えば、更なる
熱処理又は熱調整をしないで使用される予定のコーティング済みガラスに関し、
もし金属プライマー層の全てが、後続の反射防止性層を施している間に酸化され
ないのであれば、残余の金属プライマー層の可視光透過率は減少する。加えて、
後続の反射防止性層を施した後に残された残余の金属プライマー層の量と厚さと
は、コーティング済み基体の硬度等の、コーティングの物理特性に影響を及ぼす
。従って、後続の反射防止性層をスパッタリングしている間に酸化されるであろ
う金属プライマー層と同程度の金属プライマー層のみを施すことが重要である。
しかし、金属プライマー層の厚さを、必要とされる程度の精度（例えば、１０〜
３０Å）に制御することは、プロセスがかなり複雑になるという問題を引き起こ
す。精確な厚さに制御すること（例えば、１原子層以内に制御すること）は困難
である。また、金属プライマー層の酸化を制御することも困難である。従来のコ
ーティング機に関して、金属プライマー層の酸化が不十分であるとの限界に加え
て、酸素を含有しない赤外線反射性金属コーティング領域と酸素を含有する反射
防止性コーティング領域を分離する必要があり、貴重なコーティング空間(coati
ng space)が浪費されている。
【０００７】 加えて、例えば、曲げ、加熱強化又は焼き入れのために、コーティング済み基
体が更に加熱処理される予定であれば、金属プライマー層の厚さは、処理の間、
厚くしておき、そのような後続の加熱処理の間に銀層を保護するのに十分な、酸
化されない残余の金属プライマーを残しておく必要がある。このことは、商業的
目的のためには、通常、コーティング済み基体についての２つの在庫品目録（１
つは比較的薄い、即時に使用することのできる酸化済みプライマー層を有する在
庫品目録、１つは相対的に一層厚い、更なる加熱処理の後に使用するための非酸
化金属プライマーを有する在庫品目録である）を保持する必要があるということ
を意味する。しかし、色、透過率、曇り等のコーティング特性が、たとえ、より
厚いプライマー層を有する従来の低放射率コーティング済み基体を後で加熱処理
しても、悪影響を受けることは例外的なことではない。
【０００８】 今、当業者によって認識され得るように、従来の金属プライマー層を必要とせ
ずに一つ以上の赤外線反射性金属層を有するコーティングを提供すること、及び
そのコーティングの製法を提供することは、都合の良いことである。
【０００９】 （発明の概要） 本発明によって造られたコーティング済み物品［例えば、ウインドシールド(w
indshield, フロントガラス)等の自動車の透明物、又は建築用窓］は、基体の上
に(over)蒸着した赤外線反射性金属層（例えば、銀層）と、その銀層の上に好ま
しくはセラミックカソードから蒸着したセラミック層（例えば、アルミニウムで
ドープした酸化亜鉛の層）を有する。追加的な反射防止性若しくはセラミックの
層を、赤外線反射性金属層の下、又はセラミック層の上に蒸着させることができ
る。
【００１０】 本発明は、基体の上に、赤外線反射性金属（例えば、銀）を有する多層コーテ
ィングスタックをスパッタリングする方法であって、赤外線反射性金属カソード
をスパッタリングして、基体上に赤外線反射性金属層を蒸着し；次いで、アルミ
ニウムドープ(aluminum doped, アルミニウムが添加された)酸化亜鉛カソード等
のセラミックカソードをスパッタリングし、銀層上に犠牲的でない(non-sacrifi
cial)セラミック層を蒸着する；上記方法を提供する。銀層及びセラミック層は
、酸素を低い百分率で含有する不活性雰囲気の中で（例えば、後で説明するやり
方で、酸素含有量が、銀層上の望ましくない作用を最小限に抑えるレベルに制御
されている、コーティング機の同一コーティング室の中で）スパッタリングして
もよい。酸素含有量は、銀層の抵抗率が全く好ましくないレベルまで増大するの
を（例えば、不活性な非反応性雰囲気でスパッタリングされた類似の厚さの銀層
の抵抗率の約７５％以上のレベルまで増大するのを）防ぐために、例えば、約０
〜２０体積％になるように調整することができる。銀層の下か又はセラミック層
の上に、追加的なセラミック層又は反射防止性層を蒸着することができる。
【００１１】 また、基体上に、銀等の赤外線反射性金属を有する多重スタックコーティング
をスパッタリングするために、コーティング機も提供される。コーティング機は
、少なくとも１つのセラミックカソードと共に赤外線反射性金属カソードを備え
ている。セラミックカソードは、下流に（好ましくは、赤外線反射性金属カソー
ドから一定間隔を置いて、且つ赤外線反射性金属カソードに隣接して）配置され
ている。赤外線反射性金属カソード及びセラミックカソードは、同一コーティン
グ区域に配置することができる。
【００１２】 （好ましい態様の記述） 以下の記述において、用語「上方の(above)」、「下方の(below)」、「右側の
(right)」、「左側の(left)」、「頂部の(top)」、「底部の(bottom)」及び空間
を表示する類似用語は、諸図面に配置されている通りの本発明に関するものとす
る。しかし、本発明は種々の代替的変形を想定することができるということを理
解すべきである。但し、そうではないことが明細に述べられている場合は除く。
また、添付図面で説明され、次の仕様で記述されている特定のコーティング機及
びコーティング方法は、本発明の単なる例示的具体例であることも理解されるべ
きである。従って、本明細書に開示される諸具体例に関する特定の寸法及び他の
物理特性は限定的なものと判断すべきではない。本明細書で使用される用語「セ
ラミック」は通常、金属と非金属との化合物から成る物質を指し、用語「セラミ
ック層(ceramic layer)」は、「セラミック」カソードから蒸着した層を指す。
用語「の上に(over)」は、「の上方に(above)」を意味し、必ずしも隣接してい
なくてもよいし、接触していなくてもよい。
【００１３】 コーティング方法、及び得られたコーティングされた物品を十分に理解するた
めに、先ず、本発明の特徴を利用しているコーティング機(coater, コーター)に
ついて記述する。コーティング機は図１に示される１０であって、第１コーティ
ング区域１２、第２コーティング区域１４、及び第３コーティング区域１６を含
む。コンベア１８は、選定された速度で、区域１２、１４及び１６を通って、コ
ーティングされるべき基体２０を移動させるように設計されている。基体は、あ
らゆる材料（例えば、プラスチック、透明ガラス、着色ガラス、金属、ガラスセ
ラミックであるが、これらに限定されない）で造ることができる。区域１２、１
４及び１６は、あらゆる通常のやり方で（例えば、構造的に切り離されたステー
ジ(stages, 段)、又はターボ分子ポンプ若しくは拡散ポンプを有する段間(inter
stages)によって）相互に切り離し、ガスが１つの区域から図１の点線により示
される隣接区域の中に拡散するのを防止する。
【００１４】 第１区域１２は、スパッタリング用カソードターゲット２６を支えるための１
個以上のホルダー２４を備えている。第３区域１６は、第１区域１２に類似し、
１個以上のカソードターゲット３０を支えるための１個以上のホルダー２８を備
えている。
【００１５】 本発明の１つの具体例において、第２区域１４は、２つのカソードホルダー３
４及び３６であって、それぞれカソードターゲット３８及び４０を支えるものを
有する。論議を容易にするため、本明細書中ではカソードターゲットを単に「カ
ソード」と呼ぶ。カソード３８は、銀、金等、通常の赤外線反射性金属のカソー
ドである。他方のカソード４０は、本発明の特徴を組み込んだ導電性セラミック
カソードであって、例えば、導電性であるか又は導電性になるようにドーピング
された金属酸化物（例えば、ウィスコンシン州(Wisconsin)、ミルウォーキー(Mi
lwaukee)のセラック社(Cerac Company)から入手することのできるアルミニウム
ドープ酸化亜鉛カソード）である。カソード４０は、従来技術の金属プライマー
カソードの代わりに使用される。
【００１６】 さて、本発明の特徴による多層コーティングスタックをスパッタリングする方
法について論議する。初期論議において、本発明を限定するものと見なされるべ
きではないが、第１区域１２及び第３区域１６でのカソード２６及び３０は、通
常の金属カソード、例えば、米国特許第４，６１０，７７１号明細書（この開示
内容は、これに言及することにより本明細書に組み入れる）で論議されているタ
イプの、亜鉛カソード及び／又はスズ合金カソード；或いは、反射防止性層を蒸
着するために従来技術で使用されたタイプの亜鉛カソード又はシリコンカソード
［例えば、１９９８年４月９日に出願され、「オキシ窒化シリコンの保護性コー
ティング(Silicon Oxynitride Protective Coatings)」と題された米国特許出願
シリアルＮｏ．０９／０５８，４４０号明細書（この開示内容は、これに言及す
ることにより本明細書に組み入れる）に開示されるもの］であってもよい。この
場合、第１区域１２及び第３区域１６は、従来の反応性雰囲気（例えば、酸素に
富む雰囲気）を含む。赤外線反射性カソード３８は銀カソードであってもよく、
また、セラミックカソード４０はアルミニウムドープ酸化亜鉛カソードであって
もよい。
【００１７】 基体２０（例えば板ガラス）を、コンベア１８により第１コーティング区域１
２の中に移動し、カソード２６（例えば、亜鉛・スズ合金のカソード）を活性化
する(energized, に電圧を加える)。従来のやり方で、基体２０上にスズ酸亜鉛
層を蒸着する。スズ酸亜鉛層は、好ましくは約２０〜１０００Å、一層好ましく
は約１００〜４００Å、最も好ましくは約２００〜３５０Åの厚さを有する。
【００１８】 スズ酸亜鉛でコーティングした基体２０は、コンベア１８によって第２コーテ
ィング区域１４の中に移動し、次いで、活性化したカソード３８の下に移動する
。赤外線反射性層（例えば、好ましくは、約８０〜１５０Åの銀層）を、従来の
やり方で銀カソード３８からスズ酸亜鉛層の上に蒸着する。銀層を蒸着した後、
アルミニウムドープ酸化亜鉛のセラミックカソード４０をスパッタリングして、
銀層上にアルミニウムドープ酸化亜鉛層を蒸着する。十分理解され得ると思うが
、蒸着工程の間、カソードの幾つかの若しくは全ては、連続的に活性化してもよ
いし、又は蒸着する前にカソードを活性化して蒸着した後に電源を切ってもよい
。以下に一層詳しく記述されるように、セラミックカソード４０をスパッタリン
グするための雰囲気は、酸素（例えば、０〜２０体積％）を含有してもよい。セ
ラミックカソード４０をプラズマでスパッタリングすると、セラミックカソード
４０から亜鉛、アルミニウム及び酸素の諸原子が、別々に又は多原子種として放
出される。これらの原子は、基体２０上で再結合して、銀層上にセラミック（例
えば、アルミニウムドープ酸化亜鉛）の層を形成する。保護性層として使用され
る場合、施されるセラミック材料の最小量は、銀の上に均一な施し範囲(coverag
e, 適用範囲)を与え、後続の反射防止性層がスパッタリングされるときに、破壊
されるのを防ぐ量であるのが望ましく、また、その最大量は通常、コーティング
工程の経済性によって制限され、例えば、約２０〜１００Å、好ましくは約３０
〜８０Å、一層好ましくは約４０〜５０Åといった程度であり、この量はコーテ
ィング特性に悪影響を与えない。本発明の方法によって、前に論議したような、
従来技術の金属プライマー層に関連する、金属と金属とが合金化するという問題
が軽減されるか又は解消される。
【００１９】 上記の説明は、好ましいセラミック材としてアルミニウムドープ酸化亜鉛を使
用することに焦点を合わせているが、作業ガス中、少ない酸素分画で非常に透明
な層を造る他の導電性セラミック材もまた使用することができる。本発明を限定
するものと見なすべきではないが、セラミックカソード材には、例えば、インジ
ウム、亜鉛、アンチモン、カドミウム及び／又はフッ素等のドープ剤が添加され
た酸化スズ、酸化インジウム及び／又は酸化亜鉛が含まれて、スズ酸亜鉛、アン
チモンドープ酸化スズ、スズ酸カドミウム、フッ素ドープ酸化スズ、インジウム
ドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、インジウムドープ酸化亜鉛等の導
電性セラミックカソードが形成される。
【００２０】 従来のスパッタリングによるコーティング工程では、酸化による銀層の破壊を
防止するために、赤外線反射性金属層及び金属プライマー層を、酸素なし雰囲気
で蒸着する。しかし、酸素なし雰囲気で酸素含有セラミックカソードをスパッタ
リングすれば、スパッタリングされるセラミック材からガス相へ酸素が浪費され
ることがあることが確認された。この酸素は次いで、段間(interstages)の拡散
ポンプ(diffusion pumps)によって汲み取られることがある。加えて、セラミッ
クカソード材からの酸素の幾分かは、コーティング機の壁又は他の自由表面領域
の上に蒸着するコーティング材と反応して、セラミック層を形成するために利用
できる酸素の全量を低減させることがある。酸素なし雰囲気で銀の上に蒸着し、
得られたセラミック層（例えば、アルミニウムドープ酸化亜鉛層）は、［金属（
例えば、亜鉛、アルミニウム）］対［酸素］の比が理論比よりも一層大きくなる
ことがある。この酸素損失を阻止するために、少量の酸素、例えば０より大きく
２０体積％未満、好ましくは３〜１０体積％の酸素を、第２区域１４のスパッタ
リング雰囲気中で使用することができる。第２区域の雰囲気中のこの少量の酸素
が、スパッタリングの間の蒸着速度及び銀の特性に及ぼす影響は無視できるが、
この少量の酸素によって、銀層上に実質的に完全に酸化されたセラミック層（例
えば、実質的に化学量論的な［金属］対［酸素］比を有するもの）を生じること
となる。この酸素含有量は、不活性雰囲気（例えば、アルゴン雰囲気）でスパッ
タリングされる類似の厚さの銀層の抵抗率の約７５％以上の大きさまで銀層の抵
抗率が増加するのを防ぐように調整されるべきであり、好ましくは約５０％未満
の大きさまで、一層好ましくは約３０％未満の大きさまで銀層の抵抗率が増加す
るのを防ぐように調整されるべきであり、最も好ましくは銀層の抵抗率が約０％
即ち全く変化しなくなるまで調整されるべきである。当業者には十分理解される
ことと思うが、銀層の抵抗率は、銀層の厚さによって変化する。抵抗率と膜厚の
間の関係に関する検討は、「マテリアルズ・リサーチ・ソシエティ広報(Materia
ls Research Society Bulletin), 第XXII巻, Ｎｏ．９, １９９７年９月」（こ
の開示内容はこれに言及することにより本明細書に組み入れる）に与えられてい
る。例えば、アモルファススズ酸亜鉛ベース層上に蒸着した銀層について、抵抗
率は、約６０Åの厚さの約１０．７５μΩ・ｃｍから、約３００Åの厚さの約４
．５μΩ・ｃｍの抵抗率まで変化する。よって、本発明を限定するものと見なす
べきではないが、例えば、本発明の教示に従ってアモルファススズ酸亜鉛層上に
蒸着した６０Åの厚さの銀層について、加えられる酸素の量は好ましくは、銀層
の抵抗率が８．１μΩ・ｃｍ（０．７５×１０．７５μΩ・ｃｍ）を超える値（
即ち、最終抵抗率は１８．８５μΩ・ｃｍ）まで増大する結果となるようにすべ
きではなく、好ましくは５．４μΩ・ｃｍ（０．５×１０．７５μΩ・ｃｍ）以
下、一層好ましくは３．２μΩ・ｃｍ（０．３０×１０．７５μΩ・ｃｍ）以下
、最も好ましくは銀層が全く変化しない値（即ち、０μΩ・ｃｍ）である。
【００２１】 銀層上のアルミニウムドープ酸化亜鉛層は、第３区域１６において、後続のス
パッタリングにより第２の誘電層を蒸着する間、銀層を保護する。加えて、セラ
ミックカソード４０が活性化される間、セラミックカソード４０は、第１区域１
２及び第３区域１６から第２区域１４の中へ拡散するかも知れない酸素のスカベ
ンジャー(scavenger, 掃気機)として作用する。即ち、この拡散した酸素は、ス
パッタリングされるカソード材と結合して、セラミック層を形成させることがで
きる。その点において、もう１つのセラミックカソード（図１の幻影(phantom,
シルエット)で示されるカソード４１）は操作上、銀カソード３８の上流に配置
し、銀カソード３８の上流側で酸素を掃気することができる。セラミック層を蒸
着した後、コンベア１８によって基体を第３区域１６の中に移動させる。第３区
域１６では、従来のやり方で、セラミック層上にスズ酸亜鉛層を蒸着する。図１
に示される通り、第１区域１２及び第３区域１６の幻影で示される追加的カソー
ド１２６及び１３０が存在していてもよい。例えば、カソード１２６及び１３０
は、コーティングの隣接する銀層の下、及び隣接するスズ酸亜鉛層の上に、酸化
亜鉛層を蒸着させるための亜鉛カソードであってもよい。
【００２２】 基体１８は次いで、追加のコーティングを施して、例えば、図２に示されるタ
イプの、機械的に耐久性のある多層コーティングされた基体構造８２を造るため
に、区域１２、１４及び１６に類似する他の区域の中へ移動することができる。
【００２３】 コーティングされた基体構造８２は、第１の反射防止性層８４（この層は、異
なるタイプの反射防止性材料の一種以上、又は異なる反射防止性材料の一種以上
の膜（例えば、スズ酸亜鉛層上の酸化亜鉛層）を含んでもよい）と；第１の赤外
線反射性金属（例えば銀）の層８６と；第１のセラミック（例えば、アルミニウ
ムドープ酸化亜鉛）の層８８と；第２の反射防止性層９０（この層は、異なるタ
イプの反射防止性材料の一種以上、又は異なる反射防止性材料の一種以上の膜（
例えば、スズ酸亜鉛層上の酸化亜鉛層）を含んでもよい）と；第２の銀層９２と
；第２のアルミニウムドープ酸化亜鉛層９４と；第３の反射防止性層９６（この
層は、異なるタイプの反射防止性材料の一種以上、又は異なる反射防止性材料の
一種以上の膜（例えば、スズ酸亜鉛層上の酸化亜鉛層）を含んでもよい）と；従
来技術で知られているタイプの保護性オーバーコート９８（例えば、酸化チタン
層、又はグレイデッド・オキシ窒化ケイ素層）と；を有する。反射防止性層の多
重膜の例は米国特許第５，８２１，００１号明細書に言及されており、保護性オ
ーバーコートの例は米国特許第４，７１６，０８６号及び第４，７８６，５６３
号明細書に言及されている。これら明細書の開示内容は、言及することによって
本明細書に組み入れる。本発明のアルミニウムドープ酸化亜鉛層によって、物理
特性及び光学特性が改善され、しかも、現在使用されている金属プライマー層に
係る諸問題が解消又は軽減される。
【００２４】 アルミニウムドープ酸化亜鉛層は透明であり、スズ酸亜鉛等の従来の誘電材料
に類似した屈折率を有するので、アルミニウムドープ酸化亜鉛層の厚さは通常、
透明コーティングを形成する上で決定的に重要なもの(critical, きわどいもの)
ではない。例えば、コーティングされた基体の特性は典型的には、アルミニウム
ドープ酸化亜鉛層の厚さによっては悪影響を受けない。コーティングされたガラ
ス基体の透過率及び反射率の要素は、従来技術の金属保護性層と同じく、悪影響
を受けない。しかし、アルミニウムドープ酸化亜鉛層と隣接する反射防止性層の
全厚さは、望ましい光学的厚さを維持すべく制御されなければならない。例えば
、もし、アルミニウムドープ酸化亜鉛層の厚さが増大すれば、隣接する反射防止
性層の厚さは、望ましい光学的厚さを維持するために減少させなければならない
。特に、望ましい色を得るためにはそうである。アルミニウムドープ酸化亜鉛層
の屈折率が、隣接する誘電体層の屈折率と実質的に相違するならば、これらの層
の厚さは、望ましい色のための望ましい光学的厚さを維持するように調整しなけ
ればならない。コーティング層の厚さをモニタリングし、制御するために、コー
ティング機１０の中に従来の光学モニター（図示せず）を存在させてもよい。
【００２５】 加えて、アルミニウムドープ酸化亜鉛層は、硬度等の、コーティングされた基
体の物理特性を向上させる。更に、従来のプライマー層の代わりに本発明のアル
ミニウムドープ酸化亜鉛層を利用している基体は、例えば、コーティングされた
ガラス基体を曲げるか、焼き入れるか又は加熱強化するために、後で加熱処理す
ることができる。本発明のセラミックプライマー層の透過率は、厚い金属プライ
マー層を含むコーティングと比べて、加熱によってあまり変化しないので、１つ
のコーティングされた基体は、加熱される用途にも加熱されない用途にも、使用
することができ、従来の方式では必要であったコーティング済み基体の在庫品目
録(inventories)を別々にする必要性が省かれる。十分理解され得ると思うが、
セラミックプライマー層が不足当量的(substoichiometric)である場合、セラミ
ックプライマー層を加熱すれば、その組成物を一層酸化されたものにしてセラミ
ックプライマー層の透過率を変化させ、それによって、コーティングされた物品
の透過率を変化させるものと期待される。
【００２６】 上述の工程において、第１区域１２及び第３区域１６のカソード２６及び３０
はそれぞれ、従来の亜鉛・スズ合金カソードであったが、これらカソード２６及
び３０の一方又は両方は、セラミック（例えば、アルミニウムドープ酸化亜鉛カ
ソード）とし、従来の反射防止性層８４，９０をアルミニウムドープ酸化亜鉛層
と置き換えることができた。
【００２７】 （例） ガラス基体の上及び多重スタックコーティング済み基体の上に、セラミックカ
ソードからのアルミニウムドープ酸化亜鉛層を蒸着する効果を調べるために、諸
試料を造った。以下で論議する試料は全て、従来の「エアコ(Airco) ＩＬＳ
１６００ 蒸着装置(deposition system)」を使用し、約４ｍトールの装置圧及
び０．５〜１．５ｋｗの設定電力を利用して造った。ガラス基体上にアルミニウ
ムドープ酸化亜鉛層を蒸着したときの蒸着パラメータ及び結果、並びに、ガラス
基体上にアルミニウムドープ酸化亜鉛プライマーと共に銀含有低放射率コーティ
ングを蒸着したときの蒸着パラメータ及び結果を、それぞれ表１及び２に示す。
【００２８】 表１に報告する諸試料は、従来のやり方で（即ち、コーティングする間、基体
をカソード下に連続的に通過させることによって）、１２インチ（３０．４８ｃ
ｍ）平方で０．０９インチ（２．３ｍｍ）厚さの澄んだフロートガラスの基体の
上にアルミニウムドープ酸化亜鉛層を直接蒸着することによって調製した。
【００２９】 図３は、これらの試料を調製するためのガラスフロー全体における［蒸着速度
］対［酸素百分率］のプロットを示す。２組のデータは、エアコ ＩＬＳ １６
００蒸着装置の異なる蒸着電力レベルに対応する。図４は、約５００〜１８００
Åの厚さを有する同一材料の薄膜の吸収率を示す。純アルゴン中では、蒸着され
たセラミック層の吸収率は高く、その層が非常に還元された材料であるというこ
とを示している。しかし、区域又はスパッタリング室に酸素を５％以上で添加す
れば、その層の吸収率は著しく減少し（図４）、一方、蒸着速度の降下量はかな
り小さい（図３）。興味深いことであるが、図３及び４に示される通り、より低
い蒸着速度をもたらす一層高いレベルの酸素は、一層低いレベルの吸収率を生じ
させない。即ち、ガスフロー中の酸素レベルが非常に小さくても、蒸着する膜は
実質的に十分に酸化される。
【００３０】
【００３１】
【００３２】 表２に報告される結果は、１２インチ（３０．４８ｃｍ）平方で０．０９イン
チ（２．３ｍｍ）厚さの澄んだフロートガラスの基体の上に蒸着した多重スタッ
クコーティングに関するものである。コーティングスタックは、澄んだフロート
ガラス基体上に直接蒸着した第１のスズ酸亜鉛層；第１スズ酸亜鉛層上に蒸着し
た第１の銀層；第１銀層上に蒸着した、セラミックカソードからの第１のアルミ
ニウムドープ酸化亜鉛層；第１アルミニウムドープ酸化亜鉛層上に蒸着した第２
のスズ酸亜鉛層；第２スズ酸亜鉛層上に蒸着した第１の酸化亜鉛層；第１酸化亜
鉛層に蒸着した第２の銀層；第２銀層上にセラミックカソードから蒸着した第２
のアルミニウムドープ酸化亜鉛層；第２アルミニウムドープ酸化亜鉛層上に蒸着
した第２の酸化亜鉛層；及び、第２酸化亜鉛層上に蒸着した酸化チタンのオーバ
ーコート；を含む。コーティングされた基体について、従来のやり方で、せん断
抵抗、テープ試験及び曇り試験を行った。その結果を表２に示す。例えば、テー
プ試験は、コーティング表面に１片のスコッチ(Scotch)ブランドテープを貼り、
そのテープをコーティングに手で押し付け、次いで、テープを引っ張って外して
、コーティングが剥離したかどうかを視覚的に決定した。剥離しなければ合格点
（Ｐ）を記録し、剥離すれば落第点（Ｆ）を記録した。曇り試験も視覚的試験で
あり、Ａ+（曇りが全くないことを意味する）からＤ-（非常に曇っている）まで
のコーティング曇り量を定性的に決定した。せん断抵抗試験は、湿った布でコー
ティング済み基体を１２回撫で、次いで、Ａ+（せん断抵抗が高いことを意味す
る）からＤ-（せん断抵抗が低いことを意味する）までの視覚的評価を行うこと
によって実施した。表２の試料Ｎｏ．２において、酸素３０％のコーティング層
が著しく破壊されたので、曇りの結果は記録されなかった。そのような試験の諸
例は、前に引用した米国特許第５，８２１，００１号明細書に記述されている。
上記の結果から、４ｍトールの全作業ガス圧及び０．５〜１．５ｋｗのカソード
電力を使用する「エアコ ＩＬＳ １６００室」のための、非吸収性アルミニウム
ドープ酸化亜鉛カソードをスパッタリングするための好ましい範囲は、酸素 約
３〜１０体積％、好ましくは約３〜５体積％であるように思われる。しかし、当
業者には十分理解されるであろうが、この範囲は、他のコーティング機、又は他
の圧力若しくは電力の設定と異なっているのかも知れない。図５及び６に示され
る通り、酸素 約３〜５体積％で、０．０４５の最小放射率を得ることができる
。これは、都合よく、従来のチタンプライマー層が使用されているコーティング
の再現可能な放射率０．０５と同程度である。同様に、この範囲の部分的酸素流
れにおいて、最大のコーティング導電率と透過率とが観察される。逆に言えば、
ガス中の酸素の量が増加するにつれて、上記コーティング特性は次第に劣化して
いる。酸素濃度の最適範囲は、十分に酸化されたアルミニウムドープ酸化亜鉛の
蒸着速度が最大となる範囲に対応する。上述の「エアコ ＩＬＳ １６００方式」
については、最適酸素含有量は、約３〜５体積％であることが分かった。この最
適範囲は、他のモデルシステムでは変化することがある。上記で論議したように
、酸素の量は好ましくは、銀層の抵抗率が増大しない結果になるのが望ましい。
図５に関し、この方式での酸素量は、１０体積％以下の酸素の存在に対応する。
しかし、図５にも示される通り、２０体積％以下の酸素の存在は、依然として許
容できるレベルの放射率を有するコーティングが得られる結果となる。しかし、
上記で論議される通り、酸素の最大量は、不活性雰囲気（例えば、アルゴン雰囲
気）でスパッタリングされる類似厚さの銀層について算出される、任意の厚さに
対する銀層の抵抗率が約３０％〜７５％の増大を生じる酸素量より大きくならな
いことが望ましい。
【００３３】 例えば、低放射率及び／又は低遮光率の(low shading coefficient)コーティ
ング済み生成物のための、安定であるが吸収性プライマー層が望まれる場合、不
活性雰囲気、又は約３％未満の反応性ガス（例えば酸素）を含有する雰囲気の中
で、セラミックカソードをスパッタリングして、光学的吸収性の不足当量的セラ
ミックプライマー層を製造することができる。本発明の論議で使用した通り、安
定な層とは、その安定層を有するコーティング済み生成物を普通に使用する間は
化学的に変化せず、且つ、最終生成物を製造する間、その安定層が加熱されると
きに変化する層である。
【００３４】 本発明の代替的具体例において、第１区域１２及び第３区域１６のカソード２
６及び３０は、セラミック（例えば、アルミニウムドープ酸化亜鉛）のカソード
と置き換えてもよい。第２区域１４のカソードホルダー３６及びカソード４０は
取り除いてもよい。第１区域１２及び第３区域１６の中の酸素量は、上述の通り
、カソード２６及び３０から蒸着したセラミック層が実質的に完全に酸化される
ように制御することができる。このようにして、銀層の下と上の両方に、セラミ
ック層（例えば、アルミニウムドープ酸化亜鉛層）を蒸着することができる。
【００３５】 多層スタックを形成するために、追加の銀層及びセラミック層を施すことがで
きる。本発明のこの具体例では、セラミック（例えば、アルミニウムドープ酸化
亜鉛）は、銀層のための保護性層として利用されるだけでなく、全ての反射防止
性層をも構成する。カソードの位置の数を減らすことによって、コーティング機
の複雑さを減少させることができ、これは、従来技術のために必要としたコーテ
ィング機より優れている。
【００３６】 上述のコーティング機の好ましい具体例は、連続的コーティング機であるが、
本発明の原理は、バッチ式コーティング機(batch coaters)等の他のコーティン
グ機タイプに適用することができる。更に、反射防止性金属及び赤外線反射性金
属は、上述の金属等のあらゆるタイプの金属とすることができる。
【００３７】 上述の論議は、赤外線反射性金属層の上にセラミック層を蒸着することに向け
られているが、当業者には十分理解され得るが、本発明は、赤外線反射性金属層
だけでなく、種々の材料の基層(underlying layer)の酸化を防止するために実施
することができる。
【００３８】 当業者は、前述に開示される概念から離れることなく、本発明を変形させるこ
とができることを容易に十分理解するであろう。特許請求の範囲の字句によって
、そのような変形が特許請求の範囲に包含されるものと見なされるべきではない
と明らかに述べられていない限り、そのような変形は特許請求の範囲に包含され
るものと見なされるべきである。従って、上記に詳細に記述された特定の諸具体
例は、単に説明的なものであって、本発明の範囲を限定するものではない。本発
明の範囲は、特許請求の範囲の全範囲及びそれらの同等物全体によって与えられ
るべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の原理を利用した、明確にすべく側壁を取り除いたコーティング機の部
分側面図である。
【図２】 本発明の特徴を組み入れた多層コーティングを有する基体の側面図である。
【図３】 表１に開示される実験の［蒸着速度］対［酸素百分率］のグラフである。
【図４】 表１に開示される実験の［吸収率］対［酸素百分率］のグラフである。
【図５】 表２に開示される実験の［シート抵抗］対［酸素百分率］、及び［放射率］対
［酸素百分率］のグラフである。
【図６】 表２に開示される実験の［透過率］対［酸素百分率］のグラフである。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年４月１２日（２０００．４．１２）
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年１１月２３日（２０００．１１．２３）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２３Ｃ 14/18 Ｃ２３Ｃ 14/18 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｕ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ， ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，Ｌ Ｋ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ， ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，Ｔ Ｍ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ ，ＺＷ (72)発明者 フィンリイ、ジェームズ、ジェイ アメリカ合衆国 ペンシルバニア、ピッツ バーグ、コーンウォール ドライブ 111 Ｆターム(参考） 4G059 AA01 AC06 DA01 DA02 DA04 DA05 DB02 EA01 EA02 EA03 EA07 EB04 GA01 GA02 GA04 GA14 4K029 AA09 AA24 BA03 BA04 BA05 BA08 BA43 BA47 BA49 BB02 BC08 BC09 BD00 CA05 EA05 GA01 GA03

Claims (40)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 コーティングされた物品を形成する方法において、 基体上に金属層を蒸着し、次いで、 前記金属層上に、セラミックカソードをスパッタリングすることによって、セ
    ラミック層を蒸着してコーティングされた物品を形成する、 諸工程を含む、上記方法。
  2. 【請求項２】 セラミックカソードが導電性である、請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 金属層が、銀、金、アルミニウム及び 銅から成る群から選ばれる、請求項２記載の方法。
  4. 【請求項４】 セラミック層が、インジウムドープ酸化スズ、スズ酸亜鉛、
    アンチモンドープ酸化スズ、スズ酸カドミウム、フッ素ドープ酸化スズ、スズド
    ープ酸化インジウム、及びインジウムドープ酸化亜鉛から成る群から選ばれる、
    請求項２記載の方法。
  5. 【請求項５】 セラミック層が、金属ドープ金属酸化物層である、請求項２
    記載の方法。
  6. 【請求項６】 セラミック層が、アルミニウムドープ酸化亜鉛層である、請
    求項２記載の方法。
  7. 【請求項７】 コーティングされた物品を加熱して、該コーティング済み物
    品を曲げるか、焼き入れするか、又は加熱強化する、請求項２記載の方法。
  8. 【請求項８】 請求項１に記載の方法によって形成された、コーティング済
    み物品。
  9. 【請求項９】 基体上に第１のスズ酸亜鉛層を蒸着し、 第１スズ酸亜鉛層上に第１の酸化亜鉛層を蒸着し、 第１酸化亜鉛層上に金属層を蒸着し、 セラミック層上に第２のスズ酸亜鉛層を蒸着し、 第２スズ酸亜鉛層上に第２の酸化亜鉛層を蒸着し、 第２酸化亜鉛層上に第２の金属層を蒸着し、 第２金属層上に第２のセラミック層を蒸着し、 第２セラミック層上に第３のスズ酸亜鉛層を蒸着し、次いで 第３スズ酸亜鉛層上に保護性オーバーコートを蒸着する、 諸工程を含む、請求項２記載の方法。
  10. 【請求項１０】 基体上に第１のスズ酸亜鉛層を蒸着し、 第１スズ酸亜鉛層上に第２のセラミック層を蒸着し、 第２セラミック層上に金属層を蒸着し、 セラミック層上に第２のスズ酸亜鉛層を蒸着し、 第２スズ酸亜鉛層上に第３のセラミック層を蒸着し、 第３セラミック層上に第２の金属層を蒸着し、 第２金属層上に第４のセラミック層を蒸着し、 第４セラミック層上に第３のスズ酸亜鉛層を蒸着し、次いで 第３スズ酸亜鉛層上に保護性オーバーコートを蒸着する、 諸工程を含む、請求項２記載の方法。
  11. 【請求項１１】 セラミック層の上に反射防止性層を蒸着する工程を含む、
    請求項２記載の方法。
  12. 【請求項１２】 セラミック層が第１のセラミック層であり；しかも、基体
    上に第２のセラミック層を蒸着し、次いで、第２セラミック層の上に金属層を蒸
    着する工程を含む；請求項２記載の方法。
  13. 【請求項１３】 基体上に反射防止性層を蒸着し、次いで、該反射防止性層
    の上に金属層を蒸着する工程を含む、請求項２記載の方法。
  14. 【請求項１４】 金属層を蒸着する工程が、赤外線反射性金属層を蒸着する
    工程を含む、請求項２記載の方法。
  15. 【請求項１５】 金属層及びセラミック層を蒸着する工程は、同一のコーテ
    ィング区域で行い；しかも、蒸着工程の少なくとも１つを行う間、前記セラミッ
    ク層を実質的に十分酸化するのに十分な酸素を前記コーティング区域に加える工
    程を更に含む、請求項２記載の方法。
  16. 【請求項１６】 反射防止性層が、スズ酸亜鉛、インジウムスズ酸化物、酸
    化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、窒化ケイ素及び酸化ビスマス
    から成る群から選ばれる、請求項１３記載の方法。
  17. 【請求項１７】 金属層は赤外線反射性金属層であり、セラミック層は第１
    のセラミック層であり；しかも、 基体上に第２のセラミック層を蒸着し、次いで 第２セラミック層上に、前記赤外線反射性金属層及び第１セラミック層を蒸着
    する、 諸工程を含む、請求項１４記載の方法。
  18. 【請求項１８】 基体上に第１の反射防止性層を蒸着し、 赤外線反射性金属層を蒸着し、 第１反射防止性層上にセラミック層を蒸着し、次いで 前記セラミック層上に第２の反射防止性層を蒸着する、 諸工程を含む、請求項１４記載の方法。
  19. 【請求項１９】 コーティング区域中の酸素含有量が約０〜２０体積％とな
    るように該酸素含有量を制御する、請求項１５記載の方法。
  20. 【請求項２０】 金属層が銀層であり；しかも、前記銀層の導電率が、アル
    ゴン雰囲気中でスパッタリングされた銀層の導電率の５０％未満には減少しない
    ように、コーティング区域中の酸素を制御する；請求項１５記載の方法。
  21. 【請求項２１】 赤外線反射性金属層を蒸着する工程と、セラミック層を蒸
    着する工程とが、同一のコーティング区域中で行なわれる、請求項１８記載の方
    法。
  22. 【請求項２２】 コーティングされた物品において、 基体； 前記基体上に蒸着した金属層；及び 前記金属層上にセラミックカソードをスパッタリングすることによって蒸着し
    たセラミック層； を有する、上記物品。
  23. 【請求項２３】 金属層が赤外線反射性金属層である、請求項２２記載の物
    品。
  24. 【請求項２４】 金属層が、銀、金、アルミニウム及び銅から成る群から選
    ばれる、請求項２２記載の物品。
  25. 【請求項２５】 セラミック層が、実質的に十分酸化されている、請求項２
    ２記載の物品。
  26. 【請求項２６】 セラミック層が、約３０〜１００の厚さを有する、請求項
    ２２記載の物品。
  27. 【請求項２７】 コーティングされた物品が建築用窓である、請求項２２記
    載の物品。
  28. 【請求項２８】 コーティングされた物品が絶縁性ユニットである、請求項
    ２２記載の物品。
  29. 【請求項２９】 コーティングされた物品が自動車用ガラスである、請求項
    ２２記載の物品。
  30. 【請求項３０】 セラミック層が、アルミニウムドープ酸化亜鉛、スズ酸亜
    鉛、アルミニウムドープ酸化スズ、スズ酸カドミウム、フッ素ドープ酸化スズ、
    スズドープ酸化インジウム、及びインジウムドープ酸化亜鉛から成る群から選ば
    れる、請求項２２記載の物品。
  31. 【請求項３１】 基体上に蒸着した第１のスズ酸亜鉛層； 第１スズ酸亜鉛層の上に蒸着した第２のセラミック層であって、第２セラミッ
    ク層の上に金属層が蒸着したもの； セラミック層の上に蒸着した第２のスズ酸亜鉛層； 第２スズ酸亜鉛層の上に蒸着した第３のセラミック層； 第３セラミック層の上に蒸着した第２の金属層； 第２金属層の上に蒸着した第４のセラミック層； 第４セラミック層の上に蒸着した第３のスズ酸亜鉛層；及び 第３スズ酸亜鉛層の上に蒸着した保護性オーバーコート； を有する、請求項２２記載の物品。
  32. 【請求項３２】 基体上に蒸着した第１のスズ酸亜鉛層； 第１スズ酸亜鉛層の上に蒸着した第１の酸化亜鉛層であって、第１酸化亜鉛層
    の上に金属層が蒸着したもの； セラミック層の上に蒸着した第２のスズ酸亜鉛層； 第２スズ酸亜鉛層の上に蒸着した第２の酸化亜鉛層； 第２酸化亜鉛層の上に蒸着した第２の金属層； 第２金属層の上に蒸着した第２のセラミック層； 第２セラミック層の上に蒸着した第３のスズ酸亜鉛層；及び 第３スズ酸亜鉛層の上に蒸着した保護性オーバーコート； を有する、請求項２２記載の物品。
  33. 【請求項３３】 自動車用ガラスが風防ガラスである、請求項２９記載の物
    品。
  34. 【請求項３４】 赤外線反射性金属層と基体との間にもう１つのセラミック
    層が配置されている、請求項３０記載の物品。
  35. 【請求項３５】 各々スズ酸亜鉛層は約４０〜２００Åの厚さを有し、各々
    酸化亜鉛層は約２０〜１００Åの厚さを有し、各々金属層は約８０〜１５０Åの
    厚さを有し、各々セラミック層は約２０〜１００Åの厚さを有し、そして、保護
    性オーバーコートは約２０〜５０Åの厚さを有する、請求項３２記載の物品。
  36. 【請求項３６】 金属層は銀を含有し、セラミック層はアルミニウムドープ
    酸化亜鉛を含有する、請求項３２記載の物品。
  37. 【請求項３７】 保護性オーバーコートは、酸化チタン、及びグレイデッド
    オキシ窒化ケイ素から成る群から選ばれる、請求項３２記載の物品。
  38. 【請求項３８】 上流方向及び下流方向を有するコーティング機において、 赤外線反射性金属カソードと、 前記赤外線反射性金属カソードの下流方向に配置された、酸素含有セラミック
    カソードと、 を備えた、上記コーティング機。
  39. 【請求項３９】 赤外線反射性金属カソードの上流に、少なくとも１つの他
    のセラミックカソードが配置されている、請求項３８記載のコーティング機。
  40. 【請求項４０】 セラミックカソードは、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ス
    ズ酸亜鉛、アルミニウムドープ酸化スズ、スズ酸カドミウム、フッ素ドープ酸化
    スズ、スズドープ酸化インジウム、及びインジウムドープ酸化亜鉛から成る群か
    ら選ばれる、請求項３８記載のコーティング機。
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