JP2002250797A - 放射線画像変換パネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、接着力及び画像均一性に優
れた放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供する
ことにある。 【解決手段】 支持体上に、高分子樹脂と架橋剤を含有
する下引き層と高分子樹脂中に分散された輝尽性蛍光体
を含有する輝尽性蛍光体層をこの順に積層してなる放射
線画像変換パネルにおいて、下引き層を形成した後、４
０〜１５０℃で２〜１００時間の熱処理を施し、次いで
該下引き層上に輝尽性蛍光体層を形成することを特徴と
する放射線画像変換パネル。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を用
いた放射線画像変換パネルに関するものであり、詳しく
は、接着力及び画像均一性に優れた放射線画像変換パネ
ルに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】Ｘ線画像のような放射線画像は、病気診
断用などの分野で多く用いられている。このＸ線画像を
得る方法としては、被写体を通過したＸ線を蛍光体層
（蛍光スクリーン）に照射し、これにより可視光を生じ
させた後、この可視光を通常の写真を撮るときと同様に
して、ハロゲン化銀写真感光材料（以下、単に感光材料
ともいう）に照射し、次いで現像処理を施して可視銀画
像を得る、いわゆる放射線写真方式が広く利用されてい
る。

【０００３】しかしながら、近年では、ハロゲン化銀塩
を有する感光材料による画像形成方法に代わり、蛍光体
層から直接画像を取り出す新たな方法が提案されてい
る。

【０００４】この方法としては被写体を透過した放射線
を蛍光体に吸収せしめ、しかる後この蛍光体を例えば光
又は熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が上
記吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍光とし
て放射せしめ、この蛍光を検出し画像化する方法があ
る。

【０００５】具体的には、例えば、米国特許第３，８５
９，５２７号及び特開昭５５−１２１４４号公報などに
記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線画像
変換方法が知られている。

【０００６】この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射
線画像変換パネルを使用するもので、この放射線画像変
換パネルの輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放射線を
当てて、被写体各部の放射線透過密度に対応する放射線
エネルギーを蓄積させて、その後、輝尽性蛍光体を可視
光線、赤外線などの電磁波（励起光）で時系列的に励起
することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射
線エネルギーを輝尽発光として放出させ、この光の強弱
による信号を、例えば、光電変換して、電気信号を得
て、この信号をハロゲン化銀写真感光材料などの記録材
料、ＣＲＴなどの表示装置上に可視像として再生するも
のである。

【０００７】上記の放射線画像の再生方法によれば、従
来の放射線写真フィルムと増感紙との組合せによる放射
線写真法と比較して、はるかに少ない被曝線量で、かつ
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点を有している。

【０００８】このように輝尽性蛍光体は、放射線を照射
した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であ
るが、実用的には、波長が４００〜９００ｎｍの範囲に
ある励起光によって、３００〜５００ｎｍの波長範囲の
輝尽発光を示す蛍光体が一般的に利用される。

【０００９】これらの輝尽性蛍光体を使用した放射線画
像変換パネルは、放射線画像情報を蓄積した後、励起光
の走査によって蓄積エネルギーを放出するので、走査後
に再度放射線画像の蓄積を行うことができ、繰り返し使
用が可能である。つまり従来の放射線写真法では、一回
の撮影ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対し
て、この放射線画像変換方法では放射線画像変換パネル
を繰り返し使用するので、資源保護、経済効率の面から
も有利である。

【００１０】放射線画像変換パネルを使用した放射線画
像変換方式の優劣は、該パネルの輝尽性発光輝度および
パネルの発光均一性に大きく左右され、特に、これらの
特性は用いる輝尽性蛍光体の特性が大きく支配されてい
ることが知られている。

【００１１】また、様々な条件下で用いられる放射線画
像変換パネルにおいて、支持体と蛍光体層との接着性
が、重要な特性の１つであり、特公平４−４４９５９号
では、支持体と蛍光体層間に架橋剤を含有する下引き層
を設ける方法が開示されているが、単に下引き層を設け
るだけでは、その上に塗設される蛍光体層の乾燥過程
で、蛍光体層に含まれる溶剤の拡散により、下引き層が
溶解したり、あるいは変形により、蛍光体層の面質が不
均一となり、画像ムラを招く結果となる。

【００１２】また、蛍光体シートの製造過程において、
支持体上に下引き層を形成後、一旦ロール状に積層した
状態で巻き取ったり、あるいは規定のサイズのシート状
とし、それらを積層して保存させる場合、積層された状
態で一定期間保存されると下引き層と上部の支持体裏面
とでブロッキング現象を起こし、接着してしまう故障が
しばしば発生する。

【００１３】この様に、放射線画像変換パネルにおいて
は、支持体との接着性及びそれに伴う画像均一性が改良
された放射線画像変換パネルの開発が、切望されてい
る。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
鑑みなされたものであり、その目的は、接着力及び画像
均一性に優れた放射線画像変換パネル及びその製造方法
を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成された。

【００１６】１．支持体上に、高分子樹脂と架橋剤を含
有する下引き層と高分子樹脂中に分散された輝尽性蛍光
体を含有する輝尽性蛍光体層をこの順に積層してなる放
射線画像変換パネルにおいて、該下引き層を形成した
後、４０〜１５０℃で２〜１００時間の熱処理を施し、
次いで該下引き層上に輝尽性蛍光体層を形成することを
特徴とする放射線画像変換パネル。

【００１７】２．前記輝尽性蛍光体層が含有する高分子
樹脂の平均ガラス転移点温度（Ｔｇ）が２５℃未満で、
かつ前記下引き層が含有する高分子樹脂の平均ガラス転
移点温度（Ｔｇ）が２５℃以上であることを特徴とする
前記１項に記載の放射線画像変換パネル。

【００１８】３．前記下引き層上に保護シートを積層し
た後、４０〜１５０℃で２〜１００時間の熱処理を施
し、次いで該保護シートを剥離した後、輝尽性蛍光体層
を形成することを特徴とする前記１または２項に記載の
放射線画像変換パネル。

【００１９】４．前記下引き層の膜厚が５〜４０μｍで
あることを特徴とする前記１〜３項のいずれか１項に記
載の放射線画像変換パネル。

【００２０】５．前記架橋剤が多官能イソシアネート化
合物であり、かつ下引き層中の高分子樹脂に対し１５〜
５０質量％含有していることを特徴とする前記１〜４項
のいずれか１項に記載の放射線画像変換パネル。

【００２１】６．前記輝尽性蛍光体がＥｕ付加ＢａＦＩ
化合物であることを特徴とする前記１〜５項のいずれか
１項に記載の放射線画像変換パネル。

【００２２】７．前記１〜６項のいずれか１項に記載の
放射線画像変換パネルを製造することを特徴とする放射
線画像変換パネルの製造方法。

【００２３】本発明者は、上記課題に対し鋭意検討を行
った結果、支持体と輝尽性蛍光体層間に、高分子樹脂と
架橋剤を含む下引き層を設け、下引き層を形成した後、
一定の条件下で加熱処理を施すことで、下引き層の膜強
度を高めることにより、その後塗設する輝尽性蛍光体層
との強固な接着力及び優れた画像均一性を達成すること
ができることを見いだし、本発明に至った次第である。
更に、上記加熱処理工程において、下引き層を塗設した
支持体を積層した形態で処理する際に、下引き層と積層
する支持体裏面間でのブロッキングを、下引き層上に、
表面に離型剤を含む保護シートを積層した試料間に挟
み、加熱処理することにより防止できることを新たに見
いだした。

【００２４】以下、本発明の詳細について説明する。本
発明の放射線画像変換パネルは、主に、支持体とその表
面に設けられた下引き層、蛍光体層からなり、蛍光体層
は、一般に、蛍光体とこれを分散保持する高分子樹脂と
から構成される。また、蛍光体層の支持体側とは反対側
の表面には通常、ポリマーフィルムや無機物の蒸着膜か
らなる保護層膜が設けられる。

【００２５】はじめに、本発明に係る下引き層について
説明する。本発明に係る下引き層では、架橋剤により架
橋できる高分子樹脂と架橋剤とを含有していることが１
つの特徴である。

【００２６】下引き層で用いることのできる高分子樹脂
としては、特に制限はないが、例えば、ポリウレタン、
ポリエステル、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリ
ビニルブチラール、セルロース誘導体（ニトロセルロー
ス等）、スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴ
ム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。なか
でもポリウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合
体、ポリビニールブチラール、ニトロセルロース等を挙
げることができ、請求項２に係る発明では、下引き層で
用いる高分子樹脂の平均ガラス転移点温度（Ｔｇ）が２
５℃以上であることが特徴の１つであり、好ましくは２
５〜２００℃のＴｇを有する高分子樹脂を用いることで
ある。

【００２７】本発明に係る下引き層で用いることのでき
る架橋剤としては、特に制限はなく、例えば、多官能イ
ソシアネート及びその誘導体、メラミン及びその誘導
体、アミノ樹脂及びその誘導体等を挙げることができる
が、請求項５に係る発明では、架橋剤として多官能イソ
シアネート化合物を用いることが特徴であり、例えば、
日本ポリウレタン社製のコロネートＨＸ、コロネート３
０４１等が挙げられる。

【００２８】本発明に係る下引き層は、例えば、以下に
示す方法により支持体上に形成することができる。

【００２９】まず、上記記載の高分子樹脂と架橋剤を適
当な溶剤、例えば後述の輝尽性蛍光層塗布液の調製で用
いる溶剤に添加し、これを充分に混合して下引き層塗布
液を調製する。

【００３０】架橋剤の使用量は、目的とする放射線画像
変換パネルの特性、輝尽性蛍光体層及び支持体に用いる
材料の種類、下引き層で用いる高分子樹脂の種類等によ
り異なるが、輝尽性蛍光体層の支持体に対する接着強度
の維持を考慮すれば、高分子樹脂に対して、５０質量％
以下の比率で添加することが好ましく、特には、請求項
５に係る発明では、１５〜５０質量％であることが特徴
である。

【００３１】下引き層の膜厚は、目的とする放射線画像
変換パネルの特性、輝尽性蛍光体層及び支持体に用いる
材料の種類、下引き層で用いる高分子樹脂及び架橋剤の
種類等により異なるが、一般には３〜５０μｍであるこ
とが好ましく、特には、請求項４に係る発明では、５〜
４０μｍであることが特徴である。

【００３２】本発明で用いることのできる支持体または
仮支持体としては、例えば、ガラス、ウール、コット
ン、紙、金属などの種々の素材から作られたものが使用
することができるが、情報記録材料としての取り扱い
上、可撓性のあるシート或いはロールに加工できるもの
が好ましい。この点から、例えば、セルロースアセテー
トフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミド
フィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネート
フィルム等のプラスティックフィルム、アルミニウム
箔、アルミニウム合金箔などの金属シート、一般紙及び
例えば写真用原紙、コート紙、若しくはアート紙のよう
な印刷用原紙、バライタ紙、レジンコート紙、ベルギー
特許第７８４，６１５号明細書に記載されているような
ポリサッカライド等でサイジングされた紙、二酸化チタ
ンなどの顔料を含むピグメント紙、ポリビニールアルコ
ールでサイジングした紙等の加工紙が特に好ましい。こ
れら支持体の膜厚は、用いる支持体の材質等によって異
なるが、一般的には８０〜１０００μｍであり、取り扱
い上の点から、さらに好ましくは８０〜５００μｍであ
る。これらの支持体の表面は滑面であってもよいし、下
引き層との接着力を向上させる目的でマット面としても
よい。

【００３３】本発明においては、上記支持体上に下引き
層を塗設した後、輝尽性蛍光体層を塗布する前に、下引
き層に含有した高分子樹脂と架橋剤との反応をより完遂
させるため、４０〜１５０℃で２〜１００時間の熱処理
を行うことが１つの特徴である。熱処理方法としては、
特に制限はなく、作製したシート状、ロール状等の下引
き層塗設済み試料が完全に収納でき、かつ温度、湿度が
制御できる恒温室であればいずれの方法を用いても良
い。請求項１に係る発明では熱処理条件としては、４０
〜１５０℃で２〜１００時間であることが特徴である
が、好ましくは５５〜１００℃、５〜５０時間である。

【００３４】請求項３に係る発明では、支持体上に下引
き層を形成した後、ロール状で積層した形態、あるいは
シート状で積層した形態で上記加熱処理を行う際に、各
積層試料間に、保護シートを挿入し、加熱処理後に保護
シートを取り除いた後、輝尽性蛍光体層を塗設すること
が特徴である。本発明の方法を採ることにより、加熱処
理時の下引き層と支持体裏面とのブロッキングを効果的
に防止することができ好ましい。本発明で用いることの
できる保護シートとして、用いる材料に特に制限はな
く、接着あるいは融着が防止でき、かつ保護シートと下
引き層あるいは、支持体裏面との接着力が極めて弱いも
のであれば良く、例えば、後述の保護フィルムとして用
いる各種樹脂フィルムを適宜選択して用いることができ
る。また、保護シートには、加熱処理後の剥離を容易と
するため、離型剤が塗布されていることが好ましい。

【００３５】次いで、輝尽性蛍光体層について説明す
る。本発明に係る輝尽性蛍光体層は、少なくとも輝尽性
蛍光体と高分子樹脂とを含有している。

【００３６】本発明で用いることのできる輝尽性蛍光体
（以下、単に蛍光体ともいう）としては、波長４００〜
９００ｎｍの範囲に発光波長のあるものが一般的に使用
される。

【００３７】以下に、本発明の放射線画像変換パネルで
用いることのできる蛍光体の例を挙げる。

【００３８】（１）特開昭５５−１２１４５号に記載さ
れている（Ｂａ_1-X，Ｍ（II）_X）ＦＸ：ｙＡ、（式中、
Ｍ（II）はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、ＺｎおよびＣｄのうちの
少なくとも一つ、ＸはＣｌ、Ｂｒ、およびＩのうち少な
くとも一つ、ＡはＥｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐ
ｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、およびＥｒのうちの少なくとも
一つ、そしては、０≦ｘ≦０．６、ｙは、０≦ｙ≦０．
２である）の組成式で表される希土類元素付活アルカリ
土類金属弗化ハロゲン化物蛍光体；また、この蛍光体に
は以下のような添加物が含まれていてもよい。

【００３９】ａ）特開昭５６−７４１７５号に記載され
ている、Ｘ′、ＢｅＸ″、Ｍ（III）Ｘ′′′₃、式中、
Ｘ′、Ｘ″、およびＸ′′′はそれぞれＣｌ、Ｂｒおよ
びＩの少なくとも一種であり、Ｍ（III）は三価金属で
ある ｂ）特開昭５５−１６００７８号に記載されているＢｅ
Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ａｌ₂
Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｔｉ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂、ＧｅＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅
およびＴｈＯ₂などの金属酸化物 ｃ）特開昭５６−１１６７７７号に記載されているＺ
ｒ、Ｓｃ ｄ）特開昭５７−２３６７３号に記載されているＢ ｅ）特開昭５７−２３６７５号に記載されているＡｓ、
Ｓｉ ｆ）特開昭５８−２０６６７８号に記載されているＭ・
Ｌ、式中、ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、およびＣｓから
なる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であ
り、ＬはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓ
ｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌ
ｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、およびＴｌからなる群より選ば
れる少なくとも一種の三価金属である ｇ）特開昭５９−２７９８０号に記載されているテトラ
フルオロホウ酸化合物の焼成物；特開昭５９−２７２８
９号に記載されているヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフ
ルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の
一価もしくは二価金属の塩の焼成物;特開昭５９−５６
４７９号に記載されているＮａＸ′、式中、Ｘ′はＣ
ｌ、ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種である ｈ）特開昭５９−５６４８０号に記載されているＶ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉなどの遷移金属；特開
昭５９−７５２００号に記載されているＭ（Ｉ）Ｘ′、
Ｍ′（II）Ｘ″₂、Ｍ（III）Ｘ′′′₃、Ａ、式中、Ｍ
（Ｉ）はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、およびＣｓからなる群
より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、
Ｍ′（II）はＢｅおよびＭｇからなる群より選ばれる少
なくとも一種の二価金属を表し、Ｍ（III）はＡｌ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、およびＴｌからなる群より選ばれる少なくと
も一種の三価金属であり、Ａは金属酸化物であり、
Ｘ′、Ｘ″、およびＸ′′′はそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒ
およびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンである ｉ）特開昭６０−１０１１７３号に記載されているＭ
（Ｉ）Ｘ′、式中、Ｍ（Ｉ）はＲｂおよびＣｓからなる
群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、
Ｘ′はＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンである ｊ）特開昭６１−２３６７９号に記載されているＭ（I
I）′Ｘ′₂・Ｍ（II）′Ｘ″₂、式中、Ｍ（II）′はＢ
ａ、ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも
一種のアルカリ土類金属であり；Ｘ′およびＸ″はそれ
ぞれＣｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロゲンであって、かつＸ′≠Ｘ″である;
更に、特開昭６１−２６４０８４号明細書に記載されて
いるＬｎＸ″₃、式中、ＬｎはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕからなる群より選ばれる少な
くとも一種の希土類元素であり；Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ
およびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンである。

【００４０】（２）特開昭６０−８４３８１号に記載さ
れているＭ（II）Ｘ₂・ａＭ（II）Ｘ′₂：ｘＥｕ²⁺（式
中、Ｍ（II）はＢａ、ＳｒおよびＣａからなる群より選
ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｘお
よびＸ′はＣｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであって、かつＸ≠Ｘ′であ
り；そしてａは０．１≦ａ≦１０．０、ｘは０＜ｘ≦
０．２である）の組成式で表される二価ユーロピウム付
活アルカリ土類金属ハロゲン化物蛍光体；また、この蛍
光体には以下のような添加物が含まれていてもよい。

【００４１】ａ）特開昭６０−１６６３７９号に記載さ
れているＭ（Ｉ）Ｘ′、式中、Ｍ（Ｉ）はＲｂおよびＣ
ｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金
属であり；Ｘ′はＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンである ｂ）特開昭６０−２２１４８３号に記載されているＫ
Ｘ″、ＭｇＸ′′′₂、Ｍ（III）Ｘ″″₃、式中、Ｍ（I
II）はＳｃ、Ｙ、Ｌａ、ＧｄおよびＬｕからなる群より
選ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Ｘ″、
Ｘ′′′およびＸ″″はいずれもＦ、Ｃｌ、Ｂｒおよび
Ｉからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンで
ある ｃ）特開昭６０−２２８５９２号に記載されているＢ、
特開昭６０−２２８５９３号に記載されているＳｉ
Ｏ₂、Ｐ₂Ｏ₅等の酸化物、特開昭６１−１２０８８２号
に記載されているＬｉＸ″、ＮａＸ″、式中、Ｘ″は
Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロゲンである ｄ）特開昭６１−１２０８８３号に記載されているＳｉ
Ｏ；特開昭６１−１２０８８５号に記載されているＳｎ
Ｘ″₂、式中、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである ｅ）特開昭６１−２３５４８６号に記載されているＣｓ
Ｘ″、ＳｎＸ′′′₂、式中、Ｘ″およびＸ′′′はそ
れぞれＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンである；更に、特開昭６１−
２３５４８７号に記載されているＣｓＸ″、Ｌｎ³⁺、式
中、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり；ＬｎはＳｃ、
Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈ
ｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の希土類元素である （３）特開昭５５−１２１４４号に記載されているＬｎ
ＯＸ：ｘＡ（式中、ＬｎはＬａ、Ｙ、Ｇｄ、およびＬｕ
のうち少なくとも一つ；ＸはＣｌ、Ｂｒ、およびＩのう
ち少なくとも一つ；ＡはＣｅおよびＴｂのうち少なくと
も一つ；ｘは、０＜ｘ＜０．１である）の組成式で表さ
れる希土類元素付活希土類オキシハライド蛍光体。

【００４２】（４）特開昭５８−６９２８１号に記載さ
れているＭ（II）ＯＸ：ｘＣｅ（式中、Ｍ（II）はＰ
ｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、およびＢｉからなる群より選ばれる少
なくとも一種の酸化金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ、およ
びＩのうち少なくとも一つであり；ｘは０＜ｘ＜０．１
である）の組成式で表されるセリウム付活三価金属オキ
シハライド蛍光体。

【００４３】（５）特開昭６２−２５１８９号明細書に
記載されているＭ（Ｉ）Ｘ：ｘＢｉ（式中、Ｍ（Ｉ）は
ＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ、ＢｒおよびＩからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そ
してｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式
で表されるビスマス付活アルカリ金属ハロゲン化物蛍光
体。

【００４４】（６）特開昭６０−１４１７８３号に記載
されているＭ（II）₅（ＰＯ₄）₃Ｘ：ｘＥｕ²⁺（式中、
Ｍ（II）はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＦ、
Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも
一種のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数
値である）の組成式で表される二価ユーロピウム付活ア
ルカリ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。

【００４５】（７）特開昭６０−１５７０９９号に記載
されているＭ（II）₂ＢＯ₃Ｘ：ｘＥｕ²⁺（式中、Ｍ（I
I）はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群より選ばれる少
なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、Ｂ
ｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値であ
る）の組成式で表される二価ユーロピウム付活アルカリ
土類金属ハロホウ酸塩蛍光体。

【００４６】（８）特開昭６０−１５７１００号に記載
されているＭ（II）₂（ＰＯ₄）₃Ｘ：ｘＥｕ²⁺（式中、
Ｍ（II）はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣ
ｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種
のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値で
ある）の組成式で表される二価ユーロピウム付活アルカ
リ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。

【００４７】（９）特開昭６０−２１７３５４号に記載
されているＭ（II）ＨＸ：ｘＥｕ²⁺（式中、Ｍ（II）は
Ｃａ、ＳｒおよびＢａからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒおよ
びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン
であり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組
成式で表される二価ユーロピウム付活アルカリ土類金属
水素化ハロゲン化物蛍光体。

【００４８】（１０）特開昭６１−２１１７３号に記載
されているＬｎＸ₃・ａＬｎ′Ｘ′₃：ｘＣｅ³⁺、（式
中、ＬｎおよびＬｎ′はそれぞれＹ、Ｌａ、Ｇｄおよび
Ｌｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元
素であり；ＸおよびＸ′はそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒおよ
びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン
であって、かつＸ≠Ｘ′であり；そしてａは０．１＜ａ
≦１０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の
範囲の数値である）の組成式で表されるセリウム付活希
土類複合ハロゲン化物蛍光体。

【００４９】（１１）特開昭６１−２１１８２号に記載
されているＬｎＸ₃・ａＭ（Ｉ）Ｘ′３：ｘＣｅ³⁺、
（式中、ＬｎはＹ、Ｌａ、ＧｄおよびＬｕからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり；Ｍ
（Ｉ）はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、ＣｓおよびＲｂからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘお
よびＸ′はそれぞれＣｌ、ＢｒおよびＩからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは
０＜ａ≦１０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦
０．２の範囲の数値である）の組成式で表されるセリウ
ム付活希土類複合ハロゲン化物系蛍光体。

【００５０】（１２）特開昭６１−４０３９０号に記載
されているＬｎＰＯ₄・ａＬｎＸ₃：ｘＣｅ³⁺、（式中、
ＬｎはＹ、Ｌａ、ＧｄおよびＬｕからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の希土類元素であり；ＸはＦ、Ｃｌ、
ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり；そしてａは０．１≦ａ≦１０．０の範
囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値であ
る）の組成式で表されるセリウム付活希土類ハロ燐酸塩
蛍光体。

【００５１】（１３）特開昭６１−２３６８８８号明細
書に記載されているＣｓＸ：ａＲｂＸ′：ｘＥｕ²⁺、
（式中、ＸおよびＸ′はそれぞれＣｌ、ＢｒおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り；そしてａは０＜ａ≦１０．０の範囲の数値であり、
ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表
される二価ユーロピウム付活ハロゲン化セシウム・ルビ
ジウム蛍光体。

【００５２】（１４）特開昭６１−２３６８９０号に記
載されているＭ（II）Ｘ₂・ａＭ（Ｉ）Ｘ′：ｘＥ
ｕ²⁺、（式中、Ｍ（II）はＢａ、ＳｒおよびＣａからな
る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属で
あり；Ｍ（Ｉ）はＬｉ、ＲｂおよびＣｓからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘおよ
びＸ′はそれぞれＣｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選
ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは
０．１≦ａ≦２０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ
≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表される二価
ユーロピウム付活複合ハロゲン化物蛍光体。

【００５３】上記の輝尽性蛍光体のうちで、ヨウ素を含
有する二価ユーロピウム付活アルカリ土類金属弗化ハロ
ゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム
付活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を
含有する希土類元素付活希土類オキシハロゲン化物系蛍
光体、およびヨウ素を含有するビスマス付活アルカリ金
属ハロゲン化物系蛍光体は、高輝度の輝尽発光を示すた
め好ましく、請求項６に係る発明では、輝尽性蛍光体が
Ｅｕ付加ＢａＦＩ化合物であることが特徴である。

【００５４】本発明に係る輝尽性蛍光体は、高分子樹脂
に分散された形態で輝尽性蛍光体層中に含有しているこ
とが特徴である。本発明で用いることのできる高分子樹
脂としては、前記下引き層で用いる高分子樹脂と同じも
のを挙げることができ、例えば、ポリウレタン、ポリエ
ステル、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アク
リロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブ
チラール、セルロース誘導体（ニトロセルロース等）、
スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴム系樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル系樹
脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。なかでもポ
リウレタン、ポリエステル、塩化ビニル系共重合体、ポ
リビニールブチラール、ニトロセルロース等を挙げるこ
とができ、請求項２に係る発明では、平均ガラス転移点
温度（Ｔｇ）が２５℃未満の高分子樹脂を用いることが
特徴であり、好ましくはＴｇが−５０〜２０℃の高分子
樹脂である。

【００５５】本発明で用いる輝尽性蛍光体層塗布液は、
適当な有機溶媒中に高分子樹脂と輝尽性蛍光体粒子とを
添加し、例えば、ディスパーザーやボールミル等を使用
して、攪拌、混合して、高分子樹脂中に輝尽性蛍光体が
均一に分散するようにして調製する。輝尽性蛍光体層塗
布液の調製に用いられる溶剤としては、例えば、メタノ
ール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール
などの低級アルコール、メチレンクロライド、エチレン
クロライドなどの塩素原子含有炭化水素、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキ
サノン、キシレンなどの芳香族化合物、酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アルコー
ルとのエステル、ジオキサン、エチレングリコールモノ
エチルエステル、エチレングリコールモノメチルエステ
ルなどのエーテル及びそれらの混合物を挙げることがで
きる。

【００５６】なお、輝尽性蛍光体塗布液には、必要に応
じて、塗布液中における輝尽性蛍光体の分散性を向上さ
せるための分散剤、あるいはパネル形成後の輝尽性蛍光
体層中における高分子樹脂と輝尽性蛍光体との間の結合
力を向上させるための可塑剤など種々の添加剤が混合さ
れてもよい。

【００５７】分散剤の例としては、フタル酸、ステアリ
ン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを挙げること
ができる。また、可塑剤の例としては、燐酸トリフェニ
ル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニルなどの燐酸エス
テル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルな
どのフタル酸エステル、グリコール酸エチルフタリルエ
チル、グリコール酸ブチルフタルブチルなどのグリコー
ル酸エステル、トリエチレングリコールとアジピン酸と
のポリエステル、ジエチレングリコールと琥珀酸とのポ
リエステルなどのポリエチレングリコールと脂肪族二塩
基酸とのポリエステルなどを挙げることができる。

【００５８】輝尽性蛍光体層用塗布液の調製は、通常、
ボールミル、サンドミル、アトライター、三本ロールミ
ル、高速インペラー分散機、Ｋａｄｙミル、および超音
波分散機などの分散装置を用いて行なわれる。調製され
た塗布液は、例えば、ドクターブレード、ロールコータ
ー、ナイフコーター、押し出しコーター等の公知の塗布
コーターを用いて、支持体上に塗設した後、乾燥するこ
とにより、下引き層上への輝尽性蛍光体層の形成が完了
する。

【００５９】本発明の放射線画像変換パネルの輝尽性蛍
光体層の膜厚は、目的とする放射線画像変換パネルの特
性、輝尽性蛍光体の種類、高分子樹脂と輝尽性蛍光体と
の混合比等によって異なるが、１０〜１０００μｍの範
囲から選ばれるのが好ましく、１０〜５００μｍの範囲
から選ばれるのがより好ましい。

【００６０】放射線画像変換パネルの製造方法として
は、主には下記に示す２つの方法が挙げられる。

【００６１】第１の製造方法としては、高分子樹脂と蛍
光体又は輝尽性蛍光体とからなる蛍光体塗布液を下引き
層を有する支持体上に塗布し、輝尽性蛍光体層を形成す
る方法である。また、第２の製造方法として、高分子樹
脂と輝尽性蛍光体とからなる輝尽性蛍光体塗布液を、ま
ず仮支持体上に塗布し、輝尽性蛍光体シートを形成す
る。次いで、輝尽性蛍光体シートを下引き層を有する支
持体上に載せ、高分子樹脂の軟化温度若しくは融点以上
の温度で、支持体に接着して形成する方法である。

【００６２】輝尽性蛍光体層の支持体への形成方法とし
ては、主に上記記載の２方法が考えられるが、下引き層
を有する支持体上に均一に輝尽性蛍光体層を形成する方
法であればどのような方法でもよく、例えば、吹き付け
により形成する方法でもよい。

【００６３】第１の製造方法では、輝尽性蛍光体層は、
高分子樹脂溶液中に輝尽性蛍光体を均一に分散せしめた
輝尽性蛍光体塗布液を下引き層を有する支持体上に塗
布、乾燥することにより製造することができる。

【００６４】また、第２の製造方法では、輝尽性蛍光体
層となるシートは、輝尽性蛍光体塗布液を輝尽性蛍光体
シート形成用仮支持体上又は仮支持体上に設けられた保
護膜上に塗布し、乾燥した後、仮支持体から剥離するこ
とで製造することができる。保護層自体を仮支持体とし
て、そのまま最終製品に使用することもできる。第２の
製造方法では、仮支持体上又は仮支持体上に設けられた
保護層上に輝尽性蛍光体塗布液を塗布し乾燥した後、仮
支持体から剥離して輝尽性蛍光体層となるシートとす
る。従って仮支持体の表面は、予め剥離剤を塗布してお
き、形成された輝尽性蛍光体シートが仮支持体から剥離
し易い状態にしておくことが好ましい。

【００６５】支持体と輝尽性蛍光体層の結合を強化する
ため、前記下引き層を設けることは本発明の特徴の１つ
であり、その他に、感度、画質（例えば、鮮鋭性、粒状
性）を向上する目的で、二酸化チタンなどの光反射性物
質からなる光反射層、若しくはカーボンブラックなどの
光吸収物質からなる光吸収層などが、必要に応じて設け
られてよく、また、放射線画像変換パネルには、輝尽性
蛍光体層の表面を物理的、化学的に保護するための保護
膜を設けることが好ましく、それらの構成は目的、用途
などに応じて適宜選択することができる。

【００６６】本発明の放射線画像変換パネルに設ける保
護層としては、ＡＳＴＭＤ−１００３に記載の方法によ
り測定したヘイズ率が、５％以上６０％未満の励起光吸
収層を備えたポリエステルフィルム、ポリメタクリレー
トフィルム、ニトロセルロースフィルム、セルロースア
セテートフィルム等が使用できるが、ポリエチレンテレ
フタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィル
ム等の延伸加工されたフィルムが、透明性、強さの面で
保護層として好ましく、更には、これらのポリエチレン
テレフタレートフィルムやポリエチレンテレフタレート
フィルム上に金属酸化物、窒化珪素などの薄膜を蒸着し
た蒸着フィルムが防湿性の面からより好ましい。

【００６７】保護層で用いるフィルムのヘイズ率は、使
用する樹脂フィルムのヘイズ率を選択することで容易に
調整でき、また任意のヘイズ率を有する樹脂フィルムは
工業的に容易に入手することができる。放射線画像変換
パネルの保護フィルムとしては、光学的に透明度の非常
に高いものが想定されている。そのような透明度の高い
保護フィルム材料として、ヘイズ値が２〜３％の範囲に
ある各種のプラスチックフィルムが市販されている。本
発明の効果を得るために好ましいヘイズ率としては５％
以上６０％未満であり、さらに好ましくは１０％以上５
０％未満である。ヘイズ率が５％未満では、画像ムラや
線状ノイズを解消する効果が低く、また６０％以上では
鮮鋭性の向上効果が損なわれ、好ましくない。

【００６８】本発明に係る保護層で用いるフィルムは、
必要とされる防湿性にあわせて、樹脂フィルムや樹脂フ
ィルムに金属酸化物などを蒸着した蒸着フィルムを複数
枚積層することで最適な防湿性とすることができ、輝尽
性蛍光体の吸湿劣化防止を考慮して、透湿度は少なくと
も５０ｇ／ｍ²・ｄａｙ以下であることが好ましい。樹
脂フィルムの積層方法としては、特に制限はなく、公知
のいずれの方法を用いても良い。

【００６９】また、積層された樹脂フィルム間に励起光
吸収層を設けることによって、励起光吸収層が物理的な
衝撃や化学的な変質から保護され安定したプレート性能
が長期間維持でき好ましい。また、励起光吸収層は複数
箇所設けてもよいし、積層する為の接着剤層に色剤を含
有して、励起光吸収層としても良い。

【００７０】保護フィルムは、輝尽性蛍光体層に接着層
を介して密着していても良いが、蛍光体面を被覆するよ
うに設けられた構造（以下、封止または封止構造ともい
う）であることがより好ましい。蛍光体プレートを封止
するにあたっては、公知のいずれの方法でもよいが、防
湿性保護フィルムの蛍光体シートに接する側の最外層樹
脂層を熱融着性を有する樹脂フィルムとすることは、防
湿性保護フィルムが融着可能となり蛍光体シートの封止
作業が効率化される点で、好ましい形態の１つである。
さらには、蛍光体シートの上下に防湿性保護フィルムを
配置し、その周縁が前記蛍光体シートの周縁より外側に
ある領域で、上下の防湿性保護フィルムをインパルスシ
ーラー等で加熱、融着して封止構造とすることで、蛍光
体シートの外周部からの水分進入も阻止でき好ましい。
また、さらには、支持体面側の防湿性保護フィルムが１
層以上のアルミフィルムをラミネートしてなる積層防湿
フィルムとすることで、より確実に水分の進入を低減で
き、またこの封止方法は作業的にも容易であり好まし
い。上記インパルスシーラーで加熱融着する方法におい
ては、減圧環境下で加熱融着することが、蛍光体シート
の防湿性保護フィルム内での位置ずれ防止や大気中の湿
気を排除する意味でより好ましい。

【００７１】防湿性保護フィルムの蛍光体面が接する側
の熱融着性を有する最外層の樹脂層と蛍光体面は、接着
していても接着していなくてもかまわない。ここでいう
接着していない状態とは、微視的には蛍光体面と防湿性
保護フィルムとが点接触していても、光学的、力学的に
は殆ど蛍光体面と防湿性保護フィルムは不連続体として
扱える状態のことである。また、上記の熱融着性を有す
る樹脂フィルムとは、一般に使用されるインパルスシー
ラーで融着可能な樹脂フィルムのことで、例えば、エチ
レン酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）やポリプロピレン
（ＰＰ）フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）フィルム等を
挙げることができるが、本発明はこれに限定されるもの
ではない。

【００７２】支持体上に輝尽性蛍光体層が塗設された蛍
光体シートは、所定の大きさに断裁される。断裁にあた
っては、一般のどのような方法でも可能であるが、作業
性、精度の面から化粧断裁機、打ち抜き機等が望まし
い。

【００７３】

【実施例】以下、実施例を挙げて具体的に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されない。

【００７４】《放射線画像変換パネルの作製》 （輝尽性蛍光体の調製）ユーロピウム付活弗化ヨウ化バ
リウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、ＢａＩ
₂水溶液（３．６ｍｏｌ／Ｌ）２７８０ｍｌとＥｕＩ₃水
溶液（０．１５ｍｏｌ／Ｌ）２７ｍｌを反応器に入れ
た。この反応器中の反応母液を撹拌しながら８３℃で保
温した。次いで、弗化アンモニウム水溶液（８ｍｏｌ／
Ｌ）３２２ｍｌを反応母液中にローラーポンプを用いて
注入し、沈澱物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌
を２時間続けて沈澱物の熟成を行なった。次に、沈澱物
をろ別後、エタノールにより洗浄した後、真空乾燥させ
てユーロピウム付活弗化ヨウ化バリウムの結晶を得た。
焼成時の焼結により粒子形状の変化、粒子間融着による
粒子サイズ分布の変化を防止するために、アルミナの超
微粒子粉体を０．２質量％添加し、ミキサーで充分撹拌
して結晶表面にアルミナの超微粒子粉体を均一に付着さ
せた。これを石英ボートに充填して、チューブ炉を用い
て水素ガス雰囲気下で、８５０℃で２時間焼成してユー
ロピウム付活弗化ヨウ化バリウム蛍光体粒子を得た。次
に上記蛍光体粒子を分級して平均粒径４μｍの蛍光体を
調製した。

【００７５】（蛍光体層塗布液の調製）上記調製したユ
ーロピウム付活弗化ヨウ化バリウム蛍光体４２７ｇと、
Ｔｇが３０℃のポリエステル樹脂（高分子樹脂Ｂと称
す）１５．８ｇとをメチルエチルケトン：トルエンの
１：１混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分
散して、粘度２５〜３０ｍＰａ・ｓの蛍光体層塗布液１
を調製した。

【００７６】次いで、上記高分子樹脂Ｂに代えて、高分
子樹脂Ｃ（ポリエステル樹脂 Ｔｇ：０℃）、高分子樹
脂Ａ（ポリエステル樹脂 Ｔｇ：５０℃）、高分子樹脂
Ｄ（ポリエステル樹脂 Ｔｇ：−２０℃）を用いた以外
は同様にして、蛍光体層塗布液２〜４を調製した。

【００７７】（下引き層塗布液の調製）前記高分子樹脂
Ａを１００質量部と架橋剤としてコロネートＨＸ（日本
ポリウレタン社製）３質量部とを混合し、この混合物に
メチルエチルケトン：トルエンの１：１混合溶媒に添加
し、プロペラミキサーによって分散して、粘度５００ｍ
Ｐａ・ｓの下引き層塗布液１を調製した。

【００７８】次いで、表１に記載のように、高分子樹脂
の種類及び架橋剤の添加比率を変更した以外は同様にし
て、下引き層塗布液２〜６を調製した。なお、表１中に
記載の高分子樹脂Ｅは、Ｔｇが５℃のポリウレタン樹脂
である。

【００７９】（蛍光体シート１の作製） 〈下引き層の塗布〉厚さ２５０μｍのカーボン錬り込み
をした黒色ポリエチレンテレフタレート支持体上に、上
記調製した下引き層塗布液１を、乾燥膜厚が３０μｍと
なるようナイフコーターを用いて塗布した後、乾燥して
下引き層塗設済試料１を作製した。

【００８０】〈加熱処理〉上記作製した下引き層塗設済
試料１を、６０℃で１０時間加熱処理を行った。

【００８１】〈蛍光体層の塗布〉上記加熱処理済み試料
１の下引き層上に、前記調製した蛍光体層塗布液１を乾
燥膜厚が２５０μｍになるように塗布を行い、蛍光体シ
ート１を作製した。

【００８２】（蛍光体シート２〜２３の作製）次いで、
上記蛍光体シート１の作製において、下引き層塗布液の
種類、加熱処理条件（温度、時間）、下引き層膜厚及び
蛍光体層塗布液の種類を表１に記載の様に変更した以外
は同様にして、本発明に係る蛍光体シート２〜１７及び
比較例の蛍光体シート１８〜２３を作製した。

【００８３】なお、蛍光体シート１４は、加熱処理時に
単一シートではなく６０ｃｍ×６０ｃｍの下引き層塗布
済み試料を１０枚積層し、離型剤を塗布した厚さ１５μ
ｍのポリエチレンテレフタレートのシートをそれぞれの
試料間挿入し、それらをラミネーターで貼り合わせた後
に加熱処理を行った。また、蛍光体シート２３は、上記
蛍光体シート１４において、１５μｍのポリエチレンテ
レフタレートのシートを用いずに、直接試料同士を積層
して加熱処理を行った。なお、蛍光体シート２３は、加
熱処理後に各試料を隔離した際、ブロッキングが多発
し、それ以降の試料作製を行うことができなかった。

【００８４】

【表１】

【００８５】《防湿性保護フィルムの作製》上記作製し
た蛍光体シート１〜２２の蛍光体層塗設面側の保護フィ
ルムとして下記構成（Ａ）のものを使用した。

【００８６】構成（Ａ） ＶＭＰＥＴ１２／／ＶＭＰＥＴ１２／／ＰＥＴ１２／／
シーラントフィルム ＰＥＴ：ポリエチレンテレフタレート シーラントフィルム：熱融着性フィルムでＣＰＰ（キャ
ステングポリプロピレン）またはＬＬＤＰＥ（低密度線
状ポリエチレン）を使用 ＶＭＰＥＴ：アルミナ蒸着ＰＥＴ（市販品：東洋メタラ
イジング社製） 各樹脂フィルムの後ろに記載の数字は、フィルムの膜厚
（μｍ）を示す。

【００８７】上記「／／」はドライラミネーション接着
層で、接着剤層の厚みが２．５μｍであることを意味す
る。使用したドライラミネーション用の接着剤は、２液
反応型のウレタン系接着剤を用いた。この時、使用した
接着剤溶液に、あらかじめメチルエチルケトンに分散溶
解させた有機系青色着色剤（ザボンファーストブルー３
Ｇ、ヘキスト社製）を添加しておくことで、接着剤層の
全てを励起光吸収層とした。またこのときの添加量を調
節することで励起光吸収層の光透過率を調節した。

【００８８】蛍光体シートの支持体裏面側の保護フィル
ムは、シーラントフィルム／アルミ箔フィルム９μｍ／
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）１８８μｍの構
成のドライラミネートフィルムとした。また、この場合
の接着剤層の厚みは１．５μｍで２液反応型のウレタン
系接着剤を使用した。

【００８９】《放射線画像変換パネルの作製》前記作製
した蛍光体シート１〜２２を、各々一辺が４５ｃｍの正
方形に断裁した後、上記作製した防湿性保護フィルムを
用いて、減圧下で周縁部をインパルスシーラを用いて融
着、封止して、放射線画像変換パネル１〜２２を作製し
た。図１に本発明の放射線画像変換パネルの断面図の一
例を示す。尚、融着部から蛍光体シート周縁部までの距
離は１ｍｍとなるように融着した。融着に使用したイン
パルスシーラーのヒーターは８ｍｍ幅のものを使用し
た。

【００９０】《放射線画像変換パネルの評価》以上のよ
うにして作製した各蛍光体シ−ト及び各放射線画像変換
パネルを用いて、以下に示す方法に従って、接着力及び
画像均一性の評価を行った。

【００９１】（接着力の評価）上記作製した各蛍光体シ
ートを写真用クロスカッター（コニカ社製）を用いて、
蛍光体層塗設面を上にして、１ｍｍ角の試料に断裁し、
計１００個の評価サンプルを作製した。次いで各サンプ
ルの支持体と塗設層との剥がれの発生の有無を目視で観
察し、以下に示す基準に則り接着力の評価を行った。

【００９２】 ◎：膜剥がれが発生していることが確認されたサンプル
が、５個未満である ○：膜剥がれが発生していることが確認されたサンプル
が、５個以上２０個未満である △：膜剥がれが発生していることが確認されたサンプル
が、２０個以上５０個未満である ×：膜剥がれが発生していることが確認されたサンプル
が、５０個以上である （画像均一性の評価）放射線画像変換パネルに、管電圧
８０ｋＶｐのＸ線を照射した後、パネルをＨｅ−Ｎｅレ
ーザー光（６３３ｎｍ）で操作して励起し、蛍光体層か
ら放射される輝尽発光を上記記載の受光器で受光して電
気信号に変換し、これを画像再生装置によって画像とし
て再生し、出力装置より２倍に拡大してプリントアウト
し、得られたプリント画像を、目視にて以下に示す基準
に則り画像均一性の評価を行った。

【００９３】 ◎：画像ムラが全く認められない ○：画像ムラが僅かに認められるが、殆ど気にならない
程度である △：画像ムラが確認されるが、実用上許容できるレベル ×：全面に亘り、画像ムラの発生が認められ、実用上問
題が発生するレベル 以上により得られた接着力、画像均一性の評価結果を、
同じく表１に示す。

【００９４】表１より明らかなように、本発明に係る構
成からなる蛍光体シートを用いた本発明の放射線画像変
換パネルは、比較例に対して、蛍光体シートの接着力が
強く、かつ得られた画像の均一性に優れていることが判
る。

【００９５】

【発明の効果】本発明により、接着力及び画像均一性に
優れた放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供す
ることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の放射線画像変換パネルの断面図であ
る。

【符号の説明】

１１ 蛍光体 １２ 支持体 １３ 積層保護フィルム １４ アルミラミネートフィルム

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、高分子樹脂と架橋剤を含有
   する下引き層と高分子樹脂中に分散された輝尽性蛍光体
   を含有する輝尽性蛍光体層をこの順に積層してなる放射
   線画像変換パネルにおいて、該下引き層を形成した後、
   ４０〜１５０℃で２〜１００時間の熱処理を施し、次い
   で該下引き層上に輝尽性蛍光体層を形成することを特徴
   とする放射線画像変換パネル。
2. 【請求項２】 前記輝尽性蛍光体層が含有する高分子樹
   脂の平均ガラス転移点温度（Ｔｇ）が２５℃未満で、か
   つ前記下引き層が含有する高分子樹脂の平均ガラス転移
   点温度（Ｔｇ）が２５℃以上であることを特徴とする請
   求項１に記載の放射線画像変換パネル。
3. 【請求項３】 前記下引き層上に保護シートを積層した
   後、４０〜１５０℃で２〜１００時間の熱処理を施し、
   次いで該保護シートを剥離した後、輝尽性蛍光体層を形
   成することを特徴とする請求項１または２に記載の放射
   線画像変換パネル。
4. 【請求項４】 前記下引き層の膜厚が５〜４０μｍであ
   ることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載
   の放射線画像変換パネル。
5. 【請求項５】 前記架橋剤が多官能イソシアネート化合
   物であり、かつ下引き層中の高分子樹脂に対し１５〜５
   ０質量％含有していることを特徴とする請求項１〜４の
   いずれか１項に記載の放射線画像変換パネル。
6. 【請求項６】 前記輝尽性蛍光体がＥｕ付加ＢａＦＩ化
   合物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１
   項に記載の放射線画像変換パネル。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれか１項に記載の放
   射線画像変換パネルを製造することを特徴とする放射線
   画像変換パネルの製造方法。