JP2001283430A

JP2001283430A - 磁気記録媒体、その製造方法およびマーキング装置、並びに磁気記録再生装置

Info

Publication number: JP2001283430A
Application number: JP2000098268A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Osawa; 弘大澤
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 2000-03-31
Filing date: 2000-03-31
Publication date: 2001-10-12
Anticipated expiration: 2020-03-31
Also published as: JP4318835B2

Abstract

(57)【要約】【課題】成膜後の磁気記録媒体に、容易に、正確にマ
ーキングを施すことができる方法を得る。【解決手段】基板上に少なくとも磁性膜が形成され
た磁気記録媒体６表面に、レーザ光を照射することによ
って突起状構造体を複数形成し、これら突起状構造体に
より目視により識別可能なマーキング７を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
などに用いられる磁気記録媒体とその製造方法およびそ
のマーキング装置、並びに磁気記録再生装置に関し、詳
しくは、目視により識別可能なマーキングが施されてい
る磁気記録媒体とその製造方法およびそのマーキング装
置と、該磁気記録媒体を有する磁気記録再生装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）など
に用いられる磁気記録媒体としては、例えば、図８に示
すようなアルミニウム基板やガラス基板などの基板１上
に、非磁性下地層２、磁性膜３、保護膜４等が順に成膜
されたものが知られている。従来、このような磁気記録
媒体６には、製造管理上相互間の識別を容易とするため
に、その表面にマーキングが施される場合があった。こ
のようなマーキングは、磁気記録媒体上に、例えば番号
や、文字などのマーキングをレーザ照射、インクジェッ
ト、罫書き等の手段により形成するものであった。これ
らの方法によれば、市販のレーザ装置を用いて上記識別
のためのマーキングを磁気記録媒体上に容易に形成する
ことができた。例えば、ＹＡＧレーザ等を用いた方法に
おいては、市販のＬＥー１００Ｓ（レーザテクノロジー
社製）ＭＹー９５００（キーエンス社製）等のレーザマ
ーカを用いて容易に形成することができた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな方法による磁気記録媒体６へのマーキング加工は、
通常、磁気記録媒体６の基板１上、あるいは非磁性下地
層２上に形成されるもので、その製造段階における磁性
膜３などの成膜前に行われるものであり、成膜後磁気記
録媒体６製造後、すなわち磁性膜３等が成膜された後の
成膜面上になされるものではなかった。よって、磁気記
録媒体６製造後に、その磁気記録媒体６表面にマーキン
グを施す場合に、上記基板１上、あるいは非磁性下地層
２上にマーキングする場合の加工方法の条件をそのまま
用いたのでは良好なマーキングを施すことはできない。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、基板上に
各層を成膜後、すなわち製造後の磁気記録媒体に、容易
に、正確にマーキングを施すことができる方法を得るこ
とを目的とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、基板上に少なくとも磁性膜が形成された磁気記録媒
体であって、この記録媒体上に、目視により識別可能な
マーキングが形成され、このマーキングが複数の突起状
構造体からなるものであることを特徴とする。本発明の
磁気記録媒体においては、その突起状構造体の凸部の高
さが、１０ｎｍ以上、（基板上に形成された層の総合厚
さ）×２ｎｍ以下であることが望ましい。本発明の磁気
記録媒体においては、その突起状構造体の凹部の深さ
が、１０ｎｍ以上、（基板上に形成された層の総合厚
さ）ｎｍ以下であることが望ましい。本発明の磁気記録
媒体においては、基板上に形成された層の総合厚さが、
１０〜３００ｎｍであることが望ましい。また、本発明
の磁気記録媒体においては、上記マーキングが、目視に
より識別可能な記号や文字であることが望ましい。ま
た、本発明の磁気記録媒体は、正常面と不良面とを有す
るものであり、上記マーキングが施され、これら正常面
と不良面との識別が可能とされたことを特徴とする。

【０００５】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板
上に少なくとも磁性膜が形成された磁気記録媒体表面
に、レーザ光を照射して、複数の突起状構造体を形成し
て目視により識別可能なマーキングを施すことを特徴と
する。本発明の磁気記録媒体の製造方法においては、上
記磁気記録媒体を回転させ、この回転のＺ相信号に同期
をとって、パルスレーザ光を磁気記録媒体表面に照射し
て複数の突起状構造体を形成することができる。また、
本発明の磁気記録媒体の製造方法においては、上記レー
ザ光の波長が２００〜１１００ｎｍであり、パルス幅が
１００ｎｓ以上であることが望ましい。このような磁気
記録媒体の製造方法によれば、磁気記録媒体の製造後
に、容易に突起状構造物をその表面に形成することがで
きる。

【０００６】本発明の磁気記録媒体のマーキング装置
は、基板上に少なくとも磁性膜が形成された磁気記録媒
体表面に、レーザ光を照射することによって突起状構造
体を複数形成し、これら突起状構造体により目視により
識別可能なマーキングを形成できることを特徴とする。
本発明の磁気記録再生装置は、磁気記録媒体と、該磁気
記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備え、該
磁気記録媒体が、上記本発明の磁気記録媒体であること
を特徴とする。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体の一
実施形態について説明する。図１は、本発明の磁気記録
媒体の一例を示したものである。この磁気記録媒体６
は、円形のディスク状で、基板の両面に、少なくとも磁
性膜を有する成膜層が形成されているものである。この
磁気記録媒体６の表面は、図に示すように記録再生が行
われる領域である記録領域１００と、その内周部に位置
する記録とは関係のない非記録領域１０１とから構成さ
れ、該非記録領域は１０１は、さらに最内周領域１０２
と、磁気ヘッドとの接触領域であるＣＳＳゾーン１０３
とから構成されている。そして、この磁気記録媒体６の
最内周部１０２には、目視により識別可能なマーキング
７が形成されている。なお、この例においては、磁気記
録媒体６にＣＳＳゾーン１０３が設けられている。な
お、磁気記録媒体６は、ランプロード方式の磁気記録再
生装置に用いられるもののようにＣＳＳゾーンが形成さ
れていないものであっても構わない。

【０００８】このような磁気記録媒体６は、例えば、図
８に示すような、アルミニウム基板やガラス基板などか
らなる基板１上に、Ｃｒ、Ｃｒ／Ｔｉ合金などからなる
非磁性下地層２、Ｃｏ／Ｃｒ合金、Ｃｏ／Ｃｒ／Ｔａ合
金などからなる磁性層３、カーボンなどからなる保護層
４がそれぞれスパッタリング、真空蒸着、イオンプレー
ティング、メッキなどの手法により形成されたものであ
る。このような基板１上に形成される各層を総合して成
膜層５と呼ぶこととする。この例においては、成膜層５
は、下地層２、磁性層３、保護層４からなるが、保護層
４上にパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）などから
なる潤滑層が設けられている場合や、基板１と非磁性下
地層２との間に、メッキ法、スパッタ法等により形成さ
れたＮｉＰ合金膜が設けられている場合などもあり、成
膜層５としては、少なくとも磁性膜３が形成されている
ものであればよい。

【０００９】上記成膜層５の厚さは、下地層２、磁性膜
３、保護層４などの構成、およびそれらの厚さに関係す
るが、通常、その総合厚さは、１０〜３００ｎｍとされ
る。この厚さが１０ｎｍ未満であると、磁性膜３が薄く
なりすぎてその磁化が弱くなり磁気記録媒体６として用
いることが困難となり、３００ｎｍを越えると、成膜層
５の成膜時にその表面に荒れが生じてしまい、磁気記録
媒体６としたときに、ヘッドが磁気記録媒体６に接触し
てヘッドクラッシュを起こすおそれがある。

【００１０】このような磁気記録媒体６上に形成される
マーキング７は、目視により識別可能なものであり、記
号、文字または図形などを表すものであることが望まし
い。この例においては、アルファベットのＡとされてい
る。このように、マーキング７が記号や文字を示すもの
であれば、目視により直ちに確認することができ、例え
ば、マーキング７により磁気記録媒体６の表、裏を容易
に識別することができる。このようなマーキング７は、
磁気記録媒体６の表面に形成された複数の突起状構造体
から形成されるものである。図２は、本発明の磁気記
録媒体に形成される突起状構造体の一例を示す概略断面
図であり、図２−（ａ）は、平面図であり、図２−
（ｂ）は、（ａ）におけるＡ−Ａ’断面図である。

【００１１】この突起状構造体１０は、基板１上に、少
なくとも磁性膜を有する成膜層５が形成された磁気記録
媒体６上に複数設けられ、この磁気記録媒体６の成膜層
５表面より盛り上がって形成された環状の凸部１１と、
前記成膜層５表面より堀り下がって形成され、凸部に囲
まれた凹部１２によりクレータ状に構成されるものであ
る。上記突起状構造体１０の大きさとしては、特に限定
されるものではないが、図２に示すように、環状の突起
状構造体１０において、その中心を通る直線における凸
部の頂点から他方の凸部の頂点までの距離（Ｌ１）を、
突起状構造体１０の直径として定義して表した場合に、
この直径（距離Ｌ１）が、０．１〜３０μｍ、好ましく
は１〜３０μｍ、より好ましくは８〜３０μｍの範囲と
なるようにされる。また、この突起状構造物１０の凸部
１１の高さ、すなわち成膜層５表面からの高さｈ１は、
１０ｎｍ以上（成膜層５の厚さ）×２ｎｍ以下の範囲で
あることが望ましい。凸部１１の高さｈ１が１０ｎｍ未
満であると、複数の突起状構造体１０から構成されるマ
ーキング７の目視による識別が困難となるばかりか、光
学的な手法を用いてもその識別が困難となってしまう。
また、この高さｈ１が、成膜層５の厚さの２倍の大きさ
を越えると、磁気記録媒体６の駆動時に、磁気ヘッドの
走行が不安定になるおそれがある。

【００１２】また、上記突起状構造体１０の凹部１２の
深さ、すなわち成膜層５表面からの深さｈ２は、１０ｎ
ｍ以上（成膜層５の厚さ）ｎｍ以下の範囲であることが
望ましい。凹部１２の深さｈ２が１０ｎｍ未満である
と、複数の突起状構造体１０から構成されるマーキング
の目視による識別が困難となるばかりか、光学的な手法
を用いてもその識別が困難となってしまう。また深さｈ
２が、基板１上に形成された成膜層５の厚さよりも大き
くなると基板１が露出してしまう。

【００１３】基板１表面が露出すると、次に説明するよ
うな不都合が起こる。一般に、磁気記録媒体６に用いら
れる基板１としては、上記のようにアルミ基板やガラス
基板などが用いられている。これらの基板１が磁気記録
媒体６から露出していると、その表面から様々な陽イオ
ンが析出してしまう。例えば、表面にニッケル燐メッキ
が施してあるアルミニウム基板であれば、ニッケルイオ
ンが、ガラス基板であれば、リチウムイオン、カリウム
イオン、ナトリウムイオンなどが析出してしまう。この
ようなイオンが存在すると、磁気記録媒体６の耐コロー
ジョン性の低下を促進してしまい、磁気記録媒体におけ
る信頼性を維持することができなくなってしまう。よっ
て、基板１表面を露出させないようにして、突起状構造
体１０を形成することが好ましい。また、各突起状構造
体１０の間隔は、１０〜５０μｍであることが好まし
い。１０μｍ未満であると、装置の振動やスピンドルの
振動などにより突起状構造体１０同士が重なって形成さ
れるおそれがあり、５０μｍを越えると突起状構造体１
０の密度が粗くなってしまい目視で識別することが困難
になってしまう。このような複数の突起状構造体１０に
より形成されるマーキング７の大きさＬ２としては、小
さすぎると目視により識別しにくくなり、大きすぎれば
形成に時間がかかるようになるため、０．１〜２ｍｍ程
度とすることが好ましい。

【００１４】次に、上記磁気記録媒体６を製造する場合
を例として、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施
形態を説明する。上記磁気記録媒体６は、その表面に、
レーザ光を照射して、複数の突起状構造体１０を形成す
ることによって、目視により識別可能なマーキング７を
設けることによって得ることができる。

【００１５】上記レーザ光としては、パルス発振レーザ
光または連続発振レーザ光をパルス化したパルスレーザ
光を用いることが望ましい。これらのレーザ光の照射装
置、すなわちレーザとしては、連続発振レーザとして
は、Ｍｉｌｌｅｎｎｉａ（スペクトラフィジックス社
製）やＶｅｒｄｙ（コヒーレント社製）などが代表的な
ものとしてあげられる。また、パルス発振レーザとして
は、Ｔ／Ｊ２０−Ｖ８０−１０６Ｑ（スペクトラフィジ
ックス社製）やＺＴ−１５（コヒーレント社製）などが
代表的なものとしてあげられる。レーザ光の照射装置の
レーザ光源としては、ＹＡＧレーザ（波長１０６４ｎ
ｍ）や、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザ（波長５３２ｎｍ）など
があげられる。

【００１６】上記パルスレザー光を得る方法としては、
例えば以下に示す２種類の方法を用いることができる。（１）連続発振されたレーザ光を外部変調器を用いてパ
ルス化することによりパルスレーザ光を得る方法。（２）Ｑスイッチパルスレーザを用いてパルスレーザ光
を得る方法。上記（１）の方法は、連続発振レーザにより得られたレ
ーザ光をＥＯＭ、ＡＯＭなどの外部変調器に通すことに
よりパルス化するものである。この方法では、繰り返し
性に優れたパルスレーザ光を得ることができ、しかもそ
のパルス幅を任意に設定することができる点で好まし
い。

【００１７】上記ＥＯＭとは電気光学効果変調器（Ｅｌ
ｅｃｔｒｉｃ−Ｏｐｔｉｃ−Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）のこ
とであり、光学結晶に電圧を印加して結晶の屈折率が変
化する電気光学効果を利用して入射した連続発振レーザ
光の光路を変更させることによりレーザ出力を連続的に
変化させるものである。また、ＡＯＭとは音響光学変調
器（Ａｃｏｕｓｔｉｃ−Ｏｐｔｉｃ−Ｍｏｄｕｌａｔｏ
ｒ）のことであり、光学結晶に外部より超音波を導入
し、結晶の光学弾性効果を利用して入射した連続発振レ
ーザ光の回折角度を変化させることにより直進透過する
レーザ出力を連続的に変化させるものである。

【００１８】上記（２）の方法は、レーザ共振器を備え
たＱスイッチパルスレーザを用い、レーザ共振器のＱ値
の切り替えにより大出力のパルスを得る方法である。レ
ーザ共振器は、ＥＯＭやＡＯＭなどの変調器を内蔵した
もので、この変調器の動作を外部電気信号により制御す
ることによりレーザ光をパルス化するものである。一般
的に用いられるＱスイッチパルスレーザは、パルス幅が
１０〜８０ｎｓであるので、本発明における突起状構造
体１０の製造には適さないが、パルス幅の長い特殊なＱ
スイッチパルスレーザを用いれば、突起状構造体１０を
形成することができる。例えば、ＺＴ−１５（波長１０
６４ｎｍ、コヒーレント社製）を１５０ｋＨｚで使用す
れば、パルス幅が１１０ｎｍとなって、突起状構造体１
０を形成することができる。

【００１９】上記レーザ光のパルス幅（レーザ光をフォ
トディレクターにより検出したときのパルス波形の半値
幅）としては、１００ｎｓ以上、好ましくは、１００〜
１０００ｎｓの範囲が好ましい。このようなものであれ
ば、突起状構造体１０の凸部１１、凹部１２の形状の制
御が容易で、良好な突起状構造体１０を磁気記録媒体６
上に形成することができる。また、レーザ光の照射ビー
ム径としては、０．１〜３０μｍが好ましく、より好ま
しくは１〜３０μｍ、さらに好ましくは８〜３０μｍの
範囲とされる。

【００２０】図５は、突起状構造体における凸部１１の
高さｈ１と、レーザパワーの関係をパルス幅５００ｎｓ
（図中、長いパルス幅とした）と、５０ｎｓ（図中、短
いパルス幅とした）とで比較したものである。また、図
６は、突起状構造体における凹部１２の深さｈ２と、レ
ーザパワーの関係を、パルス幅５００ｎｓ（図中、長い
パルス幅とした）と５０ｎｓ（図中、短いパルス幅とし
た）とで比較したものである。

【００２１】図５より、パルス幅が長いもののほうが、
レーザパワーと凸部１１の高さｈ１のグラフの傾きが緩
やかになっていることがわかる。このことから、一定量
のレーザパワーの変動に対して、パルス幅の長い方が凸
部１１の高さｈ１の変動が少ないことがわかる。同様
に、図６より、パルス幅が長いもののほうが、レーザパ
ワーと凹部１２の深さｈ２のグラフの傾きが緩やかにな
っていることから、一定量のレーザパワーの変動に対し
て、パルス幅の長い方が凹部１２の高さｈ２の変動が少
ないことがわかる。なお、図６中、一定レーザパワー以
上で凹部１２の深さｈ２が飽和状態、すなわちグラフ上
では頭打ちとなっているのは、凹部１２が成膜層５を貫
通し、基板１まで達したために、これ以上加工できない
ためである。このような現象は基板１がガラス基板であ
るものによくみられる。これは、波長２００〜１１００
ｎｍのレーザ光に対してガラスがほとんど加工性を示さ
ないためである。

【００２２】図７は、レーザパワーとパルス幅との関係
を示すグラフであり、加工開始時パルス幅（凸部１１の
高さｈ１が１０ｎｍとなるときのパルス数とした）と、
形成されたすべての突起状構造体１０において基板１が
露出する時のパルス幅、言い換えれば、それ以上凸部１
１が形成できないとされたときのパルス幅を示したもの
である。このグラフより、レーザパワーが小さく加工開
始パルス幅が長い方が、基板露出時のパルス数との間の
幅が大きいことがわかる。そして、この幅は、レーザパ
ワーが大きくパルス幅が短くなるほど狭くなることがわ
かる。このことから、パルス幅が長い方が、凸部１１の
高さの制御または、凹部１２の深さの制御に適している
といえることがわかる。

【００２３】このような実験から、磁気記録媒体６に照
射するレーザ光のパルス幅が長い方が、凸部１１、凹部
１２の形状を制御しやすいことがわかった。また具体的
なパルス幅としては、１００ｎｓ以上が好ましいことが
次の実験でわかった。次にこの実験について説明する。
以下の装置を用いてパルス幅と、突起状構造体の凸部１
１の高さｈ１との関係を調べた。実験条件としては、次
のようにした。レーザとして、ＭｉｌｌｅｎｎｉａＸ
（連続発振、波長５３２ｎｍ、出力１０Ｗ、スペクトラ
フィジックス社製）を用い、外部変調器ＥＯＭｍｏｄｅ
１３７０−ＬＡ（Ｃｏｎｏｐｔｉｃｓ，ｉｎｃ製）を用
いてレーザ光をパルス化し、集光レンズには、ＭＳＰｌ
ａｎ×５（オリンパス社製）を用いた。また、磁気記録
媒体としては、ガラス基板上に、下地層、磁性膜、保護
層を順に成膜したもので、これら成膜層の総合厚さが１
００ｎｍであるものを用いた。そして、この磁気記録媒
体を回転させながら上記レーザを照射し、以下の条件に
おいて突起状構造体を形成し、マーキング加工を行っ
た。加工集速・・・４ｍ/ｓ加工パルス周波数・・・２００ｋＨｚ加工ピッチ・・・半径方向２０μｍ、円周方向２０μｍ加工範囲・・・円周上に１００μｍ

【００２４】上記実験条件にて、レーザ光のパルス幅を
変化させた場合の磁気記録媒体上に形成された突起状構
造体の凸部の高さの変化量を調べた。結果を表１に示
す。この結果より、凹部１２の深さｈ２を６０ｎｍを中
心に制御しようとすると、１００ｎｓにおける変動を、
６０±２０ｎｍ程度にすることができる。パルス幅がこ
れ以下の値であると、凹部１２の深さを１００ｎｍ（上
記成膜面の厚さ）内に管理するのは難しく、１００ｎｓ
あたりが下限となることが分かる。このため、レーザの
パルス幅は１００ｎｓ以上であることが好ましい。

【００２５】

【表１】

【００２６】また、レーザ光の波長としては、２００〜
１１００ｎｍが好ましい。２００ｎｍ未満であると、オ
ゾンの発生が懸念され、この発生を防ぐために、非酸素
中突起状構造体１０を形成しなければならなくなり面倒
となる。またレーザ光を発するレーザにはエキシマレー
ザなどの繰り返し性、安定性に劣るものが多く、形成さ
れる突起高さが不均一となり易く、さらにはコスト高と
なって好ましくない。また、波長が１１００ｎｍを越え
ると、金属への吸収が落ちるので、成膜層５上に、突起
状構造体１０を形成することができなくなるので好まし
くない。また、この範囲の波長のレーザは、ガラスに吸
収され難いため、ガラス基板を基板１とする磁気記録媒
体へのレーザ照射を行う場合には、特に適しているとい
える。逆に、ガラスは、例えば、ＣＯ₂レーザの波長１
０.６μｍのレーザに対しては、金属よりも吸収し易い
ため、パーティクルの発生が起こることもあるので、こ
のような波長は適さない。

【００２７】また、このようなレザー光を照射して磁気
記録媒体６上に、突起状構造体１０を複数形成し、これ
らが識別記号、文字等のマーキングを構成するようにす
るには、磁気記録媒体６を回転させながら、パルスレー
ザ光を磁気記録媒体６の回転のＺ相信号に同期をとって
照射することが好ましい。このとき、磁気記録媒体６を
回転させながら、磁気記録媒体６あるいは集光レンズの
どちらかが、磁気記録媒体６の半径方向に移動すること
によって文字の印字を行うことが好ましい。磁気記録媒
体６の回転方向だけでは一次元の移動であるので、磁気
記録媒体６あるいは集光レンズのどちらかが、磁気記録
媒体６の半径方向に移動することによって２次元の移動
が可能になり、文字等の印字を行うことができる。ま
た、このときに用いる集光レンズとしては、凸レンズ、
アクロマッティクレンズ、顕微鏡用対物レンズ等のいず
れのものを使用してもかまわない。ただし、焦点距離が
小さすぎると焦点深度がとれないので、好ましくなく、
焦点距離が大きすぎると連続発振レーザでは加工できな
くなるので、焦点範囲としては１０〜８０μｍが好まし
い。

【００２８】磁気記録媒体６を回転させる方法として
は、モータなどを用いるのが好ましい。このモータとし
ては、ＤＣ（サーボ）モータ、ＡＣ（サーボ）モータ、
ステッピングモータ等が挙げられる。このようなモータ
としては、Ｚ相信号の出力が可能なものが好ましい。Ｚ
相信号とは、回転軸１回転に対して１パルスの出力信号
を出すものであり、この場合、レーザ照射位置の位置決
めの原点用として用いることができる。また、位置決め
の原点の役割を有する信号であれば、Ｚ信号の代わりと
して使用することもできる。例えば、１回転あたり１０
２４パルスが出力信号が出されるＡ相信号であれば、出
力信号を１０２４回カウントすることにより原点信号と
して使用可能である。

【００２９】次に、アルファベットのＡをマーキングと
して磁気記録媒体上に印字する場合を例に挙げて本発明
の磁気記録媒体の製造方法について説明する。まず、文
字情報を図３に示すように、ドットパターンとして表
す。この場合は、アルファベットのＡを１０×１０のド
ットとして表した。ついで、このドットパターンをデジ
タル信号に変換する。例えば、図４に示すように、図３
におけるＡのドットパターンの黒部を１、白部を０とし
て表す。ついで、上記変換されたデジタル信号の一行を
まとまった信号として、データゼネレータ等のパルス発
信器に入力する。この場合、Ａを１０×１０のドットで
表現しているので、１行が１０ビットのデジタル信号と
され、例えば、一行目００００１１００００、２行目が
００００１１００００、３行目が０００１１１１０００
というように、各行のデジタル信号がパルス発信器に入
力される。ついで、前記パルス発信器にシーケンスを作
製し、１回トリガー信号が入力されると、１回につき一
行のデジタル信号が出力されるようにする。さらに、１
回トリガー信号が入力されると、次の行のデジタル信号
が１回出力されるようにする。このプロセスは、文字等
の情報が完結するまで繰り返される。例えば、この場合
には、１０行目が終わるまで繰り返されることとなる。
このときのトリガー信号には、Ｚ相信号を用い、磁気記
録媒体を回転させながら、集光レンズが一軸方向に移動
するようにしてマーキングを行う。このとき、マーキン
グ加工時のパルス幅は、上述の突起状構造物を作製する
のに適した範囲とする。

【００３０】このようにして、磁気記録媒体の一回転の
原点位置に、上記デジタル信号の一行分が印字されるこ
ととなる。この各行のデジタル信号ごとに繰り返せば、
文字等、この場合は、Ａを印字することができる。この
ように、原点信号をトリガー信号に用いれば、原点位置
と文字等の情報の一行分がほぼ同じ位置にくることにな
る。したがって、印字の行方向がずれるということがな
い。Ｚ相信号は磁気記録媒体が回転している間は、一回
転に一回ずつ発生する。しかし、実際には、マーキング
するのは、その間の一部の時間であるので、マーキング
するだけのＺ相信号が発生するようにしなければならな
いが、これは、マーキングの間だけリレーがＯＮするよ
うなシーケンサーにより容易に実現することができる。
仮に原点信号を用いずに、回転時間を推測してマーキン
グを施す方法であれば、回転のばらつきにより印字が行
方向にずれてしまう。

【００３１】一般的なレザーマーキング装置において
は、文字等を直接表現するために、ガルバノミラーとｆ
θレンズを用いている。ガルバノミラーは、２枚のミラ
ーで構成されており、２枚のミラーを制御することによ
り２次元の描写が可能になり、文字等を直接表現するこ
とができるものである。このガルバノミラーを用いる
と、レーザ光の集光レンズへの入射角度、入射位置は変
化するため、通常用いられる集光レンズでは、同一表面
上に焦点を結ぶことは困難である。この問題を解消する
ために用いられているのがｆθレンズであり、ｆθレン
ズの焦点距離を大きくすることによって、レーザ光の集
光レンズへの入射角度、入射位置が変化しても、同一表
面上に焦点を結ぶことを可能としている。例えば、Ｙｆ
θレンズ（シグマ光機社製）では、焦点距離が３００、
１５０、１００ｍｍと小さくなるにしたがい、走査距離
がφ２４０、１２０、６０ｍｍと短くなってしまう。

【００３２】このように、従来のレーザーマーキング装
置において、連続発振レーザ光を外部変調装置を用いて
パルス化して用いる場合には、そのピークパワーが小さ
いために、焦点距離の長いレンズを用いることができな
かった。しかしながら、上述の磁気記録媒体を回転さ
せ、レーザ光を磁気記録媒体の回転のＺ相信号に同期を
とってパルス発振させる方法であれば、このようなレー
ザ光を外部変調装置を用いてパルス化して用いる場合で
あっても、焦点距離の短い通常の集光レンズを用いて
も、正確に記号や文字等を印字することができる。一般
に、レーザテクスチャ法としては、パルスレーザ光が用
いられている。よって、例えば、レーザテクスチャ法に
用いられるレーザ法をそのままレーザマーキングに用い
ることが可能となる。このようにすれば、容易に上記マ
ーキングを磁気記録媒体６に形成することができる。

【００３３】このようなレーザ光を用いて磁気記録場板
６表面上に突起状構造体１０を形成してマーキングをす
る磁気記録媒体の製造方法によれば、レーザ光の波長、
パルス幅が最適のものに設定されているので、突起状構
造体１０の凸部１１の高さ、凹部１２の深さ、形成位置
等の設定を精度よく行うことができる。また、基本的に
この形成方法は乾式過程であるため、磁気記録媒体６へ
の不純物の混入等を防ぐことができる。また、このよう
な磁気記録媒体６の製造方法においては、磁気記録媒体
６を回転させ、レーザ光を磁気記録媒体６の回転のＺ相
信号に同期をとってパルスレーザ光を照射することによ
って複数の突起状構造体１０を形成するものであるの
で、容易にかつ正確に、記号や文字などを示すマーキン
グ７を、磁気記録媒体６上に形成することができる。

【００３４】また、このような成膜後の磁気記録媒体６
にマーキングを施す方法は、例えば、片面のみ記録面と
して使用可能な磁気記録媒体６で、その表面に、記録面
と非記録面とを識別するために用いることができる。通
常の磁気記録媒体６には、記録容量を向上させるため
に、その両面に記録面が形成されている。しかし、製造
後の磁気記録媒体６の中には、その片面が記録面として
不良であるものが含まれている。この不良面をここでは
非記録面としている。上記磁気記録媒体６における記録
面（正常面）と非記録面（不良面）とは、磁気記録媒体
６製造後に行われる表面検査や、電磁変換特性検査等の
試験によりその記録面の特性を調べることにより初めて
わかるものである。よって、これら記録面と非記録面と
の識別のためのマーキングは、これらの検査の後、すな
わち磁気記録媒体６製造後（磁性膜の成膜後）に行わな
ければならないものであり、本発明におけるマーキング
の形成方法が好適に用いられる。

【００３５】このような記録面と非記録面とを有する磁
気記録媒体６に形成されるマーキング７は、磁気記録媒
体の記録面、非記録面のどちらに形成しても構わない。
非記録面にマーキング７を形成する場合であれば、磁気
記録媒体６の記録面の特性を阻害することなく、磁気記
録媒体６の非記録面の任意の位置に、突起状構造体１０
を形成することができ、その識別が容易となる。また、
記録面にマーキング７を形成する場合のその形成位置と
しては、例えば、図１に示すような磁気記録媒体６にお
ける非記録領域１０１が好ましく、特に、この例のよう
に、非記録領域１０１の最内周領域１０２に形成される
ことが望ましい。このようにすれば、マーキング７を記
録面に形成する場合であっても、磁気記録媒体６の記録
特性を低下させることがない。

【００３６】ところで、従来、このような片面のみ記録
面として使用可能な磁気記録媒体６は、不良品として破
棄されていた。ところが、最近では、このような片面だ
け使用可能な磁気記録媒体６であっても、実用可能とさ
れる場合がでてきた。というのは、従来は、ハードディ
スクドライブ（ＨＤＤ）には、磁気記録媒体１枚あた
り、２個の磁気記録ヘッドが用いられてきたため、磁気
記録媒体６の両面を記録面に用いることにより記録容量
の向上が図られてきたという事情があったが、近年のＨ
ＤＤの記録密度の向上は目覚ましく、通常のパーソナル
コンピュータ（ＰＣ）の用途では、磁気記録媒体６の片
面を用いるだけで、必要な記録容量を満たしてしまうこ
とが多くなってきているためである。

【００３７】このような事情から、従来、磁気記録媒体
製造後の検査の段階で、片方の記録面が不良であるため
に用いられなかった磁気記録媒体６であっても、片面の
記録面が正常であれば、磁気記録媒体６として十分に用
いることができると考えられる。よって、従来不良品と
して破棄されていた片面だけが正常の磁気記録媒体６を
有効に利用することができれば、大幅なコスト削減が実
現できるものである。このような片面のみ記録面として
良好である磁気記録媒体６を用いる場合、正常の記録面
と、そうでない非記録面とを区別して用いることが必要
とされる。

【００３８】よって、上記マーキングが施された磁気記
録媒体６であれば、磁気記録媒体６の記録面と、非記録
面との識別が目視により容易にできる。よって、このよ
うな片面のみ使用可能な磁気記録媒体６を実用化するこ
とができる。これにより、磁気記録媒体６の製造コスト
を大幅に減少させることができるとともに、この片面の
み使用可能の磁気記録媒体６を磁気記録装置に用いれ
ば、磁気記録再生装置のコストを下げることができる。

【００３９】なお、本発明はこのような用途に限定され
るものではなく、様々な用途のマーキング７に使用する
ことができる。例えば、両面使用の磁気記録媒体６の製
造番号や日付などの識別等にも用いることができる。ま
た、本発明は、ＣＳＳゾーンのない磁気記録媒体におけ
るマーキングにも用いることができる。

【００４０】図９は、本発明の磁気記録媒体のマーキン
グ装置の一実施形態を示すもので、この装置は、レーザ
光源２１と、レーザ光源２１から発せられたレーザ光を
集光する集光レンズ２２と、マーキングを施すべき磁気
記録媒体Ｄを保持する基板保持装置２３とを備えて概略
構成されている。集光レンズ２２とは、凸レンズアクロ
マティックレンズ、顕微鏡用対物レンズ等のほかに、カ
ライドスコープ等を用いることができる。

【００４１】カライドスコープはレーザ光を、エネルギ
ー密度が均一な平行光とするための光学装置であり、図
１０に示すように、筒状のスコープ本体３０内に、入射
光を多重反射させ平行化するカライドミラー３１と、カ
ライドミラー３１からの出射光の方向を変える反射ミラ
ー３２とを収容し、本体３０の外周に反射ミラー３２か
らの反射光の光路を整える集光用レンズ３３を設けて構
成されたものである。このカライドスコープは、レーザ
光のエネルギー密度を均一にすることができるので集光
レンズ２２として用いるのに好ましい。また、基板保持
装置３３は、マーキング処理を施すべき磁気記録媒体Ｄ
を周方向に所定の回転速度で回転させることができるよ
うに構成されている。本発明の磁気記録媒体のマーキン
グ装置は、これらの装置に限らず、その他外部変調器、
各種制御装置等を備えて構成することができる。

【００４２】このような記録媒体のマーキング装置であ
れば、成膜後の磁気記録媒体６上に、上述の突起状構造
体１０を複数容易に形成することができる。

【００４３】図１１は、上記磁気記録媒体を用いた磁気
記録再生装置の例を示すものである。ここに示す磁気記
録再生装置は、磁気記録媒体６と、磁気記録媒体６を回
転駆動させる媒体駆動部４１と、磁気記録媒体６に情報
を記録再生する磁気ヘッド４２と、ヘッド駆動部４３
と、記録再生信号処理系４４とを備えている。記録再生
信号処理系４４は、外部からの記録信号を処理して磁気
ヘッド４４に送ったり、磁気ヘッド４２からの再生信号
を処理して外部に送ることができるようになっている。
このような磁気記録再生装置であれば、片面のみ使用可
能な磁気記録媒体６であっても、その内部に備えて使用
することができる。よって製造コストを低くすることが
できるので、安価とすることができる。

【００４４】

【実施例】以下、本発明を実施例を示して詳しく説明す
る。（実施例１）リチウムシリケイトガラスからなるガラス
基板１上に、Ｃｒ合金からなる下地層２、Ｃｏ合金から
なる磁性膜３、カーボンからなる保護層４を順に成膜し
た磁気記録媒体６の非記録領域１０１に加工範囲を円周
上に５００μｍとして、次に示す装置、方法により突起
状構造体１０を複数形成した。このとき基板１上に形成
された下地層２、磁性膜３、保護層４をあわせた成膜層
５の膜圧は１００ｎｍであった。レーザ光源として、Ｍ
ｉｌｌｅｎｎｉａＸ（連続発振、波長５３２ｎｍ、出力
５Ｗ、スペクトラフィジックス社製）を用い、外部変調
器ＥＯＭｍｏｄｅ１３７０−ＬＡ（Ｃｏｎｏｐｔｉｃ
ｓ，ｉｎｃ製）を用いてレーザをパルス化し、集光レン
ズには、ＭＳＰｌａｎ×５（オリンパス社製）を用い
た。そして、この磁気記録媒体６を回転させながら上記
レーザを、加工パルス周波数２００ｋＨｚ、レーザ出力
２．５Ｗ、パルス幅５００ｎｓで照射した。このときの
回転する磁気記録媒体６の集速を４ｍ/ｓ、ピッチを半
径方向２０μｍとし、その加工範囲を円周上に１００μ
ｍとした。

【００４５】この結果、磁気記録媒体６の所定の位置
に、凸部１１の高さが５０ｎｍである突起状構造体１０
を複数形成することできた。その形状は良好であり、ガ
ラス基板が露出した突起状構造体１０はなかった。

【００４６】（実施例２）磁気記録媒体６の基板１とし
てニッケル燐メッキを施したアルミ基板を用いた以外は
実施例１と同様にして磁気記録媒体６上に凸部１１の高
さが５０ｎｍである複数の突起状構造体１０を形成し
た。この結果、磁気記録媒体６の所定の位置に、突起状
構造体１０を容易に形成することできた。その形状は良
好であり、アルミ基板のニッケル燐下地層が露出した突
起状構造体１０はなかった。

【００４７】（実施例３）レーザ光源として、Ｍｉｌｌ
ｅｎｎｉａＶ（連続発振、波長５３２ｎｍ、出力５Ｗ、
スペクトラフィジックス社製）を用い、レーザ出力を
０．８Ｗとして、連続発振レーザを用いた以外は実施例
１と同様にして、磁気記録媒体６上に凸部１１の高さが
５０ｎｍである複数の突起状構造体１０を形成した。こ
の結果、磁気記録媒体６の所定の位置に、突起状構造体
１０を容易に形成するこできた。その形状は良好であ
り、ガラス基板が露出した突起状構造体１０はなかっ
た。

【００４８】（実施例４）レーザ光源としてＺＴ−１５
（パルス発振、波長１０６４ｎｍ、出力２Ｗ、コヒーレ
ント社製）を用い、加工パルス周波数を１５０ｋＨｚ、
レーザ出力０．１５Ｗ、パルス幅１１０ｎｓとした以外
は、実施例１と同様にして、凸部１１の高さが５０ｎｍ
である複数の突起状構造体１０を形成した。この結果、
磁気記録媒体６の所定の位置に、突起状構造体１０を容
易に形成することできた。その形状は良好であり、ガラ
ス基板が露出した突起状構造体１０はなかった。

【００４９】（比較例１）レーザ光のパルス幅を１５０
０ｎｓとした以外は、実施例１と同様にして、凸１１部
の高さが２００ｎｍである複数の突起状構造体１０形成
した。しかしながら、形成した全ての突起状構造体１０
において、ガラス基材が露出してしまった。

【００５０】（比較例２）レーザ光のパルス幅を１５０
０ｎｓとした以外は、実施例２と同様にして、凸１１部
の高さが２００ｎｍである複数の突起状構造体１０形成
した。しかしながら、形成した全ての突起状構造体１０
において、アルミ基材のニッケル燐メッキ部分が露出し
てしまった。

【００５１】（比較例３）レーザ光源として５０１ＱＭ
−ＶＤ（パルス発振、波長１０６４ｎｍ、出力１．５
Ｗ、コヒーレント社製）を用い、加工パルス周波数を１
０ｋＨｚ、レーザ出力を０．０１Ｗ、パルス幅を１０ｎ
ｓとした以外は、実施例１と同様にして、凸部１１の高
さが５０ｎｍである突起状構造体１０を複数形成した。
この結果、形成された突起状構造体１０の３０％程度
で、ガラス基板が露出してしまった。このとき、レーザ
出力を可変しても、ガラス基板が露出していない突起状
構造体１０を得ることはできなかった。

【００５２】実施例１と比較例１の突起状構造体１０形
成後の磁気記録媒体６にけるコロージョン性を評価し
た。コロージョン性の評価は、それぞれの磁気記録媒体
６を温度８０℃の温水に６０分間浸して温水抽出し、こ
の温水中のリチウムイオン量をＩＣＰ−ＭＳにより測定
した。このとき、レーザ処理をしていない実施例１に用
いた磁気記録媒体６と同様のものをリファレンスとし、
同様の試験を行った。結果を表２に示す。この結果か
ら、比較例１の磁気記録媒体６から、実施例１およびリ
ファレンスの磁気記録媒体６に比較して、多量のリチウ
ムイオンが析出していることがわかった。

【００５３】実施例２と比較例２の突起状構造体１０形
成後の磁気記録媒体６にけるコロージョン性を評価し
た。コロージョン性の評価は、それぞれの磁気記録媒体
６を温度８０℃、湿度８０％のオーブン中に１６８時間
放置し、その後、温度２５℃の温水に６０分間浸して温
水抽出し、この温水中のニッケルイオン量をＩＣＳ−Ｍ
Ｓにより測定した。レーザ処理をしていない実施例２に
用いた磁気記録媒体６と同様のものをリファレンスと
し、同様の試験を行った。結果を表２に示す。この結果
から比較例２の磁気記録媒体６から、実施例２およびリ
ファレンスの磁気記録媒体６に比較して、多量のニッケ
ルイオンが析出していることがわかった。

【００５４】

【表２】

【００５５】（実施例５）レーザには、Ｍｉｌｌｅｎｉ
ａＶ（スペクトラフィジックス社製、出力５Ｗ）レーザ
出力２.５Ｗ、外部変調器としてＥＭＯｍｏｄｅ１３
７０−ＬＡ（Ｃｏｎｏｐｔｉｃｓ．ｉｎｃ製）、集光レ
ンズとして顕微鏡用対物レンズＭＳＰｌａｎ×５（オリ
ンパス社製、焦点距離３６ｍｍ）モータとしてＡＣサー
ボモータ（新明和製）を用い、磁気記録媒体６として、
上記実施例１に用いた磁気記録媒体６を用い、この磁気
記録媒体６の加工周速を４ｍ/ｓで回転させながら、加
工ピッチを半径方向２０μｍとし、円周方向の間隔を制
御することによって、その表面に、突起状構造物１０と
形成することにより、文字Ａを印字した。そして、図３
にあるように、文字Ａは、１０×１０ドットとして、こ
のドットを白部を０、黒部を１としたデジタル信号に変
換し、デジタル信号が１の時のみに、レーザがパルス発
振して、突起状構造物１０が形成されるようにした。そ
して、図４に示した文字Ａを変換したデジタル信号は行
ごとに、データゼネレータＤＺ２０２０（ソニーテクト
ロニクス社製）に取り込み、トリガー信号が入力された
ら、順番に１回ずつ対応するデジタル信号が発振される
ようにした。また、上記データゼネレータのクロック周
波数は、２ＭＨｓであったので、そのままデジタル信号
を発信したのでは２μｍ間隔のドットとなってしまうの
で、、デジタル信号が０のときには０００００００００
０、１のときには１０００００００００のデジタル信号
を割り当て、２０μｍドット間隔になるように調整し
た。このとき、レーザ光の１パルスあたりのパルス幅は
５００ｎｓであった。トリガー信号には、ＡＣサーボメ
ータのＺ相信号を用いた。この結果、２００×２００μ
ｍ角のＡという文字を行方向のずれなしできれいに作製
することができた。また、このときの突起状構造体１０
の凸部１１の高さｈ１は、５００ｎｍであった。

【００５６】（比較例４）レーザには、Ｍｉｌｌｅｎｉ
ａＺ（スペクトラフィジックス社製、出力１０Ｗ）レーザ出力１０Ｗ、外部変調器としてＥＭＯｍｏｄｅ
１３７０−ＬＡ（Ｃｏｎｏｐｔｉｃｓ．ｉｎｃ製）、集
光レンズとしてＹｆθレンズ（シグマ光機社製、焦点距
離１００ｍｍ）を用い、磁気記録媒体６に実施例１と同
様のものを用い、この磁気記録媒体６を静止させ、ガル
バノミラーを動かすことにより、上記Ａの印字を行っ
た。この結果、磁気記録媒体６上に突起状構造体１０を
形成することができず、文字Ａを印字することができな
かった。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気記録媒
体は、基板上に少なくとも磁性膜が形成された磁気記録
媒体であって、この記録媒体上に、目視により識別可能
な複数の突起状構造体からなるマーキングが形成されて
いるものであるので、磁気記録媒体における様々な識別
を目視により容易に行うことができるものである。例え
ば、磁気記録媒体における記録面と非記録面とを有する
ものであれば、その識別を容易に行うことができる。ま
た、このような磁気記録媒体であれば、従来不良品とさ
れていた片面のみ良好な磁気記録媒体でも製品として用
いることができ、大幅なコストダウンを計ることができ
る。

【００５８】また、上記突起状構造体の凸部の高さが、
１０ｎｍ以上、（基板上に形成された層の総合厚さ）×
２ｎｍ以下であれば、目視可能でわかりやすく、また磁
気記録媒体の耐コロージョン性の低下させることのなく
マーキングを施された磁気記録媒体を得ることができ
る。上記突起状構造体の凹部の深さが、１０ｎｍ以上、
（基板上に形成された層の総合厚さ）ｎｍ以下であれ
ば、同様に目視可能でわかりやすく、また磁気記録媒体
の耐コロージョン性の低下させることのなくマーキング
を施された磁気記録媒体を得ることができる。さらに、
上記基板上に形成された層の総合厚さが、１０〜３００
ｎｍである磁気記録媒体であれば、容易に良好なマーキ
ングを施すことができる。上記マーキングが、目視によ
り識別可能な記号または文字などであれば、より磁気記
録媒体の識別が容易となる。また、上記マーキングによ
り正常面（記録面）と不良面とを識別された磁気記録媒
体によれば、これを用いることにより従来破棄されてき
た片面のみ使用可能な磁気記録媒体を製品として用いる
ことが可能となり、大幅なコスト削減が可能となる。ま
た、この磁気記録媒体を磁気記録装置に用いれば、磁気
記録装置の製造コストを下げることができる。

【００５９】本発明の磁気記録媒体の製造方法によれ
ば、パルス発振レザー光または、パルス化された連続発
振レーザ光を、磁気記録媒体に照射することによって上
記突起状構造体を形成するものであるので、成膜後の磁
気記録媒体に、上記突起状構造体を複数形成して、目視
により識別可能なマーキングを容易に形成することがで
きる。詳しくは、凸部の高さが、１０ｎｍ以上、（基板
上に形成された層の総合厚さ）×２ｎｍ以下であり、凹
部の深さが、１０ｎｍ以上、（基板上に形成された層の
総合厚さ）ｎｍ以下である突起状構造体を複数、容易に
磁気記録媒体上に形成することができる。また、この方
法においては、レーザ光により突起状構造体を、磁気記
録媒体上の正確な位置に形成することができるので、輪
郭のはっきりとした正確な形状の記号や文字等のマーキ
ングを磁気記録媒体の表面に形成することができる。ま
た、上記磁気記録媒体の製造方法において、レーザ光の
波長が２００〜１１００ｎｍ、そのパルス幅を１００ｎ
ｓ以上にすれば、上記凸部の高さまた、凹部の深さ等の
制御がよういであり、これらの値にばらつきの少ない良
好な形状の突起状構造体を得ることができる。

【００６０】本発明の磁気記録媒体のマーキング装置に
よれば、上記形状の突起状構造体を容易に形成すること
ができ、上記磁気記録媒体を容易に製造することができ
る。また、本発明の磁気記録再生装置においては、正常
記録面と不良記録面とを有し、従来破棄されてきた磁気
記録媒体であっても用いることができるので、製造コス
トが低く、安価とすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の一例を示す平面図で
ある。

【図２】（ａ）本発明の磁気記録媒体に形成される突
起状構造体の一例を示した平面図である。（ｂ）（ａ）におけるＡ−Ａ’方向からみた断面図であ
る。

【図３】本発明の磁気記録媒体に形成されるマーキン
グの一例をドットパターンとして示した図である。

【図４】図３におけるマーキングのドットパターンを
デジタル信号として表した図である。

【図５】本発明の磁気記録媒体に形成される突起状構
造体の一例における凸部の高さｈ１と、レザーパワーの
関係を示したグラフである。

【図６】本発明の磁気記録媒体に形成される突起状構
造体の一例における凹部に深さｈ２と、レザーパワーの
関係を示したグラフである。

【図７】本発明の磁気記録媒体に形成される突起状構
造体を形成する際のレーザ光のパルス幅と、レーザパワ
ーの関係を示したグラフである。

【図８】磁気記録媒体の一例の構造を示すための断面
図である。

【図９】本発明の磁気記録媒体のマーキング装置の一
例を示す概略構成図である。

【図１０】本発明の磁気記録媒体のマーキング装置に
用いられるカライドスコープの一例を示す概略構成図で
ある。

【図１１】本発明の磁気記録再生装置の一例を示す概
略構成図である。

【符号の説明】

１…基板、２…下地膜、３…磁性膜、４…保護
膜、５…成膜層６…磁気記録媒体、７…マーキング１０…突起状構造体、１１…凸部、１２…凹部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に少なくとも磁性膜が形成された
磁気記録媒体であって、この記録媒体上に、目視により
識別可能なマーキングが形成され、このマーキングが複
数の突起状構造体からなるものであることを特徴とする
磁気記録媒体。
【請求項２】上記突起状構造体の凸部の高さが、１０
ｎｍ以上、（基板上に形成された層の総合厚さ）×２ｎ
ｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録
媒体。
【請求項３】上記突起状構造体の凹部の深さが、１０
ｎｍ以上、基板上に形成された層の総合厚さ）ｎｍ以下
であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気
記録媒体。
【請求項４】上記基板上に形成された層の総合厚さ
が、１０〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１
ないし３のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】上記マーキングが記号または文字を示す
ものであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれ
か一項に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】上記磁気記録媒体が、正常面と不良面と
を有するものであり、上記マーキングにより、これら正
常面と不良面との識別が可能とされたことを特徴とする
請求項１ないし５のいずれか一項に記載の磁気記録媒
体。
【請求項７】基板上に少なくとも磁性膜が形成された
磁気記録媒体表面に、レーザ光を照射することによって
突起状構造体を複数形成し、これら突起状構造体により
目視により識別可能なマーキングを形成することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】マーキングを形成するにあたり、磁気記
録媒体を回転させ、この回転のＺ相信号に同期をとっ
て、レーザ光をパルス化したパルスレーザ光を磁気記録
媒体表面に照射することによって前記複数の突起状構造
体を形成することを特徴とする請求項７に記載の磁気記
録媒体の製造方法。
【請求項９】上記レーザ光の波長が２００〜１１００
ｎｍであり、パルス幅が１００ｎｓ以上であることを特
徴とする請求項７または８に記載の磁気記録媒体の製造
方法。
【請求項１０】基板上に少なくとも磁性膜が形成され
た磁気記録媒体表面に、レーザ光を照射することによっ
て突起状構造体を複数形成し、これら突起状構造体によ
り目視により識別可能なマーキングを形成できることを
特徴とする磁気記録媒体のマーキング装置。
【請求項１１】磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情
報を記録再生する磁気ヘッドとを備え、該磁気記録媒体
が、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の磁気記録
媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。