JP2002075821A - 現像処理装置および現像処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数種の現像液を用いた場合においても連続
的な処理を可能として処理効率を高め、また、現像処理
を均一化し、現像液の残渣の低減せしめて高品質な基板
を得ることを可能とする現像処理装置および現像処理方
法を提供する。 【解決手段】 基板Ｇを載置して保持する保持手段の１
つであるスピンチャック４１と、スピンチャック４１に
保持された基板Ｇに所定の現像液を供給する現像液供給
機構とを具備する現像処理装置２４ａ〜２４ｃにおい
て、現像液供給機構は、所定の現像液を吐出する複数の
現像液吐出ノズル、例えばパドル形成用ノズル８０ａ・
８０ｂと、複数の現像液吐出ノズルを保持する１つのノ
ズル保持アーム５１と、複数の現像液吐出ノズルの高さ
を個別に調節可能な昇降機構５８ａ・５８ｂを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、露光処理
がされた液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用ガラス基板や半
導体ウエハ等の基板に所定の現像液を供給して現像処理
を行う現像処理装置と現像処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示ディスプレイ（ＬＣＤ）や半導
体デバイスのフォトリソグラフィー工程においては、洗
浄処理されたＬＣＤ基板や半導体ウエハ等の基板にフォ
トレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、所定のパ
ターンでレジスト膜を露光し、これを現像処理するとい
う一連の処理が行われている。このうち洗浄処理、レジ
スト塗布処理、現像処理は、一般的にスピンナ型と呼ば
れる液処理装置を用いて、基板を面内で回転させながら
所定の処理液を供給して行われている。

【０００３】例えば、ＬＣＤ基板の現像処理において
は、露光処理された基板をスピンチャック等に載置、固
定して現像液を基板に液盛りし、パドルを形成して現像
反応を進行させ、所定時間経過した後に基板を回転させ
るとほぼ同時にリンス液の供給を開始して現像液とリン
ス液を振り切り、その後にリンス液の供給を停止して基
板を高速で回転させ、スピン乾燥を行うといった方法が
採用されている。

【０００４】このような現像処理を行う１台の現像処理
ユニットには、従来、現像液を供給する現像液吐出ノズ
ルおよびリンス液を供給するためのリンス液吐出ノズル
は、それぞれ１本のみが配設されていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
使用されるレジストの種類が多様化するに従って異なる
種類や濃度の現像液を用いなければならない場合が増え
ている。このため、従来の１現像処理ユニット−１現像
液吐出ノズルの構造では、使用する現像液を変える毎に
現像液吐出ノズルの洗浄を行わなければならず、連続的
な処理が困難となって生産性を低下させていた。また、
１本の現像液吐出ノズルで複数の現像液を扱うことか
ら、異種現像液の混合による固形成分の生成や特性低
下、これに伴うパーティクルの付着や現像不良の発生が
危惧されていた。

【０００６】さらに、フォトリソグラフィー工程におい
て形成されるパターンの微細化や複雑化の進行に伴っ
て、現像処理をより均一に行い、現像液の残渣を低減し
て良好なパターンの形成が可能である現像処理装置およ
び現像処理方法の開発要求も高まっていた。

【０００７】本発明はかかる従来技術の有する課題に鑑
みてなされたものであり、複数種の現像液を用いた場合
においても連続的な処理を可能として処理効率を高め、
また、現像処理を均一化し、現像液の残渣を低減せしめ
て高品質な基板を得ることを可能とした現像処理装置お
よび現像処理方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明によれば、基板を載置して保持する保持手段
と、前記保持手段に保持された基板に所定の現像液を供
給する現像液供給機構と、を具備する現像処理装置であ
って、前記現像液供給機構は、所定の現像液を吐出する
複数の現像液吐出ノズルと、前記複数の現像液吐出ノズ
ルを保持する１つのノズル保持アームと、前記複数の現
像液吐出ノズルの高さを個別に調節可能な昇降機構と、
を有することを特徴とする現像処理装置、が提供され
る。

【０００９】また、本発明によれば、基板を載置して保
持する保持手段と、前記保持手段に保持された基板に所
定の現像液を供給する現像液供給機構と、現像液が塗布
された基板にリンス液を供給するリンス液供給機構と、
を具備する現像処理装置であって、前記現像液供給機構
は、前記保持手段に保持された基板に所定の現像液を液
盛りするパドル形成用ノズルと、前記保持手段に保持さ
れた基板に所定の現像液を吹き付け供給するスプレーノ
ズルと、を有し、前記リンス液供給機構は、前記保持手
段に保持された基板への所定の現像液の塗布終了に引き
続いて所定のリンス液を基板に供給するプレリンスノズ
ルと、前記プレリンスノズルによるリンス液の供給終了
後に、所定のリンス液の供給を行うリンス液吐出ノズル
と、を有し、前記スプレーノズルと前記プレリンスノズ
ルは同一のノズル保持アームに配設されていることを特
徴とする現像処理装置、が提供される。

【００１０】さらに本発明によれば、露光処理がされた
基板の現像処理方法であって、略平行に載置された基板
に所定の現像液を供給して液盛りを行う第１工程と、所
定の現像液が液盛りされた基板に所定の現像液の吹き付
け供給を行う第２工程と、前記第２工程における現像液
の吹き付け供給の終了後に連続して基板にリンス液を供
給する第３工程と、を有することを特徴とする現像処理
方法、が提供される。

【００１１】このような現像処理装置および現像処理方
法によれば、１台の現像処理装置（現像処理ユニット）
に、基板に現像液を塗布するための現像液吐出ノズルが
複数配設されていることから、異なる種類および／また
は濃度の現像液の供給が必要な場合には使用するノズル
を切り替えることで対処することができるようになる。
これにより１本のノズルのみが配設されている場合と比
較して、ノズル洗浄を行う時間のロスが無くなって生産
性が向上し、また異なる現像液の混合による特性低下や
パーティクルの発生が低減されて、基板の高い品質を維
持することが可能となる。

【００１２】また、基板上に現像液パドルを形成した後
にスプレーノズルを用いて、圧力（インパクト）を与え
ながら現像液を供給することにより、現像液パドルが撹
拌されて現像処理がより均一に進行するようになる。こ
れにより現像特性が向上し、より明瞭で均一なパターン
が得られ、しかも現像時間が短縮されるようになる。

【００１３】さらに、プレリンスノズルがスプレーノズ
ルと同じノズル保持アームに配設されている場合には、
現像液の塗布後に間髪を空けずにリンス液を供給するこ
とが可能となる。こうしてスプレーノズルを用いた均一
な現像反応を進行させつつ、即座にリンス液を供給して
現像反応を停止させることができることによっても、現
像特性の向上、明瞭で均一なパターンの形成、現像処理
時間の短縮という効果が得られ、さらに現像液残渣が低
減され、高品質な基板が得られる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の実施の形態について詳細に説明する。図１は、本発
明の現像処理装置（現像処理ユニット）（ＤＥＶ）２４
ａ〜２４ｃを有するＬＣＤ基板のレジスト塗布・現像処
理システム１００を示す平面図である。

【００１５】レジスト塗布・現像処理システム１００
は、複数のＬＣＤ基板（基板）Ｇを収容するカセットＣ
を載置するカセットステーション１と、基板Ｇにレジス
ト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の
処理ユニットを備えた処理部２と、露光装置（図示せ
ず）との間で基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフ
ェイス部３とを備えており、処理部２の両端にそれぞれ
カセットステーション１およびインターフェイス部３が
配置されている。

【００１６】カセットステーション１は、カセットＣと
処理部２との間で基板Ｇの搬送を行うための搬送機構１
０を備えている。そして、カセットステーション１にお
いてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１
０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１０
ａ上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アー
ム１１によりカセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬
送が行われる。

【００１７】処理部２は、前段部２ａと中段部２ｂと後
段部２ｃとに分かれており、それぞれ中央に搬送路１２
・１３・１４を有し、これら搬送路の両側に各処理ユニ
ットが配設されている。そして、これらの間には中継部
１５・１６が設けられている。

【００１８】前段部２ａは、搬送路１２に沿って移動可
能な主搬送装置１７を備えており、搬送路１２の一方側
には、２つの洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂが
配置されており、搬送路１２の他方側には紫外線照射ユ
ニット（ＵＶ）と冷却ユニット（ＣＯＬ）とが２段に重
ねられた処理ブロック２５、加熱処理ユニット（ＨＰ）
が２段に重ねられてなる処理ブロック２６および冷却ユ
ニット（ＣＯＬ）が２段に重ねられてなる処理ブロック
２７が配置されている。

【００１９】また、中段部２ｂは、搬送路１３に沿って
移動可能な主搬送装置１８を備えており、搬送路１３の
一方側には、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２お
よび基板Ｇの周縁部のレジストを除去する周縁レジスト
除去ユニット（ＥＲ）２３が一体的に設けられており、
搬送路１３の他方側には、加熱処理ユニット（ＨＰ）が
２段に重ねられてなる処理ブロック２８、加熱処理ユニ
ット（ＨＰ）と冷却処理ユニット（ＣＯＬ）が上下に重
ねられてなる処理ブロック２９、およびアドヒージョン
処理ユニット（ＡＤ）と冷却ユニット（ＣＯＬ）とが上
下に重ねられてなる処理ブロック３０が配置されてい
る。

【００２０】さらに、後段部２ｃは、搬送路１４に沿っ
て移動可能な主搬送装置１９を備えており、搬送路１４
の一方側には、３つの現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４
ａ・２４ｂ・２４ｃが配置されており、搬送路１４の他
方側には加熱処理ユニット（ＨＰ）が２段に重ねられて
なる処理ブロック３１、およびともに加熱処理ユニット
（ＨＰ）と冷却処理ユニット（ＣＯＬ）が上下に重ねら
れてなる処理ブロック３２・３３が配置されている。

【００２１】なお、処理部２は、搬送路を挟んで一方の
側に洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ、レジスト塗布処理
ユニット（ＣＴ）２２、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２
４ａのようなスピンナ系ユニットのみを配置しており、
他方の側に加熱処理ユニット（ＨＰ）や冷却処理ユニッ
ト（ＣＯＬ）等の熱系処理ユニットのみを配置する構造
となっている。

【００２２】また、中継部１５・１６のスピンナ系ユニ
ット配置側の部分には、薬液供給ユニット３４が配置さ
れており、さらに主搬送装置１７・１８・１９のメンテ
ナンスを行うためのスペース３５が設けられている。

【００２３】主搬送装置１７・１８・１９は、それぞれ
水平面内の２方向のＸ軸駆動機構、Ｙ軸駆動機構、およ
び垂直方向のＺ軸駆動機構を備えており、さらにＺ軸を
中心に回転する回転駆動機構を備えており、それぞれ基
板Ｇを支持するアームを有している。

【００２４】主搬送装置１７は、搬送アーム１７ａを有
し、搬送機構１０の搬送アーム１１との間で基板Ｇの受
け渡しを行うとともに、前段部２ａの各処理ユニットに
対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには中継部１５との間
で基板Ｇの受け渡しを行う機能を有している。また、主
搬送装置１８は搬送アーム１８ａを有し、中継部１５と
の間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、中段部２ｂの
各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには
中継部１６との間の基板Ｇの受け渡しを行う機能を有し
ている。さらに、主搬送装置１９は搬送アーム１９ａを
有し、中継部１６との間で基板Ｇの受け渡しを行うとと
もに、後段部２ｃの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬
入・搬出、さらにはインターフェイス部３との間の基板
Ｇの受け渡しを行う機能を有している。なお、中継部１
５・１６は冷却プレートとしても機能する。

【００２５】インターフェイス部３は、処理部２との間
で基板Ｇを受け渡しする際に一時的に基板Ｇを保持する
エクステンション３６と、さらにその両側に設けられ
た、バッファカセットを配置する２つのバッファステー
ジ３７と、これらと露光装置（図示せず）との間の基板
Ｇの搬入出を行う搬送機構３８とを備えている。搬送機
構３８はエクステンション３６およびバッファステージ
３７の配列方向に沿って設けられた搬送路３８ａ上を移
動可能な搬送アーム３９を備え、この搬送アーム３９に
より処理部２と露光装置との間で基板Ｇの搬送が行われ
る。

【００２６】このように各処理ユニットを集約して一体
化することにより、省スペース化および処理の効率化を
図ることができる。

【００２７】このように構成されたレジスト塗布・現像
処理システム１００においては、カセットＣ内の基板Ｇ
が処理部２に搬送され、処理部２では、まず前段部２ａ
の処理ブロック２５の紫外線照射ユニット（ＵＶ）で表
面改質・洗浄処理が行われ、冷却処理ユニット（ＣＯ
Ｌ）で冷却された後、洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・
２１ｂでスクラバ洗浄が施され、処理ブロック２６のい
ずれかの加熱処理ユニット（ＨＰ）で加熱乾燥された
後、処理ブロック２７のいずれかの冷却ユニット（ＣＯ
Ｌ）で冷却される。

【００２８】その後、基板Ｇは中段部２ｂに搬送され、
レジストの定着性を高めるために、処理ブロック３０の
上段のアドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）にて疎水化
処理（ＨＭＤＳ処理）され、下段の冷却処理ユニット
（ＣＯＬ）で冷却後、レジスト塗布処理ユニット（Ｃ
Ｔ）２２でレジストが塗布され、周縁レジスト除去ユニ
ット（ＥＲ）２３で基板Ｇの周縁の余分なレジストが除
去される。その後、基板Ｇは、中段部２ｂの中の加熱処
理ユニット（ＨＰ）の１つでプリベーク処理され、処理
ブロック２９または３０の下段の冷却ユニット（ＣＯ
Ｌ）で冷却される。

【００２９】その後、基板Ｇは中継部１６から主搬送装
置１９にてインターフェイス部３を介して露光装置に搬
送されてそこで所定のパターンが露光される。そして、
基板Ｇは再びインターフェイス部３を介して搬入され、
必要に応じて後段部２ｃの処理ブロック３１・３２・３
３のいずれかの加熱処理ユニット（ＨＰ）でポストエク
スポージャーベーク処理を施した後、現像処理ユニット
（ＤＥＶ）２４ａ・２４ｂ・２４ｃのいずれかで現像処
理され、所定の回路パターンが形成される。現像処理さ
れた基板Ｇは、後段部２ｃのいずれかの加熱処理ユニッ
ト（ＨＰ）にてポストベーク処理が施された後、いずれ
かの冷却ユニット（ＣＯＬ）にて冷却され、主搬送装置
１９・１８・１７および搬送機構１０によってカセット
ステーション１上の所定のカセットに収容される。

【００３０】次に、本発明に係る現像処理ユニット（Ｄ
ＥＶ）２４ａ〜２４ｃについて詳細に説明する。図２は
現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃの一実施形
態を示す平面図であり、図３は図２記載の現像処理ユニ
ット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃにおけるカップ部分の断
面図である。図２に示されるように、現像処理ユニット
（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃはシンク４８により全体が包
囲されている。

【００３１】図３に示すように、現像処理ユニット（Ｄ
ＥＶ）２４ａ〜２４ｃにおいては、基板Ｇを機械的に保
持する保持手段、例えば、スピンチャック４１がモータ
等の回転駆動機構４２により回転されるように設けら
れ、このスピンチャック４１の下側には、回転駆動機構
４２を包囲するカバー４３が配置されている。スピンチ
ャック４１は図示しない昇降機構により昇降可能となっ
ており、上昇位置において搬送アーム１９ａとの間で基
板Ｇの受け渡しを行う。スピンチャック４１は真空吸引
力等により、基板Ｇを吸着保持できるようになってい
る。

【００３２】カバー４３の外周囲には２つのアンダーカ
ップ４４・４５が離間して設けられており、この２つの
アンダーカップ４４・４５の間の上方には、主として現
像液を下方に流すためのインナーカップ４６が昇降自在
に設けられ、アンダーカップ４５の外側には、主として
リンス液を下方に流すためのアウターカップ４７がイン
ナーカップ４６と一体的に昇降自在に設けられている。
なお、図３において、左側には現像液の排出時にインナ
ーカップ４６およびアウターカップ４７が上昇される位
置が示され、右側にはリンス液の排出時にこれらが降下
される位置が示されている。

【００３３】アンダーカップ４４の内周側底部には回転
乾燥時にユニット内を排気するための排気口４９が配設
されており、２つのアンダーカップ４４・４５間には主
に現像液を排出するためのドレイン管５０ａが、アンダ
ーカップ４５の外周側底部には主にリンス液を排出する
ためにドレイン管５０ｂが、設けられている。

【００３４】アウターカップ４７の一方の側には、図２
に示すように、現像液供給用のノズル保持アーム５１が
設けられ、ノズル保持アーム５１には、基板Ｇに現像液
を塗布するために用いられる現像液吐出ノズルの一実施
形態であるパドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂが収納さ
れている。ノズル保持アーム５１は、ガイドレール５３
の長さ方向に沿ってベルト駆動等の駆動機構５２により
基板Ｇを横切って移動するように構成され、これにより
現像液の塗布時には、ノズル保持アーム５１はパドル形
成用ノズル８０ａ・８０ｂから現像液を吐出しながら、
静止した基板Ｇをスキャンするようになっている。

【００３５】また、パドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂ
は、ノズル待機部１１５に待機されるようになってお
り、このノズル待機部１１５にはパドル形成用ノズル８
０ａ・８０ｂを洗浄するノズル洗浄機構１２０が設けら
れている。パドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂの構造等
を含めた現像液供給機構の詳細については後述する。

【００３６】アウターカップ４７の他方の側には、純水
等のリンス液吐出用のノズル保持アーム５４が設けら
れ、ノズル保持アーム５４の先端部分には、リンス液吐
出ノズル６０が設けられている。リンス液吐出ノズル６
０としては、例えば、パイプ状の吐出口を有するもの用
いることができる。ノズル保持アーム５４は駆動機構５
６によりガイドレール５３の長さ方向に沿ってスライド
自在に設けられており、リンス液吐出ノズル６０からリ
ンス液を吐出させながら、基板Ｇ上をスキャンするよう
になっている。

【００３７】なお、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ
〜２４ｃへは、レジスト塗布・現像処理システム１００
が配置される場所の天井から清浄なダウンフローが供給
されるように、上部に空間が形成されている。また、ス
ピンチャック４１に保持された基板Ｇへ窒素ガス等の乾
燥ガスを供給するためのガスブロー機構、スピンチャッ
ク４１に発生する静電気を除去するためのイオナイザー
が、それぞれ基板Ｇの上空に配設されている。

【００３８】また、図４に示すように、スピンチャック
４１を回転させる回転駆動機構４２、現像液用のノズル
保持アーム５１をスライド移動させる駆動機構５２、お
よびリンス液用のノズル保持アーム５４をスライド移動
させる駆動機構５６は、いずれも制御装置７０により制
御されるようになっている。

【００３９】続いて、現像液の貯留から基板Ｇへの塗布
に係る現像液供給機構について説明するが、最初にパド
ル形成用ノズル８０ａ・８０ｂについて詳述することと
する。パドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂとしては、例
えば、図５の斜視図に示すように、スリット状の現像液
吐出口８５ａ・８５ｂを有し、現像液吐出口８５ａ・８
５ｂから現像液が帯状に吐出される構造を有するものが
好適に配設される。現像液吐出口８５ａ・８５ｂは、パ
ドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂを保持したノズル保持
アーム５１をガイドレール５３に沿ってスキャンさせた
場合に、どちらの方向からスキャンした場合にも、基板
Ｇに対して略垂直に現像液を吐出できるように構成され
ている。

【００４０】なお、パドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂ
としては、例えば、スリット状の現像液吐出口８５ａ・
８５ｂを有するノズルに代えて、複数の孔部が１列また
は複数例で縦列形成された現像液吐出口を有するノズル
等を用いてもよく、この場合にも現像液を帯状に基板Ｇ
に対して略垂直に吐出させることができる。

【００４１】また、パドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂ
は、それぞれがエアーシリンダーや電動モータ等の昇降
機構５８ａ・５８ｂにより高さ位置を変えることができ
るように構成されており、現像液の塗布時には、使用す
る一方のパドル形成用ノズル、例えばパドル形成用ノズ
ル８０ａを昇降機構５８ａを伸張させて下方に位置さ
せ、使用しないパドル形成用ノズル８０ｂはノズル保持
アーム５１の底面に近接するように保持することができ
るようになっている。

【００４２】さらに、図６は、パドル形成用ノズル８０
ａ・８０ｂへの現像液の送液経路を示した説明図である
が、パドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂにはそれぞれ異
なる種類および／または濃度の現像液Ａ・Ｂが供給され
るように送液経路Ａ・Ｂが形成されている。

【００４３】このような構成により、ノズル保持アーム
５１を基板Ｇ上をスキャンさせながら、パドル形成用ノ
ズル８０ａの現像液吐出口８５ａから所定の現像液（現
像液Ａ）を基板Ｇ上に塗布する際には、使用しないパド
ル形成用ノズル８０ｂの現像液吐出口８５ｂは基板Ｇに
塗布された現像液Ａに触れることはないため、基板Ｇ上
の現像液パドルに現像液Ｂが混入したり、パドル形成用
ノズル８０ｂが現像液Ａによって汚染されるといった問
題は生じない。

【００４４】また、パドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂ
の各々から異なる現像液を基板Ｇに塗布することが可能
であるため、例えば、２つのロットの基板Ｇにそれぞれ
異なる種類のレジストが使用されているために、異なる
種類の現像液を用いて現像処理を行わなければならず、
しかもそれらのロットを連続して処理しなければならな
い場合にも容易に対処できる。つまり、１本のパドル形
成用ノズル（現像液吐出ノズル）しか配設されていない
場合と比較すると、パドル形成用ノズルの清掃を行う必
要がなく、パドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂの位置調
整のみで現像処理を連続的に行うことができることか
ら、処理効率が高められ、生産性が向上する。

【００４５】なお、図６に示されるように、送液経路Ａ
・Ｂには、それぞれに脱気モジュール５９ａ・５９ｂが
設けられている。送液される現像液Ａ・Ｂには、例え
ば、現像液Ａ・Ｂをパドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂ
へ送液するために用いられる高圧の窒素ガス等が溶存し
ており、現像液を基板Ｇへ塗布した際に溶存ガスが気泡
化して基板Ｇに付着し、基板Ｇに現像液で濡れない部分
が生じて現像不良を起こす場合がある。そこで、脱気モ
ジュール５９ａ・５９ｂによりこのような溶存ガスを除
去する。脱気モジュール５９ａ・５９ｂは、例えば、減
圧雰囲気とされた中空糸膜や多孔質樹脂を現像液が通過
する構造とすることができる。

【００４６】また、送液経路Ａ・Ｂには三方バルブ５７
ａ・５７ｂが配設されている。現像液Ａ・Ｂをパドル形
成用ノズル８０ａ・８０ｂへ供給している場合には、真
空吸引を行うためのバルブは閉じた状態とし、現像液Ａ
・Ｂの供給が終了した後には、現像液Ａ・Ｂの供給側の
バルブを閉じて真空吸引側のバルブを開け、パドル形成
用ノズル８０ａ・８０ｂに残留している現像液を排出す
るように操作する。こうして、パドル形成用ノズル８０
ａ・８０ｂからの現像液の液垂れを防止することがで
き、特に、使用していない一方のパドル形成用ノズルか
らの液垂れを防止して、形成中の現像液パドルに別の現
像液が混入することを防止することができる。なお、真
空吸引を行う時間は任意に設定することができ、これに
よりパドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂ内の現像液量を
制御することができる。

【００４７】次に、上述した２本のパドル形成用ノズル
８０ａ・８０ｂを有する現像処理ユニット（ＤＥＶ）２
４ａ〜２４ｃを用いた現像処理工程について、あるロッ
ト（ロットＡとする）の複数枚の基板Ｇを、図６に従
い、パドル形成用ノズル８０ａを用いて現像液Ａにより
処理した後に、別のロット（ロットＢとする）の複数枚
の基板Ｇを、パドル形成用ノズル８０ｂを用いて現像液
Ａと異なる別の現像液Ｂにより処理する場合を例に説明
する。図７はこの現像処理工程を示す説明図（フローチ
ャート）である。

【００４８】まず、インナーカップ４６とアウターカッ
プ４７とを下段（図３右側位置）に保持する（ステップ
１）。この状態として、基板Ｇを保持した搬送アーム１
９ａを現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃ内に
挿入し、このタイミングに合わせてスピンチャック４１
を上昇させて、基板Ｇをスピンチャック４１へ受け渡す
（ステップ２）。

【００４９】搬送アーム１９ａを現像処理ユニット（Ｄ
ＥＶ）２４ａ〜２４ｃ外に待避させ、基板Ｇが載置され
たスピンチャック４１を降下させて所定位置に保持する
（ステップ３）。そして、ノズル保持アーム５１をイン
ナーカップ４６内の所定位置に移動、配置し（ステップ
４）、昇降機構５８ａを伸張させてパドル形成用ノズル
８０ａのみを下方に位置させて保持し（ステップ５）、
基板Ｇ上をスキャンしながらパドル形成用ノズル８０ａ
を用いて所定の現像液Ａを基板Ｇ上に塗布し、現像液パ
ドルを形成する（ステップ６）。なお、図６に示した三
方バルブ５７ａにおいては、現像液Ａを供給するために
真空吸引を行うためのバルブは閉じた状態となってい
る。

【００５０】現像液パドルが形成された後、所定の現像
処理時間（現像反応時間）が経過するまでの間に、パド
ル形成用ノズル８０ａを昇降機構５８ａを縮ませて上方
の位置に戻して保持し（ステップ７）、ノズル保持アー
ム５１をインナーカップ４６およびアウターカップ４７
から待避させ（ステップ８）、代わりにノズル保持アー
ム５４を駆動して、リンス液吐出ノズル６０が基板Ｇ上
の所定位置に保持する（ステップ９）。続いて、インナ
ーカップ４６とアウターカップ４７を上昇させ、上段位
置（図３の左側位置）に保持する（ステップ１０）。こ
の上段位置は、基板Ｇの表面の水平位置がほぼインナー
カップ４６のテーパー部の位置に合う高さとする。

【００５１】基板Ｇを低速で回転させて基板Ｇ上の現像
液を振り切る動作に入るのとほぼ同時にリンス液吐出ノ
ズル６０からリンス液を吐出し、さらにこれらの動作と
ほぼ同時に、排気口４９による排気動作を開始する（ス
テップ１１）。つまり、現像反応時間の経過前には排気
口４９は未動作の状態とすることが好ましく、これによ
り、基板Ｇ上に形成された現像液パドルには、排気口４
９の動作による気流発生等の悪影響が発生しない。

【００５２】基板Ｇの回転が開始され、基板Ｇからその
外周に向けて飛散する現像液およびリンス液は、インナ
ーカップ４６のテーパー部や外周壁（側面の垂直壁）に
当たって下方へ導かれ、ドレイン管５０ａから排出され
る。このとき基板Ｇの回転開始から所定の時間が経過す
るまでは、主に現像液からなる現像液濃度の高い処理液
がドレイン管５０ａから排出されるために、このような
排出液はドレイン管５０ａに設けられた切替バルブを操
作して回収し、再利用に供することが好ましい。

【００５３】基板Ｇの回転開始から所定時間経過後に
は、リンス液を吐出しながら、また基板Ｇを回転させた
ままの状態でインナーカップ４６とアウターカップ４７
を降下させて下段位置に保持する（ステップ１２）。下
段位置では、基板Ｇの表面の水平位置がほぼアウターカ
ップ４７のテーパー部の位置に合う高さとする。そし
て、現像液の残渣が少なくなるように、基板Ｇの回転数
を現像液を振り切るための回転動作開始時よりも大きく
する。この基板Ｇの回転数を上げる操作は、インナーカ
ップ４６とアウターカップ４７の降下動作と同時にまた
はその前後のいずれの段階で行ってもよい。こうして、
基板Ｇから飛散する主にリンス液からなる処理液は、ア
ウターカップ４７のテーパー部や外周壁に当たってドレ
イン管５０ｂから排出される。

【００５４】次に、リンス液の吐出を停止してリンス液
吐出ノズル６０を所定の位置に収納し（ステップ１
３）、基板Ｇの回転数をさらに上げて所定時間保持す
る。すなわち高速回転により基板Ｇを乾燥するスピン乾
燥を行う（ステップ１４）。このスピン乾燥時には、基
板Ｇの上方からガスブロー機構を用いて、乾燥した窒素
ガス等を基板に供給しながら行うことが好ましい。

【００５５】図８は、基板Ｇへのガス供給の一実施形態
を示す説明図である。窒素ガスを吐出するノズル９８
は、図８（ａ）に示すように、スピン乾燥時以外の使用
しない場合にはインナーカップ４６とアウターカップ４
７上で略水平に保持されているが、スピン乾燥を行う際
には、図８（ｂ）に示すように、配管９９の関節部分９
９ａが折れてノズル９８の先端が基板Ｇへ向き、窒素ガ
スを基板Ｇに向けて供給する。これにより乾燥時間が短
縮される。スピン乾燥が終了した時点で、窒素ガスの供
給を停止し、再び関節部分９９ａを元の位置に戻してノ
ズル９８と配管９９の全体を略水平に保持して待機状態
に入る。

【００５６】こうしてスピン乾燥が終了した後には基板
Ｇの回転を停止し、スピンチャック４１を上昇させ（ス
テップ１５）、そのタイミングに合わせて搬送アーム１
９ａを現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃ内に
挿入して、基板Ｇの受け渡しを行い、その後にイオナイ
ザーを用いてスピンチャック４１に発生した静電気の除
去（除電）を行う（ステップ１６）。この除電は、先に
スピン乾燥時にガスブロー機構を用いて窒素ガスを基板
Ｇに吹き付けた方法と同様にして、イオナイザーを用い
てイオン化させたガスを基板Ｇに供給することにより行
うことができる。

【００５７】上述したステップ１からステップ１６まで
の一連の工程が終了した後のスピンチャック４１上に基
板Ｇがない状態では、インナーカップ４６とアウターカ
ップ４７は下段位置にあることから、ステップ１の状態
が満足されていることになる。また、次に処理すべき基
板Ｇが搬送アーム１９ａにより現像処理ユニット（ＤＥ
Ｖ）２４ａ〜２４ｃ内に搬送されれば、ステップ２以降
の前述した工程に従って基板Ｇの現像処理を継続して行
うことができる。

【００５８】こうして、ロットＡの全ての基板Ｇについ
ての現像処理を終了した後には、送液経路Ａに設けられ
た三方バルブ５７ａ（図６参照）において、現像液Ａの
供給側のバルブを閉じて真空吸引側のバルブを開け、パ
ドル形成用ノズル８０ａに残留している現像液Ａを排出
するように操作する（ステップ１７）。こうして、パド
ル形成用ノズル８０ａからの現像液Ａの液垂れが防止さ
れる。その後は、上述したステップ１からステップ１６
と同様にして、ロットＢの基板Ｇについて、パドル形成
用ノズル８０ｂを用いた現像液Ｂによる現像処理を行う
（ステップ１８）。このようにして、異なる現像液Ａ・
Ｂを用いた現像処理を連続的に行うことができる。

【００５９】ロットＢの全ての基板Ｇについて現像処理
が終了した後には、送液経路Ｂに設けられた三方バルブ
５７ｂ（図６参照）において、現像液Ｂの供給側のバル
ブを閉じて真空吸引側のバルブを開け、パドル形成用ノ
ズル８０ｂに残留している現像液Ｂを排出し（ステップ
１９）、全ての処理が終了する。

【００６０】次に、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ
〜２４ｃについて、現像液供給機構の構成を違えた別の
実施の形態について説明する。図５では、２本の同じ構
造を有するパドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂをノズル
保持アーム５１に配設した形態を示したが、現像液の吐
出形態の異なる別の現像液吐出ノズルを配設することも
可能である。例えば、図９は、ノズル保持アーム５１に
パドル形成用ノズル８０ａと、所定の強さで現像液を基
板Ｇに向けて吹き付け供給するスプレーノズル８０ｃを
配設した形態を示している。パドル形成用ノズル８０ａ
とスプレーノズル８０ｃは、昇降機構５８ａ・５８ｃに
より上下に別個に位置調節が可能となっている。

【００６１】ノズル保持アーム５１にパドル形成用ノズ
ル８０ａとスプレーノズル８０ｃを配設した場合には、
前記した図６の場合とは異なり、例えば、図１０に示す
ようにパドル形成用ノズル８０ａとスプレーノズル８０
ｃに同一の現像液が供給されるように現像液の送液経路
Ａ・Ｃを構成し、そして最初にパドル形成用ノズル８０
ａを用いて現像液パドルを形成した後に、スプレーノズ
ル８０ｃを用いて形成された現像液パドルの上からさら
に現像液を塗布する。

【００６２】スプレーノズル８０ｃに形成された略楕円
状の現像液吐出口８５ｃからは現像液が略扇形平面状に
して吐出されるようになっており、こうして吐出された
現像液の吐出勢いは、パドル形成用ノズル８０ａを用い
た場合よりも大きい。このようにして圧力（インパク
ト）を与えながら基板Ｇに現像液を塗布することによ
り、先に形成された現像液パドルが撹拌され、現像反応
がより均一に進行するようになる。こうして現像特性が
向上し、より明瞭で均一なパターンが得られ、しかも現
像時間が短縮される。

【００６３】なお、現像液吐出口８５ｃの形状は、図９
に示すような略楕円形状に限定されるものではなく、円
形や長円形等であってもよい。また、現像液吐出口８５
ｃから吐出される現像液の形態も略扇形平面状に限定さ
れるものではなく、円錐状等であっても構わない。さら
に、現像液吐出口８５ｃは、図９に示すように一直線上
にあるように配設しなければならないものではなく、例
えば、千鳥状に配設してもよい。

【００６４】また、各送液経路Ａ・Ｃには、脱気モジュ
ール５９ａ・５９ｃ、三方バルブ５７ａ・５７ｃが配設
されており、パドル形成用ノズル８０ａ内の現像液とス
プレーノズル８０ｃ内の現像液を個別に排出することが
できるようになっている。但し、パドル形成用ノズル８
０ａとスプレーノズル８０ｃからは同じ現像液が供給さ
れることから、例えば、一方のノズルの使用中に他方の
使用していないノズルから液垂れが生じても、現像特性
に与える影響は無視することができる。

【００６５】上述したパドル形成用ノズル８０ａとスプ
レーノズル８０ｃを用いて同一の現像液を基板Ｇに塗布
する場合の現像処理工程は、図１１のフローチャートに
示す通りである。図１１に示した現像処理工程において
は、先に図７のフローチャートを参照しながら説明した
ように、２本のパドル形成用ノズル８０ａ・８０ｂをノ
ズル保持アーム５１に配設して、異なるロットの基板Ｇ
に対して異なる現像液Ａ・Ｂを用いて連続的に処理を行
うという現像処理工程は採らない。しかし、図１１に示
したステップ１からステップ６およびステップ８からス
テップ１６までの工程は、図７に示した現像処理工程の
ステップ１からステップ６およびステップ８からステッ
プ１６までと同様である。

【００６６】従って、ステップ６からステップ８に至る
工程を詳しく説明すると、ステップ６においてパドル形
成用ノズル８０ａを用いて基板Ｇ上に現像液パドルを形
成した後には、パドル形成用ノズル８０ａを昇降機構５
８ａを駆動させて上方に保持し（ステップ７−１）、代
わりにスプレーノズル８０ｃを昇降機構５８ｃを駆動さ
せて下方位置に保持する（ステップ７−２）。そして、
スプレーノズル８０ｃを用いてパドル形成用ノズル８０
ａによって形成された現像液パドルの上からさらに現像
液を塗布し（ステップ７−３）、現像処理を進行させ
る。

【００６７】なお、ステップ７−３の工程においては、
基板Ｇを所定の低い回転数で回転させながら、スプレー
ノズル８０ｃから現像液を吐出させても構わず、ステッ
プ７−３以降は基板Ｇを回転させたままステップ９へ移
行してもよい。基板Ｇを回転させて基板Ｇから一部の現
像液を排出しながら一方で新しい現像液を塗布すること
によって、現像反応の進行を早め、処理時間を短縮する
ことができる。

【００６８】スプレーノズル８０ｃによる現像液の塗布
が終了したら、スプレーノズル８０ｃを昇降機構５８ｃ
を駆動させて上方に保持し（ステップ７−４）、ノズル
保持アーム５１を待避させる（ステップ８）。さらにス
テップ９以降の処理を行うが、ここで、ステップ１６に
おいて、スピンチャック４１から搬送アーム１９ａへの
基板Ｇの受け渡しが全ての基板Ｇについて終了した場合
には、三方バルブ５７ａ・５７ｃにおける現像液供給側
のバルブを閉じて、真空吸引側のバルブを開けることに
より、パドル形成用ノズル８０ａとスプレーノズル８０
ｃ内の現像液を排出する（ステップ１７ａ）。こうし
て、現像処理が終了する。

【００６９】次に、現像液供給機構の別の実施の形態に
ついて図１２の平面図を参照しながら説明する。図１２
に示した現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃ
は、現像液の供給のためのノズル保持アーム５１を有し
ており、ノズル保持アーム５１は駆動機構５２によって
ガイドレール５３に沿って駆動されるようになってい
る。

【００７０】ノズル保持アーム５１には、パドル形成用
ノズル８０ａ、スプレーノズル８０ｃ、プレリンスノズ
ル６０ａの３本のノズルが配設されている。従って、パ
ドル形成用ノズル８０ａ、スプレーノズル８０ｃ、プレ
リンスノズル６０ａの吐出口の高さ位置を調節する機構
が、ノズル保持アーム５１とそれぞれのノズルとの間に
設けられる。

【００７１】なお、プレリンスノズル６０ａは、例え
ば、リンス液吐出ノズル６０と同様に、直管状のノズル
を用いて構成され、基板Ｇへのスプレーノズル８０ｃを
用いて所定の現像液を基板Ｇに塗布した直後に、引き続
いて所定のリンス液を基板Ｇに供給し、現像反応を停止
させる役割を果たす。こうして、スプレーノズル８０ｃ
を用いて均一な現像反応を進行させた後、すぐにプレリ
ンスノズル６０ａからリンス液を吐出して現像反応を停
止させることにより、現像液が基板Ｇ上に滞留する時間
が短くなり、現像反応の均一性をより高めることがで
き、優れた形状精度を有するパターンを得ることが可能
となる。

【００７２】図１２に示した現像処理ユニット（ＤＥ
Ｖ）２４ａ〜２４ｃでは、プレリンスノズル６０ａに加
えてリンス液吐出ノズル６０も配設されており、プレリ
ンスノズル６０ａによる現像反応の停止後は、リンス液
吐出ノズル６０を用いたリンス処理を行う。もちろん、
プレリンスノズル６０ａにリンス液吐出ノズル６０の役
割を担わせることは可能である。

【００７３】しかしながら、その場合には、現像液を吐
出するパドル形成用ノズル８０ａとスプレーノズル８０
ｃもまたリンス処理時に基板Ｇ上にあることとなり、例
えば、リンス処理が終了してスピン乾燥処理へ移行ため
にノズル保持アーム５１を基板Ｇから待避するように移
動させたときに、パドル形成用ノズル８０ａまたはスプ
レーノズル８０ｃから基板Ｇ上への現像液の液垂れ等が
発生するおそれがある。こうした現像液の液垂れにより
基板Ｇに現像不良が発生することが懸念されることか
ら、リンス処理の最終段階ではリンス液のみを吐出する
ノズルが基板Ｇ上にあり、リンス液を供給している形態
を採ることが好ましい。

【００７４】ノズル保持アーム５１に配設されたパドル
形成用ノズル８０ａ、スプレーノズル８０ｃ、プレリン
スノズル６０ａを用いた現像処理工程のフローチャート
を図１３に示す。図１３に示したステップ１からステッ
プ３およびステップ９からステップ１６までの工程は、
図７および図１１に示した現像処理工程と同様である。
従って、ステップ４からステップ８に至る工程を詳しく
説明すると、ステップ３に従って、スピンチャック４１
を降下させて基板Ｇを所定位置に保持した後、ノズル保
持アーム５１を駆動させて、パドル形成用ノズル８０ａ
による現像液パドル形成を行う（ステップ４ａ）。この
ときには、パドル形成用ノズル８０ａの現像液吐出口８
５ａがスプレーノズル８０ｃの現像液吐出口８５ｃとプ
レリンスノズル６０ａのリンス液吐出口よりも下方に位
置するように、高さ位置を調整しておく。

【００７５】次に、パドル形成用ノズル８０ａをノズル
保持アーム５１に近づくように上昇させて高さ位置を調
整し、その代わりにスプレーノズル８０ｃの現像液吐出
口８５ｃが最も下方に位置するようにして、基板Ｇ上に
形成されている現像液パドルの上からさらに現像液を塗
布する（ステップ５ａ）。スプレーノズル８０ｃによる
現像液の塗布の終了後には、スプレーノズル８０ｃをノ
ズル保持アーム５１に近づくように上昇させて高さ位置
を調整し、代わりにプレリンスノズル６０ａのリンス液
吐出口が、スプレーノズル８０ｃの現像液吐出口８５ｃ
よりも低い位置にくるように、プレリンスノズル６０ａ
の位置調節を行う（ステップ６ａ）。その後、プレリン
スノズル６０ａからリンス液の吐出を始めるとほぼ同時
に、基板Ｇの回転を開始し、また、排気口４９からの排
気動作を開始する（ステップ７ａ）。プレリンスノズル
６０ａからのリンス液の吐出終了後は、基板Ｇを回転さ
せたままノズル保持アーム５１を待避して、代わりにリ
ンス液吐出ノズル６０を駆動し（ステップ９）、以降の
リンス処理に入る。

【００７６】なお、スプレーノズル８０ｃによる現像液
の塗布終了からプレリンスノズル６０ａによるリンス液
の吐出開始までの時間をできるだけ短くすることによ
り、現像反応の均一性を確保した状態で現像反応を停止
することができ、こうして均一で形状精度に優れたパタ
ーンを得ることが可能となる。

【００７７】また、上記説明ではステップ７ａにおいて
基板Ｇの回転を開始したが、スプレーノズル８０ｃによ
る現像液の塗布（ステップ５ａ）を基板Ｇを所定の低い
回転数で回転させながら行い、基板Ｇを回転させた状態
でプレリンスノズル６０ａによるリンス液の吐出を開始
することも好ましい。この場合には、基板Ｇを回転させ
ながら現像を行うことによって発生する渦巻状の現像跡
の発生を低減することができる。

【００７８】以上、本発明の実施の形態について説明し
てきたが、本発明が上記形態に限定されるものでなく、
種々の変形が可能である。例えば、図５に示したよう
に、１本のノズル保持アーム５１に２本のパドル形成用
ノズル８０ａ・８０ｂを配設した場合に、さらにノズル
保持アーム５１にプレリンスノズル６０ａを配設して、
個々のノズルに昇降機構を設けて処理液の吐出口の位置
を調節できるように構成する。この場合に、現像液パド
ルの形成時間を長く取り、その代わりに現像液パドルを
放置して現像反応時間をかけることなく、現像液パドル
形成後は即座にプレリンスノズル６０ａからリンス液を
吐出させて、現像反応を停止させるといった現像処理を
行うことができ、これにより明瞭な現像パターンを得る
ことができるようになる。

【００７９】また、ノズル保持アーム５１を２本配設し
て、それぞれのアームにパドル形成用ノズル８０ａ、ス
プレーノズル８０ｃ、プレリンスノズル６０ａを１本ず
つ配設し、アーム毎に異なる種類および／または濃度の
現像液が吐出できるように構成しておくと、使用する現
像液の異なるロットの基板Ｇに対する現像処理に容易に
対応することができるようになる。

【００８０】ノズル保持アーム５１に配設することがで
きるノズルの数は任意であり、例えば、１本のノズル保
持アーム５１に３本以上のパドル形成用ノズル８０ａ
（８０ｂ）またはスプレーノズル８０ｃを配設し、さら
にプレリンスノズル６０ａを配設してもよい。また、１
台の現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ〜２４ｃに配設
されるノズル保持アーム５１の数は２本以上を配設する
ことも可能である。

【００８１】基板Ｇを保持する手段としては、上記実施
形態のように、基板Ｇを吸着力により保持するスピンチ
ャック４１に限定されず、例えば、基板Ｇよりも大きな
スピンプレート上に凸に形成された複数の固定ピン上に
基板Ｇを載置して、基板Ｇを回転させた際に基板Ｇの位
置がずれないように、基板Ｇの端面の所定位置、例え
ば、４隅において基板Ｇを別のピン等で保持するメカニ
カルな方法を用いることもできる。

【００８２】また、現像処理工程においては、インナー
カップ４６とアウターカップ４７とを昇降させて現像液
の振り切り、リンス処理、スピン乾燥時の位置調節を行
ったが、インナーカップ４６とアウターカップ４７を固
定として、スピンチャック４１を昇降させて所定位置に
保持しながら、現像液の振り切り等の処理を行うことも
可能である。さらに、上記実施形態では、ＬＣＤ基板を
被処理基板として説明してきたが、半導体ウエハ、ＣＤ
基板等の他の基板についても用いることが可能である。

【００８３】

【発明の効果】上述の通り、本発明によれば、１台の現
像処理装置（現像処理ユニット）に、パドル形成用ノズ
ルやスプレーノズル等の基板に現像液を塗布するための
現像液吐出ノズルが複数配設されていることから、異な
る種類および／または濃度の現像液の供給が必要な場合
には使用するノズルを切り替えることで対処することが
できるようになる。これにより１本のノズルのみが配設
されている場合と比較して、ノズル洗浄を行う時間のロ
スが無くなって生産性が向上し、また異なる現像液の混
合による特性低下やパーティクルの発生が低減されて、
高品質の基板を得ることが可能となる。

【００８４】また、基板上に現像液パドルを形成した後
にスプレーノズルを用いて、圧力（インパクト）を与え
ながら現像液を供給することにより、現像液パドルが撹
拌されて現像処理がより均一に進行するようになるた
め、現像特性が向上し、より明瞭で均一な現像パターン
が得られ、しかも現像時間が短縮されるようになる。こ
の点からも、生産性が向上し、高品質な基板を得、しか
もパターンの微細化にも対応することが可能となる。

【００８５】さらに、プレリンスノズルが現像液吐出ノ
ズルと同じノズル保持アームに配設されている場合に
は、現像液の塗布後に間髪を空けずにリンス液を供給す
ることが可能となり、これにより、均一に現像反応を進
行させつつ即座にリンス液を供給して現像反応を停止さ
せることができることから、現像特性の向上、明瞭で均
一なパターンの形成、現像処理時間の短縮といった効果
が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の現像処理装置（現像処理ユニット）が
用いられるレジスト塗布・現像システムの一実施形態を
示す平面図。

【図２】本発明の現像処理装置の一実施形態を示す平面
図。

【図３】本発明の現像処理装置一実施形態を示す断面
図。

【図４】本発明の現像処理装置の制御系の一実施形態を
示す説明図。

【図５】本発明の現像処理装置に用いられる現像液吐出
ノズルの一実施形態を示す斜視図。

【図６】図５記載の現像液吐出ノズルを用いた場合の現
像液吐出ノズルへの現像液の供給経路の一実施形態を示
す説明図。

【図７】図５記載の現像液吐出ノズルを用いた場合の現
像処理工程を示す説明図。

【図８】スピン乾燥時における基板へのガス供給の一実
施形態を示す説明図

【図９】本発明の現像処理装置に用いられる現像液吐出
ノズルの別の実施形態を示す斜視図。

【図１０】図９記載の現像液吐出ノズルを用いた場合の
現像液吐出ノズルへの現像液の供給経路の一実施形態を
示す説明図。

【図１１】図９記載の現像液吐出ノズルを用いた場合の
現像処理工程を示す説明図。

【図１２】本発明の現像処理装置の別の実施形態を示す
平面図。

【図１３】図１２に記載の現像処理装置に配設した現像
液吐出ノズルを用いた場合の現像処理工程を示す説明
図。

【符号の説明】

１；カセットステーション ２；処理部 ３；インターフェイス部 ２４ａ〜２４ｃ；現像処理ユニット（ＤＥＶ） ４１；スピンチャック ４６；インナーカップ ４７：アウターカップ ４８；シンク ５１・５１ａ・５１ｂ；ノズル保持アーム ５７ａ・５７ｂ；三方バルブ ５８ａ〜５８ｃ；昇降機構 ５９ａ〜５９ｃ；脱気モジュール ６０；リンス液吐出ノズル ６０ａ；プレリンスノズル ８０ａ・８０ｂ；パドル形成用ノズル ８０ｃ；スプレーノズル １００；レジスト塗布・現像処理システム Ｇ；基板（被処理基板）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 彰宏 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４ 東京エレクトロン九州株式会社 大津事業所内 Ｆターム(参考） 2H096 AA30 GA31 5F046 CD01 CD05 CD06 JA22 KA01 KA07 LA03 LA04 LA07 LA08 LA14 LA18

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を載置して保持する保持手段と、 前記保持手段に保持された基板に所定の現像液を供給す
   る現像液供給機構と、 を具備する現像処理装置であって、 前記現像液供給機構は、 所定の現像液を吐出する複数の現像液吐出ノズルと、 前記複数の現像液吐出ノズルを保持する１つのノズル保
   持アームと、 前記複数の現像液吐出ノズルの高さを個別に調節可能な
   昇降機構と、 を有することを特徴とする現像処理装置。
2. 【請求項２】 前記現像液吐出ノズルの少なくとも１本
   は、スリット状または複数の孔部が縦列配置されてなる
   一方向に長い現像液吐出口を有するものであることを特
   徴とする請求項１に記載の現像処理装置。
3. 【請求項３】 前記複数の現像液吐出ノズルの全てが、
   前記保持手段に保持された基板に所定の現像液を液盛り
   するパドル形成用ノズルであることを特徴とする請求項
   １または請求項２に記載の現像処理装置。
4. 【請求項４】 前記複数の現像液吐出ノズルのうちの１
   本は、前記保持手段に保持された基板に所定の現像液を
   液盛りするパドル形成用ノズルであり、 その他の現像液吐出ノズルの少なくとも１本は、前記保
   持手段に保持された基板に所定の現像液を吹き付け供給
   するスプレーノズルであることを特徴とする請求項１ま
   たは請求項２に記載の現像処理装置。
5. 【請求項５】 前記複数の現像液吐出ノズルは、それぞ
   れが異なる種類および／または濃度の現像液を前記保持
   手段に保持された基板に供給するものであることを特徴
   とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の現
   像処理装置。
6. 【請求項６】 前記現像液吐出ノズルの内部を減圧し、
   前記現像液吐出ノズルからの液垂れを防止する吸引機構
   が、前記現像液吐出ノズルへ所定の現像液を送液する送
   液経路の途中に配設されていることを特徴とする請求項
   １から請求項５のいずれか１項に記載の現像処理装置。
7. 【請求項７】 前記現像液吐出ノズルへ所定の現像液を
   送液する送液経路の途中に、現像液中に含まれる気泡を
   除去するための脱気モジュールが配設されていることを
   特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載
   の現像処理装置。
8. 【請求項８】 基板を載置して保持する保持手段と、 前記保持手段に保持された基板に所定の現像液を供給す
   る現像液供給機構と、 現像液が塗布された基板にリンス液を供給するリンス液
   供給機構と、 を具備する現像処理装置であって、 前記現像液供給機構は、 前記保持手段に保持された基板に所定の現像液を液盛り
   するパドル形成用ノズルと、 前記保持手段に保持された基板に所定の現像液を吹き付
   け供給するスプレーノズルと、を有し、 前記リンス液供給機構は、 前記保持手段に保持された基板への所定の現像液の塗布
   終了に引き続いて所定のリンス液を基板に供給するプレ
   リンスノズルと、 前記プレリンスノズルによるリンス液の供給終了後に、
   所定のリンス液の供給を行うリンス液吐出ノズルと、を
   有し、 前記スプレーノズルと前記プレリンスノズルは同一のノ
   ズル保持アームに配設されていることを特徴とする現像
   処理装置。
9. 【請求項９】 前記スプレーノズルと前記プレリンスノ
   ズルの位置調節を行う位置調節機構を具備することを特
   徴とする請求項８に記載の現像処理装置。
10. 【請求項１０】 前記パドル形成用ノズルが前記スプレ
    ーノズルと前記プレリンスノズルとともに前記ノズル保
    持アームに保持され、前記パドル形成用ノズルの位置調
    節を行う位置調節機構が具備することを特徴とする請求
    項９に記載の現像処理装置。
11. 【請求項１１】 露光処理がされた基板の現像処理方法
    であって、 略平行に載置された基板に所定の現像液を供給して液盛
    りを行う第１工程と、 所定の現像液が液盛りされた基板に所定の現像液の吹き
    付け供給を行う第２工程と、 前記第２工程における現像液の吹き付け供給の終了後に
    連続して基板にリンス液を供給する第３工程と、 を有することを特徴とする現像処理方法。
12. 【請求項１２】 前記第３工程後に、前記リンス液を供
    給するノズルを変更してリンス処理を行う第４工程を有
    することを特徴とする請求項１１に記載の現像処理方
    法。
13. 【請求項１３】 前記基板を所定の回転数で面内で回転
    するように回転させながら前記第２工程以降または前記
    第３工程以降の工程を行うことを特徴とする請求項１１
    または請求項１２に記載の現像処理方法。