JP4078790B2 - Ｏｖｄ媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＯＶＤ媒体に関するものであり、特に、ＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来よりＯＶＤは、意匠性やセキュリティー性を向上させるために種々な媒体に貼付されてきた。これは、ＯＶＤはエンボス成形、或いは多層薄膜蒸着などにより大量に廉価に複製できるからであり、また一方では、カラーコピーなどでは複製できないためである。
しかし、一旦、撮影されたホログラムや多層薄膜を部分的に変えて絵柄・文字など別な画像を与えることは難しいものであり、ホログラムや多層薄膜の一部分に絵柄・文字など別な画像を与える際には、例えば、レーザを用いて部分的に加熱しＯＶＤを破壊することになるが、この方法は設備に多大な投資を必要とする欠点を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の欠点を解決するためになされたものであり、ホログラムや多層薄膜などＯＶＤの少なくとも一部分を破壊して、ＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体であって、多大な投資を必要とせずに製造できる、廉価なＯＶＤ媒体の製造方法を提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ＯＶＤの少なくとも一部分を破壊して、ＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体の、該少なくとも一部分を、表面が凹部と表面凹凸状の凸部とで構成され、該凹部と該表面凹凸状の凸部とで絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版を用いた加熱・加圧によって破壊するＯＶＤ媒体の製造方法であって、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔のＯＶＤを支持体に転写する際に、前記凹凸版を用いて転写すると同時に、前記表面凹凸状の凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、前記ＯＶＤ媒体に前記凹部に係わるＯＶＤが破壊されていない領域と、前記表面凹凸状の凸部に係わるＯＶＤが破壊された領域とを形成することを特徴とするＯＶＤ媒体の製造方法である。
【０００５】
また、本発明は、上記発明によるＯＶＤ媒体の製造方法において、前記表面凹凸状の凸部は表面凹凸状が線状に設けてあることを特徴とする請求項１記載のＯＶＤ媒体の製造方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、本発明によるＯＶＤ媒体の一実施例の平面図である。また、図２は、図１における一実施例をＸ−Ｘ’断面で示す断面図である。
図１、及び図２に示すように、ＯＶＤ媒体（１６）は、支持体（１４）上にＯＶＤ（１３）が設けられたものである。
ＯＶＤ（１３）は、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）とで構成されている。そして、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶＤ（１３）に与えられたものとなっている。
【０００７】
図３は、このような、文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶＤ（１３）に与えられたＯＶＤ媒体（１６）を製造する際に用いるホットスタンプの概念を示した断面図である。
図３に示すように、ホットスタンプのプレス版取り付け部（１１）に凹凸版（１２）を取り付けておき、予め、支持体（１４）上にＯＶＤ（１３）が貼付されたＯＶＤ媒体（１６）を台座（１５）上に配し、凹凸版（１２）を押し付けることにより、凹凸版（１２）の凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、ＯＶＤ（１３）に、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）を形成する。
すなわち、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶＤ（１３）に与えられる。
【０００８】
図４は、この際に用いる凹凸版（１２）の表面状態を示す説明図であるが、凹凸版（１２）の表面状態は、凹部（１２ａ）と凸部（１２ｂ）とで文字「Ａ」を表すように構成されており、凸部（１２ｂ）の表面は、ＯＶＤを加熱・加圧することによって破壊するための表面凹凸状となっている。
従って、上記のように、本発明によるＯＶＤ媒体は、凹凸版を用いたプレスによってＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成するので、多大な投資を必要とせず、廉価なＯＶＤ媒体となる。
【０００９】
図５は、本発明によるＯＶＤ媒体の製造方法を示す説明図である。
本発明によるＯＶＤ媒体の製造方法は、図５に示すように、ホットスタンプのプレス版取り付け部（１１）に凹凸版（１２）を取り付けておき、台座（１５）上の支持体（１４）の上に、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔（５３）を配し、凹凸版（１２）を押し付けることにより、ＯＶＤ転写箔（５３）のＯＶＤ（１３）を支持体（１４）に転写し、製造するものである。
【００１０】
この転写により、ＯＶＤ転写箔（５３）に形成されたＯＶＤ（１３）が支持体（１４）に転写されると同時に、上記凹凸版（１２）の凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、ＯＶＤ（１３）に、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）を形成する。
すなわち、本発明によるＯＶＤ媒体の製造方法は、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶＤ（１３）に効率よく与えられるＯＶＤ媒体の製造方法となる。
【００１１】
本発明でいうＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）とは、ホログラムや回折格子などの光回折効果を持つものや多層薄膜のような光干渉効果を持つものを指す。
ホログラムや回折格子のようなＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を記録する体積型がある。
【００１２】
また、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層薄膜のようなＯＶＤとしては、光学特性の異なるセラミックスや金属の薄膜を積層したものがある。この他に、光の干渉を利用した固有の像や色の変化を生じるものであればこれらに限られるものではない。
これらのＯＶＤの中では、量産性やコストを考慮した場合には、レリーフ型ホログラム（回折格子）や多層薄膜が好ましいものである。
【００１３】
レリーフ型ホログラム（回折格子）は光学的な撮影方法により、微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスターホログラムを作製し、次に、このマスターホログラムから電気メッキ法により凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を作製し量産する。
すなわち、このプレス版を加熱し、ホログラム形成層に押し当て、凹凸パターンを複製する。
【００１４】
それゆえ、ホログラム形成層は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる材料であることが必要であり、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいは、ラジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬化性樹脂を単独あるいは複合して用いることができる。また、上記以外のものでも、ホログラム形成層として凹凸パターンを形成可能な安定な材料であれば使用可能である。
【００１５】
また、ＯＶＤにレリーフ型ホログラム（回折格子）を用いた場合、その回折効率を高めるためレリーフ面を構成する高分子材料（ホログラム形成層）と屈折率の異なる反射層を設けることが好ましい。
この反射層を設けることにより、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をもたらすものになる。用いる材料としては、屈折率の異なるＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、Ｆｅ2 Ｏ3 、ＺｎＳなどの高屈折率材料や、より反射効果の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げられる。これらの材料は単独あるいは積層して使用できるものであり、これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜厚は用途によって異なるが、５〜１０００ｎｍ程度で形成される。
【００１６】
また、その屈折率が、ホログラム形成層で使用される高分子材料（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よりも高い材料であれば、上記の無機材料以外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機系フィラーを分散したものなどが使用可能である。
これらの材料はグラビアコート、ダイコート、スクリーン印刷等の公知のコーティング法や印刷法にて０．１〜１０μｍ程度のホログラム形成層に形成される。また、上記以外の材料であっても反射性を有した材料であれば、適宜使用することが可能である。
【００１７】
一方、多層薄膜で形成されるＯＶＤは、異なる光学適性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。
たとえば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。
【００１８】
この多層薄膜には、セラミックスや金属などの材料が用いられ、おおよそ屈折率が２．０以上の高屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定の膜圧で積層したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げる。
まず、セラミックスとしては、例えば、Ｓｂ2 Ｏ3 （３．０）、Ｆｅ2 Ｏ3 （２．７）、ＴｉＯ2 （２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2 （２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2 （２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2 Ｏ3 （２．０）、ＷＯ3 （２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ2 Ｏ3 （２．５）、Ｉｎ2 Ｏ3 （２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2 Ｏ3 （２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2 （２．０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ2 （１．５）、ＭｇＦ2 （１．４）、ＣｅＦ3 （１．６）、ＣａＦ2 （１．３）、ＡｌＦ3 （１．６）、Ａｌ2 Ｏ3 （１．６）、ＧａＯ（１．７）等が挙げられる。
尚、カッコ内の数値は屈折率を示す。
【００１９】
金属単体もしくは合金の薄膜としては、例えば、Ａｌ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。
また、低屈折率の有機ポリマーとしては、たとえば、ポリエチレン（１．５１）ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等が挙げられる。これらの高屈折率材料、もしくは透過率３０％〜６０％の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させることにより、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反射を示す多層薄膜となる。
【００２０】
上記の各材料の中から、屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐光性、耐薬品性、層間密着性などに基づき材料を適宜選択し、薄膜として積層し多層薄膜を形成する。形成方法は、公知の手法を用いることができ、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な通常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることができる。
また、低屈折率の有機ポリマーの成膜方法としては、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロールコート法などの塗布方法を用いることができる。
尚、本発明ではセラミックスおよび金属と同等、あるいは類似する屈折率と反射率を有するものであれば用いることが可能である。
【００２１】
この多層薄膜層の層厚は、具体的には５〜２０００ｎｍの範囲であり、また、薄膜の層構成は上記高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、例えば、ＺｎＳ、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｉｎ2 Ｏ3 、ＳｎＯ、ＩＴＯ、ＣｅＯ2 、ＺｎＯ、Ｔａ2 Ｏ3 、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉなどと、上記低屈折率の材料からなる薄膜、例えば、ＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 、ＣａＦ2 、ＭｇＯ、Ａｌ2 Ｏ3 などとの組み合わせであり、それらを交互に積相し、その積層数が２層以上、好ましくは２層〜９層である。
分光特性は層数に応じて変化する。尚、用いる材料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるため、これに限定されるものではない。
【００２２】
凹凸版の凸部の表面凹凸状は、０．０１から１ｍｍの間隔で凹凸を、例えば、線状に設けたものである。この凹凸版をＯＶＤに加熱・加圧することによりＯＶＤの効果を破壊もしくは変化させ、絵柄・文字など別な画像を形成することができる。凸部の表面凹凸状が深い場合には破壊され、浅い場合には変形される。また、凸部の表面凹凸状により反射方向を変えることにより画像を形成することができる。
凹凸版は、エッチング、彫刻、旋盤など公知の金属加工技術を用いて作製することができる。
【００２３】
支持体上にＯＶＤを設けＯＶＤ媒体を作製するには、ステッカーの貼付、転写箔の転写など、どのような方法であっても良い。また、加熱・加圧をかける装置としては、ホットスタンプ以外に、プレス機、平押し、若しくはシリンダ型の箔押し機などを用いることができる。
【００２５】
【発明の効果】
本発明は、ＯＶＤ媒体の製造において、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔のＯＶＤを支持体に転写する際に、凹凸版を用いて転写すると同時に、凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、非凹凸部に係わるＯＶＤが破壊されていない領域と、凹凸部に係わるＯＶＤが破壊された領域を形成するので、多大な投資を必要とせずに製造できる、廉価なＯＶＤ媒体の製造方法となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるＯＶＤ媒体の一実施例の平面図である。
【図２】図１における一実施例をＸ−Ｘ’断面で示す断面図である。
【図３】ＯＶＤ媒体を製造する際に用いるホットスタンプの概念を示した断面図である。
【図４】凹凸版の表面状態を示す説明図である。
【図５】本発明によるＯＶＤ媒体の製造方法を示す説明図である。
【符号の説明】
１１…プレス版取り付け部
１２…凹凸版
１２ａ…凹凸版の凹部
１２ｂ…凹凸版の凸部
１３…ＯＶＤ
１３ａ…ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部
１３ｂ…ＯＶＤが破壊された凹凸部
１４…支持体
１５…台座
１６…ＯＶＤ媒体
５３…ＯＶＤ転写箔
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＯＶＤ媒体に関するものであり、特に、ＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来よりＯＶＤは、意匠性やセキュリティー性を向上させるために種々な媒体に貼付されてきた。これは、ＯＶＤはエンボス成形、或いは多層薄膜蒸着などにより大量に廉価に複製できるからであり、また一方では、カラーコピーなどでは複製できないためである。
しかし、一旦、撮影されたホログラムや多層薄膜を部分的に変えて絵柄・文字など別な画像を与えることは難しいものであり、ホログラムや多層薄膜の一部分に絵柄・文字など別な画像を与える際には、例えば、レーザを用いて部分的に加熱しＯＶＤを破壊することになるが、この方法は設備に多大な投資を必要とする欠点を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の欠点を解決するためになされたものであり、ホログラムや多層薄膜などＯＶＤの少なくとも一部分を破壊して、ＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体であって、多大な投資を必要とせずに製造できる、廉価なＯＶＤ媒体の製造方法を提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ＯＶＤの少なくとも一部分を破壊して、ＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体の、該少なくとも一部分を、表面が凹部と表面凹凸状の凸部とで構成され、該凹部と該表面凹凸状の凸部とで絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版を用いた加熱・加圧によって破壊するＯＶＤ媒体の製造方法であって、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔のＯＶＤを支持体に転写する際に、前記凹凸版を用いて転写すると同時に、前記表面凹凸状の凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、前記ＯＶＤ媒体に前記凹部に係わるＯＶＤが破壊されていない領域と、前記表面凹凸状の凸部に係わるＯＶＤが破壊された領域とを形成することを特徴とするＯＶＤ媒体の製造方法である。
【０００５】
また、本発明は、上記発明によるＯＶＤ媒体の製造方法において、前記表面凹凸状の凸部は表面凹凸状が線状に設けてあることを特徴とする請求項１記載のＯＶＤ媒体の製造方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、本発明によるＯＶＤ媒体の一実施例の平面図である。また、図２は、図１における一実施例をＸ−Ｘ’断面で示す断面図である。
図１、及び図２に示すように、ＯＶＤ媒体（１６）は、支持体（１４）上にＯＶＤ（１３）が設けられたものである。
ＯＶＤ（１３）は、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）とで構成されている。そして、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶＤ（１３）に与えられたものとなっている。
【０００７】
図３は、このような、文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶＤ（１３）に与えられたＯＶＤ媒体（１６）を製造する際に用いるホットスタンプの概念を示した断面図である。
図３に示すように、ホットスタンプのプレス版取り付け部（１１）に凹凸版（１２）を取り付けておき、予め、支持体（１４）上にＯＶＤ（１３）が貼付されたＯＶＤ媒体（１６）を台座（１５）上に配し、凹凸版（１２）を押し付けることにより、凹凸版（１２）の凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、ＯＶＤ（１３）に、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）を形成する。
すなわち、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶＤ（１３）に与えられる。
【０００８】
図４は、この際に用いる凹凸版（１２）の表面状態を示す説明図であるが、凹凸版（１２）の表面状態は、凹部（１２ａ）と凸部（１２ｂ）とで文字「Ａ」を表すように構成されており、凸部（１２ｂ）の表面は、ＯＶＤを加熱・加圧することによって破壊するための表面凹凸状となっている。
従って、上記のように、本発明によるＯＶＤ媒体は、凹凸版を用いたプレスによってＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成するので、多大な投資を必要とせず、廉価なＯＶＤ媒体となる。
【０００９】
図５は、本発明によるＯＶＤ媒体の製造方法を示す説明図である。
本発明によるＯＶＤ媒体の製造方法は、図５に示すように、ホットスタンプのプレス版取り付け部（１１）に凹凸版（１２）を取り付けておき、台座（１５）上の支持体（１４）の上に、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔（５３）を配し、凹凸版（１２）を押し付けることにより、ＯＶＤ転写箔（５３）のＯＶＤ（１３）を支持体（１４）に転写し、製造するものである。
【００１０】
この転写により、ＯＶＤ転写箔（５３）に形成されたＯＶＤ（１３）が支持体（１４）に転写されると同時に、上記凹凸版（１２）の凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、ＯＶＤ（１３）に、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）を形成する。
すなわち、本発明によるＯＶＤ媒体の製造方法は、ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部（１３ａ）とＯＶＤが破壊された凹凸部（１３ｂ）との境界によって示される文字「Ａ」を表す別な画像がＯＶＤ（１３）に効率よく与えられるＯＶＤ媒体の製造方法となる。
【００１１】
本発明でいうＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｖａｒｉａｂｌｅ Ｄｅｖｉｃｅ）とは、ホログラムや回折格子などの光回折効果を持つものや多層薄膜のような光干渉効果を持つものを指す。
ホログラムや回折格子のようなＯＶＤとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や体積方向に干渉縞を記録する体積型がある。
【００１２】
また、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層薄膜のようなＯＶＤとしては、光学特性の異なるセラミックスや金属の薄膜を積層したものがある。この他に、光の干渉を利用した固有の像や色の変化を生じるものであればこれらに限られるものではない。
これらのＯＶＤの中では、量産性やコストを考慮した場合には、レリーフ型ホログラム（回折格子）や多層薄膜が好ましいものである。
【００１３】
レリーフ型ホログラム（回折格子）は光学的な撮影方法により、微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスターホログラムを作製し、次に、このマスターホログラムから電気メッキ法により凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を作製し量産する。
すなわち、このプレス版を加熱し、ホログラム形成層に押し当て、凹凸パターンを複製する。
【００１４】
それゆえ、ホログラム形成層は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる材料であることが必要であり、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいは、ラジカル重合性不飽和基を有する紫外線や電子線硬化性樹脂を単独あるいは複合して用いることができる。また、上記以外のものでも、ホログラム形成層として凹凸パターンを形成可能な安定な材料であれば使用可能である。
【００１５】
また、ＯＶＤにレリーフ型ホログラム（回折格子）を用いた場合、その回折効率を高めるためレリーフ面を構成する高分子材料（ホログラム形成層）と屈折率の異なる反射層を設けることが好ましい。
この反射層を設けることにより、回折効率が向上し、より鮮明な画像や色の変化をもたらすものになる。用いる材料としては、屈折率の異なるＴｉＯ2 、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、Ｆｅ2 Ｏ3 、ＺｎＳなどの高屈折率材料や、より反射効果の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げられる。これらの材料は単独あるいは積層して使用できるものであり、これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜厚は用途によって異なるが、５〜１０００ｎｍ程度で形成される。
【００１６】
また、その屈折率が、ホログラム形成層で使用される高分子材料（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よりも高い材料であれば、上記の無機材料以外の有機系、有機無機複合体、有機系材料に無機系フィラーを分散したものなどが使用可能である。
これらの材料はグラビアコート、ダイコート、スクリーン印刷等の公知のコーティング法や印刷法にて０．１〜１０μｍ程度のホログラム形成層に形成される。また、上記以外の材料であっても反射性を有した材料であれば、適宜使用することが可能である。
【００１７】
一方、多層薄膜で形成されるＯＶＤは、異なる光学適性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。
たとえば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。
【００１８】
この多層薄膜には、セラミックスや金属などの材料が用いられ、おおよそ屈折率が２．０以上の高屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定の膜圧で積層したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げる。
まず、セラミックスとしては、例えば、Ｓｂ2 Ｏ3 （３．０）、Ｆｅ2 Ｏ3 （２．７）、ＴｉＯ2 （２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2 （２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2 （２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2 Ｏ3 （２．０）、ＷＯ3 （２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ2 Ｏ3 （２．５）、Ｉｎ2 Ｏ3 （２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ2 Ｏ3 （２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ2 （２．０）、ＭｇＯ（１．６）、ＳｉＯ2 （１．５）、ＭｇＦ2 （１．４）、ＣｅＦ3 （１．６）、ＣａＦ2 （１．３）、ＡｌＦ3 （１．６）、Ａｌ2 Ｏ3 （１．６）、ＧａＯ（１．７）等が挙げられる。
尚、カッコ内の数値は屈折率を示す。
【００１９】
金属単体もしくは合金の薄膜としては、例えば、Ａｌ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。
また、低屈折率の有機ポリマーとしては、たとえば、ポリエチレン（１．５１）ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等が挙げられる。これらの高屈折率材料、もしくは透過率３０％〜６０％の金属薄膜より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させることにより、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反射を示す多層薄膜となる。
【００２０】
上記の各材料の中から、屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐光性、耐薬品性、層間密着性などに基づき材料を適宜選択し、薄膜として積層し多層薄膜を形成する。形成方法は、公知の手法を用いることができ、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚（＝ｎ・ｄ、ｎ：屈折率、ｄ：膜厚）などの制御が可能な通常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることができる。
また、低屈折率の有機ポリマーの成膜方法としては、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロールコート法などの塗布方法を用いることができる。
尚、本発明ではセラミックスおよび金属と同等、あるいは類似する屈折率と反射率を有するものであれば用いることが可能である。
【００２１】
この多層薄膜層の層厚は、具体的には５〜２０００ｎｍの範囲であり、また、薄膜の層構成は上記高屈折率の材料もしくは金属材料からなる薄膜、例えば、ＺｎＳ、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｉｎ2 Ｏ3 、ＳｎＯ、ＩＴＯ、ＣｅＯ2 、ＺｎＯ、Ｔａ2 Ｏ3 、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉなどと、上記低屈折率の材料からなる薄膜、例えば、ＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 、ＣａＦ2 、ＭｇＯ、Ａｌ2 Ｏ3 などとの組み合わせであり、それらを交互に積相し、その積層数が２層以上、好ましくは２層〜９層である。
分光特性は層数に応じて変化する。尚、用いる材料、組み合わせにより多層膜の光学特性が異なるため、これに限定されるものではない。
【００２２】
凹凸版の凸部の表面凹凸状は、０．０１から１ｍｍの間隔で凹凸を、例えば、線状に設けたものである。この凹凸版をＯＶＤに加熱・加圧することによりＯＶＤの効果を破壊もしくは変化させ、絵柄・文字など別な画像を形成することができる。凸部の表面凹凸状が深い場合には破壊され、浅い場合には変形される。また、凸部の表面凹凸状により反射方向を変えることにより画像を形成することができる。
凹凸版は、エッチング、彫刻、旋盤など公知の金属加工技術を用いて作製することができる。
【００２３】
支持体上にＯＶＤを設けＯＶＤ媒体を作製するには、ステッカーの貼付、転写箔の転写など、どのような方法であっても良い。また、加熱・加圧をかける装置としては、ホットスタンプ以外に、プレス機、平押し、若しくはシリンダ型の箔押し機などを用いることができる。
【００２５】
【発明の効果】
本発明は、ＯＶＤ媒体の製造において、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔のＯＶＤを支持体に転写する際に、凹凸版を用いて転写すると同時に、凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、非凹凸部に係わるＯＶＤが破壊されていない領域と、凹凸部に係わるＯＶＤが破壊された領域を形成するので、多大な投資を必要とせずに製造できる、廉価なＯＶＤ媒体の製造方法となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるＯＶＤ媒体の一実施例の平面図である。
【図２】図１における一実施例をＸ−Ｘ’断面で示す断面図である。
【図３】ＯＶＤ媒体を製造する際に用いるホットスタンプの概念を示した断面図である。
【図４】凹凸版の表面状態を示す説明図である。
【図５】本発明によるＯＶＤ媒体の製造方法を示す説明図である。
【符号の説明】
１１…プレス版取り付け部
１２…凹凸版
１２ａ…凹凸版の凹部
１２ｂ…凹凸版の凸部
１３…ＯＶＤ
１３ａ…ＯＶＤが破壊されていない非凹凸部
１３ｂ…ＯＶＤが破壊された凹凸部
１４…支持体
１５…台座
１６…ＯＶＤ媒体
５３…ＯＶＤ転写箔
Claims (2)
- ＯＶＤの少なくとも一部分を破壊して、ＯＶＤに絵柄・文字など別な画像を形成したＯＶＤが貼付されたＯＶＤ媒体の、該少なくとも一部分を、表面が凹部と表面凹凸状の凸部とで構成され、該凹部と該表面凹凸状の凸部とで絵柄・文字など別な画像を表す凹凸版を用いた加熱・加圧によって破壊するＯＶＤ媒体の製造方法であって、ＯＶＤが形成されたＯＶＤ転写箔のＯＶＤを支持体に転写する際に、前記凹凸版を用いて転写すると同時に、前記表面凹凸状の凸部がＯＶＤの干渉構造もしくは回折構造を破壊し、前記ＯＶＤ媒体に前記凹部に係わるＯＶＤが破壊されていない領域と、前記表面凹凸状の凸部に係わるＯＶＤが破壊された領域とを形成することを特徴とするＯＶＤ媒体の製造方法。
- 前記表面凹凸状の凸部は表面凹凸状が線状に設けてあることを特徴とする請求項１記載のＯＶＤ媒体の製造方法。
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