JP2002076089A - 被処理体の処理システム - Google Patents

被処理体の処理システム

Info

Publication number
JP2002076089A
JP2002076089A JP2000253201A JP2000253201A JP2002076089A JP 2002076089 A JP2002076089 A JP 2002076089A JP 2000253201 A JP2000253201 A JP 2000253201A JP 2000253201 A JP2000253201 A JP 2000253201A JP 2002076089 A JP2002076089 A JP 2002076089A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
opening
box
storage box
processed
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000253201A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3941359B2 (ja
Inventor
Kazunari Sakata
一成 坂田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2000253201A priority Critical patent/JP3941359B2/ja
Priority to TW090120653A priority patent/TW522482B/zh
Priority to KR1020010050801A priority patent/KR100745867B1/ko
Priority to EP08161737A priority patent/EP1986216B1/en
Priority to US09/934,756 priority patent/US7059849B2/en
Priority to EP01203171A priority patent/EP1182693A3/en
Priority to EP06076596A priority patent/EP1734564B1/en
Publication of JP2002076089A publication Critical patent/JP2002076089A/ja
Priority to US10/939,432 priority patent/US7210924B2/en
Priority to US11/705,443 priority patent/US7819658B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3941359B2 publication Critical patent/JP3941359B2/ja
Priority to US12/849,317 priority patent/US8147241B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 収容ボックス搬送エリアと被処理体搬送エリ
ア(ウエハ搬送エリア)との間を区画する区画壁の開口
を介して被処理体を搬入して所定の処理を行なうに際し
て、この開口の近傍の各種機構の構造を簡単化し、且つ
省スペース化に寄与する。 【解決手段】 収容ボックス搬送エリア44内に、次に
被処理体搬送エリア46内へ搬入されるべき被処理体W
を収容した被処理体収容ボックス2を、開口28の近傍
で保持して待機させる待機用ボックス搬送手段60を設
ける。これにより、収容ボックス搬送エリア44と被処
理体搬送エリア46(ウエハ搬送エリア)との間を区画
する区画壁26の開口28を介して被処理体Wを搬入し
て所定の処理を行なうに際して、この開口28の近傍の
各種機構の構造を簡単化し、且つ省スペース化に寄与す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
被処理体を気密状態で収容する被処理体収容ボックスを
利用する被処理体の処理システムに関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ICやLSI等の半導体集積回
路を製造するためには、半導体ウエハに対して各種の成
膜処理、酸化拡散処理、エッチング処理等を繰り返し行
なうが、各処理を行なうにあたって、半導体ウエハを対
応する装置間で搬送する必要がある。この場合、周知の
ように歩留り向上の上から半導体ウエハの表面にはパー
ティクルや自然酸化膜を付着形成することを避ける必要
があるので、高集積化及び高微細化の要請が大きくなる
に従って、ウエハの搬送には内部が密閉された被処理体
収容ボックスが用いられる傾向にある。図5及び図6に
示すように、この被処理体収容ボックス2は、一側が開
口部4として形成されて、他側が略半円状になされたボ
ックス容器6を有しており、このボックス容器6の内壁
面に多段に支持突起8を設けて、これに半導体ウエハW
の周縁部を載置して支持することにより、略等ピッチで
多段に半導体ウエハWを収容できるようになっている。
そして、このボックス容器6の天井部には、この全体を
把持する時に掴む把持取手24が設けられる。通常は、
1つのボックス2内に25枚或いは13枚程度のウエハ
を収容できる。
【0003】このボックス容器6の開口部4には、四角
形の中空板状の開閉蓋10が着脱可能に取り付けられ、
ボックス容器6内をある程度の気密状態として内部はN
2 ガス等の不活性ガス雰囲気になされており、収容され
たウエハWが外気にできるだけ触れないようにしてい
る。この開閉蓋10には、2つのロック機構12が設け
られており、このロック機構12を解除することによ
り、開閉蓋10を開口部4から離脱し得るようになって
いる。具体的には、このロック機構12は、図7にも示
すように開閉蓋10の高さ方向の略中央に、回転可能に
取り付けられた円板状のロック板14を有しており、こ
のロック板14には、細長い凹部状のカギ溝16が形成
されている。このロック板14には、円弧運動を直線運
動に変換するクランク機構のようにアーム18に接続さ
れた出没ピン20が上下方向にそれぞれ一対設けられて
おり、このロック板14を正逆90度回転させることに
より、上下の出没ピン20をそれぞれ上下方向へ出没さ
せるようになっている。
【0004】この出没ピン20の先端は、ロック時には
図6に示すように上記開口部4を区画する上縁部及び下
縁部のピン穴22(図6では下縁部のみ示す)に挿入さ
れて係合し、開閉蓋10が開口部4から外れないように
なっている。従って、上記カギ溝16に図示しないカギ
部材を嵌合させ、図7(A)に示すロック状態からこれ
を90度回転させることにより、図7(B)に示すよう
に出没ピン20を距離ΔLだけ後退させてこれをピン穴
22(図6参照)から抜き、アンロック状態とするよう
になっている。
【0005】上記したような収容ボックス2は、一般的
には、収容ボックスの自動搬送機構やこれを一時的にス
トックするストック領域や半導体ウエハに実際に所定の
処理を施す処理ユニット等を備えた処理システム内で自
動的に搬送され、また、カギ部材26もこれを有する自
動機器によって操作されて、上述のような手順で収容ボ
ックス2の開閉蓋10を自動的に脱着するようになって
いる。例えばこのような処理システムは、特開平4−1
80213号公報、特開平8−279546号公報、特
開平11−274267号公報、或いは本出願人の先の
出願(特願平11−201000号)等に開示されてお
り、システム内部にN2 ガス等の不活性ガスや清浄度の
高い清浄空気が供給されている。
【0006】具体的には、上記処理システム内は、上記
収容ボックスを搬入して一時的にストックする収容ボッ
クス搬送エリアと、この収容ボックスを開放してこれよ
り取り出した半導体ウエハをウエハボート等に移載して
実際に処理を行なうウエハ搬送エリアとにより気密に区
画されており、収容ボックス搬送エリア内は、清浄空気
により満たされ、ウエハ搬送エリア内は、自然酸化膜の
発生防止のためにN2ガス等の不活性ガス雰囲気に満た
されている。そして、両エリアを区画する区画壁には、
開閉可能になされた開閉ドアを備えてこれには1つ或い
は2つの開口部が設けられ、この開口部に上記収容ボッ
クスを密接するようにセットし、そして、ウエハ搬送エ
リア側から上記収容ボックス開閉蓋及び上記開閉ドアを
取り外して退避させ、この状態で半導体ウエハをウエハ
搬送エリア内に取り込むようになっている。
【0007】この時の状態を図8及び図9を参照して説
明する。図8に示す従来の装置例の場合には、区画壁2
6の開口28の収容ボックス搬送エリア側に上下2段で
一体的に上下移動する載置台30A、30Bを設置し、
これに被処理体収容ボックス2を載置してこれを固定す
るようになっている。そして、ウエハ搬送エリア内側
に、上記開閉蓋10と開口28を開閉する開閉ドア32
とを取り外すための開閉機構34を一台設け、上記開閉
蓋10と開閉ドア32とを略同時に取り外してこれを保
持したまま上方、或いは下方へ退避させるようになって
いる。この開閉機構34には、図6に示すカギ溝に挿入
されてこれを回転することにより、ロック及び解除を行
なう図示しないカギ部が設けられている。そして、一方
の収容ボックス内のウエハの搬出が終了したならば、上
記開閉蓋10と開閉ドア32を再装着した後に、上記両
載置台30A、30Bを一体的に、例えば図示例では上
方へスライド移動させ、新しくこの開口28に臨むこと
になった収容ボックス2から、前述したと同様な方法で
ウエハを搬出する。尚、このように、2つの収容ボック
ス2をセットしている理由は、ウエハの搬出入効率を向
上させるためである。
【0008】一方、図9に示す従来の装置例にあって
は、区画壁26に例えば上下方向に2つの開口28A、
28Bを設け、これらにそれぞれ開閉可能になされた開
閉ドア32A、32Bを取り付けている。また、上記各
開口28A、28Bの収容ボックス搬送エリア内側に
は、それぞれ1つずつ載置台30A、30Bを固定的に
取り付けている。そして、この開口28A、28Bのウ
エハ搬送エリア内側にはそれぞれの開口28A、28B
に対応させて1つずつ計2台の開閉機構34A、34B
を設けており、前述と同様に各開口28A、28Bにセ
ットされた収容ボックスに対して、上述したと同様に対
応する開閉機構34A、34Bを用いて開閉蓋10と開
閉ドア32A或いは32Bを取り外すようになってい
る。尚、これらの開閉機構に関しては、前述した先行技
術である特開平11−274267号公報等に開示され
ている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した各
従来の装置例にあっては、1つ或いは2つ設けた開口の
近傍に2つの収容ボックスをセットすることができるの
で、ウエハをウエハ搬送エリア内側に取り込んでウエハ
ボートへ移載する移載効率を大幅に向上することができ
る。しかしながら、図8に示す従来の装置例の場合に
は、2台の載置台30A、30Bを設けて、これを上下
方向へスライド移動させるようになっていることから、
この部分に収容ボックス3台分の大きなスペースを確保
する必要があり、省スペース化に逆行する、といった問
題があった。また図9に示す従来の装置例の場合には、
収容ボックスのスペースは2台分で済むが、この場合に
は構造が複雑で比較的高価な開閉機構34A、34Bを
2台設ける必要があることから高コストになる、といっ
た問題もあった。
【0010】特に、図9に示す開閉機構34A、34B
の場合には、両開閉機構の互いの干渉を避けるために構
造上の複雑な工夫もしなければならず、このため一層の
コスト高を招来する原因となっていた。本発明は、以上
のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案
されたものである。本発明の目的は、収容ボックス搬送
エリアと被処理体搬送エリア(ウエハ搬送エリア)との
間を区画する区画壁の開口を介して被処理体を搬入して
所定の処理を行なうに際して、この開口の近傍の各種機
構の構造を簡単化し、且つ省スペース化に寄与すること
が可能な被処理体の処理システムを提供することにあ
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
開閉蓋により密閉状態になされた被処理体収容ボックス
内に収容された被処理体を、この被処理体収容ボックス
を搬送する収容ボックス搬送エリアと不活性ガス雰囲気
の被処理体搬送エリアとの間を仕切る区画壁に形成した
開口を介して前記被処理体搬送エリア内に搬入して所定
の処理を施すようにした被処理体の処理システムにおい
て、前記収容ボックス搬送エリア内に、次に前記被処理
体搬送エリア内へ搬入されるべき被処理体を収容した被
処理体収容ボックスを、前記開口の近傍で保持して待機
させる待機用ボックス搬送手段を設けるように構成した
ものである。
【0012】これにより、1つの被処理体収容ボックス
からこの中の被処理体を、区画壁の開口を介して被処理
体搬送エリア内へ搬入している際には、待機用ボックス
搬送手段を用いてこの開口(載置台)の近傍にて次の被
処理体収容ボックスを待機させており、そして、先の被
処理体収容ボックス内の被処理体の搬出が終了した時に
は、この待機中の被処理体収容ボックスを直ちに上記開
口にセットしてこれより被処理体を搬出させることが出
来るので、構造をそれ程複雑化させることなく、しかも
省スペースの状態で、被処理体搬送エリアへの被処理体
の搬入、移載を迅速的に、且つ効率的に行なうことが可
能となる。
【0013】この場合、例えば請求項2に規定するよう
に、前記収容ボックス搬送エリア内には、前記被処理体
収容ボックスを一時的に貯留するストッカ部と、前記ス
トッカ部の前記被処理体収容ボックスを前記開口に設け
た載置台に移載するボックス搬送アームとが設けられて
いる。また、請求項3に規定するように、前記開口には
開閉ドアが設けられると共に前記被処理体搬送エリア内
には、前記開閉ドアと前記開閉蓋とを取り外して退避さ
せるための開閉機構が設けられている。
【0014】
【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る被処理体の
処理システムの一実施例を添付図面に基づいて詳述す
る。図1は本発明の被処理体の処理システムを示す概略
構成図、図2は図1に示す待機用ボックス搬送手段の拡
大平面図、図3は待機用ボックス搬送手段の上面図、図
4は待機用ボックス搬送手段の動作を説明するための動
作説明図である。尚、先に説明した従来装置と同一構成
部分については同一符号を付して説明する。
【0015】まず、図1に示すように、この被処理体の
処理システム40は、全体が例えばステンレス等よりな
る筐体42に囲まれており、この内部は被処理体収容ボ
ックス2(以下、収容ボックスとも称す)を搬送するた
めの収容ボックス搬送エリア44と被処理体である半導
体ウエハWを搬送する被処理体搬送エリアとしてのウエ
ハ搬送エリア46とに区画壁26により2分されてい
る。上記ボックス搬送エリア44内には清浄空気が流さ
れ、上記ウエハ搬送エリア46内にはN2 ガス等の不活
性ガス雰囲気になされている。この処理システム40
は、主に収容ボックス2をシステム40内に対して搬入
搬出させるための搬出入ポート48と、この収容ボック
ス2を一時的に貯留するためのストッカ部50と、この
収容ボックス2と被処理体ボート52との間で半導体ウ
エハWを移載する移載ステージ54と、被処理体ボート
52に移載されて保持されている半導体ウエハWに対し
て所定の処理を施す処理ユニット56と、上記搬出入ポ
ート48の近傍に設けられた蓋開閉機構58と、上記移
載ステージ54のウエハ搬送エリア46内側に設けた開
閉機構34と、上記移載ステージ54の収容ボックス搬
送エリア44内側に設けた本発明の特徴とする待機用ボ
ックス搬送手段60とにより主に構成される。
【0016】上記搬出入ポート48において、筐体42
には常時開放されているボックス搬出入口62が形成さ
れている。このボックス搬出入口62の外側には、外部
より搬送してきた収容ボックス2を載置するための外側
載置台64が設けられると共に、このボックス搬出入口
62の内側には、上記外側載置台64よりスライド移動
されてくる収容ボックス2をその上に載置するための内
側載置台66が設置されている。上記外側、或いは内側
載置台64、66の上部には、両載置台64、66間を
スライド移動可能になされたスライド板68が設けられ
ており、この上に収容ボックス2を載せた状態で移動で
きるようになっている。また、このボックス搬出入口6
2の内側の直下であって内側の載置台66との間には、
上記収容ボックス2の開閉蓋10を一時的に開閉するた
めに上下方向へ昇降(出没)可能になされた蓋開閉機構
58が設けられている。ここで収容ボックス2の開閉蓋
10を一時的に取る理由は、収容ボックス2内のウエハ
の枚数や載置位置やウエハの状態等のウエハ情報を図示
しないセンサにより検出するためである。
【0017】上記蓋開閉機構58は、水平方向へ出没自
在になされ、且つ正逆方向へ回動可能になされた一対の
カギ部70(図1では1つのみ記す)が取り付けられて
おり、このカギ部70を、図5〜図7に示すカギ溝16
に挿入した状態でこれを正逆回転させることにより、ロ
ック機構12のロックと解除を行なってこれを保持し得
るようになっている。
【0018】一方、収納ボックス搬送エリア44内の上
方には、上記ストッカ部50が位置されている。このス
トッカ部50は、図示例においては2列2段に上記収容
ボックス2を一時的に載置して保管する棚段70が並設
されている。尚、この棚段70の数量は特に限定され
ず、実際には更に多く設けられる。上記2つの棚段70
間には、昇降エレベータ72が起立させて設けられてお
り、この昇降エレベータ72には、水平方向に延びて旋
回及び屈伸可能になされたボックス搬送アーム74が設
けられている。従って、このボックス搬送アーム74を
屈伸及び昇降させることにより、収容ボックス2をボッ
クス搬送アーム74で保持し、搬出入ポート48とスッ
トカ部50との間で搬送できるようになっている。
【0019】また、上記移載ステージ54において、両
エリア44、46間を区画する区画壁26には、収容ボ
ックス2の開口部4(図6参照)と略同じ大きさになさ
れた1つの開口28が形成されると共に、この開口28
の収容ボックス搬送エリア44側には、1つの載置台3
0が水平に設けられており、この上に収容ボックス2を
載置できるようになっている。また、この載置台30の
一側には、この上に載置された収容ボックス2を区画壁
26側へ押圧付勢するための水平アクチュエータ76が
設けられており、上記収容ボックス2の開閉蓋10を、
上記開口28に臨ませた状態でボックス容器6の開口部
4の開口縁が区画壁26の開口28の開口縁に略気密に
接触されることになる。また、この開口28には、これ
を開閉する開閉ドア32が設けられている。そして、収
容ボックス搬送エリア44内において、この開口28の
近傍に収容ボックス2を待機させるための上記待機用ボ
ックス搬送手段60が設置されている。この搬送手段6
0の構成については後述する。
【0020】そして、この開口28のウエハ搬送エリア
46内側の直下には、収容ボックス2の開閉蓋10と開
閉ドア32とを開閉するための開閉機構34が設置され
ている。この開閉機構34としては、例えば前述した特
開平8−279546号公報に開示した開閉機構や、特
開平11−274267号公報に開示した開閉機構等を
用いることができる。このウエハ搬送エリア46内に
は、ウエハボートの如き被処理体ボート52を載置する
2つのボート載置台78(図1では1つのみ記す)が設
けられている。このボート載置台78と上記移載ステー
ジ54との間には、旋回及び屈伸可能になされたウエハ
搬送アーム80が設けられており、このウエハ搬送アー
ム80は昇降エレベータ82により上下動可能になされ
ている。従って、このウエハ搬送アーム80を屈伸、旋
回及び昇降駆動することにより、載置台30上の収容ボ
ックス2とボート載置台78上の被処理体ボート52と
の間でウエハWの移載を行なうことができるようになっ
ている。
【0021】この被処理体ボート52は、例えば石英よ
りなり、例えば50〜150枚程度のウエハWを所定の
ピッチで多段に支持できるようになっている。また、こ
のウエハ搬送エリア46の一側の上方には、石英製の円
筒体状の処理容器84を有する縦型熱処理炉よりなる処
理ユニット56が配置されており、一度に多数枚のウエ
ハWに対して成膜や酸化拡散等の所定の熱処理を施すよ
うになっている。この処理容器84の下方には、昇降エ
レベータ86により昇降可能になされたキャップ88が
配置されており、このキャップ88上に被処理体ボート
52を載置してこれを上昇させることにより、このボー
ト52を処理容器84の下端開口部よりこの処理容器8
4内へロードできるようになっている。この時、処理容
器84の下端開口部は上記キャップ88により気密に閉
じられるようになっている。そして、降下されたキャッ
プ88と上記ボート載置台78との間には、屈伸及び旋
回可能になされたボート搬送アーム90が設けられてお
り、ボート載置台78とキャップ88との間で被処理体
ボート52の移載ができるようになされている。
【0022】また、上記処理ユニット56の上方の筐体
天井部には、例えばパンチングメタルのような通気孔を
有する天井通気板92が設けられており、外部の清浄空
気を内部に取り込むようになっている。そして、上記移
動ステージ54の上方であって上記ストッカ部50の背
面側には、通気孔を有する通気区画壁94が設けられて
いる。そして、この通気区画壁94の処理ユニット56
側には、例えばHEPAフィルタ等よりなるフィルタ部
材96と送風ファン98とが設けられており、例えば外
部より取り込んだ清浄空気(気体)をこのフィルタ部材
96に通すことによって、更に高い清浄度の清浄気体と
して収容ボックス搬送エリア44側へ導入するようにな
っている。
【0023】そして、本発明の特徴とする待機用ボック
ス搬送手段60は、図2及び図3にも示すように、筐体
42の側壁42Aに高さ方向に沿って平行に設けた2本
の案内レール100に嵌装された昇降台102を有して
おり、この昇降台102は、これを貫通するようにして
螺合された例えば駆動ボールネジ104よりなる昇降手
段により必要とする所定量のストロークだけ上下動可能
になされている。尚、このボールネジ104は、図示し
ない駆動モータにより正逆回転可能になっている。そし
て、この昇降台102には、水平方向に延在させて、屈
曲及び旋回可能になされたアーム部106が設けられて
いる。このアーム部106は、その基端部が上記昇降台
102側に旋回可能に取り付けた第1アーム106A
と、この第1アーム106Aの先端部に旋回可能に取り
付けた第2アーム106Bとよりなり、第2アーム10
6Bは、第1アーム106Aの旋回角にかかわらず、常
時同一方向を向くように設定されている。そして、この
第2アーム106Bの先端には、ボックス把持部108
が設けられており、このボックス把持部108の下部に
は、互いに接近したり、或いは遠去かりが可能なように
水平方向へスライド可能になされた一対の爪部110が
設けられている。そして、この爪部110により収容ボ
ックス2の上部の把持取手24を掴んで搬送できるよう
になっている。尚、この待機用ボックス搬送手段60は
上述のように収容ボックス2を掴んで搬送できる構造な
らば、上記構成に限定されない。
【0024】次に、以上のように構成された処理システ
ム40の動作について説明する。まず、ウエハ搬送エリ
ア46内は、ウエハ表面への自然酸化膜の付着を防止す
るために不活性ガス、例えばN2 ガス雰囲気になされ、
また、収容ボックス搬送エリア44内は、清浄空気の雰
囲気に維持されている。具体的には、この清浄空気は、
筐体42の天井通気板92から取り込まれ、この気体は
フィルタ部材96と通気区画壁94を通ってボックス搬
送エリア44内に入り、このエリア44内を循環した
後、この底部より排出されている。
【0025】最初に、半導体ウエハWの全体的な流れに
ついて説明すると、外部より搬送されてきた収容ボック
ス2は、その開閉蓋10をボックス搬出入口62側に向
けて外側載置台64上に載置される。そして、蓋開閉機
構58を駆動することにより、上記収容ボックス2の開
閉蓋10を一時的に取り外し、そして、図示しないセン
サを用いて収容ボックス2内に収容されているウエハの
枚数や収容位置等を検出する。そして、この検出が終了
したならば、再度、この蓋開閉機構58を駆動して、先
程取り外した開閉蓋10を再度、収容ボックス側へ装着
する。
【0026】次に、収容ボックス2が載置されている外
側載置台64上のスライド板68を前進させることによ
って、これを内側載置台66上に移送する。次に、ボッ
クス搬送アーム74を駆動することにより、内側載置台
66上に設置されている収容ボックス2を取りに行って
これを保持し、更に昇降エレベータ72を駆動すること
によって、この収容ボックス2をストッカ部50の棚段
70の所定の位置まで搬送して設置し、これを一時的に
保管する。これと同時に、すでに棚段70に一時貯留さ
れており、処理対象となったウエハを収容する収容ボッ
クス2をこのボックス搬送アーム74により取りに行
き、上述のように昇降エレベータ72を駆動してこれを
降下させる。そして、移載ステージ54の載置台30が
空の場合には、この収容ボックス2を移載ステージ54
の載置台30上に移載する。これに対して、載置台30
上に別の収容ボックス2がすでにセットされている場合
には、ボックス搬送アーム74上の収容ボックス2を本
発明の特徴とする待機用ボックス搬送手段60で把持
し、これを開口28の近傍まで搬送して待機させる。そ
して、載置台30上の収容ボックス2の開閉蓋10は、
区画壁26に設けた開閉ドア32側に向けられており、
しかも、載置台30の一側に設けた水平アクチュエータ
76により、収容ボックス2は押圧付勢されて載置台3
0上にて固定されている。
【0027】この状態で、開閉機構34を駆動すること
により、開口28の開閉ドア32と収容ボックス2の開
閉蓋10とを取り外し、これらを上方、或いは下方へ退
避させる。ここで、収容ボックス2の開口部の周縁部
は、区画壁26に押圧されて密接状態となっているの
で、開口28を介して両エリア44、46間で気体が流
通することはない。そして、ウエハ搬送アーム80及び
昇降エレベータ82を駆動することにより、収容ボック
ス2内に収容されていたウエハWを一枚ずつ取り出し、
これをボート載置台78上に設置されている被処理体ボ
ート52に移載する。被処理体ボート52へのウエハW
の移載が完了したならば、次に、ボート搬送アーム90
を駆動して、ボート載置台78上の被処理体ボート52
を最下端へ降下されているキャップ88上に載置する。
そして、この被処理体ボート52の移載が完了したなら
ば、昇降エレベータ86を駆動させて、被処理体ボート
52の載置されたキャップ88を上昇させ、このボート
52を処理ユニット56の処理容器84の下端開口部よ
り処理容器84内へ導入してロードする。そして、この
キャップ88によって処理容器84の下端開口部を密閉
し、この状態で処理ユニット56内でウエハWに対して
所定の熱処理、例えば成膜処理や酸化拡散処理等を行な
う。
【0028】このようにして、所定の熱処理が終了した
ならば、前述したと逆の操作を行なって、処理済みのウ
エハWを取り出す。すなわち、被処理体ボート52を処
理容器84内から降下させてアンロードし、更に、これ
をボート載置台78上に移載する。そして、ウエハ搬送
アーム80を用いて処理済みのウエハWをボート52か
ら載置台30上の収容ボックス2内に移載する。この収
容ボックス2内への処理済みウエハWの移載が完了した
ならば、開閉機構34を駆動して、これに保持していた
開閉蓋10を収容ボックス2側へ、また開閉ドア32を
開口28へ、それぞれ装着する。
【0029】次に、ボックス搬送アーム74を駆動し、
この収容ボックス2を一時的にストッカ部50へ貯留
し、或いは貯留することなくボックス搬出入口62を介
して処理システム40外へ搬送することになる。このボ
ックス搬送アーム74が処理済みのウエハを収容した収
容ボックス2を搬送している間、すでに空の収容ボック
スを把持して待機していた待機用ボックス搬送手段60
は、この空の収容ボックスを載置台30上にセットし、
処理済みのウエハの収容ボックス内への収容が開始され
ることになる。以下、同様な操作が繰り返される。尚、
上記した収容ボックス2の流れは単に一例を示したに過
ぎず、これに限定されないのは勿論である。
【0030】次に、図4も参照して上記待機用ボックス
搬送手段60の動作について詳しく説明する。まず、図
4(A)は、一方の収容ボックス2Aがすでに載置台3
0上に載置されており、この開閉蓋10と開口28を密
閉する開閉ドア32が、開閉機構34により取り外され
て下方に退避されており、この収容ボックス2A内の半
導体ウエハWが搬出されている。このように、収容ボッ
クス2A内のウエハが搬出されている間に、空き状態の
ボックス搬送アーム74は次に処理すべきウエハが収容
されている収容ボックス2Bをストッカ部50から取り
出し、そして、図2に示すように、待機用ボックス搬送
手段60はアーム部106を旋回駆動すると共にボック
ス把持部108も駆動して上記収容ボックス2Bをボッ
クス搬送アーム74から受け取り、この収容ボックス2
Bを載置台30上の収容ボックス2Aの近傍、図4
(A)ではやや上方で待機させておく。このようにし
て、一方の収容ボックス2A内のウエハWの搬出が完了
したならば、開閉機構34を駆動して開閉蓋10と開閉
ドア32とをそれぞれ装着し、そして、載置台30上の
スライド板30Aを僅かに後退させて収容ボックス2A
と開口28との干渉を断ち、この空になった収容ボック
ス2Aを、ボックス搬送アーム74を用いて載置台30
上から取り上げて搬送して行く。
【0031】このようにして、載置台30上が空き状態
になったならば、待機用ボックス搬送手段60を駆動さ
せて、このアーム部106を降下させることにより、載
置台30のやや上方で待機させていた他方の収容ボック
ス2Bを図4(B)に示すように、載置台30上にセッ
トする。この時、ボックス把持部108の一対の爪部1
10を互いに遠去かるようにスライド移動させることに
より、収容ボックス2Bの把持取手24を離脱させるこ
とができる。そして、この載置台30上に新たにセット
された収容ボックス2Bを固定し、スライド板30Aを
開口28側へ前進させることにより、収容ボックス2B
の先端を開口28に当接させる。そして、図4(C)に
示すように、開閉機構34を用いてこの収容ボックス2
Bの開閉蓋10と開口28の開閉ドア32とを図4
(A)にて説明したように共に取り外し、この収容ボッ
クス2B内のウエハを搬出する。そして、このウエハの
搬出の間に、次に処理すべきウエハを収容した収容ボッ
クス2Cを、前述したと同様にその上方まで搬送してこ
こで待機させる。以下、同様にして、上記各操作が繰り
返して行なわれることになる。
【0032】一方、処理済みの半導体ウエハを、空の収
容ボックス内に取り込む場合には、上記したと逆の操作
を行なうが、その場合にも、待機用ボックス搬送手段6
0を用いて空の収容ボックスを載置台30のやや上方に
おいて待機させればよい。このように、本実施例によれ
ば、待機用ボックス搬送手段60を用いて、載置台30
の近傍にて次に処理すべきウエハが収容されている収容
ボックスを待機させたり、或いは次にウエハを収容すべ
き空の収容ボックスを待機させるようにしたので、直前
の収容ボックスに対するウエハの搬出入操作が終了する
と、この待機中の収容ボックスに対して直ちにウエハの
搬出入操作を行なうことができ、従って、ウエハの搬
出、搬入操作を迅速に、且つ効率的に行なうことができ
る。
【0033】しかも、待機用ボックス搬送手段60は比
較的構造が簡単であり、また、開閉機構34も一基で済
むことから、従来装置と比較してコストの削減を図るこ
とができ、しかも、載置台30は1基で済むことから、
占有スペースも大幅に削減することが可能となる。ま
た、ここでは載置台30のやや上方で収容ボックス2を
待機させるようにしたが、この待機位置は載置台30の
近傍ならば特に限定されるものではなく、例えば載置台
30の略横方向にて収容ボックスを待機させるようにし
てもよい。また、ここでは被処理体として半導体ウエハ
を例にとって説明したが、これに限定されず、ガラス基
板、LCD基板等にも本発明を適用することができる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の被処理体
の処理システムによれば、次のように優れた作用効果を
発揮することができる。請求項1乃至3に係る発明によ
れば、1つの被処理体収容ボックスからこの中の被処理
体を、区画壁の開口を介して被処理体搬送エリア内へ搬
入している際には、待機用ボックス搬送手段を用いてこ
の開口(載置台)の近傍にて次の被処理体収容ボックス
を待機させており、そして、先の被処理体収容ボックス
内の被処理体の搬出が終了した時には、この待機中の被
処理体収容ボックスを直ちに上記開口にセットしてこれ
より被処理体を搬出させることが出来るので、構造をそ
れ程複雑化させることなく、しかも省スペースの状態
で、被処理体搬送エリアへの被処理体の搬入、移載を迅
速的に、且つ効率的に行なうことができる。また、処理
済みの被処理体を搬送する際にも、空の被処理体収容ボ
ックスを載置台の近傍に待機させておくことにより、前
述したと同様に被処理体の搬出搬送を迅速に、且つ効率
的に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の被処理体の処理システムを示す概略構
成図である。
【図2】図1に示す待機用ボックス搬送手段の拡大平面
図である。
【図3】待機用ボックス搬送手段の上面図である。
【図4】待機用ボックス搬送手段の動作を説明するため
の動作説明図である。
【図5】被処理体収容ボックスを示す斜視図である。
【図6】被処理体収容ボックスの開閉蓋が開いた状態を
示す斜視図である。
【図7】開閉蓋のロック機構を示す図である。
【図8】従来の装置例の主要部分を示す拡大図である。
【図9】従来の他の装置例の主要部分を示す拡大図であ
る。
【符号の説明】
2 被処理体収容ボックス 6 ボックス容器 10 開閉蓋 24 把持取手 26 区画壁 28 開口 30 載置台 32 開閉ドア 34 開閉機構 40 被処理体の処理システム 42 筐体 44 収容ボックス搬送エリア 46 被処理体搬送エリア(ウエハ搬送エリア) 50 ストッカ部 56 処理ユニット 60 待機用ボックス搬送手段 84 処理容器 100 案内レール 102 昇降台 106 アーム部 106A 第1アーム 106B 第2アーム 108 ボックス把持部 110 爪部 W 半導体ウエハ(被処理体)
フロントページの続き Fターム(参考) 4K029 BD01 KA01 KA09 4K030 CA04 CA12 GA12 KA11 LA15 5F031 CA02 CA05 DA08 EA14 FA03 FA07 GA02 GA12 GA19 GA43 GA47 GA49 LA12 LA15 MA13 MA17 MA28 NA02 NA04 NA07

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 開閉蓋により密閉状態になされた被処理
    体収容ボックス内に収容された被処理体を、この被処理
    体収容ボックスを搬送する収容ボックス搬送エリアと不
    活性ガス雰囲気の被処理体搬送エリアとの間を仕切る区
    画壁に形成した開口を介して前記被処理体搬送エリア内
    に搬入して所定の処理を施すようにした被処理体の処理
    システムにおいて、前記収容ボックス搬送エリア内に、
    次に前記被処理体搬送エリア内へ搬入されるべき被処理
    体を収容した被処理体収容ボックスを、前記開口の近傍
    で保持して待機させる待機用ボックス搬送手段を設ける
    ように構成したことを特徴とする被処理体の処理システ
    ム。
  2. 【請求項2】 前記収容ボックス搬送エリア内には、前
    記被処理体収容ボックスを一時的に貯留するストッカ部
    と、前記ストッカ部の前記被処理体収容ボックスを前記
    開口に設けた載置台に移載するボックス搬送アームとが
    設けられることを特徴とする請求項1記載の被処理体の
    処理システム。
  3. 【請求項3】 前記開口には開閉ドアが設けられると共
    に前記被処理体搬送エリア内には、前記開閉ドアと前記
    開閉蓋とを取り外して退避させるための開閉機構が設け
    られることを特徴とする請求項1または2記載の被処理
    体の処理システム。
JP2000253201A 2000-08-23 2000-08-23 被処理体の処理システム Expired - Fee Related JP3941359B2 (ja)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000253201A JP3941359B2 (ja) 2000-08-23 2000-08-23 被処理体の処理システム
KR1020010050801A KR100745867B1 (ko) 2000-08-23 2001-08-22 수직열처리장치 및 피처리체를 운송하는 방법
TW090120653A TW522482B (en) 2000-08-23 2001-08-22 Vertical heat treatment system, method for controlling vertical heat treatment system, and method for transferring object to be treated
US09/934,756 US7059849B2 (en) 2000-08-23 2001-08-23 Heat treatment system and a method for cooling a loading chamber
EP01203171A EP1182693A3 (en) 2000-08-23 2001-08-23 Vertical heat treatment system and method for transferring substrate
EP06076596A EP1734564B1 (en) 2000-08-23 2001-08-23 Vertical heat treatment system and method for transferring substrate
EP08161737A EP1986216B1 (en) 2000-08-23 2001-08-23 Vertical heat treatment system
US10/939,432 US7210924B2 (en) 2000-08-23 2004-09-14 Heat treatment system and a method for cooling a loading chamber
US11/705,443 US7819658B2 (en) 2000-08-23 2007-02-13 Heat treatment system and method therefore
US12/849,317 US8147241B2 (en) 2000-08-23 2010-08-03 Method of object transfer for a heat treatment system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000253201A JP3941359B2 (ja) 2000-08-23 2000-08-23 被処理体の処理システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002076089A true JP2002076089A (ja) 2002-03-15
JP3941359B2 JP3941359B2 (ja) 2007-07-04

Family

ID=18742330

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000253201A Expired - Fee Related JP3941359B2 (ja) 2000-08-23 2000-08-23 被処理体の処理システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3941359B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009088438A (ja) * 2007-10-03 2009-04-23 Tokyo Electron Ltd 被処理体の処理システム及び被処理体の熱処理方法
US8181769B2 (en) 2007-10-19 2012-05-22 Tokyo Electron Limited Workpiece transfer mechanism, workpiece transfer method and workpiece processing system
JP2012209282A (ja) * 2011-03-29 2012-10-25 Tokyo Electron Ltd ローディングユニット及び処理システム
KR20150104047A (ko) * 2014-03-04 2015-09-14 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 반송 방법 및 기판 처리 장치
US9230843B2 (en) 2011-04-20 2016-01-05 Tokyo Electron Limited Loading unit and processing system
JP2019160894A (ja) * 2018-03-09 2019-09-19 株式会社ジェーイーエル 基板収納容器のロック解除機構
CN111696894A (zh) * 2015-10-22 2020-09-22 朗姆研究公司 一种用于容纳消耗部件的前开式环形盒(forp)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009088438A (ja) * 2007-10-03 2009-04-23 Tokyo Electron Ltd 被処理体の処理システム及び被処理体の熱処理方法
US8231381B2 (en) 2007-10-03 2012-07-31 Tokyo Electron Limited Processing system for process object and thermal processing method for process object
US8181769B2 (en) 2007-10-19 2012-05-22 Tokyo Electron Limited Workpiece transfer mechanism, workpiece transfer method and workpiece processing system
JP2012209282A (ja) * 2011-03-29 2012-10-25 Tokyo Electron Ltd ローディングユニット及び処理システム
US9230843B2 (en) 2011-04-20 2016-01-05 Tokyo Electron Limited Loading unit and processing system
KR20150104047A (ko) * 2014-03-04 2015-09-14 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 반송 방법 및 기판 처리 장치
JP2015170623A (ja) * 2014-03-04 2015-09-28 東京エレクトロン株式会社 搬送方法及び基板処理装置
KR101879021B1 (ko) * 2014-03-04 2018-07-16 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 반송 방법 및 기판 처리 장치
CN111696894A (zh) * 2015-10-22 2020-09-22 朗姆研究公司 一种用于容纳消耗部件的前开式环形盒(forp)
JP2019160894A (ja) * 2018-03-09 2019-09-19 株式会社ジェーイーエル 基板収納容器のロック解除機構

Also Published As

Publication number Publication date
JP3941359B2 (ja) 2007-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100639765B1 (ko) 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 반도체 장치의 제조방법
JP4891199B2 (ja) 基板処理装置および半導体装置の製造方法
JP4180787B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR100741186B1 (ko) 피처리체의 처리시스템
JP4989398B2 (ja) 基板処理装置
JP4218260B2 (ja) 被処理体の収納容器体及びこれを用いた処理システム
JP4893425B2 (ja) 枚葉式の基板処理装置、枚葉式の基板処理装置の運転方法及び記憶媒体
JP2000150400A (ja) 縦型熱処理装置およびボート搬送方法
KR101705932B1 (ko) 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체
JP3971601B2 (ja) 基板受渡装置および基板処理装置
JP2007317835A (ja) 基板搬送装置、基板処理システムおよび基板搬送方法
JP2009049232A (ja) 基板処理装置
JP5041667B2 (ja) 基板処理装置
JP4069236B2 (ja) 液処理装置
JPH10256346A (ja) カセット搬出入機構及び半導体製造装置
JP3941359B2 (ja) 被処理体の処理システム
JP4275184B2 (ja) 基板処理装置、ロードポート、半導体装置の製造方法および収納容器の搬送方法
JP5164416B2 (ja) 基板処理装置、収納容器の搬送方法および半導体装置の製造方法
US20160086835A1 (en) Cover opening/closing apparatus and cover opening/closing method
JP2006261548A (ja) 基板処理装置
JP4647646B2 (ja) 液処理装置および液処理方法
JP3642729B2 (ja) 処理装置
JP2002246439A (ja) 被処理体の搬出入装置と処理システム
JP4261951B2 (ja) 基板処理装置
JP3552656B2 (ja) 被処理体の処理システム

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051101

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051221

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060704

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060811

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20060830

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070116

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070313

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070326

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100413

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130413

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130413

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160413

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees