JP2011129953A - 現像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表面にレジストが塗布され露光された後の基板を回転させながら現像処理する現像処理方法において、基板Wの上方に配置された現像液ノズル4bを基板Wの中心側から外周側へ移動させ、現像液ノズル4bから基板Wの表面に現像液Dを供給する現像液供給ステップと、基板Wの上方に配置された第1のリンス液ノズル4cを基板Wの中心側から外周側へ移動させ、第1のリンス液ノズル4cから基板Wの表面に第1のリンス液Rを供給する第1のリンス液供給ステップとを有し、第1のリンス液ノズル4cが現像液ノズル4bよりも基板Wの中心側に配置された状態を保ったまま、第1のリンス液供給ステップを現像液供給ステップと同時に行うことを特徴とする。
【選択図】図6B
Description
最初に、本発明の実施の形態に係る現像処理方法について説明する。
次に、図9を参照し、実施の形態の第1の変形例について説明する。
次に、図10を参照し、実施の形態の第2の変形例について説明する。
2 スピンチャック(基板保持部)
22 駆動機構(回転駆動機構)
3 カップ体
4、41〜44 ノズル
4a、41a プリウェット液ノズル
4b、41b 現像液ノズル
4c、41c、44c 純水ノズル
4d、41d、43d、44d ガスノズル
42a、43a、44a プリウェット液吐出口
42b、43b、44b 現像液吐出口
42c、43c 純水吐出口
42d ガス吐出口
5 ノズルアーム
51 移動基体(移動機構)
52 ガイド部材(移動機構)
61a プリウェット液配管
61b 現像液配管
61c 純水配管
61d ガス配管
62a プリウェット液の供給源
62b 現像液の供給源
62c 純水の供給源
62d ガスの供給源
7 制御部
AR1、AR21、AR22、AR31〜AR33、AR41〜AR44、AR51〜AR54、AR61〜AR63、AR71、AR72、AR8、AR9 領域
D 現像液
DEV 現像ユニット(現像装置)
G ガス
PW プリウェット液
R 純水(リンス液)
W ウェハ(基板)
Claims (9)
- 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を現像処理する現像装置において、
前記基板を水平に保持した状態で鉛直軸周りに回転可能に設けられた基板保持部と、
前記基板の上方を前記基板の中心側から外周側へ移動可能に設けられており、前記基板の表面に現像液を供給する現像液ノズルと、
前記基板の上方を前記基板の中心側から外周側へ移動可能に設けられており、前記基板の表面に第1のリンス液を供給する第1のリンス液ノズルと、
前記現像液ノズルと前記第1のリンス液ノズルとを移動させる移動機構と
を有し、
前記現像液ノズルと前記第1のリンス液ノズルとは、前記現像液ノズルが前記基板の中心上に位置するときに、前記現像液ノズルが前記基板の中心側から外周側へ移動する移動方向と逆の方向に、前記現像液ノズル、前記第1のリンス液ノズルの順に配置されていることを特徴とする現像装置。 - 前記基板の上方を前記基板の中心側から外周側へ移動可能に設けられており、前記基板の表面にガスを吐出するガスノズルを有し、
前記移動機構は、前記ガスノズルを前記基板の中心側から外周側へ移動させるものであり、
前記現像液ノズルと前記第1のリンス液ノズルと前記ガスノズルとは、前記移動方向と逆の方向に、前記現像液ノズル、前記第1のリンス液ノズル、前記ガスノズルの順に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の現像装置。 - 前記基板の上方を前記基板の中心側から外周側へ移動可能に設けられており、前記基板の表面に第2のリンス液を供給する第2のリンス液ノズルを有し、
前記移動機構は、前記第2のリンス液ノズルを前記基板の中心側から外周側へ移動させるものであり、
前記現像液ノズルと前記第1のリンス液ノズルと前記第2のリンス液ノズルとは、前記移動方向と逆の方向に、前記第2のリンス液ノズル、前記現像液ノズル、前記第1のリンス液ノズルの順に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の現像装置。 - 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を、水平に保持し、鉛直軸周りに回転させながら現像処理する現像装置において、
前記基板の上方を前記基板の中心側から外周側へ移動可能に設けられており、前記基板の表面に現像液を供給する現像液ノズルと、
前記基板の上方を前記基板の中心側から外周側へ移動可能に設けられており、前記基板の表面に第1のリンス液を供給する第1のリンス液ノズルと、
前記現像液ノズル及び前記第1のリンス液ノズルの移動と、現像液及び第1のリンス液の供給とを制御する制御部と
を有し、
前記制御部は、
前記現像液ノズルを前記基板の中心側から外周側へ移動させ、前記現像液ノズルから前記基板の表面に現像液を供給すると同時に、
前記第1のリンス液ノズルが前記現像液ノズルよりも前記基板の中心側に配置された状態を保ったまま、前記第1のリンス液ノズルを前記基板の中心側から外周側へ移動させ、前記第1のリンス液ノズルから前記基板の表面に第1のリンス液を供給するよう制御することを特徴とする現像装置。 - 前記基板の上方を前記基板の中心側から外周側へ移動可能に設けられており、前記基板の表面にガスを吐出するガスノズルを有し、
前記制御部は、
前記ガスノズルの移動と、ガスの吐出とを制御するものであって、
前記現像液ノズルから前記基板の表面に現像液を供給し、前記第1のリンス液ノズルから前記基板の表面に第1のリンス液を供給すると同時に、
前記ガスノズルが前記第1のリンス液ノズルよりも前記基板の中心側に配置された状態を保ったまま、前記ガスノズルを前記基板の中心側から外周側へ移動させ、前記ガスノズルから前記基板の表面にガスを吐出するよう制御することを特徴とする請求項4に記載の現像装置。 - 前記基板の上方を前記基板の中心側から外周側へ移動可能に設けられており、前記基板の表面に第2のリンス液を供給する第2のリンス液ノズルを有し、
前記制御部は、
前記第2のリンス液ノズルの移動と、第2のリンス液の供給とを制御するものであって、
前記現像液ノズルが前記第2のリンス液ノズルよりも前記基板の中心側に配置された状態を保ったまま、前記第2のリンス液ノズルを前記基板の中心側から外周側へ移動させ、前記第2のリンス液ノズルから前記基板の表面に第2のリンス液を供給すると同時に、
前記現像液ノズルから前記基板の表面に現像液を供給し、前記第1のリンス液ノズルから前記基板の表面に第1のリンス液を供給するよう制御することを特徴とする請求項4又は5に記載の現像装置。 - 前記現像液ノズルと前記第1のリンス液ノズルとが一体的に設けられていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の現像装置。
- 前記現像液ノズルは、現像液を吐出する吐出方向が、前記基板の回転方向の成分を有するように、傾斜していることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の現像装置。
- 前記現像液ノズルは、現像液を吐出する吐出口が、スリット状の形状を有することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の現像装置。
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