JP2002336664A - 水素透過膜ユニット及びその製造方法 - Google Patents

水素透過膜ユニット及びその製造方法

Info

Publication number
JP2002336664A
JP2002336664A JP2001143409A JP2001143409A JP2002336664A JP 2002336664 A JP2002336664 A JP 2002336664A JP 2001143409 A JP2001143409 A JP 2001143409A JP 2001143409 A JP2001143409 A JP 2001143409A JP 2002336664 A JP2002336664 A JP 2002336664A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
permeable membrane
hydrogen
porous support
hydrogen permeable
alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001143409A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Sasaki
剛 佐々木
Masashi Takahashi
正史 高橋
Takashi Ebisawa
孝 海老沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Steel Works Ltd
Original Assignee
Japan Steel Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Steel Works Ltd filed Critical Japan Steel Works Ltd
Priority to JP2001143409A priority Critical patent/JP2002336664A/ja
Publication of JP2002336664A publication Critical patent/JP2002336664A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/50Fuel cells

Landscapes

  • Fuel Cell (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水素透過膜が厚くなり、水素透過能が低下す
るのみならず、高価かつ入手困難なPd又はPd合金を
多用している。 【解決手段】 多孔質支持体4の表面に接合させた水素
透過膜2を有する水素透過膜ユニットであつて、水素透
過膜2が、多孔質支持体4に含有させた穴埋材7の上に
成膜させた後に該穴埋材7を除去して形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水素透過膜ユニッ
ト及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術及びその課題】従来の水素透過膜ユニット
として、例えば特開平4−346824公報に記載され
るものが知られている。これは、金網を焼結した多孔質
支持体を担体とし、この上に水素を選択的に透過させる
Pd又はPd合金からなる水素透過膜を形成している。
【0003】図11には、この種の水素透過膜を備える
水素透過膜ユニットを示す。この水素透過膜ユニット5
0は、金属製の枠体52を備え、水素透過膜51を枠体
52及び多孔質支持体53の内の少なくとも一方に、接
合部54によつて接合させている。接合部54は、例え
ばメッキ、CVD(気相化学反応)、スパッタリングの
方法によつて、水素透過膜51を枠体52又は多孔質支
持体53の表面に形成することで、同時に形成させてい
る。
【0004】多孔質支持体53は、セラミックス、ガラ
ス、ステンレス等の粉末や繊維の焼結体であり、水素を
通過させる連通孔を有している。この枠体52と多孔質
支持体53とは、リークを生じないように溶接、ろう付
けなどによつて接合され、接合部55を有している。
【0005】このような水素透過膜ユニット50は、燃
料電池の水素源として天然ガスや都市ガスを使用する
際、メンブレンリアクタ方式の水素改質器への適用が検
討されている。触媒上で天然ガス又は都市ガスと水蒸気
とが反応することにより、H2、CO、CO2 などの混
合ガスが生成し、水素透過膜51の例えば図上で上方の
供給側に到達する。水素透過膜51は、H2 のみを透過
させるから、供給側の混合ガス中からH2 のみを選択的
に分離させることができる。水素透過膜51を矢印A方
向に透過したH2 は、連通孔を有する多孔質支持体53
を透過し、水素放出側に至り、水素利用装置である燃料
電池等に供給される。なお、水素透過膜51の図上で下
方を供給側とし、H2 を矢印A方向と反対方向に透過さ
せることもできる。
【0006】水素透過膜51におけるH2 の透過は、拡
散現象を利用するので、透過方向の厚さが薄いほど、ま
た、所定の高温状態であるほど、透過速度が大きい。ま
た、水素透過膜ユニット50の供給側は、水素放出側よ
りも圧力を高くする必要がある。このとき、薄い水素透
過膜51のみでは圧力差により破損するので、水素透過
膜51の一側を多孔質支持体53によつて担持させ、機
械的強度を付与している。
【0007】更に、水素透過膜51を薄くして水素透過
性能を向上させながら耐久性を確保するための多孔質支
持体53には、所定の高温における耐酸化性が要求され
る。このため、多孔質支持体53の材料として、セラミ
ックス、ガラス、ステンレス等の使用が検討されている
が、周囲部材との接合性や機械加工性などを考慮する
と、金属、特にステンレスが望ましい。
【0008】このような水素透過膜51は、上述したよ
うに透過方向の厚さが薄いことが求められるが、水素以
外のガスの透過を防ぐ上からピンホールを含んでいない
ことが必要である。ピンホールを防止するための水素透
過膜51の最低膜厚は、多孔質支持体53の表面の孔径
に依存し、この孔径が大きいほどピンホールが生じ易く
なる。
【0009】多孔質支持体53がガラス製の場合、例え
ば平均細孔径が310nmのものを使用する報告があ
り、Pd製の水素透過膜51の厚さは13μmである
(Chemistry Letters No.10,
pp.1687−1690,1988)。これに対し、
ステンレスにて多孔質支持体53を製作する場合、ステ
ンレスの粉末や繊維の焼結体において、平均細孔径を1
μm未満にすることは困難であるので、ガラス製の場合
よりも水素透過膜51の膜厚が大きくならざるを得ず、
水素透過能が低下する。
【0010】一方、従来の水素透過膜は、このように水
素を選択的に透過させる薄膜として、Pd又はPd合金
を使用するものが主であるが、Pdに代わる合金などの
研究も行なわれている。
【0011】特公平4−74045公報、特公平5−7
9367公報、特公平6−98281公報には、Pdに
代えてV合金で構成させた水素透過膜51について記載
されている。これらのV合金を数μmオーダーまで薄膜
化することを考えた場合、延性の乏しさから圧延で薄膜
を作製することには困難を伴い、CVD(気相化学反
応)、スパッタリングなどのドライプロセスにより、母
材となる多孔質支持体53の表面に透過合金を析出させ
ることが有効な手法の一つと考えられる。ところで、こ
れらのV合金は、いずれも表面に水素透過の障害となる
酸化物を形成し易いことから、酸化を防止する目的でP
d又はPd合金を極薄く被覆させることについて言及し
ている。
【0012】しかしながら、例えば多孔質支持体53に
Pd又はPd合金、非Pd合金、Pd又はPd合金の順
にコーティングすることを考えた場合、図12に模式的
に示すように多孔質支持体53の多孔体粒子53aに薄
いPd又はPd合金51aが部分的に形成され、このP
d又はPd合金51aと非Pd合金51bとが非接触の
箇所を生じ、非Pd合金51bに露出箇所を生じるた
め、十分な耐酸化性を付与することができない。これの
防止のために、多孔体粒子53aに形成したPd又はP
d合金51aによつて非Pd合金51bを完全に覆う場
合には、図13に示すように多孔体粒子53a上に形成
するPd又はPd合金51aが厚くなり、水素透過能が
低下するのみならず、高価なPdの使用量が増加するた
め、好ましくない。なお、非Pd合金51b上のPd又
はPd合金51cは、平面上への加工になるため、薄く
形成できる。
【0013】このように、従来の水素透過膜51は主と
してPd又はPd合金を材料としているが、水素透過性
能に劣り、所要の水素透過速度を確保するために大きな
膜面積を必要とし、結果として改質器も大きくならざる
を得ない。
【0014】そこで、本発明は、Pd又はPd合金など
の水素透過膜の薄膜化を可能とし、その使用量を削減し
た水素透過膜ユニット及び水素透過膜ユニットの製造方
法を提供し、その製作を容易かつ安価とすることを目的
としている。
【0015】すなわち、本発明は、多孔質支持体53の
表面に析出させる金属製の水素透過膜51にピンホール
を生じさせることなく、薄膜化させた水素透過膜ユニッ
ト及びその製造方法の提供を目的としている。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような従
来の技術的課題に鑑みてなされたもので、その構成は、
次の通りである。請求項1の発明は、多孔質支持体4の
表面に接合させた水素透過膜2を有する水素透過膜ユニ
ットであつて、前記水素透過膜2が、多孔質支持体4に
含有させた穴埋材7の上に成膜させた後に該穴埋材7を
除去して形成されていることを特徴とする水素透過膜ユ
ニットである。請求項2の発明は、多孔質支持体4の表
面に接合させた水素透過膜2を有する水素透過膜ユニッ
トの製造方法であつて、多孔質支持体4の少なくとも表
層部に穴埋材7を含有させて表面の空孔を塞いだ後、該
多孔質支持体4及び穴埋材7の表面に水素透過膜2を成
膜させ、次いで、穴埋材7を除去することを特徴とする
水素透過膜ユニットの製造方法である。請求項3の発明
は、多孔質支持体4の表面に接合させた水素透過膜2を
有する水素透過膜ユニットの製造方法であつて、多孔質
支持体4の少なくとも表層部に穴埋材7を含有させて表
面の空孔を塞ぐと共に、多孔質支持体4の表面の穴埋材
(7)を除去して多孔体粒子4aからなる凸部4bを形
成させた後、多孔質支持体4及び穴埋材7の表面に水素
透過膜2を成膜させ、次いで、穴埋材7を除去すること
を特徴とする水素透過膜ユニットの製造方法である。請
求項4の発明は、多孔質支持体4の表面に接合させた水
素透過膜2を有する水素透過膜ユニットの製造方法であ
つて、多孔質支持体4の表層部に研磨を施して研磨片か
らなる肉薄部分4cを形成し、該肉薄部分4cによつて
表面の空孔を大略塞いで平滑状平面を形成させた後、該
多孔質支持体4の表面に水素透過膜2を成膜させ、次い
で、腐食液に浸して肉薄部分4cを除去することを特徴
とする水素透過膜ユニットの製造方法である。請求項5
の発明は、水素透過膜2が、非Pd合金2bの表裏両面
を白金族元素又はその合金2a,2cによつてコーティ
ングして形成されていることを特徴とする請求項2,3
又は4の水素透過膜ユニットの製造方法である。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1,図2は、本発明に係
る水素透過膜ユニットの第1実施の形態を示す。図1は
水素透過膜ユニット1を示し、従来例と実質的に同様の
構成部材を有している。すなわち、水素透過膜ユニット
1は、Pd又はPd合金製の水素透過膜2を有し、この
水素透過膜2が、金属からなる枠体3及び多孔質支持体
4の内の少なくとも一方に、接合部5によつて接合され
ている。接合部5は、多孔質支持体4の上に、メッキ、
CVD(気相化学反応)、スパッタリング、イオンプレ
ーティング、蒸着などの方法によつて水素透過膜2を形
成することで、同時に形成される。多孔質支持体4は、
セラミックス、ガラス、ステンレス等の粉末や繊維の焼
結体、好ましくは金属、特にステンレスの粉末や繊維の
焼結体であり、水素透過のための連通孔からなる細い空
孔を有している。枠体3と多孔質支持体4とは、リーク
を生じないように溶接、ろう付けなどによつて接合さ
れ、接合部6を有している。
【0018】水素透過膜ユニット1の製造に際しては、
予め、多孔質支持体4の少なくとも表層部に穴埋材7を
含有させ、多孔質支持体4の表面の空孔を穴埋材7によ
つて塞ぐ。その後、この多孔質支持体4及び穴埋材7の
上に水素透過膜2を成膜・接合させ、その後に穴埋材7
を除去し、水素透過のための連通孔を復活させる。な
お、図2の多孔質支持体4は、焼結体の表面に位置する
多孔体粒子4aのみを示し、他の多孔体粒子4aは省略
してある。
【0019】具体的には、多孔質支持体4の表層部に穴
埋材7である樹脂を含有させ、細孔を塞いでほぼ平滑面
を形成させ、必要に応じて穴埋材7を含有する多孔質支
持体4の表面を平滑に削成した後、水素透過金属からな
る水素透過膜2を成膜させる。穴埋材7は、溶融状態の
ものを塗布などの手段によつて多孔質支持体4に含有さ
せ、硬化させることで形成することができ、多孔質支持
体4よりも低融点のものが望ましい。水素透過膜2を成
膜させた後、穴埋材7を除去して多孔質支持体4の連通
孔を復活させる。穴埋材7が樹脂からなる場合には、穴
埋材7を有する多孔質支持体4及び水素透過膜2を適当
な有機溶剤中に浸し、穴埋材7を溶融除去させる。ま
た、穴埋材7が熱可塑性樹脂からなる場合には、穴埋材
7を有する多孔質支持体4及び水素透過膜2を加熱し、
穴埋材7を溶融除去させることもできる。
【0020】これにより、ほぼ平滑面にした多孔質支持
体4の表面に水素透過膜2を成膜させることになるの
で、多孔質支持体4の上に薄い水素透過膜2を成膜させ
ながら、水素透過膜2にピンホールが形成されることを
防止することができる。すなわち、水素透過膜2に、多
孔質支持体4の細孔を埋めるための膜厚を与える必要が
なく、目的に沿つた必要最小限の膜厚で均一にコーティ
ングすることができる。水素透過金属である水素透過膜
2の膜厚は、水素透過膜ユニット1をメンブレンリアク
タに組み込み、メンブレンリアクタを運転させる際に負
荷される圧力に対して、膜が多孔質支持体4の空孔部分
で破損しない強度を保てる程度でよい。
【0021】図3は、水素透過膜2の他の構造例を示
し、水素透過膜2が、Pd又はPd合金2a、非Pd合
金2b及びPd又はPd合金2cの3層構造を有してい
る。この場合にも、多孔質支持体4の表面に水素透過膜
2を形成する前に、樹脂からなる穴埋材7を塗布などの
手段によつて含浸させ、金属多孔体である多孔質支持体
4の孔を塞ぎ、多孔質支持体4の一側表面を平滑な状態
にする。
【0022】続いて、穴埋材7を含有させた多孔質支持
体4の平滑表面上に、水素透過膜2を形成させる。水素
透過膜2は、Pd又はPd合金2a、非Pd合金2b、
Pd又はPd合金2cの順に成膜させる。このようにし
て水素透過膜2を接合させた多孔質支持体4は、穴埋材
7の種類に応じた所要の手段、つまり、加熱、溶剤の塗
布等の手段により、穴埋材7を除去する。穴埋材7の除
去は、減圧環境下で行なうこともできる。
【0023】この構造例によれば、水素透過膜2を、多
孔質支持体4の孔が穴埋材7によつて塞がれて平滑表面
をなしている状態で形成させるため、特にPd又はPd
合金2aに孔を埋めるための膜厚を与える必要はなく、
目的に沿つた必要最小限の膜厚でコーティングすること
ができる。すなわち、図3に示す水素透過膜2では、非
Pd合金2bに耐酸化性を付与できる程度のPd又はP
d合金2a,2cの膜厚でよい。水素透過膜ユニット1
をメンブレンリアクタに組み込み、メンブレンリアクタ
を運転させる際に負荷される圧力に対しては、Pd又は
Pd合金2a、非Pd合金2b及びPd又はPd合金2
cの3層構造によつて対抗することになる。なお、薄層
をなすPd又はPd合金2a,2cは、耐酸化性と水素
分子の解離性(触媒能)と水素透過能とが備わつていれ
ばよく、Pdを含む白金族元素(Ru,Rh,Os,I
r,Pt)及びその合金を広く使用することが可能であ
る。
【0024】図4〜図7は、本発明に係る水素透過膜ユ
ニット1の第2実施の形態を示し、第1実施の形態と同
一部分には同一符号を付してある。第2実施の形態にあ
つては、図4に示すように多孔質支持体4に穴埋材7を
含浸させた後、図5に示すように多孔質支持体4の表面
に多孔体粒子4aからなる僅かな凸部4bを形成させ、
その後、図6に示すように凸部4bの上に水素透過膜2
を成膜させ、図7に示すように穴埋材7を除去してい
る。従つて、第1実施の形態と比較して、水素透過膜2
との接合部5が凸部4bに広く形成されている。この水
素透過膜2は、図7に示すように例えばPd又はPd合
金2a、非Pd合金2b及びPd又はPd合金2cの3
層構造を有している。この多孔質支持体4の上に形成す
るPd又はPd合金2aは、非Pd合金2bに耐酸化性
を付与するように形成させればよく、非Pd合金2bに
露出箇所を生じさせない程度に薄く形成させることがで
きる。これにより、多孔体粒子4aの凸部4bと水素透
過膜2との凹凸係合によるアンカー効果が生じるので、
水素透過膜2の耐剥離性が向上する。なお、凸部4b
が、Pd又はPd合金2aのみならず非Pd合金2bに
対しても凹凸係合する状態にすれば、アンカー効果が良
好に生じる。
【0025】ところで、非Pd合金2bとしてTaを使
用する場合、Taは、水素透過能に優れているが、耐水
素脆性に乏しい。本発明者等は、Taに、水素化物生成
を抑制させる効果があるFe及びMoの内の少なくとも
1種の金属元素を添加金属として添加することにより、
Taの水素透過能の低下を僅かな量に抑えつつ、耐水素
脆性が向上することを見いだした。これらの添加金属の
添加量が少量では、十分な水素化物抑制効果が認められ
ないことから、添加量が5原子%以上、好ましくは下限
が10原子%であることが望ましい。一方、これらの添
加は、透過能を低下させる効果を有することから、大量
添加は水素透過能を著しく減少させる。そこで、Fe又
はMoのTaへの添加量は、70原子%以下、好ましく
は上限が60原子%であることが望ましい。
【0026】このようなTaをベース金属とし、Fe及
びMoの内の少なくとも1種の金属元素を添加したTa
合金を用いる水素透過膜2によれば、水素透過性と耐水
素脆化性とを両立させることが可能である。加えて、T
a、Fe及びMoは、いずれもPd合金よりも材料単価
が非常に低廉かつ入手容易であるため、水素透過膜2を
安価かつ十分に供給することが可能になる。なお、Ta
にFe及びMoの内の少なくとも1種を添加すると、い
ずれの場合においても水素透過係数は減少するものの、
冷却時における割れの発生が抑制される。水素透過膜2
に、Taをベース金属とし、Fe及びMoの内の少なく
とも1種の金属元素を添加したTa合金を用いることに
より、Pd又はPd合金とほぼ同等又はそれ以上に水素
透過性又は耐水素脆化性に優れる水素透過膜を得ること
ができる。
【0027】なお、図3に示すように水素透過膜2が非
Pd合金を含んで3層をなす場合、つまりPd又はPd
合金2a、非Pd合金2b及びPd又はPd合金2cを
有する場合には、多孔体粒子4aの凸部4bがPd又は
Pd合金2aにのみ凹凸係合するよりも、多孔質支持体
4側のPd又はPd合金2a膜を形成した状態におい
て、凸部4bがPd又はPd合金2aの表面から露出す
る程度の大きさに凸部4bを形成し、その上に非Pd合
金2bを成膜させ、凸部4bと非Pd合金2bとを凹凸
係合させることが望まれる。これにより、多孔体粒子4
aの凸部4bと非Pd合金2bとの凹凸係合によるアン
カー効果が良好に生じるので、水素透過膜2の耐剥離性
を向上させることができる。
【0028】
【実施例】〔実施例1〕母材に平均細孔径1μmのステ
ンレス多孔体を準備し、このステンレス製の多孔質支持
体4の表層部に樹脂を含浸させ、穴埋材7とした。その
後、研磨により、多孔質支持体4の表面の余分な樹脂を
除去し、この多孔質支持体4の表面に、Pd、Ta(非
Pd合金)、Pdの順にスパッタリング法により表1に
示す厚さにコーティングを行い、図3に示すものと同様
の構造の水素透過膜2を形成させた。コーティングの
後、真空中で加熱して樹脂を溶融除去させ、試料iを作
製した。
【0029】また、比較例i,iiとして、同様の多孔
質支持体4に穴埋材7を含浸させずに、Pd、Ta(非
Pd合金)、Pdからなる金属透過膜をそれぞれ表1に
示す厚さにコーティングした比較試料i,iiを用意し
た。
【0030】これらの試料i及び比較試料i,iiを水
素透過試験装置に設置し、500℃における水素透過速
度を測定したところ、実施例1に係る試料iに関しては
表1に示す値(130cm3 /cm2 /min)が得ら
れた。
【0031】 〔表1〕 試料名 : 実施例1(樹脂埋め有り) 透過膜厚さ: Pd:50nm+Ta:10μm+Pd:50nm 透過速度 : 130cm3 /cm2 /min 試料名 : 比較例i(樹脂埋め無し) 透過膜厚さ: Pd:50nm+Ta:10μm+Pd:50nm 透過速度 : リーク有り 試料名 : 比較例ii(樹脂埋め無し) 透過膜厚さ: Pd:50nm+Ta:30μm+Pd:50nm 透過速度 : 透過せず
【0032】比較例iに係る比較試料iについては、透
過試験前のHeを用いた膜のリークチェックにより、リ
ークが認められた。この比較試料iでは、金属透過膜の
コーティング前の穴埋材7の形成を行なわなかつたた
め、多孔質支持体4の空孔が薄い金属透過膜(Pd、T
a、Pd)によつて完全には塞がらなかつたものと推定
される。また、比較試料iiに関しては、Heのリーク
は認められなかつたものの、水素透過が生じなかつた。
これは、Pdが50nmと薄いために、図12に示すも
のと同様に、多孔質支持体4側においてPd(Pd又は
Pd合金51a)とTa(非Pd合金51b)が接触し
ない箇所を生じ、このTa(非Pd合金51b)の露出
部位においてTaが酸化されて透過能が消失したものと
考えられる。
【0033】〔実施例2〕実施例1と同様に、多孔質支
持体4の表面の余分な樹脂からなる穴埋材7を除去した
後、多孔質支持体4の表面にスパッタリングエッチング
を行なつた。樹脂はステンレスよりもエッチング率が大
きく、多量に飛散(蒸発)するので、穴埋材7を選択的
に除去することが可能である。このようにして、穴埋材
7を僅かに除去して多孔体表面、つまり多孔質支持体4
の表面の多孔体粒子4aに凸部4bを生じさせ、その
後、Pd、非Pd合金2bとしてのTa、Pdの順に実
施例1と同様に成膜させて水素透過膜2を形成させ、試
料iiiを製作した。また、比較例iiiとして、凸部
4bを有しない点でのみ試料iiiと相違する比較試料
iii、つまり凸部4bを生じさせないで水素透過膜2
を成膜させた実施例1と同様の比較試料iiiを用意し
た。
【0034】これらの試料iii及び比較試料iiiに
ついて、水素吸蔵・放出試験を繰り返し行なつた。その
結果、前者における膜が剥離するまでの繰り返し回数
は、後者を上回り、凸部4bの積極的な形成により耐剥
離性が向上することが認められた。
【0035】図8〜図10は、本発明に係る水素透過膜
ユニット1の第3実施の形態を示し、第1実施の形態と
同一部分には同一符号を付してある。第3実施の形態に
あつては、先ず、図8に示すように多孔質支持体4の表
面を研磨し、多孔質支持体4の表面の空孔を多孔質支持
体4の多孔体粒子4aの研磨片からなる肉薄部分4cに
よつてほぼ塞ぎ、平滑状平面を形成させる。肉薄部分4
cは、研磨することにより、多孔質支持体4の表層の一
部が潰れて塑性変形した肉薄の研磨片を生じて形成され
る。その後、この多孔質支持体4の平滑状平面をなす表
面上に、図9に示すように水素透過膜2を成膜・接合さ
せる。この水素透過膜2は、非Pd合金2bに相当する
Ta若しくはその合金の両面を白金族元素若しくはその
合金(2a,2c)で挟んだものであり、図3に示すも
のと同様にサンドイッチ状をなしている。
【0036】次に、水素透過膜2を成膜させた多孔質支
持体4を腐食液に浸し、肉薄部分4cを溶解させて除去
し、水素透過のための連通孔を復活させる。水素透過膜
2は、多孔体粒子4aの表面に接合されたままである。
腐食液は、水洗して除去させる。多孔質支持体4をステ
ンレス鋼によつて製作し、多孔質支持体4に接する透過
膜を白金族元素又は白金族元素を含んだ合金によつて製
作すれば、この透過膜の耐腐食性が良好なため、腐食液
によつて侵され難い。このため、肉薄部分4cが、多孔
体粒子4aに比して早期に溶解・除去される。従つて、
腐食液は、多孔質支持体4を早期又は選択的に溶解さ
せ、多孔質支持体4に接合する水素透過膜2を溶解させ
難い液体であればよく、多孔質支持体4及び水素透過膜
2の材料に応じて、王水、希硝酸などが使用される。
【0037】
【発明の効果】以上の説明によつて理解されるように、
本発明に係る水素透過膜ユニット及びその製造方法によ
れば、次の効果を奏することができる。請求項1〜5に
係る発明によれば、Pd又はPd合金を含む白金族元素
又はその合金などの水素透過膜を薄膜化させ、その使用
量を削減することができる。これにより、水素透過膜の
製作、ひいては水素透過膜ユニットの製作を容易かつ安
価とすることができる。
【0038】加えて、請求項1〜3に係る発明によれ
ば、多孔質支持体の少なくとも表層部に穴埋材を含有さ
せて表面の空孔を塞いだ後、多孔質支持体の表面に水素
透過膜を成膜させ、次いで、穴埋材を除去する。このよ
うに、多孔質支持体の孔を穴埋材によつて埋めて事実上
の平滑面を形成した後に水素透過膜を成膜させるので、
ピンホールを防止しながら、水素透過膜の厚さを必要最
小限に抑えることができる。その結果、水素透過膜ユニ
ットの水素透過能が向上するのみならず、成膜に使用す
る材料を削減して、重量を低減させることができる。
【0039】請求項3に係る発明によれば、更に、多孔
質支持体の表面の穴埋材を一部除去して多孔体粒子から
なる凸部を形成させた後、多孔質支持体及び穴埋材の表
面に水素透過膜を成膜させるので、水素透過膜が多孔質
支持体に凹凸係合した状態になり、水素透過膜の耐剥離
性が向上する。その結果、多孔質支持体と水素透過膜と
の熱膨張差に起因する剥離が抑制され、材料に制限を受
け難くなると共に、水素透過膜ユニットの耐久性が向上
する。特に、水素透過膜が水素吸蔵性能を有する金属に
て製作されている場合には、水素吸蔵時に体積膨張を生
ずるが、これに起因する剥離も抑制されることになり、
水素透過膜ユニットの耐久性が著しく向上する。
【0040】請求項4に係る発明によれば、多孔質支持
体の表層部に研磨を施して研磨片からなる肉薄部分を形
成し、該肉薄部分によつて表面の空孔を大略塞いで平滑
状平面を形成させた後、該多孔質支持体の表面に水素透
過膜を成膜させ、次いで、肉薄部分を除去する。このよ
うに、多孔質支持体の孔を多孔質支持体の肉薄部分によ
つて埋めて平滑状面を形成した後に水素透過膜を成膜さ
せるので、請求項1,2に係る発明と同様の効果を奏す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施の形態に係る水素透過膜ユ
ニットの概略を示す断面図。
【図2】 同じく要部を示す拡大図。
【図3】 他の構造例に係る水素透過膜ユニットの要部
を示す拡大図。
【図4】 本発明の第2実施の形態に係る水素透過膜ユ
ニットの製造過程を示す拡大図。
【図5】 同じく製造過程を示す拡大図。
【図6】 同じく製造過程を示す拡大図。
【図7】 本発明の第2実施の形態に係る水素透過膜ユ
ニットの要部を示す拡大図。
【図8】 本発明の第3実施の形態に係る水素透過膜ユ
ニットの製造過程を示す拡大図。
【図9】 同じく製造過程を示す拡大図。
【図10】 本発明の第3実施の形態に係る水素透過膜
ユニットの要部を示す拡大図。
【図11】 従来の水素透過膜ユニットを示す断面図。
【図12】 同じく要部を示す拡大図。
【図13】 同じく要部を示す拡大図。
【符号の説明】
1:水素透過膜ユニット、2:水素透過膜、2a:Pd
又はPd合金(白金族元素又はその合金)、2b:非P
d合金、2c:Pd又はPd合金(白金族元素又はその
合金)、3:枠体、4:多孔質支持体、4a:多孔体粒
子、4b:凸部、4c:肉薄部分、5,6:接合部、
7:穴埋材。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 海老沢 孝 神奈川県横浜市金沢区福浦2丁目2−1 株式会社日本製鋼所内 Fターム(参考) 4D006 GA41 MA07 MA08 MA10 MA31 MB03 MC02X MC03 MC04 NA31 NA32 NA33 NA46 NA49 NA50 PA01 PB66 PC69 4G040 FA02 FB09 FC01 FD04 FE01 5H027 AA02 BA16 DD05

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多孔質支持体(4)の表面に接合させた
    水素透過膜(2)を有する水素透過膜ユニットであつ
    て、前記水素透過膜(2)が、多孔質支持体(4)に含
    有させた穴埋材(7)の上に成膜させた後に該穴埋材
    (7)を除去して形成されていることを特徴とする水素
    透過膜ユニット。
  2. 【請求項2】 多孔質支持体(4)の表面に接合させた
    水素透過膜(2)を有する水素透過膜ユニットの製造方
    法であつて、多孔質支持体(4)の少なくとも表層部に
    穴埋材(7)を含有させて表面の空孔を塞いだ後、該多
    孔質支持体(4)及び穴埋材(7)の表面に水素透過膜
    (2)を成膜させ、次いで、穴埋材(7)を除去するこ
    とを特徴とする水素透過膜ユニットの製造方法。
  3. 【請求項3】 多孔質支持体(4)の表面に接合させた
    水素透過膜(2)を有する水素透過膜ユニットの製造方
    法であつて、多孔質支持体(4)の少なくとも表層部に
    穴埋材(7)を含有させて表面の空孔を塞ぐと共に、多
    孔質支持体(4)の表面の穴埋材(7)を除去して多孔
    体粒子(4a)からなる凸部(4b)を形成させた後、
    多孔質支持体(4)及び穴埋材(7)の表面に水素透過
    膜(2)を成膜させ、次いで、穴埋材(7)を除去する
    ことを特徴とする水素透過膜ユニットの製造方法。
  4. 【請求項4】 多孔質支持体(4)の表面に接合させた
    水素透過膜(2)を有する水素透過膜ユニットの製造方
    法であつて、多孔質支持体(4)の表層部に研磨を施し
    て研磨片からなる肉薄部分(4c)を形成し、該肉薄部
    分(4c)によつて表面の空孔を大略塞いで平滑状平面
    を形成させた後、該多孔質支持体(4)の表面に水素透
    過膜(2)を成膜させ、次いで、腐食液に浸して肉薄部
    分(4c)を除去することを特徴とする水素透過膜ユニ
    ットの製造方法。
  5. 【請求項5】 水素透過膜(2)が、非Pd合金(2
    b)の表裏両面を白金族元素又はその合金(2a,2
    c)によつてコーティングして形成されていることを特
    徴とする請求項2,3又は4の水素透過膜ユニットの製
    造方法。
JP2001143409A 2001-05-14 2001-05-14 水素透過膜ユニット及びその製造方法 Withdrawn JP2002336664A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001143409A JP2002336664A (ja) 2001-05-14 2001-05-14 水素透過膜ユニット及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001143409A JP2002336664A (ja) 2001-05-14 2001-05-14 水素透過膜ユニット及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002336664A true JP2002336664A (ja) 2002-11-26

Family

ID=18989562

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001143409A Withdrawn JP2002336664A (ja) 2001-05-14 2001-05-14 水素透過膜ユニット及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002336664A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007054788A (ja) * 2005-08-26 2007-03-08 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 水素透過合金膜及びその製造方法
JP2007229616A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 水素分離複合体及びその製造方法
JP2007307848A (ja) * 2006-05-22 2007-11-29 National Institute For Materials Science 多層薄膜及びその製造方法
US7393392B2 (en) 2004-02-27 2008-07-01 Mikuni Corporation Hydrogen-permeable membrane and process for production thereof
WO2008081855A1 (ja) 2006-12-28 2008-07-10 Mikuni Corporation 水素透過膜、及びその製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7393392B2 (en) 2004-02-27 2008-07-01 Mikuni Corporation Hydrogen-permeable membrane and process for production thereof
JP2007054788A (ja) * 2005-08-26 2007-03-08 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 水素透過合金膜及びその製造方法
JP2007229616A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 水素分離複合体及びその製造方法
JP2007307848A (ja) * 2006-05-22 2007-11-29 National Institute For Materials Science 多層薄膜及びその製造方法
WO2008081855A1 (ja) 2006-12-28 2008-07-10 Mikuni Corporation 水素透過膜、及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6649559B2 (en) Supported metal membrane, a process for its preparation and use
US6152987A (en) Hydrogen gas-extraction module and method of fabrication
JP4879883B2 (ja) 多段ナノホールアレイ金属膜の製造方法及び同膜構造によって支持されたガス/イオン種選択性膜の製造方法
US8366805B2 (en) Composite structures with porous anodic oxide layers and methods of fabrication
TW200836395A (en) Method for producing separator for fuel cell, separator for fuel cell, and fuel cell
CN106502078B (zh) 制造微机械钟表部件的方法和所述微机械钟表部件
WO2004011130A1 (ja) 水素製造用フィルタに用いる薄膜支持基板および水素製造用フィルタの製造方法
WO2009110428A1 (ja) シリコンを母材とする複合材料及びその製造方法
US8075958B2 (en) Methods for providing thin hydrogen separation membranes and associated uses
JPH11276866A (ja) 水素透過膜及びその作製方法
US20020028345A1 (en) Process for preparing a composite metal membrane, the composite metal membrane prepared therewith and its use
JP3213053B2 (ja) 水素分離膜の製造方法
KR101261994B1 (ko) 수소분리용 필름 모양 자립금속박막 및 그 제조방법
JP5526387B2 (ja) 無欠陥化水素分離膜、無欠陥化水素分離膜の製造方法及び水素分離方法
JP2002336664A (ja) 水素透過膜ユニット及びその製造方法
JP3388840B2 (ja) 水素分離膜およびその製造方法
JP2002355537A (ja) 水素透過膜及びその製造方法
JP2007268404A (ja) 水素精製フィルタおよびその製造方法
JP2005262082A (ja) 水素分離膜、その製造方法並びに水素の分離方法
JPH04346824A (ja) 水素分離膜
US8070860B2 (en) Pd menbrane having improved H2-permeance, and method of making
JP5093288B2 (ja) 燃料電池の製造方法
JP4411409B2 (ja) 水素透過装置の製造方法
JP5061695B2 (ja) 水素精製フィルタおよびその製造方法
CN112955269B (zh) 制造具有氧化层的开孔金属体的方法和由该方法制造的金属体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071221

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080226

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20100312