JP2002343844A - ウェーハハンドリング機構 - Google Patents
ウェーハハンドリング機構Info
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- JP2002343844A JP2002343844A JP2001142090A JP2001142090A JP2002343844A JP 2002343844 A JP2002343844 A JP 2002343844A JP 2001142090 A JP2001142090 A JP 2001142090A JP 2001142090 A JP2001142090 A JP 2001142090A JP 2002343844 A JP2002343844 A JP 2002343844A
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- hand member
- handling mechanism
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理後のウェーハを汚染することがなく、設
置面積及び製造コストが従来と同程度であるウェーハ処
理装置用のウェーハハンドリング機構を提供すること。 【解決手段】 シリコンウェーハ等のウェーハ３０、３
１を処理するウェーハ処理装置に、前記ウェーハを出し
入れするための前記ウェーハを載置するハンド部材１１
と、前記ハンド部材を支持して移動する腕部材１６とを
備えたウェーハハンドリング機構１０であって、前記ハ
ンド部材が、二股に分かれた前記ウェーハを載置する第
１のハンド部１１ａと第２のハンド部１１ｂとを有する
構成であるものである。
置面積及び製造コストが従来と同程度であるウェーハ処
理装置用のウェーハハンドリング機構を提供すること。 【解決手段】 シリコンウェーハ等のウェーハ３０、３
１を処理するウェーハ処理装置に、前記ウェーハを出し
入れするための前記ウェーハを載置するハンド部材１１
と、前記ハンド部材を支持して移動する腕部材１６とを
備えたウェーハハンドリング機構１０であって、前記ハ
ンド部材が、二股に分かれた前記ウェーハを載置する第
１のハンド部１１ａと第２のハンド部１１ｂとを有する
構成であるものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウェーハ
等のウェーハを処理するウェーハ処理装置に、前記ウェ
ーハをローディングあるいはアンローディング等、ハン
ドリングするためのウェーハハンドリング機構に関する
ものである。
等のウェーハを処理するウェーハ処理装置に、前記ウェ
ーハをローディングあるいはアンローディング等、ハン
ドリングするためのウェーハハンドリング機構に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】メモリー等の半導体装置の製造に用いら
れるシリコンウェーハ等のウェーハは、各種のウェーハ
処理装置により処理される。前記ウェーハ処理装置は、
クリーンルーム内に設置され、且つ作業者からの発塵に
よりウェーハが汚染されるのを防止するために、ウェー
ハを自動で取り扱う自動機として構成されている。例え
ば、前記ウェーハ処理装置内にウェーハをローディング
あるいはウェーハ処理装置内のウェーハを装置外へアン
ローディングするために、図２に示すようなウェーハ３
０を載置するハンド部材２１と、ハンド部材２１を支持
して移動させる腕部材２２とを備えたウェーハハンドリ
ング機構２０が用いられている。
れるシリコンウェーハ等のウェーハは、各種のウェーハ
処理装置により処理される。前記ウェーハ処理装置は、
クリーンルーム内に設置され、且つ作業者からの発塵に
よりウェーハが汚染されるのを防止するために、ウェー
ハを自動で取り扱う自動機として構成されている。例え
ば、前記ウェーハ処理装置内にウェーハをローディング
あるいはウェーハ処理装置内のウェーハを装置外へアン
ローディングするために、図２に示すようなウェーハ３
０を載置するハンド部材２１と、ハンド部材２１を支持
して移動させる腕部材２２とを備えたウェーハハンドリ
ング機構２０が用いられている。
【０００３】搬送経路から搬送されてきたウェーハ搬送
容器内に収納されたウェーハ３０をハンド部材２１に載
置して取り出した後、図中で９０°反時計回りに腕部材
２１と共にハンド部材２１が回転して、ウェーハ３０を
ウェーハ処理装置内にローディングする。また、ウェー
ハ処理装置内の処理されたウェーハ３０をハンド部材２
１に載置した後、腕部材２２と共にハンド部材２１が９
０°時計回りに回転して、ウェーハ３０を装置外にアン
ローディングして処理後のウェーハを搬送するウェーハ
搬送容器内に収納した後、該ウェーハ搬送容器は内部に
ウェーハ３０を収納したまま、搬送経路を通って次ぎの
ウェーハ処理装置へ搬送される。
容器内に収納されたウェーハ３０をハンド部材２１に載
置して取り出した後、図中で９０°反時計回りに腕部材
２１と共にハンド部材２１が回転して、ウェーハ３０を
ウェーハ処理装置内にローディングする。また、ウェー
ハ処理装置内の処理されたウェーハ３０をハンド部材２
１に載置した後、腕部材２２と共にハンド部材２１が９
０°時計回りに回転して、ウェーハ３０を装置外にアン
ローディングして処理後のウェーハを搬送するウェーハ
搬送容器内に収納した後、該ウェーハ搬送容器は内部に
ウェーハ３０を収納したまま、搬送経路を通って次ぎの
ウェーハ処理装置へ搬送される。
【０００４】尚、従来のウェーハ処理装置においては、
ウェーハのローディング及びアンローディング用に、同
一のハンド部材２１を用いてウェーハをハンドリングす
るウェーハハンドリング機構２０が用いられている。
ウェーハのローディング及びアンローディング用に、同
一のハンド部材２１を用いてウェーハをハンドリングす
るウェーハハンドリング機構２０が用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のウェーハをハンドリングするウェーハハンドリング
機構では、搬送されてきたウェーハをハンドリングした
ハンド部材で、前記ウェーハ処理装置内で処理されたウ
ェーハをハンドリングするため、処理前のウェーハに付
着していたゴミ等がハンド部材に付着し、そして前記ゴ
ミ等が処理後のウェーハに付着してウェーハを汚染する
という問題点があった。
来のウェーハをハンドリングするウェーハハンドリング
機構では、搬送されてきたウェーハをハンドリングした
ハンド部材で、前記ウェーハ処理装置内で処理されたウ
ェーハをハンドリングするため、処理前のウェーハに付
着していたゴミ等がハンド部材に付着し、そして前記ゴ
ミ等が処理後のウェーハに付着してウェーハを汚染する
という問題点があった。
【０００６】また、前記ウェーハ処理装置で処理前のウ
ェーハをハンドリングするハンド部材を有するウェーハ
ハンドリング機構と、処理後のウェーハをハンドリング
するハンド部材を有するウェーハハンドリング機構とを
別々に備えれば、前記ウェーハ汚染の問題は回避できる
が、２組のウェーハハンドリング機構を備えると、従来
よりも広い設置面積が必要であり、且つその製造コスト
は高いという問題点があった。
ェーハをハンドリングするハンド部材を有するウェーハ
ハンドリング機構と、処理後のウェーハをハンドリング
するハンド部材を有するウェーハハンドリング機構とを
別々に備えれば、前記ウェーハ汚染の問題は回避できる
が、２組のウェーハハンドリング機構を備えると、従来
よりも広い設置面積が必要であり、且つその製造コスト
は高いという問題点があった。
【０００７】本発明は前記問題点を解決するためになさ
れたもので、処理後のウェーハを汚染することがなく、
設置面積及び製造コストが従来と同程度であるウェーハ
ハンドリング機構を提供することである。
れたもので、処理後のウェーハを汚染することがなく、
設置面積及び製造コストが従来と同程度であるウェーハ
ハンドリング機構を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、シリコンウェ
ーハ等のウェーハを処理するウェーハ処理装置に、前記
ウェーハを出し入れするための前記ウェーハを載置する
ハンド部材と、前記ハンド部材を支持して移動する腕部
材とを備えたウェーハハンドリング機構であって、前記
ハンド部材が、二股に分かれた前記ウェーハを載置する
第１のハンド部と第２のハンド部とを有する構成である
ものである。
ーハ等のウェーハを処理するウェーハ処理装置に、前記
ウェーハを出し入れするための前記ウェーハを載置する
ハンド部材と、前記ハンド部材を支持して移動する腕部
材とを備えたウェーハハンドリング機構であって、前記
ハンド部材が、二股に分かれた前記ウェーハを載置する
第１のハンド部と第２のハンド部とを有する構成である
ものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
一実施形態について説明する。図１は、本発明によるウ
ェーハハンドリング機構の実施形態を示す平面図であ
る。
一実施形態について説明する。図１は、本発明によるウ
ェーハハンドリング機構の実施形態を示す平面図であ
る。
【００１０】図１に示すように、本発明の実施形態のウ
ェーハハンドリング機構１０は、シリコンウェーハ等の
ウェーハ３０、３１を処理するウェーハ処理装置（図示
せず）に、ウェーハ３０、３１を出し入れするためのウ
ェーハ３０、３１を載置するハンド部材１１と、ハンド
部材１１を支持して移動する腕部材１６とを備えたウェ
ーハハンドリング機構であって、ハンド部材１１が、二
股に分かれたウェーハ３０、３１を載置する第１のハン
ド部１１ａと第２のハンド部１１ｂとを有する構成であ
るものである。
ェーハハンドリング機構１０は、シリコンウェーハ等の
ウェーハ３０、３１を処理するウェーハ処理装置（図示
せず）に、ウェーハ３０、３１を出し入れするためのウ
ェーハ３０、３１を載置するハンド部材１１と、ハンド
部材１１を支持して移動する腕部材１６とを備えたウェ
ーハハンドリング機構であって、ハンド部材１１が、二
股に分かれたウェーハ３０、３１を載置する第１のハン
ド部１１ａと第２のハンド部１１ｂとを有する構成であ
るものである。
【００１１】尚、本実施形態では、前記二股に分かれた
形態として、第１のハンド部１１ａと第２のハンド部１
１ｂが、それぞれウェーハ３０、３１を載置する側を先
端１３、１４側として、先端１３、１４側が所定角度、
ここでは９０°、開いたＬ字状に設けられている。
形態として、第１のハンド部１１ａと第２のハンド部１
１ｂが、それぞれウェーハ３０、３１を載置する側を先
端１３、１４側として、先端１３、１４側が所定角度、
ここでは９０°、開いたＬ字状に設けられている。
【００１２】また、第１のハンド部１１ａと第２のハン
ド部１１ｂは、所定角度に設定されて一体で形成されて
いてもよいし、別部材で構成され組み合わされていても
よい。また、別部材で構成された第１のハンド部１１ａ
と第２のハンド部１１ｂの前記所定角度が任意に設定可
能であってもよい。また、前記Ｌ字状以外に、Ｕ字状に
前記のような２組のハンド部を有する構成、３組以上の
ハンド部を有する構成などでもよい。
ド部１１ｂは、所定角度に設定されて一体で形成されて
いてもよいし、別部材で構成され組み合わされていても
よい。また、別部材で構成された第１のハンド部１１ａ
と第２のハンド部１１ｂの前記所定角度が任意に設定可
能であってもよい。また、前記Ｌ字状以外に、Ｕ字状に
前記のような２組のハンド部を有する構成、３組以上の
ハンド部を有する構成などでもよい。
【００１３】ウェーハハンドリング機構１０は、例え
ば、基台１５に回転可能に腕部１６ａの一端部が取り付
けられ、腕部１６ａの他端部に取り付けられた腕部１６
ｂにハンド部材１１が回転可能に取り付けられた構成の
ものである。腕部１６ａ、１６ｂは、別部材で構成され
組み合わされたものでもよく、一体で形成されたもので
もよい。尚、腕部の構成数、形状などは適宜選択して設
けられればよい。
ば、基台１５に回転可能に腕部１６ａの一端部が取り付
けられ、腕部１６ａの他端部に取り付けられた腕部１６
ｂにハンド部材１１が回転可能に取り付けられた構成の
ものである。腕部１６ａ、１６ｂは、別部材で構成され
組み合わされたものでもよく、一体で形成されたもので
もよい。尚、腕部の構成数、形状などは適宜選択して設
けられればよい。
【００１４】ハンド部材１１は、腕部１６ｂに対して必
要に応じて、軸１７で設定角度回転して固定されるよう
に構成されている。また、第１のハンド部１１ａと第２
のハンド部１１ｂは、載置するウェーハ３０、３１を真
空吸着により吸着固定する等のウェーハ固定機能を備え
ていてもよい。また、ハンド部材１１及び／又は腕部材
１６は、水平状態で上下動可能に設けられている。
要に応じて、軸１７で設定角度回転して固定されるよう
に構成されている。また、第１のハンド部１１ａと第２
のハンド部１１ｂは、載置するウェーハ３０、３１を真
空吸着により吸着固定する等のウェーハ固定機能を備え
ていてもよい。また、ハンド部材１１及び／又は腕部材
１６は、水平状態で上下動可能に設けられている。
【００１５】尚、ハンド部材１１が腕部１６ｂに対して
回転せず、腕部１６ａ及び／又は腕部１６ｂにより必要
な回転角度回転して、処理前と処理後のウェーハをハン
ドリングするようにしてもよい。即ち、ハンド部材１１
及び／又は腕部材１６の回転により、第１のハンド部１
１ａと第２のハンド部１１ｂにより、処理前と処理後の
ウェーハを別々にハンドリングできるように構成すれば
よい。
回転せず、腕部１６ａ及び／又は腕部１６ｂにより必要
な回転角度回転して、処理前と処理後のウェーハをハン
ドリングするようにしてもよい。即ち、ハンド部材１１
及び／又は腕部材１６の回転により、第１のハンド部１
１ａと第２のハンド部１１ｂにより、処理前と処理後の
ウェーハを別々にハンドリングできるように構成すれば
よい。
【００１６】次に、ウェーハハンドリング機構１０によ
るウェーハのハンドリングについて説明する。ウェーハ
搬送容器（図示せず）に収納されて搬送経路を搬送さ
れ、処理を施す面と反対側の面を下にし、前記ウェーハ
搬送容器内の支持棚に載置されているウェーハ３０の下
に第１のハンド部１１ａを挿入した後、第１のハンド部
１１ａを水平状態で少し上昇させて、前記支持棚からウ
ェーハ３０を少し浮かせて取り出せるようにする。
るウェーハのハンドリングについて説明する。ウェーハ
搬送容器（図示せず）に収納されて搬送経路を搬送さ
れ、処理を施す面と反対側の面を下にし、前記ウェーハ
搬送容器内の支持棚に載置されているウェーハ３０の下
に第１のハンド部１１ａを挿入した後、第１のハンド部
１１ａを水平状態で少し上昇させて、前記支持棚からウ
ェーハ３０を少し浮かせて取り出せるようにする。
【００１７】次に、腕部１６ａを、例えば、軸１８で９
０°反時計回りに回転して、前記ウェーハ搬送容器から
取り出した後、ウェーハ３０を前記ウェーハ処理装置の
処理槽等にローディングする。ローディングの形態は、
前記ウェーハ処理装置に適合したものである。
０°反時計回りに回転して、前記ウェーハ搬送容器から
取り出した後、ウェーハ３０を前記ウェーハ処理装置の
処理槽等にローディングする。ローディングの形態は、
前記ウェーハ処理装置に適合したものである。
【００１８】前記ウェーハ処理装置から処理されたウェ
ーハ３１をアンローディングする時は、腕部１６ｂに対
して、ハンド部材１１を軸１７で９０°反時計回りに回
転して、第２のハンド部１１ｂの先端１４を前記ウェー
ハ処理装置内のウェーハ３１側に向ける。ウェーハ３１
の下に第２のハンド部１１ｂを挿入した後、第２のハン
ド部１１ｂを水平状態で少し上昇させ、ウェーハ３１を
第２のハンド部１１ｂ上に載置した後、腕部１６ａを軸
１８で時計回りに９０°回転してウェーハ３１を移動
し、処理後のウェーハ３１を搬送するウェーハ搬送容器
内の支持棚上にウェーハ３１を載置する。
ーハ３１をアンローディングする時は、腕部１６ｂに対
して、ハンド部材１１を軸１７で９０°反時計回りに回
転して、第２のハンド部１１ｂの先端１４を前記ウェー
ハ処理装置内のウェーハ３１側に向ける。ウェーハ３１
の下に第２のハンド部１１ｂを挿入した後、第２のハン
ド部１１ｂを水平状態で少し上昇させ、ウェーハ３１を
第２のハンド部１１ｂ上に載置した後、腕部１６ａを軸
１８で時計回りに９０°回転してウェーハ３１を移動
し、処理後のウェーハ３１を搬送するウェーハ搬送容器
内の支持棚上にウェーハ３１を載置する。
【００１９】尚、ウェーハハンドリング機構１０は、従
来の、例えば、ウェーハハンドリング機構２０のハンド
部材２１をハンド部材１１に置き換え、ハンド部材１１
が前記したように回転して固定されるような機構が備え
られたものでもよい。
来の、例えば、ウェーハハンドリング機構２０のハンド
部材２１をハンド部材１１に置き換え、ハンド部材１１
が前記したように回転して固定されるような機構が備え
られたものでもよい。
【００２０】以上示したように、本発明の実施形態のウ
ェーハハンドリング機構１０は、ハンド部材１１として
２組のハンド部、即ち、第１のハンド部１１ａと第２の
ハンド部１１ｂ、を有しているので、搬送されて来たウ
ェーハとウェーハ処理装置で処理された前記ウェーハを
別々のハンド部でハンドリングできる。また、１組の腕
部１６ａ、１６ｂに２組のハンド部、即ち、第１のハン
ド部１１ａと第２のハンド部１１ｂ、が取り付けられた
構成であるので、その設置面積は従来のウェーハハンド
リング機構の設置面積と同程度である。
ェーハハンドリング機構１０は、ハンド部材１１として
２組のハンド部、即ち、第１のハンド部１１ａと第２の
ハンド部１１ｂ、を有しているので、搬送されて来たウ
ェーハとウェーハ処理装置で処理された前記ウェーハを
別々のハンド部でハンドリングできる。また、１組の腕
部１６ａ、１６ｂに２組のハンド部、即ち、第１のハン
ド部１１ａと第２のハンド部１１ｂ、が取り付けられた
構成であるので、その設置面積は従来のウェーハハンド
リング機構の設置面積と同程度である。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、搬送されて来た処理前
のウェーハとウェーハ処理装置で処理された処理後の前
記ウェーハを別々のハンド部でハンドリングできるの
で、前記処理後のウェーハの汚染を防止でき、また設置
面積は、従来の場合と同程度であり、且つ製造コストを
従来のものと同程度とすることができるウェーハハンド
リング機構を提供できる。
のウェーハとウェーハ処理装置で処理された処理後の前
記ウェーハを別々のハンド部でハンドリングできるの
で、前記処理後のウェーハの汚染を防止でき、また設置
面積は、従来の場合と同程度であり、且つ製造コストを
従来のものと同程度とすることができるウェーハハンド
リング機構を提供できる。
【図１】本発明によるウェーハハンドリング機構の実施
形態を示す平面図である。
形態を示す平面図である。
【図２】従来のウェーハハンドリング機構の平面図であ
る。
る。
１０、２０ ウェーハハンドリング機構 １１、２１ ハンド部材 １１ａ 第１のハンド部 １１ｂ 第２のハンド部 １３、１４ 先端 １５ 基台 １６、２２ 腕部材 １６ａ、１６ｂ 腕部 １７、１８ 軸 ３０、３１ ウェーハ
Claims (1)
- 【請求項１】 シリコンウェーハ等のウェーハを処理す
るウェーハ処理装置に、前記ウェーハを出し入れするた
めの前記ウェーハを載置するハンド部材と、前記ハンド
部材を支持して移動する腕部材とを備えたウェーハハン
ドリング機構であって、 前記ハンド部材が、二股に分かれた前記ウェーハを載置
する第１のハンド部と第２のハンド部とを有する構成で
ある、 ことを特徴とするウェーハハンドリング機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001142090A JP2002343844A (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | ウェーハハンドリング機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001142090A JP2002343844A (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | ウェーハハンドリング機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002343844A true JP2002343844A (ja) | 2002-11-29 |
Family
ID=18988450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001142090A Pending JP2002343844A (ja) | 2001-05-11 | 2001-05-11 | ウェーハハンドリング機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002343844A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006013493A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| WO2008155932A1 (ja) * | 2007-06-19 | 2008-12-24 | Ulvac, Inc. | 基板搬送方法 |
| JP2009059741A (ja) * | 2007-08-30 | 2009-03-19 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置、基板搬送方法 |
| WO2011119503A2 (en) * | 2010-03-25 | 2011-09-29 | Applied Materials, Inc. | Segmented substrate loading for multiple substrate processing |
| KR101361818B1 (ko) * | 2010-08-31 | 2014-02-13 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼 이송 로봇을 이용한 웨이퍼 이송 방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11163090A (ja) * | 1997-12-02 | 1999-06-18 | Mecs Corp | 薄型ワークの搬送ロボット |
-
2001
- 2001-05-11 JP JP2001142090A patent/JP2002343844A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11163090A (ja) * | 1997-12-02 | 1999-06-18 | Mecs Corp | 薄型ワークの搬送ロボット |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050830 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060411 |