JP2001251176A - レベルシフト回路 - Google Patents

レベルシフト回路

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JP2001251176A
JP2001251176A JP2000061300A JP2000061300A JP2001251176A JP 2001251176 A JP2001251176 A JP 2001251176A JP 2000061300 A JP2000061300 A JP 2000061300A JP 2000061300 A JP2000061300 A JP 2000061300A JP 2001251176 A JP2001251176 A JP 2001251176A
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mos transistor
potential
type mos
circuit
gate
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Hisanori Yuki
寿則 結城
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 入力部にゲート酸化膜圧以上の電位差が印加
されても、各MOSトランジスタゲート酸化膜に耐圧以
上の電圧がかかることなく、入力信号の立上がり/立下
り時ともに遅延を小さくばらつきを少なくする。 【解決手段】 入力部INをノードAと電気的に接続す
るトランスファーゲート回路20は、入力部INが接地
電位であり出力部OUTが第1の電源電位である場合、
トランジスタ22のゲートをオンにする。入力部INの
電位が接地電位から第1の電源電位に変移する場合、ト
ランジスタ22はノードAの電位の引き上げを助ける。
ノードAがインバータ回路10の出力電位を反転させる
レベルに到達した時点でトランジスタ31をオフ23を
オンにしてノードAの電位を第1の電位に固定する。入
力部INがゲート酸化膜耐圧以上の電位VDD2まで引
き上げられた場合、トランジスタ33がオン22がオフ
となりノードAの電位の引き上げを防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、MOSトランジス
タで構成した半導体集積回路(LSI)に関するもので
あり、特に、MOSトランジスタのゲート酸化膜の耐圧
以上の電圧を電源電圧とする他のLSIと接続するため
のインターフェースとなるレベルシフト回路に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体集積回路の微細化に伴い、
半導体デバイスの耐圧、特にMOSトランジスタのゲー
ト酸化膜の耐圧が低くなっており、これに伴い3ボルト
や2.5ボルト、あるいはそれ以下の低電圧を電源電圧
とするLSIが増加しており、LSIの電源電圧が3ボ
ルトであっても、このLSIと接続する外部のLSIの
電源電圧が例えば5ボルトである場合の接続には振幅が
5ボルトである信号の入力を許容するレベルシフト回路
を使用する。
【0003】このとき、5ボルト以上の耐圧を持つゲー
ト酸化膜を形成する別工程を追加するとコストが増大す
るため、各トランジスタのゲート酸化膜にゲート酸化膜
耐圧以上の電位差が印加されない回路構成のレベルシフ
ト回路を使用する。
【0004】以下、図面を参照して従来のレベルシフト
回路について説明する。このレベルシフト回路は外部回
路から入力部に与えられたレベルを反転させ、出力部の
電位状態をこのLSIの電源電位及び接地電位のいずれ
かに設定する回路である。
【0005】図16は従来のレベルシフト回路を示す。
INは外部LSIの信号線が接続される入力部、OUT
はオンチップ回路に接続されて電源電位あるいは接地電
位のいずれかを出力する出力部である。またこのLSI
の電源電位であるVDD1は第1の電位でありGNDは
接地電位である。第1の電位VDD1と接地電位GND
の電位差はLSIを構成するMOSトランジスタのゲー
ト酸化膜の耐圧以下である。
【0006】100は入力端子の電位に応じて出力端子
より電位を反転出力するインバータ回路であり、電源電
位にプルアップするP型MOSトランジスタ101及び
接地電位にプルダウンするN型MOSトランジスタ10
2によって構成されている。
【0007】P型MOSトランジスタ101とN型MO
Sトランジスタ102のドレイン同士が接続されたノー
ドがインバータ回路100の出力端子であり前記出力部
OUTに接続され、P型MOSトランジスタ101とN
型MOSトランジスタ102のゲート同士が接続された
ノードBがインバータ回路100の入力端子である。イ
ンバータ回路100はMOSトランジスタのゲート酸化
膜の耐圧以下の電圧で動作し、例えばその電圧は第1の
電位VDD1と接地電位の電位差である。
【0008】110は入力パッド部から入力された信号
を第1の電位VDD1以上の電位にならないよう制限し
て前記ノードBに伝達するトランスファーゲート部で、
N型MOSトランジスタ111によって構成されてい
る。N型MOSトランジスタ111のドレインは前記入
力部INに接続され、ソースはトランスファーゲート部
の出力でありインバータ回路100の入力端子である前
記ノードBに接続され、ゲートには第1の電位VDD1
が与えられている。
【0009】前記入力部INには外部回路の電源電圧で
ある第2の電圧VDD2と接地電位を振幅とする信号が
入力される。第2の電圧VDD2は第1の電圧VDD1
と同じである場合と、第1の電圧より高くMOSトラン
ジスタのゲート酸化膜の耐圧以上である場合がある。
【0010】このように構成された図16に示す従来の
レベルシフト回路について、その動作を説明する。ここ
では第1の電位VDD1は3ボルトでありGNDは0ボ
ルトであるとし、第2の電位VDD2は3ボルトである
場合と5ボルトである場合を説明する。
【0011】まず、入力部INに0ボルトが入力された
場合を説明する。入力部INに0ボルトが入力される
と、N型MOSトランジスタ111がオンになるためト
ランスファーゲート部は入力部INと節点Bを電気的に
接続し、ノードBの電位は0ボルトとなる。ノードBが
0ボルトになるとインバータ回路100の備えるP型M
OSトランジスタ101がオンになり、N型MOSトラ
ンジスタ102がオフになり、レベルシフト回路の出力
部OUTを3ボルトの電位にプルアップする。図17で
は入力部INに0ボルトが入力されるときオンになるM
OSトランジスタを破線の丸で囲んでいる。
【0012】次に、入力部INに3ボルトが入力された
場合の動作を説明する。N型MOSトランジスタ111
のしきい値電圧をVtn1とするとノードBの電位は
(3−Vtn1)まで引き上げられたところでN型MO
Sトランジスタ111はオフ状態になる。ノードBの電
位が(3−Vtn1)となるとインバータ回路100の
備えるP型MOSトランジスタ101がオフ,N型MO
Sトランジスタ102がオンとなり、レベルシフト回路
の出力部OUTを0ボルトの電位にする。図18では入
力部INに3ボルトが入力されるときオンになるMOS
トランジスタを破線の丸で囲んでいる。
【0013】入力部INに5ボルトが入力された場合の
動作は入力部INに3ボルトが与えられた場合と同様に
ノードBの電位は(3−Vtn1)まで引き上げられた
ところでN型MOSトランジスタ111はオフ状態にな
る。ノードBの電位が(3−Vtn1)となるとインバ
ータ回路100の備えるP型MOSトランジスタ101
がオフにN型MOSトランジスタ102がオンになり、
レベルシフト回路の出力部OUTを0ボルトの電位にす
る。このときN型MOSトランジスタ111のドレイン
とゲート間の電位差は(5−3)=2ボルトでありゲー
ト酸化膜耐圧以下であるためゲート酸化膜の劣化は発生
しない。図19では入力部INに5ボルトが入力される
ときオンになるMOSトランジスタを破線の丸で囲んで
いる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
レベルシフト回路には以下のような問題がある。図2に
示すような従来のレベルシフト回路において、入力部I
Nの電圧をVin、ノードBの電位をVb、入力部が0
ボルトから第1の電位VDD1に変化する信号を入力し
た場合にノードBに流入する電流をIr1とすると、V
bが0ボルト以上であり、かつ(VDD1−Vtn1)
以下の範囲でIr1は、 Ir1 = (β1/2)(Vin−Vtn1−Vb)2 = (β1/2)(VDD1−Vtn1−Vb)2 で表される。β1はトランジスタにより決まる定数であ
り、 β1 = (W1/L1)(ε・μ0/tox) で表される。W1及びL1はN型MOSトランジスタ1
11のゲート幅及びゲート長、εはゲート酸化膜の誘電
率、μ0は電子の移動度、toxはゲート酸化膜圧であ
る。
【0015】インバータ100の出力レベルが反転する
入力電圧の値をVsw1、インバータ100の入力容量
及び配線容量を加えたノードBにおける負荷容量をC
b、ノードBが0ボルトからVsw1に到達するまでに
必要な時間をtr1とするとtr1は、 tr1 = (2Cb/β1){1/(VDD1−Vtn1−Vsw1)− 1/(VDD1−Vtn1)} = (2Cb/β1){Vsw1/(VDD1−Vtn1−Vsw1 )(VDD1−Vtn1)} となる。なお、ノードBの電位が(VDD1−Vtn
1)に到達するとN型MOSトランジスタ111はオフ
となるため、ノードBの電位は(VDD1−Vtn1)
以上には上がらない。
【0016】一方、入力部INが第1の電位VDD1か
ら接地電位に変化する信号を入力した場合にノードBに
流入する電流をIf1とすると、VbがVtn1以上で
ありかつ(VDD1−Vtn1)以下の範囲でIf1は If1 = (−β1/2)(VDD1−Vtn1)2 で表される。この場合、ノードBが(VDD1−Vtn
1)からVsw1に到達するまでに必要な時間をtf1
とするとtf1は tf1 = (2Cb/β1)(VDD1−Vtn1−
Vsw1)/(VDD1−Vtn1)2 となる。Vsw1は通常(VDD1/2)付近であり、
例えばVsw1=(VDD1/2)とした場合、 Vsw1 = (VDD1/2)>(VDD1−Vtn1−Vsw1) = (VDD1/2−Vtn1) であり且つ (VDD1−Vtn1−Vsw1) < (VDD1−
Vtn1) であるため常にtr>tfが成立する。
【0017】例えば、ここでVDD1=3ボルト、Vt
n1=0.7ボルト、Vsw1=1.5ボルト、Cb=
100fF、β1=400×10-6とした場合、tr1
=0.408ns、tf1=0.076nsとなり、入
力信号が立上がりである場合の遅延時間と入力信号が立
下りである場合の遅延時間の差が発生している。
【0018】また、tf1におけるVsw1の影響は一
次の項であるのでVsw1の変動に対してtf1は比例
的に変化するが、tr1におけるVsw1の影響は(V
DD1−Vtn1−Vsw1)の逆数で与えられるた
め、Vsw1が(VDD1−Vtn1)となる電位を漸
近線としてtr1は反比例する。Vsw1→(VDD1
−Vtn1)とするとtr1→∞となる。これは、Vs
w1のばらつきによる遅延値の変動について上限が無い
ことを意味し、β1を大きくすることにより遅延を減少
させることはできるが、その限界を保証することはでき
ない。tr1の変動量はVsw1が(VDD1−Vtn
1)に近づくほど増大するため、インバータ100の部
分にシュミット回路のようなヒステリシス特性を持つ回
路を接続した場合などに立上がりと立下りの遅延時間の
差がより顕著となる。また、VDD1の電位が低くなる
と(VDD1−Vtn1−Vsw1)の値が相対的に小
さくなるため遅延値の変動量が増加する傾向が表われ
る。
【0019】このように従来回路のデメリットとして入
力が0ボルトから3ボルトへ立上がる場合と、3ボルト
から0ボルトへ立下る場合で遅延差が大きくなり、電源
電圧の変動などによるばらつきも大きくなるため、この
レベルシフト回路を使用したタイミング設計時に遅延時
間を保証するためのマージンを大きく取る必要がある。
これは、内部回路における動作の高速化を要求されるこ
とに繋がりチップとして高速な動作が要求される場合に
不利である。
【0020】本発明は、上記の課題を鑑み、入力が立上
がりである場合のレベルシフト回路の遅延値を減少させ
ると共に、後段のインバータ回路の反転レベルの変動や
VDD1の変動に対するレベルシフト回路の遅延値のば
らつきの小さくすることにより、内部動作速度のマージ
ンが大きくでき、より高速な回路設計に適したレベルシ
フト回路を提供することを目的としている。
【0021】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
レベルシフト回路は、外部回路と前記外部回路から入力
された第1の電位あるいは第2の電位あるいは接地電位
のレベルを受け取る入力部と、入力部で受け取った信号
を、第1の電位と接地電位を振幅とする信号に反転出力
する出力部より内部回路に伝達するレベルシフト回路で
あって、前記第1の電位と接地電位の電位差を振幅とす
る信号を受け取ってレベルを反転させて前記第1の電位
と接地電位の電位差を振幅とする信号を前記出力部に出
力する第1のインバータ回路と、入力端子と出力端子と
フィードバック端子と制御端子を有し、制御端子に与え
られた電位により前記出力端子と前記入力端子の電気的
接続を制御するトランスファーゲート回路と、制御信号
出力端子を有し、前記入力部より入力された信号と前記
出力部より出力された信号を制御信号として入力され且
つ制御信号出力端子が前記トランスファーゲート回路の
制御端子に接続され、前記入力部の電位が前記第1の電
位を超える場合は前記トランスファーゲート回路の入力
端子と前記トランスファーゲートの出力端子の接続を高
抵抗にする制御信号をトランスファーゲートに与える一
方、前記入力部の電位が前記第1の電位を超えず且つ前
記出力部の電位が接地電位である場合は前記入力部と前
記トランスファーゲート回路の出力端子間の接続を低抵
抗にする信号を前記トランスファーゲートの制御信号と
して与えるトランスファーゲート制御回路とを備え、前
記第1のインバータ回路の出力端子は前記出力部に接続
され、前記トランスファーゲート回路の出力端子は前記
第1のインバータ回路の入力端子に接続され、前記トラ
ンスファーゲート回路の入力端子は前記入力部に接続さ
れ、前記トランスファーゲート回路のフィードバック端
子に前記出力部が接続され、前記トランスファーゲート
回路の入力端子が前記入力部に接続され、前記第1のイ
ンバータ回路はソース及び基板に前記第1の電位が与え
られた第1のP型MOSトランジスタとソース及び基板
に接地電位が与えられた第1のN型MOSトランジスタ
を備え、前記第1のP型MOSトランジスタのゲート及
び前記第1のN型MOSトランジスタのゲート同士が接
続され前記第1のP型MOSトランジスタのゲート及び
前記第1のN型MOSトランジスタのゲート同士が接続
されたノードを前記第1のインバータ回路の入力端子に
とし且つ前記第1のP型MOSトランジスタのドレイン
及び前記第1のN型MOSトランジスタのドレイン同士
が接続され前記第1のP型MOSトランジスタのドレイ
ン及び前記第1のN型MOSトランジスタのドレイン同
士が接続されたノードを前記第1のインバータ回路の出
力端子とした相補型インバータであることを特徴とす
る。
【0022】本発明の請求項2記載のレベルシフト回路
は、請求項1において、前記トランスファーゲート回路
は、ゲートに前記第1の電位が与えられた第2のN型M
OSトランジスタと、ゲートに前記制御端子が接続され
た第2のP型MOSトランジスタと、ソース及び基板を
前記第1の電位に接続され且つゲートをフィードバック
端子に接続された第3のP型MOSトランジスタとを有
し、前記第2のN型MOSトランジスタのドレインと前
記第2のP型MOSトランジスタのドレイン同士が接続
され前記第2のN型MOSトランジスタのドレインと前
記第2のP型MOSトランジスタのドレイン同士が接続
されたノードが入力端子であり前記第2のN型MOSト
ランジスタのソースと前記第2のP型MOSトランジス
タのソース同士が接続され前記第2のN型MOSトラン
ジスタのソースと前記第2のP型MOSトランジスタの
ソース同士が接続されたノードを出力端子とし前記第3
のP型MOSトランジスタのドレインを出力端子に接続
したことを特徴とする。
【0023】本発明の請求項3記載のレベルシフト回路
は、請求項2において、前記第2のP型MOSトランジ
スタの基板電位を、特定の電位に決定する回路に接続さ
れていないことを特徴とする。
【0024】本発明の請求項4記載のレベルシフト回路
は、請求項1において、前記トランスファーゲート制御
回路は、ソース及び基板に接地電位が与えられ且つゲー
トに前記出力部が接続された第3のN型MOSトランジ
スタと、ソースが前記第3のN型MOSトランジスタと
接続され且つゲートが前記第1の電位に接続され且つ基
板に接地電位が与えられた第4のN型MOSトランジス
タと、ソースに前記入力部が接続され且つゲートに前記
第1の電位が与えられた第4のP型MOSトランジスタ
とを備え、前記第4のN型MOSトランジスタのドレイ
ンと前記第4のP型MOSトランジスタのドレインが接
続され前記第4のN型MOSトランジスタのドレインと
前記第4のP型MOSトランジスタのドレインが接続さ
れたノードが制御信号出力端子であることを特徴とす
る。
【0025】本発明の請求項5記載のレベルシフト回路
は、請求項4において、前記第4のP型MOSトランジ
スタの基板電位を特定の電位に決定する回路に接続され
ていないことを特徴とする。
【0026】本発明の請求項6記載のレベルシフト回路
は、請求項1において、前記トランスファーゲート制御
回路は、ソース及び基板に接地電位が与えられ且つゲー
トに前記出力部が接続された第5のN型MOSトランジ
スタと、ソースが前記第5のN型MOSトランジスタの
ドレインと接続され且つゲートが前記第1の電位に接続
された第6のN型MOSトランジスタと、ソースに前記
入力部が接続され且つゲートに前記第1の電位が与えら
れた第5のP型MOSトランジスタと、ソース及び基板
に前記第1の電位が与えられ且つゲートに前記出力部が
接続された第6のP型MOSトランジスタと、ソースに
前記第6のP型MOSトランジスタのドレインが接続さ
れ且つゲートが前記入力部に接続された第7のP型MO
Sトランジスタを備え、前記第6のN型MOSトランジ
スタのドレインと前記第5のP型MOSトランジスタの
ドレインと前記第7のP型MOSトランジスタのドレイ
ン及び基板が接続され前記第6のN型MOSトランジス
タのドレインと前記第5のP型MOSトランジスタのド
レインと前記第7のP型MOSトランジスタのドレイン
及び基板が接続された点を制御信号出力端子としたこと
を特徴とする。
【0027】本発明の請求項7記載のレベルシフト回路
は、請求項6において、前記第5のP型MOSトランジ
スタの基板電位を特定の電位に決定する回路に接続され
ていないことを特徴とする。
【0028】本発明の請求項8記載のレベルシフト回路
は、請求項1において、前記トランスファゲート回路
は、ゲートに前記第1の電位が与えられた第7のN型M
OSトランジスタと、ゲートに前記制御端子が接続され
た第8のP型MOSトランジスタと、前記出力部の信号
を入力し反転信号を出力する第2のインバータと、ドレ
インに前記第8のP型MOSトランジスタのソースが接
続され且つゲートに前記第2のインバータ回路の出力電
位を印加され且つ基板に前記第1の電位を与えられた第
9のP型MOSトランジスタと、ソース及び基板を前記
第1の電位に接続され且つゲートをフィードバック端子
に接続され前記第8のP型MOSトランジスタのソース
と前記第9のP型MOSトランジスタが接続された点に
ソースが接続された第10のP型MOSトランジスタと
を備え、前記第7のN型MOSトランジスタのドレイン
と前記第8のP型MOSトランジスタのドレイン同士が
接続され前記第7のN型MOSトランジスタのドレイン
と前記第8のP型MOSトランジスタのドレイン同士が
接続された点を入力端子とし、前記第7のN型MOSト
ランジスタのソースと前記第9のP型MOSトランジス
タのソース同士が接続され前記第7のN型MOSトラン
ジスタのソースと前記第9のP型MOSトランジスタの
ソース同士が接続された点を出力端子としたことを特徴
とする。
【0029】本発明の請求項9記載のレベルシフト回路
は、請求項8において、前記第8のP型MOSトランジ
スタの基板電位を特定の電位に決定する回路に接続され
ていないことを特徴とする。
【0030】本発明の請求項10記載のレベルシフト回
路は、請求項2において、前記入力部に印加された電位
が接地電位である場合には前記第2のP型MOSトラン
ジスタの基板電位に前記第1の電位を与える一方、前記
入力部に印加された電位が前記第1の電位を超える場合
には前記第2のP型MOSトランジスタの基板に特定の
電位を印加しない回路を有することを特徴とする。
【0031】本発明の請求項11記載のレベルシフト回
路は、請求項4において、前記入力部に印加された電位
が接地電位である場合には前記第4のP型MOSトラン
ジスタの基板電位に前記第1の電位を与える一方、前記
入力部に印加された電位が前記第1の電位を超える場合
には前記第4のP型MOSトランジスタの基板に特定の
電位を印加しない回路を有することを特徴とする。
【0032】本発明の請求項12記載のレベルシフト回
路は、請求項6において、前記入力部に印加された電位
が接地電位である場合には前記第6のP型MOSトラン
ジスタの基板電位に前記第1の電位を与える一方、前記
入力部に印加された電位が前記第1の電位を超える場合
には前記第6のP型MOSトランジスタの基板に特定の
電位を印加しない回路を有することを特徴とする。
【0033】本発明の請求項13記載のレベルシフト回
路は、請求項8において、前記入力部に印加された電位
が接地電位である場合には前記第8のP型MOSトラン
ジスタの基板電位に前記第1の電位を与える一方、前記
入力部に印加された電位が前記第1の電位を超える場合
には前記第8のP型MOSトランジスタの基板に特定の
電位を印加しない回路を有することを特徴とする。
【0034】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態を図
1〜図15に基づいて説明する。 (実施の形態1)図1〜図5はこの発明の(実施の形態
1)を示す。
【0035】図1において、10で示す回路はインバー
タ回路であり、インバータ回路10が備えるP型MOS
トランジスタ11のゲート及びN型MOSトランジスタ
12のゲートが接続されてインバータ回路10の入力端
子であるノードAに接続されると共に互いのドレインが
接続されてレベルシフト回路の出力部OUTと接続され
る。P型MOSトランジスタ11のソース及び基板は第
1の電位VDD1に接続され、N型MOSトランジスタ
12のソース及び基板は接地電位に接続されている。
【0036】20で示す回路はトランスファーゲート回
路で、N型MOSトランジスタ21とP型MOSトラン
ジスタ22のドレイン同士が接続されレベルシフト回路
の入力部INに接続されており、ソース同士が接続され
インバータ回路10の入力端子であるノードAに接続さ
れ、N型MOSトランジスタ21のゲートには第1の電
位VDD1が与えられている。さらにドレインをノード
Aに接続され且つゲートを出力部OUTに接続され且つ
ソース及び基板を第1の電位VDD1に接続されたP型
MOSトランジスタ23を備える。
【0037】30で示す回路はトランスファーゲート制
御回路で、N型MOSトランジスタ31のドレインとN
型MOSトランジスタ32のソースが接続されており、
N型MOSトランジスタ31のソース及び基板とN型M
OSトランジスタ32の基板は接地電位に接続され、N
型MOSトランジスタ31のゲートは出力部OUTに接
続され、N型MOSトランジスタ32のゲートは第1の
電位VDD1に接続されている。P型MOSトランジス
タ33のソースは入力部INに、ゲートを第1の電位V
DD1に接続されドレインをN型MOSトランジスタ3
2のドレインと共有しており、このノードが制御信号の
出力端子になる。制御信号出力はトランスファーゲート
回路20が備えるP型MOSトランジスタ22のゲート
に接続されている。
【0038】なお、ここではP型MOSトランジスタ2
2の基板電位は、特定の電位に決定する回路に接続され
ていない。P型MOSトランジスタ33の基板電位を特
定の電位に決定する回路に接続されていない。
【0039】上記の構成における動作を説明する。第1
の電位VDD1は例えば3ボルトであり入力部INには
最大5ボルトが印加されるとする。まず、入力部INに
0ボルトが入力された場合を説明する。INに0ボルト
が入力されるとN型MOSトランジスタ21はオンとな
り、ノードAを0ボルトにする。インバータ回路10は
ノードAのレベルを反転させて出力するため、出力部O
UTの電位は3ボルトとなる。このとき、N型MOSト
ランジスタ31はオンとなり、N型MOSトランジスタ
32もオンとなると共にP型MOSトランジスタ33は
オフであるためP型MOSトランジスタ22のゲートに
は0ボルトが与えられる。また、OUTが3ボルトにな
るとP型MOSトランジスタ23はオフとなる。図2で
は入力部INに0ボルトが入力されたときオンになるM
OSトランジスタを破線の丸で囲んでいる。
【0040】次に入力部INの電位が0ボルトから3ボ
ルトに変化する場合の動作を説明する。入力部INの変
化が始まるときのN型MOSトランジスタ21及びP型
MOSトランジスタ22はオンであり、ノードAに電流
が流入して電位が上昇する。ノードAの電位がインバー
タ10の出力を反転させる電位であるVsw10に到達
すると、出力部OUTは0ボルトとなりN型トランジス
タ31をオフにするがP型MOSトランジスタ33もオ
フであるためP型トランジスタ22の状態は不定とな
る。一方、P型MOSトランジスタ23がオンするため
ノードAの電位は3ボルトで固定される。図3では入力
部INに3ボルトが入力されたときにノードAがVsw
10に到達するまでの期間オンになるMOSトランジス
タを破線の丸で囲んでおり、図4では入力部INに3ボ
ルトが入力されたときにノードAがVsw10に達した
後でオンになるMOSトランジスタを破線の丸で囲んで
いる。
【0041】次に入力部INの電位が0ボルトから5ボ
ルトに変化する場合の動作を説明する。入力部INの変
化が始まる際のN型MOSトランジスタ21及びP型M
OSトランジスタ22はオンであり、ノードAに電流が
流入して電位が上昇する。ノードAの電位がインバータ
回路10の出力を反転させる電位Vsw10に到達する
と、出力部OUTは0ボルトとなりN型トランジスタ3
1をオフにするがP型MOSトランジスタ33もオフで
あるためP型トランジスタ22の状態は不定となる。一
方、P型MOSトランジスタ23がオンするためノード
Aの電位は3ボルトで固定される。さらに入力部INが
5ボルトに達したところでは、P型MOSトランジスタ
33がオンとなりP型MOSトランジスタ22のゲート
に入力部INの電位である5ボルトを与える。ノードA
は3ボルトで固定されているためP型MOSトランジス
タ22はオフとなる。
【0042】このとき、P型MOSトランジスタ22の
ドレインとゲート間の電位差は同電位でありゲートとソ
ース間の電位差は|5−3|=2ボルトでありゲート酸
化膜耐圧以下であるためP型MOSトランジスタ22に
おけるゲート酸化膜の劣化は発生しない。またN型MO
Sトランジスタ21のドレインとゲート間及びN型MO
Sトランジスタ32のドレインとゲート間も電位差は|
5−3|=2ボルトでありゲート酸化膜耐圧以下である
ためN型MOSトランジスタ32におけるゲート酸化膜
の劣化は発生しない。図5では入力部INに5ボルトを
入力したときにオンとなるMOSトランジスタを破線の
丸で囲んでいる。
【0043】PAD電位が第1の電位VDD1から接地
電位に変化する場合、ノードAに入力部INより流入す
る電流は入力部の電圧をVin、ノードAの電位をV
a、入力部が0ボルトから第1の電位VDD1に変化す
る信号を入力した場合にノードAに流入する電流をIr
2とすると、ノードAがVsw10に到達するまでのI
r2は、 Ir2 = (β2/2)(Vin−Vtn2−Va)2+ (β3/2)(Vin−Vtp1)2 = ( β2/2)(VDD1−Vtn2−Va)2+ (β3/2)(VDD1−Vtp1)2 で表される。ここでVtn2はN型MOSトランジスタ
21のしきい値でありVtp1はP型MOSトランジス
タ22のしきい値である。β2及びβ3はそれぞれ β2 = (W2/L2)(ε・μ0/tox) β3 = (W3/L3)(ε・μ1/tox) で表される。W2及びL2はN型MOSトランジスタ2
1のゲート幅及びゲート長、W3及びL3はP型MOS
トランジスタ22のゲート幅及びゲート長、εはゲート
酸化膜の誘電率、μ0は電子の移動度、μ1は正孔の移
動度、toxはゲート酸化膜圧である。ここで、Ir2
に含まれる{(β3/2)(VDD1−Vtp1)2
は定数項であり(VDD1−Vtn2)付近においても
一定電流を供給するため、ばらつきよる極端な遅延の増
大の発生を抑えることができる。
【0044】一方、入力部INが第1の電位VDD1か
ら接地電位に変化する信号を入力された場合にノードB
に流入する電流をIf2とするとVbがVtn2以上で
ありかつ(VDD1−Vtn2)以下の範囲でIf2は If2 = (−β2/2)(VDD1−Vtn2)2 で表され、従来例と同様の電流値を確保できるため、遅
延値やVsw1の変動に対してのばらつきは従来例と同
等とすることができる。
【0045】(実施の形態2)図6はこの発明の(実施
の形態2)を示す。図1に示す(実施の形態1)と異な
るのは40で示すトランスファーゲート制御回路であ
る。その他は(実施の形態1)と同じである。
【0046】トランスファーゲート制御回路40は、N
型MOSトランジスタ41のドレインとN型MOSトラ
ンジスタ42のソースが接続されており、N型MOSト
ランジスタ41のソース及び基板とN型MOSトランジ
スタ42の基板は接地電位に接続され、N型MOSトラ
ンジスタ41のゲートは出力部OUTに接続され、N型
MOSトランジスタ42のゲートは第1の電位VDD1
に接続されている。P型MOSトランジスタ43のソー
スは入力部INに、ゲートを第1の電位VDD1に接続
され、P型MOSトランジスタ44のソースと基板には
第1の電位VDD1が印加されゲートは出力部OUTに
接続され、P型MOSトランジスタ45のソースはP型
MOSトランジスタ44のドレインと接続されている。
N型MOSトランジスタ42のドレインとP型MOSト
ランジスタ43のドレインとP型MOSトランジスタ4
5のドレインと基板が接続され、このノードが制御信号
の出力端子になる。制御信号出力はトランスファーゲー
ト回路20が備えるP型MOSトランジスタ22のゲー
トに接続されている。
【0047】なお、P型MOSトランジスタ43の基板
電位は特定の電位に決定する回路に接続されていない。
上記の構成における動作を説明する。
【0048】第1の電位VDD1は例えば3ボルトであ
り、入力部INには最大5ボルトが印加されるとする。
まず、入力部INに0ボルトが入力された場合を説明す
る。
【0049】INに0ボルトが入力されるとN型MOS
トランジスタ21はオンとなり、ノードAは0ボルトと
なる。インバータ回路10はノードAのレベルを反転さ
せて出力するため、出力部OUTの電位は3ボルトとな
る。このとき、N型MOSトランジスタ41はオンとな
りN型MOSトランジスタ42もオンとなると共にP型
MOSトランジスタ43及びP型MOSトランジスタ4
4はオフであるためP型MOSトランジスタ22のゲー
トには0ボルトが与えられる。また、OUTが3ボルト
になるとP型MOSトランジスタ23はオフとなる。図
7では入力部INに0ボルトが入力されたときオンにな
るMOSトランジスタを破線の丸で囲んでいる。
【0050】次に入力部INの電位が0ボルトから3ボ
ルトに変化する場合を説明する。入力部INの変化が始
まるときのN型MOSトランジスタ21及びP型MOS
トランジスタ22はオンであり、ノードAに電流が流入
して電位が上昇する。ノードAの電位がインバータ回路
10の出力を反転させる電位であるVsw10に到達す
ると、出力部OUTは0ボルトとなりN型トランジスタ
41をオフにする一方、P型MOSトランジスタ44を
オンにするため、P型MOSトランジスタ45のソース
のP型半導体と基板のN型半導体の接合部で形成される
ダイオードの順方向接続のしきい値がVdb45とする
と、P型MOSトランジスタ22のゲート電位は(VD
D1−Vdb45)となり、入力部INの電位あるいは
ノードAの電位が(VDD1−Vdb45+Vtp2
2)を超えない限りP型トランジスタ22はオフとなる
一方、P型MOSトランジスタ23がオンするためノー
ドAの電位は3ボルトで固定される。図8では入力部I
Nに3ボルトが入力されたときにノードAがVsw10
に到達するまでの期間オンになるMOSトランジスタを
破線の丸で囲んでおり、図9では入力部INに3ボルト
が入力されたときにノードAがVsw10に達した後で
オンになるMOSトランジスタを破線の丸で囲んでい
る。
【0051】次に入力部INの電位が0ボルトから5ボ
ルトに変化する場合を説明する。入力部INの変化が始
まる際のN型MOSトランジスタ21及びP型MOSト
ランジスタ22はオンであり、ノードAに電流が流入し
て電位が上昇する。ノードAの電位がインバータ回路1
0の出力を反転させる電位であるVsw10に到達する
と、出力部OUTは0ボルトとなりN型トランジスタ4
1をオフにする一方、P型MOSトランジスタ44をオ
ンにするためP型MOSトランジスタ45のソースのP
型半導体と基板のN型半導体の接合部で形成されるダイ
オードの順方向接続のしきい値がVdbとすると、P型
トランジスタ22のゲート電位は(VDD1−Vdb)
となり、入力部INの電位あるいはノードAの電位が
(VDD1−Vdb+Vtp22)を超えない限りP型
トランジスタ22はオフとなる一方、P型MOSトラン
ジスタ23がオンするためノードAの電位は3ボルトで
固定される。さらに入力部INが5ボルトに達したとこ
ろでは、P型MOSトランジスタ43がオンとなり、P
型MOSトランジスタ45のドレイン及びゲート及び基
板に5ボルトが与えられソースに3ボルトが接続される
ためオフとなり、P型MOSトランジスタ22のゲート
に入力部INの電位である5ボルトを与える。ノードA
は3ボルトで固定されているためP型MOSトランジス
タ22はオフとなる。
【0052】このとき、P型MOSトランジスタ22の
ドレインとゲート間の電位差は同電位でありゲートとソ
ース間の電位差は|5−3|=2ボルトでありゲート酸
化膜の耐圧以下であるためP型MOSトランジスタ22
におけるゲート酸化膜の劣化は発生しない。またN型M
OSトランジスタ21のドレインとゲート間及びN型M
OSトランジスタ32のドレインとゲート間も電位差は
|5−3|=2ボルトでありゲート酸化膜の耐圧以下で
あるためN型MOSトランジスタ32におけるゲート酸
化膜の劣化は発生しない。図10では入力部INに5ボ
ルトを入力したときにオンとなるMOSトランジスタを
破線の丸で囲んでいる。
【0053】ノードAに流入する電流の式は(実施の形
態1)の場合と同じであり、(実施の形態1)と同様の
効果が得られる。さらにP型MOSトランジスタ22の
状態が不定にならないため動作の安定性に優れる。
【0054】(実施の形態3)図11はこの発明の(実
施の形態3)を示す。図6に示す(実施の形態2)と異
なるのは50で示すトランスファーゲート回路である。
その他は(実施の形態2)と同一である。
【0055】50で示すトランスファーゲート回路は、
N型MOSトランジスタ51とP型MOSトランジスタ
52のドレイン同士が接続されるとともに入力部INに
つなげられ、N型MOSトランジスタ51とP型MOS
トランジスタ53のソースが接続されるとともにインバ
ータ回路10の入力端子であるノードAにつなげられ、
ソースと基板に第1の電位VDDを与えられたP型MO
Sトランジスタ54のドレインとP型MOSトランジス
タ52のソースとP型MOSトランジスタ53のドレイ
ンが接続され、N型MOSトランジスタ51のゲートに
は第1の電位VDD1が印加され、P型MOSトランジ
スタ52のゲートにはトランスファーゲート制御回路4
0から出力された制御信号が入力され、インバータ回路
55には出力部OUTの電位が入力されて反転出力した
電位をP型MOSトランジスタ53のゲートに与える。
P型MOSトランジスタ54のゲートには出力部OUT
がつながる。
【0056】なお、ここではP型MOSトランジスタ5
2の基板電位は、特定の電位に決定する回路に接続され
ていない。P型MOSトランジスタ53の基板電位は、
第1の電位VDD1が印加されている。
【0057】上記の構成における動作を説明する。第1
の電位VDD1は例えば3ボルトであり入力部INには
最大5ボルトが印加されるとする。まず、入力部INに
0ボルトが入力された場合を説明する。INに0ボルト
が入力されるとN型MOSトランジスタ51はオンとな
り、ノードAを0ボルトにする。インバータ回路10は
ノードAのレベルを反転させて出力するため、出力部O
UTの電位は3ボルトとなる。このとき、N型MOSト
ランジスタ41はオンとなり、N型MOSトランジスタ
42もオンとなると共にP型MOSトランジスタ43及
びP型MOSトランジスタ44はオフであるためP型M
OSトランジスタ51のゲートには0ボルトが与えられ
てオンになる。インバータ回路55の入力に3ボルトが
入力されるとレベル反転するため0ボルトを出力しP型
MOSトランジスタ53のゲートに印加することにより
P型MOSトランジスタ53もオンになる。また、OU
Tが3ボルトになるとP型MOSトランジスタ54はオ
フとなる。図12では入力部INに0ボルトが入力され
たときオンになるMOSトランジスタを破線の丸で囲ん
でいる。
【0058】次に入力部INの電位が0ボルトから3ボ
ルトに変化する場合の動作を説明する。入力部INの変
化が始まるときのN型MOSトランジスタ51及びP型
MOSトランジスタ52及びP型MOSトランジスタ5
3はオンであり、ノードAに電流が流入して電位が上昇
する。ノードAの電位がインバータ回路10の出力を反
転させる電位であるVsw10に到達すると、出力部O
UTは0ボルトとなりN型トランジスタ41をオフにす
る一方、P型MOSトランジスタ44をオンにするため
P型MOSトランジスタ45のソースのP型半導体と基
板のN型半導体の接合部で形成されるダイオードの順方
向接続のしきい値がVdbとすると、P型トランジスタ
22のゲート電位は(VDD1−Vdb)となり、入力
部INの電位あるいはノードAの電位が(VDD1−V
db+Vtp22)を超えない限りP型トランジスタ5
2はオフとなる。また出力部OUTが0ボルトになると
インバータ55の出力は3ボルトとなってP型MOSト
ランジスタ53のゲートに印可されP型MOSトランジ
スタ53はオフとなる。ノードAの電位はN型MOSト
ランジスタ51のしきい値をVtn51とすると(3−
Vtn51)ボルトで固定される。図13では入力部I
Nに3ボルトが入力されたときにノードAがVsw10
に到達するまでの期間オンになるMOSトランジスタを
破線の丸で囲んでおり、図14では入力部INに3ボル
トが入力されたときにノードAがVsw10に達した後
でオンになるMOSトランジスタを破線の丸で囲んでい
る。
【0059】次に入力部INの電位が0ボルトから5ボ
ルトに変化する場合の動作を説明する。入力部INの変
化が始まる際のN型MOSトランジスタ51及びP型M
OSトランジスタ52及びP型MOSトランジスタ53
はオンであり、ノードAに電流が流入して電位が上昇す
る。ノードAの電位がインバータ回路10の出力を反転
させる電位であるVsw10に到達すると、出力部OU
Tは0ボルトとなりN型トランジスタ41をオフにする
一方、P型MOSトランジスタ44をオンにするためP
型MOSトランジスタ45のソースのP型半導体と基板
のN型半導体の接合部で形成されるダイオードの順方向
接続のしきい値をVdbとすると、P型トランジスタ2
2のゲート電位は(VDD1−Vdb)となり、入力部
INの電位あるいはノードAの電位が(VDD1−Vd
b+Vtp22)を超えない限りP型トランジスタ22
はオフとなり、また出力部OUTが0ボルトになるとイ
ンバータ55の出力は3ボルトとなってP型MOSトラ
ンジスタ53のゲートに印可されP型MOSトランジス
タ53はオフとなる。さらに入力部INが5ボルトに達
したところでは、P型MOSトランジスタ43がオンと
なりP型MOSトランジスタ45のドレイン及びゲート
及び基板に5ボルトが与えられソースに3ボルトが接続
されるためオフとなりP型MOSトランジスタ52のゲ
ートに入力部INの電位である5ボルトを与える。出力
部OUTが0ボルトになるとP型MOSトランジスタ5
4がオンになるため、P型MOSトランジスタのソース
は3ボルトに固定されてオフとなる。ノードAの電位は
N型MOSトランジスタ51のしきい値をVtn51と
すると(3−Vtn51)ボルトで固定される。図15
では入力部INに5ボルトが入力されたときにオンにな
るMOSトランジスタを破線の丸で囲んでいる。
【0060】
【発明の効果】以上のように本発明のレベルシフト回路
によると、外部LSIの電源電圧がこのレベルシフト回
路を構成するMOSトランジスターゲート酸化膜の耐圧
以上であっても、各MOSトランジスタのゲート酸化膜
にゲート酸化膜の耐圧以上の電位差が印加されないた
め、ゲート酸化膜の破壊又は劣化を起こさないレベルシ
フト回路において、入力信号の立上がり及び立下りで発
生する遅延時間を共に小さくし、また後段のインバータ
回路が出力レベルを反転させる入力電位値の変動や電源
電圧の変動による遅延時間のばらつきが抑えられ、より
高速動作に適したレベルシフト回路を構成することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の(実施の形態1)を示す回路図
【図2】同実施の形態において、入力部に0ボルトが印
加された場合の動作を示す図
【図3】同実施の形態において、入力部の印加電位が0
ボルトから3ボルトに変化した場合の動作過程を示す図
【図4】同実施の形態において、入力部に3ボルトが印
加された場合の動作を示す図
【図5】同実施の形態において、入力部に5ボルトが印
加された場合の動作を示す図
【図6】本発明の(実施の形態2)を示す回路図
【図7】同実施の形態において、入力部に0ボルトが印
加された場合の動作を示す図
【図8】同実施の形態において、入力部の印加電位が0
ボルトから3ボルトに変化した場合の動作過程を示す図
【図9】同実施の形態において、入力部に3ボルトが印
加された場合の動作を示す図
【図10】同実施の形態において、入力部に5ボルトが
印加された場合の動作を示す図
【図11】本発明の(実施の形態3)を示す回路図
【図12】同実施の形態において、入力部に0ボルトが
印加された場合の動作を示す図
【図13】同実施の形態において、入力部の印加電位が
0ボルトから3ボルトに変化した場合の動作過程を示す
【図14】同実施の形態において、入力部に3ボルトが
印加された場合の動作を示す図
【図15】同実施の形態において、入力部に5ボルトが
印加された場合の動作を示す図
【図16】従来のレベルシフト回路を示す回路図
【図17】同従来例の入力部INに0ボルトが入力され
た場合の動作を示す図
【図18】同従来例の入力部INに3ボルトが入力され
た場合の動作を示す図
【図19】同従来例の入力部INに5ボルトが入力され
た場合の動作を示す図
【符号の説明】
IN 入力部 OUT 出力部 VDD1 第1の電位 GND 接地電位 A ノード 10 インバータ回路(第1のインバータ回路) 11 P型MOSトランジスタ(第1のP型MOSトラ
ンジスタ) 12 N型MOSトランジスタ(第1のN型MOSトラ
ンジスタ) 20 トランスファーゲート回路 21 N型MOSトランジスタ(第2のN型MOSトラ
ンジスタ) 22 P型MOSトランジスタ(第2のP型MOSトラ
ンジスタ) 23 P型MOSトランジスタ(第3のP型MOSトラ
ンジスタ) 30 トランスファーゲート制御回路 31 N型MOSトランジスタ(第3のN型MOSトラ
ンジスタ) 32 N型MOSトランジスタ(第4のN型MOSトラ
ンジスタ) 33 P型MOSトランジスタ(第4のP型MOSトラ
ンジスタ) 40 トランスファーゲート制御回路 41 N型MOSトランジスタ(第5のN型MOSトラ
ンジスタ) 42 N型MOSトランジスタ(第6のN型MOSトラ
ンジスタ) 43 P型MOSトランジスタ(第5のP型MOSトラ
ンジスタ) 44 P型MOSトランジスタ(第6のP型MOSトラ
ンジスタ) 45 P型MOSトランジスタ(第7のP型MOSトラ
ンジスタ) 50 トランスファーゲート回路 51 N型MOSトランジスタ(第7のN型MOSトラ
ンジスタ) 52 P型MOSトランジスタ(第8のP型MOSトラ
ンジスタ) 53 P型MOSトランジスタ(第9のP型MOSトラ
ンジスタ) 54 P型MOSトランジスタ(第10のP型MOSト
ランジスタ) 55 インバータ回路(第2のインバータ回路)

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】外部回路と前記外部回路から入力された第
    1の電位あるいは第2の電位あるいは接地電位のレベル
    を受け取る入力部と、入力部で受け取った信号を、第1
    の電位と接地電位を振幅とする信号に反転出力する出力
    部より内部回路に伝達するレベルシフト回路であって、 前記第1の電位と接地電位の電位差を振幅とする信号を
    受け取ってレベルを反転させて前記第1の電位と接地電
    位の電位差を振幅とする信号を前記出力部に出力する第
    1のインバータ回路と、 入力端子と出力端子とフィードバック端子と制御端子を
    有し、制御端子に与えられた電位により前記出力端子と
    前記入力端子の電気的接続を制御するトランスファーゲ
    ート回路と、 制御信号出力端子を有し、前記入力部より入力された信
    号と前記出力部より出力された信号を制御信号として入
    力され且つ制御信号出力端子が前記トランスファーゲー
    ト回路の制御端子に接続され、前記入力部の電位が前記
    第1の電位を超える場合は前記トランスファーゲート回
    路の入力端子と前記トランスファーゲートの出力端子の
    接続を高抵抗にする制御信号をトランスファーゲートに
    与える一方、前記入力部の電位が前記第1の電位を超え
    ず且つ前記出力部の電位が接地電位である場合は前記入
    力部と前記トランスファーゲート回路の出力端子間の接
    続を低抵抗にする信号を前記トランスファーゲートの制
    御信号として与えるトランスファーゲート制御回路とを
    備え、 前記第1のインバータ回路の出力端子は前記出力部に接
    続され、前記トランスファーゲート回路の出力端子は前
    記第1のインバータ回路の入力端子に接続され、前記ト
    ランスファーゲート回路の入力端子は前記入力部に接続
    され、前記トランスファーゲート回路のフィードバック
    端子に前記出力部が接続され、前記トランスファーゲー
    ト回路の入力端子が前記入力部に接続され、 前記第1のインバータ回路はソース及び基板に前記第1
    の電位が与えられた第1のP型MOSトランジスタとソ
    ース及び基板に接地電位が与えられた第1のN型MOS
    トランジスタを備え、前記第1のP型MOSトランジス
    タのゲート及び前記第1のN型MOSトランジスタのゲ
    ート同士が接続され前記第1のP型MOSトランジスタ
    のゲート及び前記第1のN型MOSトランジスタのゲー
    ト同士が接続されたノードを前記第1のインバータ回路
    の入力端子にとし且つ前記第1のP型MOSトランジス
    タのドレイン及び前記第1のN型MOSトランジスタの
    ドレイン同士が接続され前記第1のP型MOSトランジ
    スタのドレイン及び前記第1のN型MOSトランジスタ
    のドレイン同士が接続されたノードを前記第1のインバ
    ータ回路の出力端子とした相補型インバータであること
    を特徴とするレベルシフト回路。
  2. 【請求項2】前記トランスファーゲート回路は、 ゲートに前記第1の電位が与えられた第2のN型MOS
    トランジスタと、 ゲートに前記制御端子が接続された第2のP型MOSト
    ランジスタと、 ソース及び基板を前記第1の電位に接続され且つゲート
    をフィードバック端子に接続された第3のP型MOSト
    ランジスタとを有し、 前記第2のN型MOSトランジスタのドレインと前記第
    2のP型MOSトランジスタのドレイン同士が接続され
    前記第2のN型MOSトランジスタのドレインと前記第
    2のP型MOSトランジスタのドレイン同士が接続され
    たノードが入力端子であり前記第2のN型MOSトラン
    ジスタのソースと前記第2のP型MOSトランジスタの
    ソース同士が接続され前記第2のN型MOSトランジス
    タのソースと前記第2のP型MOSトランジスタのソー
    ス同士が接続されたノードを出力端子とし前記第3のP
    型MOSトランジスタのドレインを出力端子に接続した
    請求項1記載のレベルシフト回路。
  3. 【請求項3】前記第2のP型MOSトランジスタの基板
    電位を、特定の電位に決定する回路に接続されていない
    ことを特徴とする請求項2記載のレベルシフト回路。
  4. 【請求項4】前記トランスファーゲート制御回路は、 ソース及び基板に接地電位が与えられ且つゲートに前記
    出力部が接続された第3のN型MOSトランジスタと、 ソースが前記第3のN型MOSトランジスタと接続され
    且つゲートが前記第1の電位に接続され且つ基板に接地
    電位が与えられた第4のN型MOSトランジスタと、 ソースに前記入力部が接続され且つゲートに前記第1の
    電位が与えられた第4のP型MOSトランジスタとを備
    え、 前記第4のN型MOSトランジスタのドレインと前記第
    4のP型MOSトランジスタのドレインが接続され前記
    第4のN型MOSトランジスタのドレインと前記第4の
    P型MOSトランジスタのドレインが接続されたノード
    が制御信号出力端子である請求項1記載のレベルシフト
    回路。
  5. 【請求項5】前記第4のP型MOSトランジスタの基板
    電位を特定の電位に決定する回路に接続されていないこ
    とを特徴とする請求項4記載のレベルシフト回路。
  6. 【請求項6】前記トランスファーゲート制御回路は、 ソース及び基板に接地電位が与えられ且つゲートに前記
    出力部が接続された第5のN型MOSトランジスタと、 ソースが前記第5のN型MOSトランジスタのドレイン
    と接続され且つゲートが前記第1の電位に接続された第
    6のN型MOSトランジスタと、 ソースに前記入力部が接続され且つゲートに前記第1の
    電位が与えられた第5のP型MOSトランジスタと、 ソース及び基板に前記第1の電位が与えられ且つゲート
    に前記出力部が接続された第6のP型MOSトランジス
    タと、 ソースに前記第6のP型MOSトランジスタのドレイン
    が接続され且つゲートが前記入力部に接続された第7の
    P型MOSトランジスタを備え、 前記第6のN型MOSトランジスタのドレインと前記第
    5のP型MOSトランジスタのドレインと前記第7のP
    型MOSトランジスタのドレイン及び基板が接続され前
    記第6のN型MOSトランジスタのドレインと前記第5
    のP型MOSトランジスタのドレインと前記第7のP型
    MOSトランジスタのドレイン及び基板が接続された点
    を制御信号出力端子とした請求項1記載のレベルシフト
    回路。
  7. 【請求項7】前記第5のP型MOSトランジスタの基板
    電位を特定の電位に決定する回路に接続されていないこ
    とを特徴とする請求項6記載のレベルシフト回路。
  8. 【請求項8】前記トランスファゲート回路は、 ゲートに前記第1の電位が与えられた第7のN型MOS
    トランジスタと、 ゲートに前記制御端子が接続された第8のP型MOSト
    ランジスタと、 前記出力部の信号を入力し反転信号を出力する第2のイ
    ンバータと、 ドレインに前記第8のP型MOSトランジスタのソース
    が接続され且つゲートに前記第2のインバータ回路の出
    力電位を印加され且つ基板に前記第1の電位を与えられ
    た第9のP型MOSトランジスタと、 ソース及び基板を前記第1の電位に接続され且つゲート
    をフィードバック端子に接続され前記第8のP型MOS
    トランジスタのソースと前記第9のP型MOSトランジ
    スタが接続された点にソースが接続された第10のP型
    MOSトランジスタとを備え、前記第7のN型MOSト
    ランジスタのドレインと前記第8のP型MOSトランジ
    スタのドレイン同士が接続され前記第7のN型MOSト
    ランジスタのドレインと前記第8のP型MOSトランジ
    スタのドレイン同士が接続された点を入力端子とし、前
    記第7のN型MOSトランジスタのソースと前記第9の
    P型MOSトランジスタのソース同士が接続され前記第
    7のN型MOSトランジスタのソースと前記第9のP型
    MOSトランジスタのソース同士が接続された点を出力
    端子とした請求項1記載のレベルシフト回路。
  9. 【請求項9】前記第8のP型MOSトランジスタの基板
    電位を特定の電位に決定する回路に接続されていないこ
    とを特徴とする請求項8記載のレベルシフト回路。
  10. 【請求項10】前記入力部に印加された電位が接地電位
    である場合には前記第2のP型MOSトランジスタの基
    板電位に前記第1の電位を与える一方、前記入力部に印
    加された電位が前記第1の電位を超える場合には前記第
    2のP型MOSトランジスタの基板に特定の電位を印加
    しない回路を有することを特徴とする請求項2記載のレ
    ベルシフト回路。
  11. 【請求項11】前記入力部に印加された電位が接地電位
    である場合には前記第4のP型MOSトランジスタの基
    板電位に前記第1の電位を与える一方、前記入力部に印
    加された電位が前記第1の電位を超える場合には前記第
    4のP型MOSトランジスタの基板に特定の電位を印加
    しない回路を有することを特徴とする請求項4記載のレ
    ベルシフト回路。
  12. 【請求項12】前記入力部に印加された電位が接地電位
    である場合には前記第6のP型MOSトランジスタの基
    板電位に前記第1の電位を与える一方、前記入力部に印
    加された電位が前記第1の電位を超える場合には前記第
    6のP型MOSトランジスタの基板に特定の電位を印加
    しない回路を有することを特徴とする請求項6記載のレ
    ベルシフト回路。
  13. 【請求項13】前記入力部に印加された電位が接地電位
    である場合には前記第8のP型MOSトランジスタの基
    板電位に前記第1の電位を与える一方、前記入力部に印
    加された電位が前記第1の電位を超える場合には前記第
    8のP型MOSトランジスタの基板に特定の電位を印加
    しない回路を有することを特徴とする請求項8記載のレ
    ベルシフト回路。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6806516B2 (en) 2002-05-30 2004-10-19 Renesas Technology Corp. Semiconductor device and system
WO2008093487A1 (ja) * 2007-01-30 2008-08-07 Sanyo Electric Co., Ltd. インバータ回路
JP2012170041A (ja) * 2011-02-15 2012-09-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd 低リーク電圧検出回路
WO2012164794A1 (ja) * 2011-06-01 2012-12-06 パナソニック株式会社 スルーモード付き低雑音増幅器
KR20160015129A (ko) * 2014-07-30 2016-02-12 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 레벨 시프팅 장치 및 이의 사용 방법
JP2016040868A (ja) * 2014-08-12 2016-03-24 ラピスセミコンダクタ株式会社 トレラント入力回路及びトレラント制御方法
WO2017187731A1 (ja) * 2016-04-25 2017-11-02 株式会社ソシオネクスト 入力回路

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6806516B2 (en) 2002-05-30 2004-10-19 Renesas Technology Corp. Semiconductor device and system
US7233045B2 (en) 2002-05-30 2007-06-19 Hitachi Ltd Semiconductor device and system
WO2008093487A1 (ja) * 2007-01-30 2008-08-07 Sanyo Electric Co., Ltd. インバータ回路
US7961013B2 (en) 2007-01-30 2011-06-14 Sanyo Electric Co., Ltd. Inverter circuit
JP2012170041A (ja) * 2011-02-15 2012-09-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd 低リーク電圧検出回路
US8648656B2 (en) 2011-06-01 2014-02-11 Panasonic Corporation Low-noise amplifier with through-mode
WO2012164794A1 (ja) * 2011-06-01 2012-12-06 パナソニック株式会社 スルーモード付き低雑音増幅器
KR20160015129A (ko) * 2014-07-30 2016-02-12 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 레벨 시프팅 장치 및 이의 사용 방법
KR101670554B1 (ko) 2014-07-30 2016-10-28 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 레벨 시프팅 장치 및 이의 사용 방법
JP2016040868A (ja) * 2014-08-12 2016-03-24 ラピスセミコンダクタ株式会社 トレラント入力回路及びトレラント制御方法
WO2017187731A1 (ja) * 2016-04-25 2017-11-02 株式会社ソシオネクスト 入力回路
CN109075790A (zh) * 2016-04-25 2018-12-21 株式会社索思未来 输入电路
US10439596B2 (en) 2016-04-25 2019-10-08 Socionext Inc. Input circuit
CN109075790B (zh) * 2016-04-25 2022-04-26 株式会社索思未来 输入电路

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