JP2001318218A - Ｏｖｄ媒体及びその製造方法 - Google Patents
Ｏｖｄ媒体及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ＯＶＤの一部分を破壊して、別な画像を形成し
たＯＶＤ１３が貼付された、廉価なＯＶＤ媒体１６、及
びその製造方法を提供すること。 【解決手段】ＯＶＤの一部分を、その表面が凹部と表面
凹凸状の凸部とで構成され、該凹部と表面凹凸状の凸部
とで絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版１２を用いた
加熱・加圧によって破壊したこと。及びＯＶＤ転写箔５
３を支持体１４に転写する際に、凹凸版１２を用いるこ
と。
たＯＶＤ１３が貼付された、廉価なＯＶＤ媒体１６、及
びその製造方法を提供すること。 【解決手段】ＯＶＤの一部分を、その表面が凹部と表面
凹凸状の凸部とで構成され、該凹部と表面凹凸状の凸部
とで絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版１２を用いた
加熱・加圧によって破壊したこと。及びＯＶＤ転写箔５
３を支持体１４に転写する際に、凹凸版１２を用いるこ
と。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＯＶＤ媒体に関す
るものであり、特に、ＯＶＤに絵柄・文字など別な画像
を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体に関する。
るものであり、特に、ＯＶＤに絵柄・文字など別な画像
を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来よりＯＶＤは、意匠性やセキュリテ
ィー性を向上させるために種々な媒体に貼付されてき
た。これは、ＯＶＤはエンボス成形、或いは多層薄膜蒸
着などにより大量に廉価に複製できるからであり、また
一方では、カラーコピーなどでは複製できないためであ
る。しかし、一旦、撮影されたホログラムや多層薄膜を
部分的に変えて絵柄・文字など別な画像を与えることは
難しいものであり、ホログラムや多層薄膜の一部分に絵
柄・文字など別な画像を与える際には、例えば、レーザ
を用いて部分的に加熱しＯＶＤを破壊することになる
が、この方法は設備に多大な投資を必要とする欠点を有
している。
ィー性を向上させるために種々な媒体に貼付されてき
た。これは、ＯＶＤはエンボス成形、或いは多層薄膜蒸
着などにより大量に廉価に複製できるからであり、また
一方では、カラーコピーなどでは複製できないためであ
る。しかし、一旦、撮影されたホログラムや多層薄膜を
部分的に変えて絵柄・文字など別な画像を与えることは
難しいものであり、ホログラムや多層薄膜の一部分に絵
柄・文字など別な画像を与える際には、例えば、レーザ
を用いて部分的に加熱しＯＶＤを破壊することになる
が、この方法は設備に多大な投資を必要とする欠点を有
している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
を解決するためになされたものであり、ホログラムや多
層薄膜などＯＶＤの少なくとも一部分を破壊して、ＯＶ
Ｄに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付さ
れたＯＶＤ媒体であって、多大な投資を必要とせずに製
造できる、廉価なＯＶＤ媒体を提供することを課題とす
る。また、上記多大な投資を必要とせずに製造できる、
廉価なＯＶＤ媒体の製造方法を提供することを課題とす
る。
を解決するためになされたものであり、ホログラムや多
層薄膜などＯＶＤの少なくとも一部分を破壊して、ＯＶ
Ｄに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付さ
れたＯＶＤ媒体であって、多大な投資を必要とせずに製
造できる、廉価なＯＶＤ媒体を提供することを課題とす
る。また、上記多大な投資を必要とせずに製造できる、
廉価なＯＶＤ媒体の製造方法を提供することを課題とす
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、ＯＶＤの少な
くとも一部分を破壊して、ＯＶＤに絵柄・文字など別な
画像を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体におい
て、該少なくとも一部分を、その表面が凹部と表面凹凸
状の凸部とで構成され、該凹部と表面凹凸状の凸部とで
絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版を用いた加熱・加
圧によって破壊したことを特徴とするＯＶＤ媒体であ
る。
くとも一部分を破壊して、ＯＶＤに絵柄・文字など別な
画像を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体におい
て、該少なくとも一部分を、その表面が凹部と表面凹凸
状の凸部とで構成され、該凹部と表面凹凸状の凸部とで
絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版を用いた加熱・加
圧によって破壊したことを特徴とするＯＶＤ媒体であ
る。
【０００５】また、本発明は、上記発明によるＯＶＤ媒
体の製造方法であって、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写
箔のＯＶＤを支持体に転写する際に、凹凸版を用いて転
写することを特徴とするＯＶＤ媒体の製造方法である。
体の製造方法であって、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写
箔のＯＶＤを支持体に転写する際に、凹凸版を用いて転
写することを特徴とするＯＶＤ媒体の製造方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。図１は、本発明によるＯＶＤ媒体の一実施
例の平面図である。また、図２は、図１における一実施
例をＸ−Ｘ’断面で示す断面図である。図１、及び図２
に示すように、ＯＶＤ媒体（１６）は、支持体（１４）
上にＯＶＤ（１３）が設けられたものである。ＯＶＤ
（１３）は、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３
ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）とで構成さ
れている。そして、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部
（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）との
境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶ
Ｄ（１３）に与えられたものとなっている。
に説明する。図１は、本発明によるＯＶＤ媒体の一実施
例の平面図である。また、図２は、図１における一実施
例をＸ−Ｘ’断面で示す断面図である。図１、及び図２
に示すように、ＯＶＤ媒体（１６）は、支持体（１４）
上にＯＶＤ（１３）が設けられたものである。ＯＶＤ
（１３）は、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３
ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）とで構成さ
れている。そして、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部
（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）との
境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶ
Ｄ（１３）に与えられたものとなっている。
【０００７】図３は、このような、文字「Ａ」を表す別
な画像がＯＶＤ（１３）に与えられたＯＶＤ媒体（１
６）を製造する際に用いるホットスタンプの概念を示し
た断面図である。図３に示すように、ホットスタンプの
プレス版取り付け部（１１）に凹凸版（１２）を取り付
けておき、予め、支持体（１４）上にＯＶＤ（１３）が
貼付されたＯＶＤ媒体（１６）を台座（１５）上に配
し、凹凸版（１２）を押し付けることにより、凹凸版
（１２）の凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を
破壊し、ＯＶＤ（１３）に、ＯＶＤが破壊されていない
非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３
ｂ）を形成する。すなわち、ＯＶＤが破壊されていない
非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３
ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画
像がＯＶＤ（１３）に与えられる。
な画像がＯＶＤ（１３）に与えられたＯＶＤ媒体（１
６）を製造する際に用いるホットスタンプの概念を示し
た断面図である。図３に示すように、ホットスタンプの
プレス版取り付け部（１１）に凹凸版（１２）を取り付
けておき、予め、支持体（１４）上にＯＶＤ（１３）が
貼付されたＯＶＤ媒体（１６）を台座（１５）上に配
し、凹凸版（１２）を押し付けることにより、凹凸版
（１２）の凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を
破壊し、ＯＶＤ（１３）に、ＯＶＤが破壊されていない
非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３
ｂ）を形成する。すなわち、ＯＶＤが破壊されていない
非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３
ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画
像がＯＶＤ（１３）に与えられる。
【０００８】図４は、この際に用いる凹凸版（１２）の
表面状態を示す説明図であるが、凹凸版（１２）の表面
状態は、凹部（１２ａ）と凸部（１２ｂ）とで文字
「Ａ」を表すように構成されており、凸部（１２ｂ）の
表面は、ＯＶＤを加熱・加圧することによって破壊する
ための表面凹凸状となっている。従って、上記のよう
に、本発明によるＯＶＤ媒体は、凹凸版を用いたプレス
によってＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成するの
で、多大な投資を必要とせず、廉価なＯＶＤ媒体とな
る。
表面状態を示す説明図であるが、凹凸版（１２）の表面
状態は、凹部（１２ａ）と凸部（１２ｂ）とで文字
「Ａ」を表すように構成されており、凸部（１２ｂ）の
表面は、ＯＶＤを加熱・加圧することによって破壊する
ための表面凹凸状となっている。従って、上記のよう
に、本発明によるＯＶＤ媒体は、凹凸版を用いたプレス
によってＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成するの
で、多大な投資を必要とせず、廉価なＯＶＤ媒体とな
る。
【０００９】図５は、本発明によるＯＶＤ媒体の製造方
法を示す説明図である。本発明によるＯＶＤ媒体の製造
方法は、図５に示すように、ホットスタンプのプレス版
取り付け部（１１）に凹凸版（１２）を取り付けてお
き、台座（１５）上の支持体（１４）の上に、ＯＶＤが
形成されたＯＶＤ転写箔（５３）を配し、凹凸版（１
２）を押し付けることにより、ＯＶＤ転写箔（５３）の
ＯＶＤ（１３）を支持体（１４）に転写し、製造するも
のである。
法を示す説明図である。本発明によるＯＶＤ媒体の製造
方法は、図５に示すように、ホットスタンプのプレス版
取り付け部（１１）に凹凸版（１２）を取り付けてお
き、台座（１５）上の支持体（１４）の上に、ＯＶＤが
形成されたＯＶＤ転写箔（５３）を配し、凹凸版（１
２）を押し付けることにより、ＯＶＤ転写箔（５３）の
ＯＶＤ（１３）を支持体（１４）に転写し、製造するも
のである。
【００１０】この転写により、ＯＶＤ転写箔（５３）に
形成されたＯＶＤ（１３）が支持体（１４）に転写され
ると同時に、上記凹凸版（１２）の凸部がＯＶＤの干渉
構造もしくは回折構造を破壊し、ＯＶＤ（１３）に、Ｏ
ＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが
破壊された凹凸部（１３ｂ）を形成する。すなわち、本
発明によるＯＶＤ媒体の製造方法は、ＯＶＤが破壊され
ていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸
部（１３ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表
す別な画像がＯＶＤ（１３）に効率よく与えられるＯＶ
Ｄ媒体の製造方法となる。
形成されたＯＶＤ（１３）が支持体（１４）に転写され
ると同時に、上記凹凸版（１２）の凸部がＯＶＤの干渉
構造もしくは回折構造を破壊し、ＯＶＤ（１３）に、Ｏ
ＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが
破壊された凹凸部（１３ｂ）を形成する。すなわち、本
発明によるＯＶＤ媒体の製造方法は、ＯＶＤが破壊され
ていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸
部（１３ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表
す別な画像がＯＶＤ（１３）に効率よく与えられるＯＶ
Ｄ媒体の製造方法となる。
【００１１】本発明でいうＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖ
ａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）とは、ホログラムや回
折格子などの光回折効果を持つものや多層薄膜のような
光干渉効果を持つものを指す。ホログラムや回折格子の
ようなＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パター
ンとして平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞
を記録する体積型がある。
ａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）とは、ホログラムや回
折格子などの光回折効果を持つものや多層薄膜のような
光干渉効果を持つものを指す。ホログラムや回折格子の
ようなＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パター
ンとして平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞
を記録する体積型がある。
【００１２】また、見る角度により色の変化（カラーシ
フト）を生じる多層薄膜のようなＯＶＤとしては、光学
特性の異なるセラミックスや金属の薄膜を積層したもの
がある。この他に、光の干渉を利用した固有の像や色の
変化を生じるものであればこれらに限られるものではな
い。これらのＯＶＤの中では、量産性やコストを考慮し
た場合には、レリーフ型ホログラム（回折格子）や多層
薄膜が好ましいものである。
フト）を生じる多層薄膜のようなＯＶＤとしては、光学
特性の異なるセラミックスや金属の薄膜を積層したもの
がある。この他に、光の干渉を利用した固有の像や色の
変化を生じるものであればこれらに限られるものではな
い。これらのＯＶＤの中では、量産性やコストを考慮し
た場合には、レリーフ型ホログラム（回折格子）や多層
薄膜が好ましいものである。
【００１３】レリーフ型ホログラム（回折格子）は光学
的な撮影方法により、微細な凹凸パターンからなるレリ
ーフ型のマスターホログラムを作製し、次に、このマス
ターホログラムから電気メッキ法により凹凸パターンを
複製したニッケル製のプレス版を作製し量産する。すな
わち、このプレス版を加熱し、ホログラム形成層に押し
当て、凹凸パターンを複製する。
的な撮影方法により、微細な凹凸パターンからなるレリ
ーフ型のマスターホログラムを作製し、次に、このマス
ターホログラムから電気メッキ法により凹凸パターンを
複製したニッケル製のプレス版を作製し量産する。すな
わち、このプレス版を加熱し、ホログラム形成層に押し
当て、凹凸パターンを複製する。
【００１４】それゆえ、ホログラム形成層は熱による成
形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が
得られる材料であることが必要であり、例えば、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるい
は、ラジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬
化性樹脂を単独あるいは複合して用いることができる。
また、上記以外のものでも、ホログラム形成層として凹
凸パターンを形成可能な安定な材料であれば使用可能で
ある。
形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が
得られる材料であることが必要であり、例えば、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるい
は、ラジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬
化性樹脂を単独あるいは複合して用いることができる。
また、上記以外のものでも、ホログラム形成層として凹
凸パターンを形成可能な安定な材料であれば使用可能で
ある。
【００１５】また、ＯＶＤにレリーフ型ホログラム（回
折格子）を用いた場合、その回折効率を高めるためレリ
ーフ面を構成する高分子材料（ホログラム形成層）と屈
折率の異なる反射層を設けることが好ましい。この反射
層を設けることにより、回折効率が向上し、より鮮明な
画像や色の変化をもたらすものになる。用いる材料とし
ては、屈折率の異なるＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、Ｆ
ｅ2 Ｏ3 、ＺｎＳなどの高屈折率材料や、より反射効果
の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材
料が挙げられる。これらの材料は単独あるいは積層して
使用できるものであり、これらの材料は真空蒸着法、ス
パッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、そ
の膜厚は用途によって異なるが、５〜１０００ｎｍ程度
で形成される。
折格子）を用いた場合、その回折効率を高めるためレリ
ーフ面を構成する高分子材料（ホログラム形成層）と屈
折率の異なる反射層を設けることが好ましい。この反射
層を設けることにより、回折効率が向上し、より鮮明な
画像や色の変化をもたらすものになる。用いる材料とし
ては、屈折率の異なるＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、Ｆ
ｅ2 Ｏ3 、ＺｎＳなどの高屈折率材料や、より反射効果
の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材
料が挙げられる。これらの材料は単独あるいは積層して
使用できるものであり、これらの材料は真空蒸着法、ス
パッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、そ
の膜厚は用途によって異なるが、５〜１０００ｎｍ程度
で形成される。
【００１６】また、その屈折率が、ホログラム形成層で
使用される高分子材料（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よ
りも高い材料であれば、上記の無機材料以外の有機系、
有機無機複合体、有機系材料に無機系フィラーを分散し
たものなどが使用可能である。これらの材料はグラビア
コート、ダイコート、スクリーン印刷等の公知のコーテ
ィング法や印刷法にて０．１〜１０μｍ程度のホログラ
ム形成層に形成される。また、上記以外の材料であって
も反射性を有した材料であれば、適宜使用することが可
能である。
使用される高分子材料（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よ
りも高い材料であれば、上記の無機材料以外の有機系、
有機無機複合体、有機系材料に無機系フィラーを分散し
たものなどが使用可能である。これらの材料はグラビア
コート、ダイコート、スクリーン印刷等の公知のコーテ
ィング法や印刷法にて０．１〜１０μｍ程度のホログラ
ム形成層に形成される。また、上記以外の材料であって
も反射性を有した材料であれば、適宜使用することが可
能である。
【００１７】一方、多層薄膜で形成されるＯＶＤは、異
なる光学適性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、
セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜
として積層形成される。たとえば、屈折率の異なる薄膜
を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組
み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層
するようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所
望の多層薄膜を得ることができる。
なる光学適性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、
セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜
として積層形成される。たとえば、屈折率の異なる薄膜
を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組
み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層
するようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所
望の多層薄膜を得ることができる。
【００１８】この多層薄膜には、セラミックスや金属な
どの材料が用いられ、おおよそ屈折率が２．０以上の高
屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定
の膜圧で積層したものである。以下に用いられる材料の
一例を挙げる。まず、セラミックスとしては、例えば、
Ｓｂ2 Ｏ3 （３．０）、Ｆｅ2 Ｏ3 （２．７）、ＴｉＯ
2 （２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2 （２．
３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2 （２．３）、Ｃｄ
Ｏ（２．２）、Ｓｂ2 Ｏ3 （２．０）、ＷＯ3 （２．
０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ2 Ｏ3 （２．５）、Ｉｎ
2 Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2 Ｏ
3 （２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2 （２．
０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ2 （１．５）、ＭｇＦ
2 （１．４）、ＣｅＦ3 （１．６）、ＣａＦ2 （１．
３）、ＡｌＦ3 （１．６）、Ａｌ2 Ｏ 3 （１．６）、Ｇ
ａＯ（１．７）等が挙げられる。尚、カッコ内の数値は
屈折率を示す。
どの材料が用いられ、おおよそ屈折率が２．０以上の高
屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定
の膜圧で積層したものである。以下に用いられる材料の
一例を挙げる。まず、セラミックスとしては、例えば、
Ｓｂ2 Ｏ3 （３．０）、Ｆｅ2 Ｏ3 （２．７）、ＴｉＯ
2 （２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2 （２．
３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2 （２．３）、Ｃｄ
Ｏ（２．２）、Ｓｂ2 Ｏ3 （２．０）、ＷＯ3 （２．
０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ2 Ｏ3 （２．５）、Ｉｎ
2 Ｏ3（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2 Ｏ
3 （２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2 （２．
０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ2 （１．５）、ＭｇＦ
2 （１．４）、ＣｅＦ3 （１．６）、ＣａＦ2 （１．
３）、ＡｌＦ3 （１．６）、Ａｌ2 Ｏ 3 （１．６）、Ｇ
ａＯ（１．７）等が挙げられる。尚、カッコ内の数値は
屈折率を示す。
【００１９】金属単体もしくは合金の薄膜としては、例
えば、Ａｌ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。また、低屈折率
の有機ポリマーとしては、たとえば、ポリエチレン
（１．５１）ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラ
フロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクレート
（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等が挙げられ
る。これらの高屈折率材料、もしくは透過率３０％〜６
０％の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より
少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させる
ことにより、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは
反射を示す多層薄膜となる。
えば、Ａｌ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。また、低屈折率
の有機ポリマーとしては、たとえば、ポリエチレン
（１．５１）ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラ
フロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクレート
（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等が挙げられ
る。これらの高屈折率材料、もしくは透過率３０％〜６
０％の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より
少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させる
ことにより、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは
反射を示す多層薄膜となる。
【００２０】上記の各材料の中から、屈折率、反射率、
透過率等の光学特性や耐光性、耐薬品性、層間密着性な
どに基づき材料を適宜選択し、薄膜として積層し多層薄
膜を形成する。形成方法は、公知の手法を用いることが
でき、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝
ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な通
常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析
出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることが
できる。また、低屈折率の有機ポリマーの成膜方法とし
ては、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スク
リーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア
法、ロールコート法などの塗布方法を用いることができ
る。尚、本発明ではセラミックスおよび金属と同等、あ
るいは類似する屈折率と反射率を有するものであれば用
いることが可能である。
透過率等の光学特性や耐光性、耐薬品性、層間密着性な
どに基づき材料を適宜選択し、薄膜として積層し多層薄
膜を形成する。形成方法は、公知の手法を用いることが
でき、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝
ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な通
常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析
出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることが
できる。また、低屈折率の有機ポリマーの成膜方法とし
ては、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スク
リーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア
法、ロールコート法などの塗布方法を用いることができ
る。尚、本発明ではセラミックスおよび金属と同等、あ
るいは類似する屈折率と反射率を有するものであれば用
いることが可能である。
【００２１】この多層薄膜層の層厚は、具体的には５〜
２０００ｎｍの範囲であり、また、薄膜の層構成は上記
高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、例え
ば、ＺｎＳ、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｉｎ2 Ｏ3 、Ｓｎ
Ｏ、ＩＴＯ、ＣｅＯ2 、ＺｎＯ、Ｔａ2 Ｏ3 、Ａｌ、Ｆ
ｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ
などと、上記低屈折率の材料からなる薄膜、例えば、Ｍ
ｇＦ2 、ＳｉＯ2 、ＣａＦ 2 、ＭｇＯ、Ａｌ2 Ｏ3 など
との組み合わせであり、それらを交互に積相し、その積
層数が２層以上、好ましくは２層〜９層である。分光特
性は層数に応じて変化する。尚、用いる材料、組み合わ
せにより多層膜の光学特性が異なるため、これに限定さ
れるものではない。
２０００ｎｍの範囲であり、また、薄膜の層構成は上記
高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、例え
ば、ＺｎＳ、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｉｎ2 Ｏ3 、Ｓｎ
Ｏ、ＩＴＯ、ＣｅＯ2 、ＺｎＯ、Ｔａ2 Ｏ3 、Ａｌ、Ｆ
ｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ
などと、上記低屈折率の材料からなる薄膜、例えば、Ｍ
ｇＦ2 、ＳｉＯ2 、ＣａＦ 2 、ＭｇＯ、Ａｌ2 Ｏ3 など
との組み合わせであり、それらを交互に積相し、その積
層数が２層以上、好ましくは２層〜９層である。分光特
性は層数に応じて変化する。尚、用いる材料、組み合わ
せにより多層膜の光学特性が異なるため、これに限定さ
れるものではない。
【００２２】凹凸版の凸部の表面凹凸状は、０．０１か
ら１ｍｍの間隔で凹凸を、例えば、線状に設けたもので
ある。この凹凸版をＯＶＤに加熱・加圧することにより
ＯＶＤの効果を破壊もしくは変化させ、絵柄・文字など
別な画像を形成することができる。凸部の表面凹凸状が
深い場合には破壊され、浅い場合には変形される。ま
た、凸部の表面凹凸状により反射方向を変えることによ
り画像を形成することができる。凹凸版は、エッチン
グ、彫刻、旋盤など公知の金属加工技術を用いて作製す
ることができる。
ら１ｍｍの間隔で凹凸を、例えば、線状に設けたもので
ある。この凹凸版をＯＶＤに加熱・加圧することにより
ＯＶＤの効果を破壊もしくは変化させ、絵柄・文字など
別な画像を形成することができる。凸部の表面凹凸状が
深い場合には破壊され、浅い場合には変形される。ま
た、凸部の表面凹凸状により反射方向を変えることによ
り画像を形成することができる。凹凸版は、エッチン
グ、彫刻、旋盤など公知の金属加工技術を用いて作製す
ることができる。
【００２３】支持体上にＯＶＤを設けＯＶＤ媒体を作製
するには、ステッカーの貼付、転写箔の転写など、どの
ような方法であっても良い。また、加熱・加圧をかける
装置としては、ホットスタンプ以外に、プレス機、平押
し、若しくはシリンダ型の箔押し機などを用いることが
できる。
するには、ステッカーの貼付、転写箔の転写など、どの
ような方法であっても良い。また、加熱・加圧をかける
装置としては、ホットスタンプ以外に、プレス機、平押
し、若しくはシリンダ型の箔押し機などを用いることが
できる。
【００２４】
【発明の効果】本発明は、ＯＶＤの少なくとも一部分
を、その表面が凹部と表面凹凸状の凸部とで構成され、
該凹部と表面凹凸状の凸部とで絵柄・文字など別な画像
を表す凹凸版を用いた加熱・加圧によって破壊したＯＶ
Ｄ媒体であるので、多大な投資を必要とせずに製造でき
る、廉価なＯＶＤ媒体となる。
を、その表面が凹部と表面凹凸状の凸部とで構成され、
該凹部と表面凹凸状の凸部とで絵柄・文字など別な画像
を表す凹凸版を用いた加熱・加圧によって破壊したＯＶ
Ｄ媒体であるので、多大な投資を必要とせずに製造でき
る、廉価なＯＶＤ媒体となる。
【００２５】また、本発明は、上記ＯＶＤ媒体の製造に
おいて、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔のＯＶＤを支
持体に転写する際に、凹凸版を用いて転写するので、多
大な投資を必要とせずに製造できる、廉価なＯＶＤ媒体
の製造方法となる。
おいて、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔のＯＶＤを支
持体に転写する際に、凹凸版を用いて転写するので、多
大な投資を必要とせずに製造できる、廉価なＯＶＤ媒体
の製造方法となる。
【図１】本発明によるＯＶＤ媒体の一実施例の平面図で
ある。
ある。
【図２】図１における一実施例をＸ−Ｘ’断面で示す断
面図である。
面図である。
【図３】ＯＶＤ媒体を製造する際に用いるホットスタン
プの概念を示した断面図である。
プの概念を示した断面図である。
【図４】凹凸版の表面状態を示す説明図である。
【図５】本発明によるＯＶＤ媒体の製造方法を示す説明
図である。
図である。
１１…プレス版取り付け部 １２…凹凸版 １２ａ…凹凸版の凹部 １２ｂ…凹凸版の凸部 １３…ＯＶＤ １３ａ…ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部 １３ｂ…ＯＶＤが破壊された凹凸部 １４…支持体 １５…台座 １６…ＯＶＤ媒体 ５３…ＯＶＤ転写箔
Claims (2)
- 【請求項１】ＯＶＤの少なくとも一部分を破壊して、Ｏ
ＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付
されたＯＶＤ媒体において、該少なくとも一部分を、そ
の表面が凹部と表面凹凸状の凸部とで構成され、該凹部
と表面凹凸状の凸部とで絵柄・文字など別な画像を表す
凹凸版を用いた加熱・加圧によって破壊したことを特徴
とするＯＶＤ媒体。 - 【請求項２】請求項１記載のＯＶＤ媒体の製造方法であ
って、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔のＯＶＤを支持
体に転写する際に、凹凸版を用いて転写することを特徴
とするＯＶＤ媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000135812A JP4078790B2 (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | Ｏｖｄ媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000135812A JP4078790B2 (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | Ｏｖｄ媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001318218A true JP2001318218A (ja) | 2001-11-16 |
| JP4078790B2 JP4078790B2 (ja) | 2008-04-23 |
Family
ID=18643843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000135812A Expired - Fee Related JP4078790B2 (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | Ｏｖｄ媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4078790B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002307878A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止画像形成体およびその製造方法 |
| JP2008511027A (ja) * | 2004-08-27 | 2008-04-10 | カーイクスオー アクチエンゲゼルシャフト | 偽造防止セキュリティオブジェクト |
-
2000
- 2000-05-09 JP JP2000135812A patent/JP4078790B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002307878A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止画像形成体およびその製造方法 |
| JP2008511027A (ja) * | 2004-08-27 | 2008-04-10 | カーイクスオー アクチエンゲゼルシャフト | 偽造防止セキュリティオブジェクト |
| JP4728335B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2011-07-20 | カーイクスオー アクチエンゲゼルシャフト | 偽造防止セキュリティオブジェクト |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4078790B2 (ja) | 2008-04-23 |
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