JP2001109009A - 広視野角液晶表示装置 - Google Patents

広視野角液晶表示装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 視野角が広く、液晶分子の配向が安定してお
り、応答速度が速い液晶表示装置を得る。 【解決手段】 前記目的を達成するために、本発明の液
晶表示装置では、上下板の開口部を設計規則を守りなが
らできる限り平行に形成する。具体的には、第１基板１
０上に形成されており、第１開口パターンを有する画素
電極１２と；第１基板１０と対向する絶縁第２基板２０
の下面に形成されており、第２開口パターンを有する共
通電極１３と；第１基板１０と第２基板２０との間に注
入されている液晶物質と；を含む液晶表示装置におい
て、第１開口パターン及び第２開口パターンは中央部が
直線状に形成されていて互いに平行であり、第１開口パ
ターンと第２開口パターンとは互いに交互に配置されて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は広い視野角を有する
液晶表示装置に係り、より詳しくは、共通電極と画素電
極に一定のパターンを形成することで視野角を広げる方
式の液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示装置は２枚の基板の間
に液晶を注入し、ここに加える電場の強さを調節するこ
とによって、光透過量を調節する構造からなっている。
【０００３】このうち、垂直配向（vertically aligne
d：ＶＡ）方式の液晶表示装置は、電界が印加されてい
ない状態で液晶分子が基板に対して垂直に配向されてい
るため、直交する偏光板を使用する場合に電界が印加さ
れていない状態で完全に光を遮断することができる。即
ち、ノーマリーブラックモード（normally black mod
e）でオフ（off）状態の輝度が非常に低いので、従来の
捩じれネマチック液晶表示装置に比べて高い対比比を得
ることができる。しかし、電界が印加された状態で液晶
分子の傾く方向が不規則的であるため、上部又は下部の
偏光板の偏光方向と液晶分子の長軸方向とが一致する部
分が存在し、この部分では液晶分子が光の偏光方向を回
転させる機能を発揮しないため、光が偏光板によって全
て遮断される。このような部分は画面上に黒く現れて画
質を低下させ、このような部分をテクスチャー（textur
e）という。
【０００４】このような問題を解決するために電極をパ
ターニングする方法が多様に提示されている。しかし、
電極をパターニングする従来の方法では応答速度が遅い
などの問題点が依然として存在する。
【０００５】ここで、図面を参照して従来の技術による
液晶表示装置における電極パターン及びその問題点を説
明する。
【０００６】図１は従来の技術による液晶表示装置の上
下電極に形成された開口パターンの重畳した状態を示す
平面図である。
【０００７】中間が折り曲げられた形態の共通電極の開
口パターン１と画素電極の開口パターン２とが互いに対
向する形態に配置されており、共通電極と画素電極との
間に液晶物質が注入されて各電極の面に対して垂直に配
向されている。
【０００８】この時、共通電極と画素電極との間に電界
が印加されると、液晶分子３が電気力を受け電極面に対
して平行に横になる。このような液晶分子３の電気場に
対する反応速度を応答速度といい、開口パターンが図１
ａのように形成されている場合には応答速度が非常に遅
い。その理由は次のようである。
【０００９】即ち、開口パターン１、２によってフリン
ジフィールド（fringe field）が形成され、液晶分子は
フリンジフィールドの電気力を受け、一旦、開口部パタ
ーン１、２に対して垂直に配列（Ａ状態）されてから、
再び互いに平行になろうとするネマチック（nematic）
液晶の本性によって互いに平行に配列（Ｂ状態）される
２段階動作を行うからである。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】液晶分子の遅い応答速
度は動画像表現時に残像を誘発する要因となる。従っ
て、動画像表示の品質を向上させるためには液晶分子の
速い応答速度が必要である。
【００１１】本発明は前記課題を解決するためのもので
あって、その目的は広視野角液晶表示装置の応答速度を
向上させることにある。
【００１２】また、本発明の目的は広視野角液晶表示装
置の画質を向上させることにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置では、上下板の開口部を設計
規則を守りながらできる限り平行に形成する。
【００１４】具体的には、第１基板上に形成されてお
り、第１開口パターンを有する画素電極と；第１基板と
対向する絶縁第２基板の下面に形成されており、第２開
口パターンを有する共通電極と；第１基板と第２基板と
の間に注入されている液晶物質と；を含む液晶表示装置
において、第１開口パターン及び第２開口パターンは中
央部が直線状に形成されていて互いに平行であり、第１
開口パターンと第２開口パターンとは互いに交互に配置
されている。
【００１５】この時、第１開口パターンは、前記画素電
極の上部領域に第１方向に形成されている第１開口部
と、画素電極の下部領域に前記第１方向と垂直をなす第
２方向に形成されている第２開口部とを含み、第２開口
パターンは、画素電極の上部領域と対応する位置に第１
方向に形成されている第１幹開口部と、画素電極の下部
領域と対応する位置に第２方向に形成されている第２幹
開口部とを含んでいる。
【００１６】第１方向は画素電極の辺に対して斜線方向
であることができ、第２開口パターンは、画素電極の上
下辺と重畳する第１枝開口部と、画素電極の左右辺と重
畳する第２枝開口部とを含み、第１開口パターンは、前
記画素電極の上下中央に位置して画素電極の上下辺と平
行な第３開口部を含み、第１開口パターン及び第２開口
パターンは画素電極を多数の閉じた多角形に分割するこ
とができる。ここで、第２枝開口部は幹開口部より幅が
広いことが可能である。
【００１７】第１方向は画素電極の辺のうちのいずれか
１つと平行であることができ、第１及び第２幹開口部の
両端は端に行くほど幅が次第に広くなるように形成する
ことができ、第２幹開口部のうちの１つは画素電極の下
辺と重畳するように形成することができる。また、第１
開口部の端部は端に行くほど幅が次第に狭くなるように
形成することができる。
【００１８】第１基板の下及び第２基板の上にそれぞれ
第１偏光板及び第２偏光板が付着されており、第１及び
第２偏光板の偏光方向は第１及び第２方向とそれぞれ４
５°をなすようにすることができ、画素電極には第１及
び第２開口部の終点と隣接した辺に突出部を形成するこ
とができる。
【００１９】また、第１基板上に形成されており、第１
開口パターンを有する画素電極と；第１基板と対向する
第２基板の下面に形成されており、第２開口パターンを
有する共通電極と；第１基板と第２基板との間に注入さ
れている液晶物質と；を含む液晶表示装置において、第
１開口パターン及び第２開口パターンは重畳して画素電
極を多数の小領域に分割し、小領域は最も長い２つの辺
が互いに平行な多角形になるようにする。
【００２０】この時、小領域は最も長い２つの辺が第１
方向である第１小領域と、最も長い２つの辺が第２方向
である第２小領域とに分割され、第１方向と第２方向と
は９０°をなすようにするのが好ましい。第１方向は画
素電極の辺に対して斜線方向であったり、画素電極の上
下辺又は左右辺のうちの１つと平行であることが可能で
ある。
【００２１】絶縁第１基板上に第１開口パターンを有す
る画素電極が形成されており、第１基板と対向している
絶縁第２基板に第２開口パターンを有する共通電極が形
成されており、第１基板と第２基板との間に液晶物質が
注入されている液晶表示装置において、画素電極と共通
電極との間に電圧が印加された時に第１及び第２開口パ
ターンによって形成されるフリンジフィールドによって
液晶物質の液晶分子が配向される方向が液晶分子相互間
の力によって配向される方向と一致するようにする。
【００２２】この時、フリンジフィールドによる液晶分
子の配向方向は４方向に分類されるのが好ましい。
【００２３】以上の第１及び第２開口パターンの幅は１
０μｍから１６μｍの範囲であるのが好ましい。
【００２４】具体的には、第１基板上に形成されてお
り、第１開口パターンを有する画素電極と；第１基板と
対向している絶縁第２基板の下面に形成されており、第
２開口パターンを有する共通電極と；第１基板と第２基
板との間に注入されている液晶物質と；を含み、第１開
口パターンは、画素電極の第１辺から横方向に形成され
ている第１開口部と；斜線方向に形成されており、前記
第１開口部に対して互いに対称をなしており、前記第１
辺と対向する第２辺から前記第１辺に接近するほど互い
に間隔が広くなる第２及び第３開口部と；からなり、第
２開口パターンは、横方向に形成されている幹部と、前
記幹部からそれぞれ斜線方向に形成されており、前記幹
部から離れるほど互いに遠くなる第１及び第２枝部と、
前記第１及び第２枝部から縦方向に形成されており、互
いに反対方向に伸びている第１及び第２枝端部とを含む
第４開口部と；前記第１枝部と平行な第１中央部及び前
記第１中央部の両端からそれぞれ横方向及び縦方向に形
成されている第１及び第２屈折部を含む第５開口部と；
前記第４開口部に対して前記第５開口部と対称をなす第
６開口部と；からなり、第１開口パターン及び第２開口
パターンは液晶表示装置を上から見ると交互に位置する
ように形成する液晶表示装置を提案する。
【００２５】この時、画素電極及び共通電極に形成され
る第１及び第２開口パターンはこれ以外にも次のような
多様な形態に形成され得る。
【００２６】第１開口パターンは、画素電極の第１辺か
らこれに対向する第２辺に向かって斜線方向に形成され
ている第１斜線部と、第１斜線部から折り曲げられて第
１辺に向かって斜線方向に形成される第２斜線部とを含
む第１開口部を含み、第２開口パターンは、縦方向に形
成されている基底部及び基底部の中央から横方向に伸び
た横枝部を含む第２開口部と、縦方向に形成されている
中央部及び前記中央部の両端からそれぞれ斜線方向に伸
びている第１及び第２斜線枝部を含み、前記第２開口部
に対して対称をなす第３開口部とからなり、第１開口パ
ターン及び第２開口パターンは液晶表示装置を上から見
ると交互に位置するように配置することができる。
【００２７】また、第１開口パターンは、画素電極の第
１辺からこれに対向する第２辺に向かって掘り下げられ
る第１開口部と、前記第２辺から前記第１辺に向かって
掘り下げられた第２開口部とを含み、第２開口パターン
は、斜線方向に形成されている第１斜線部と、前記第１
斜線部から折り曲げられて斜線方向に伸びている第２斜
線部と、前記第２斜線部から折り曲げられて前記第１斜
線部と同一な方向に伸びている第３斜線図とを含む第３
開口部を含み、第３開口部は第１及び第２開口部によっ
て３つの領域に区分された画素電極の各領域をそれぞれ
２分割する形態に配置することもできる。
【００２８】開口パターンはこれ以外にも以下に説明す
る実施例のような多様な形態がある。
【００２９】この時、第１基板の下に形成されている第
１偏光板と、第２基板上に形成されている第２偏光板と
をさらに含み、第１及び第２偏光板の偏光方向はそれぞ
れ横方向及び縦方向又は縦方向及び横方向に配置するこ
とができ、第１ないし第６開口部の幅は１０μｍから１
６μｍの範囲であるのが好ましい。
【００３０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例による液晶
表示装置の構造について図面に基づいて説明する。
【００３１】図２は本発明の実施例による液晶表示装置
の概略的構造を示す断面図である。
【００３２】液晶表示装置は、下部基板１０と、これと
対向している上部基板２０と、下部基板１０と上部基板
２０との間に注入されて基板１０、２０に対して垂直に
配向されている液晶物質３０とからなる。
【００３３】ガラスなどの透明な絶縁物質からなる下部
基板１０上にはＩＴＯ（indium tinoxide）又はＩＺＯ
（indium zinc oxide）などの透明な導電物質からなっ
ていて開口パターン（図示しない）を有している画素電
極１２が形成されており、各画素電極１２はスイッチン
グ素子１１に連結されて画像信号電圧の印加を受ける。
この時、スイッチング素子１１としては薄膜トランジス
タが使用されるのが普通であり、薄膜トランジスタは走
査信号を伝達するゲート線（図示しない）及び画像信号
を伝達するデータ線（図示しない）にそれぞれ連結され
て走査信号に従って画素電極１２をオン（on）又はオフ
（off）にする。また、下部基板１０の下面には下部偏
光板１４が付着されている。ここで、画素電極１２は反
射型液晶表示装置である場合には透明な物質からならな
くてもよく、この場合には下部偏光板１４も不必要にな
る。
【００３４】前記下部基板と同様にガラスなどの透明な
絶縁物質からなる上部基板２０の下面に、光漏れを防止
するためのブラックマトリックス２１と、赤、緑、青の
カラーフィルタ２２及びＩＴＯ又はＩＺＯなどの透明な
導電物質からなっており開口（図示しない）を有してい
る共通電極２３とが形成されている。この時、ブラック
マトリックス２１やカラーフィルタ２２は下部基板１０
上に形成されることも可能である。また、上部基板２０
の上面には上部偏光板２４が付着されている。
【００３５】下部偏光板１４及び上部偏光板２４の偏光
方向は、ノーマリーブラックモード（normally black m
ode）では互いに直交するように配置し、ノーマリーホ
ワイトモード（normally white mode）では互いに平行
に配置する。以下ではノーマリーブラックモードのみを
考慮する。
【００３６】２枚の基板１０、２０の外側偏光板１４、
２４の内側には補償フィルム１５、２５がそれぞれ付着
されている。この時、２枚の基板のうちの一側にはａプ
レート一軸性補償フィルムを付着して反対側にはｃプレ
ート一軸性補償フィルムを付着したり、ｃプレート一軸
性補償フィルムを両側に付着することができる。一軸性
補償フィルムの代わりに二軸性補償フィルムを使用する
こともできるが、この場合は２枚の基板のうちの一側の
みに二軸性補償フィルムを付着することもできる。補償
フィルムの付着方向はａプレート又は二軸性補償フィル
ムにおいて屈折率が最大の方向、即ち、遅い軸（slow a
xis）が偏光板の透過軸と一致するか直交するように付
着する。
【００３７】次いで、図面を参照して本発明の実施例に
よる液晶表示装置の画素電極及び共通電極の開口パター
ンについて説明する。
【００３８】図３ａ及び３ｂはそれぞれ本発明の第１及
び第２実施例による液晶表示装置の上下電極に形成され
た開口パターンの重畳した状態を示す平面図である。
【００３９】応答速度を向上させるためには、図３ａの
ように、開口パターン１、２を平行な直線に形成して、
液晶分子３がフリンジフィールドによって配列された状
態が液晶分子相互間で平行な状態になるようにする。こ
うすると、１段階動作で液晶分子の動きが完了するため
に応答速度が速くなる。
【００４０】しかし、図３ａのように開口パターン１、
２を形成した場合には、テクスチャー（texture）が広
い範囲にかけて著しく発生する。また、白残像（明るい
色の地に暗い色を表示してから再び明るい色の地に戻る
時に瞬間的に周辺の地の色よりもっと明るくなる現象）
が発生する可能性がある。
【００４１】このような問題点を改善するために、図３
ｂに示されているように、緩やかな曲線形の開口パター
ン１、２を考慮することができる。しかし、このような
形態では液晶分子が完全な１段階動作を行えないため、
再び動作速度が遅くなるという問題点が発生する。
【００４２】以下、動作速度の向上及びテクスチャーな
どの不良の抑制の両方を考慮してデザインされた開口パ
ターンについて説明する。
【００４３】図４ａ、５ａ、６ａ、７ａ、８ａ、９ａ、
１０ａはそれぞれ本発明の第３ないし第９実施例による
液晶表示装置の画素電極のパターンを示す平面図であ
り、図４ｂ、５ｂ、６ｂ、７ｂ、８ｂ、９ｂ、１０ｂは
それぞれ本発明の第３ないし第９実施例による液晶表示
装置の共通電極に形成されている開口パターンを示す平
面図であり、図４ｃ、５ｃ、６ｃ、７ｃ、８ｃ、９ｃ、
１０ｃはそれぞれ本発明の第３ないし第９実施例による
液晶表示装置の上下基板を整列させた状態で画素電極の
パターンと共通電極の開口パターンとを重畳させた状態
の平面図である。
【００４４】まず、本発明の第３実施例について説明す
る。図４ａに示されているように、長方形の画素電極１
２の中間部に右辺から左側に細く掘られた第１開口部１
２１が形成されており、第１開口部１２１の入口の両側
は角が切り取られて緩やかな角度で曲がっている（以
下、“角取り”という）。第１開口部１２１を中心にし
て画素電極１２を上部と下部とに区分すると、上部及び
下部にはそれぞれ第２及び第３開口部１２２、１２３が
形成されている。第２及び第３開口部はそれぞれ画素電
極１２の上部及び下部を対角線に掘り下げて形成されて
おり、互いに対称をなしている。第２及び第３開口部１
２２、１２３は第１開口部１２１とは反対方向に掘り下
げられていて第１開口部１２１から遠くなる形態であ
る。
【００４５】図４ｂに示されているように、共通電極２
３には、横方向に形成されている幹部２１１と、幹部２
１１からそれぞれ斜線方向に上下に伸びている第１及び
第２枝部２１２、２１４と、第１及び第２枝部２１２、
２１４からそれぞれ縦方向に上下に伸びている第１及び
第２枝端部２１３、２１５とを含む第４開口部が形成さ
れている。また、共通電極２３には、第１枝部２１２と
平行に斜線方向に形成されている中央部２２１と、中央
部２２１から横方向に伸びている横端部２２２と、中央
部２２１から縦方向に伸びている縦端部２２３とを含む
第５開口部と、第４開口部に対して第５開口部と対称を
なしている第６開口部とが形成されている。このような
配置の第４、第５及び第６開口部は共通電極２３に反復
して形成されている。
【００４６】図４ｃに示されているように、画素電極１
２の第１ないし第３開口部１２１、１２２、１２３と共
通電極２３の第４ないし第６開口部とが重畳して画素電
極１２を多数の領域に分割している。この時、画素電極
１２の開口部１２１、１２２、１２３と共通電極２３の
開口部とは交互に配置されている。第１ないし第６開口
部は画素電極１２の中央を分割する第１開口部１２１
と、第４開口部の幹部２１１と、画素電極１２の辺と重
畳する第４開口部の枝端部２１３、２１５と、第２及び
第３開口部の横端部２２２、２３２及び縦端部２２３、
２３３以外は、大部分の領域で互いに平行に形成されて
いる。
【００４７】この時、上下偏光板１４、２４は偏光方向
がそれぞれ横方向（０°）と縦方向（９０°）又は縦方
向と横方向になるように配置されている。
【００４８】こうすると、図４ｃに示されているよう
に、電気場の印加によって再配列された液晶分子のうち
で偏光板１４、２４の偏光方向に横になる数が少なくな
るためにテクスチャーの発生が減少する。また、フリン
ジフィールドによって液晶分子が配列された状態が必ず
液晶分子が互いに平行な状態であるので、１段階動作で
液晶分子の動きが完了する。従って、応答速度が非常に
速い。さらに、開口部は画素領域で大きく２方向に伸び
ており、この２方向は互いに９０°をなしている。ま
た、上下基板の開口部は互いに交互に配置されているの
で、フリンジフィールドの方向は１つの画素領域内で４
つの方向に分類される。従って、４つの方向全てで広い
視野角を得ることができる。
【００４９】本発明の第４実施例について説明する。図
５ａに示されているように、画素電極１２の右辺から左
上側に斜線方向に伸びている第１斜線部１２１と、第１
斜線部１２１に連結されており右上側斜線方向に伸びて
いる第２斜線部１２２とを含む第１開口部が形成されて
おり、画素電極１２の左側角部分は角取りが行われてい
る。この時、第１斜線部１２１と第２斜線部１２２とが
ぶつかる位置は画素電極１２を上部と下部とに両分する
中央部である。
【００５０】図５ｂに示されているように、共通電極２
３には、縦方向に伸びている基底部２１１と、基底部２
１１の中央から左側横方向に伸びている横枝部２１２と
を含む第２開口部が形成されている。この時、第２開口
部は基底部２１１と横枝部２１２とがぶつかる地点から
離れるほど幅が狭くなり、基底部２１１と横枝部２１２
とがぶつかる地点の両側角は角取りが行われている。ま
た、共通電極２３には縦方向に形成されている中央部２
２１と、中央部２２１の両端からそれぞれ右上側と右下
側とに伸びている第１及び第２斜線枝部２２２、２２３
とを含む第３開口部が形成されている。この時、第３開
口部は第２開口部に対して上下対称に配置されている。
【００５１】図５ｃに示されているように、画素電極１
２の第１開口部と共通電極２３の第２及び第３開口部と
が重畳して画素電極１２を多数の領域に分割している。
この時、第１開口部は第２開口部と第３開口部との間に
位置する。また、第１ないし第３開口部は、画素電極１
２を上下に両分する横枝部２１２と、画素電極１２の辺
と重畳する基底部２１１と、中央部２２１以外は互いに
平行に配置されている。画素電極１２の左側角及び第２
開口部の中心部で角取りを行ったのも開口部を平行に配
置するための方法の１つとして行ったものである。
【００５２】この時、上下偏光板１４、２４は偏光方向
が第３実施例と同様になるように配置される。
【００５３】これにより、第３実施例と同様な効果を得
ることができる。
【００５４】本発明の第５実施例について説明する。図
６ａに示されているように、画素電極１２の上側１／３
地点に右辺から左側に掘り下げられた第１開口部１２１
と、下側１／３地点に左辺から右側に掘り下げられた第
２開口部１２２とが画素電極１２に形成されている。開
口部１２１、１２２の入口の両側角は角取りが行われて
おり、画素電極１２の左上及び右下の角も角取りが行わ
れている。
【００５５】図６ｂに示されているように、共通電極２
３には、左下側に伸びている第１斜線部２１１と、第１
斜線部２１１から折り曲げられて右下側に伸びている第
２斜線部２１２と、第２斜線部２１２から折り曲げられ
て左下側に伸びている第３斜線部２１３とを含む第３開
口部が形成されている。
【００５６】図６ｃに示されているように、第１及び第
２開口部によって３つの領域に分割された画素電極１２
の各領域を第３開口部がそれぞれ２分割している。
【００５７】この時、上下偏光板１４、２４は偏光方向
が第３実施例と同様になるように配置される。
【００５８】本発明の第６実施例について説明する。図
７ａに示されているように、画素電極１２の上側１／３
地点及び下側１／３地点にそれぞれ長方形の第１開口部
１２１及び第２開口部１２２が形成されて画素電極１２
を３等分している。
【００５９】図７ｂに示されているように、Ｘ字形の第
３ないし第５開口部２１０、２２０、２３０が一定の間
隔をおいて上下方向に一列に配置されている。開口部２
１０、２２０、２３０のそれぞれの中心の交差部に形成
されている角は角取りが行われている。
【００６０】図７ｃに示されているように、第１及び第
２開口部１２１、１２２によって３つの領域に等分され
ている画素電極１２の各領域を第３ないし第５開口部２
１０、２２０、２３０がそれぞれ４分割している。
【００６１】この時、上下偏光板１４、２４は、 横方
向を基準（０°）にすると、 偏光方向がそれぞれ４５
°及び１３５°になるように配置する。
【００６２】本発明の第７実施例について説明する。図
８ａに示されているように、画素電極１２の上面を左右
に２分割する垂直部１１１と、垂直部１１１の下端に連
結されており画素電極１２を上下に分割する水平部１１
２とを含む第１開口部と、水平部１１２によって分割さ
れた画素電極１２の下部領域を２分割する長方形の第２
開口部１２０とが画素電極１２に形成されている。
【００６３】図８ｂに示されているように、縦方向に形
成されており互いに平行な第３及び第４開口部２１０、
２２０と、第３及び第４開口部２１０、２２０の下部に
横方向に形成されており互いに平行な第５及び第６開口
部２３０、２４０とが共通電極２３に形成されている。
この時、第５及び第６開口部２３０、２４０の両端は幅
が次第に拡張されて三角形に形成されている。
【００６４】図８ｃに示されているように、画素電極１
２の第１開口部と、共通電極２３の第３及び第４開口部
２１０、２２０とが画素電極１２の上面を縦に４等分し
ており、第２開口部１２０と第５及び第６開口部２３
０、２４０とが画素電極１２の下面を横に４等分してい
る。
【００６５】この時、上下偏光板１４、２４は偏光方向
が第６実施例と同様になるように配置される。
【００６６】こうすると、開口部は大部分の領域で互い
に平行になり、液晶分子が横になる方向も偏光方向と４
５°をなすようになるので、速い応答速度及びテクスチ
ャーの少ない良好な画質を得ることができる。開口部は
画素領域で大きく２つの方向に伸びており、この２つの
方向は互いに９０°をなしている。また、上下基板の開
口部が互いに交互に配置されているのでフリンジフィー
ルドの方向は１つの画素領域内で４つの方向に分類され
る。
【００６７】本発明の第８実施例について説明する。図
９ａに示されているように、画素電極１２の下部１／３
程度の部分に横方向に長く伸びている第１開口部１１０
が形成されている。
【００６８】図９ｂに示されているように、縦方向に長
く伸びている幹部２１１及び幹部２１１の下端に連結さ
れておりそれぞれ右側及び左側に伸びている第１及び第
２枝部２１２、２１３と、幹部２１１の上端に連結され
ており逆三角形に形成されている上端部２１４とを含む
第２開口部と、第２開口部の下部に横方向に長く形成さ
れている第３開口部２２０とが共通電極２３に形成され
ている。この時、第１及び第２枝部２１２、２１３は水
平に形成されずに僅かに下側に傾いており、第３開口部
２２０の両端は幅が次第に拡張されて三角形に形成され
ている。
【００６９】図９ｃに示されているように、第２開口部
によって画素電極１２が上面及び下面に分割され、この
うちの上面が幹部２１１によって左右に両分されてお
り、第１開口部１１０及び第３開口部２２０によって画
素電極１２の下面が３分割されている。
【００７０】この時、上下偏光板１４、２４は偏光方向
が第６実施例と同様になるように配置されている。これ
によって、第７実施例と類似した効果を得ることができ
る。
【００７１】最後に本発明の第９実施例について説明す
る。図１０ａに示されているように、画素電極１２が楕
円４つが一列に連結されている形態に形成されている。
【００７２】図１０ｂに示されているように、共通電極
２３には４つのひし形の第１開口部２１０が一定の間隔
をおいて一列に配列されており、第１開口部２１０を囲
む形態に第２及び第３開口部２２０、２３０が形成され
ている。第２及び第３開口部２２０、２３０の辺のうち
で第１開口部２１０に面している辺は谷が曲線化された
鋸の歯形状に形成されており、第１開口部２１０に対し
て左右対称をなしており、鋸の歯の山部分は第１開口部
２１０の間に位置するように形成されている。
【００７３】図１０ｃに示されているように、画素電極
１２をなす各楕円の中央に第１開口部２１０が位置して
おり、第２及び第３開口部２２０、２３０は画素電極１
２を囲んでいる。この時、第２及び第３開口部２２０、
２３０の鋸の歯形状の辺から画素電極１２の辺までの距
離は一定になるように配置されている。
【００７４】この時、上下偏光板１４、２４は偏光方向
がそれぞれ０°及び９０°になるように配置されてい
る。
【００７５】以上の第３ないし第９実施例は、多様な実
験の結果から得られた次のような分割配向のための開口
部パターンの条件を最大限満たすことができるように開
口部パターンを形成したものである。
【００７６】第１に、最も良好な視野角を得るために
は、４分割配向された領域が１つの画素内に入っている
のがよい。
【００７７】第２に、安定した分割配向を得るために
は、分割された微小領域の境界以外のところでディスク
リネーション（disclination）や不規則な組織（textur
e）が発生してはならない。ディスクリネーションは狭
い領域で液晶分子の方向子が一定の方向に配列されずに
様々な方向に配列されている時に発生し、特に、１つの
領域で液晶分子が互いにぶつかる方向に倒れる時に発生
する。従って、安定した分割配向を得るためには、上下
基板のパターンが反復して形成されるのが有利であり、
上板のパターンと下板のパターンとの末端は近ければ近
いほどよい。即ち、液晶表示装置を上から見たときに上
板のパターンと下板のパターンとによって形成される領
域が閉じた多角形に近似した形態になるのがよい。ま
た、１つの領域を形成するために一方の基板に形成され
たパターンが鋭角をなす場合にはディスクリネーション
が発生しやすいので、パターンは鈍角のみで形成するの
がよい。また、安定した分割配向は輝度にも影響を及ぼ
す原因になる。配向が乱れた領域ではオフ状態で光が漏
れるようになると共に、オン状態で周囲の他の部分に比
べて暗い状態になり、液晶分子の配列が変化する時に配
列の乱れた部分が移動して残像などの原因になることも
ある。
【００７８】第３に、高輝度を得るためには次のような
条件を満たさなければならない。まず、隣接した領域の
液晶方向子（director）がなす角は９０°になるのが最
も好ましい。こうなる時には最も狭い領域のみでディス
クリネーションが発生するためであり、偏光板の透過軸
と液晶方向子とがなす角が４５度をなす時に最も高い輝
度を得ることができる。また、上板及び下板にそれぞれ
形成されている開口部パターンが折れ曲がったり折れた
りする角度が、可能な限り緩慢な（直線に近いほど）の
が好ましい。
【００７９】最後に、速い応答速度を得るためには、上
板及び下板にそれぞれ形成されている開口部パターンが
折れ曲がったり折れたりする角度が、可能な限り緩慢な
（直線に近いほど）のが好ましい。即ち、一の字で対向
する形態に最も近似するのが応答速度の面で有利であ
る。
【００８０】次いで、開口部パターンの幅及びパターン
間の間隔が透過率及び応答速度に及ぼす影響について説
明する。開口部パターンの幅及び間隔による影響を調査
するために、図１１に示した９つの開口パターンを有す
るパネルを制作して実験した。
【００８１】図１１において斜線で表示したパターンは
共通電極の開口部パターンであり、太線で示されたパタ
ーンは画素電極の形態である。
【００８２】Ｂ、Ｃ、ＤパターンとＥ、Ｆ、Ｇパターン
とはそれぞれパターンの幅及び間隔のみが異なる同一形
態のパターンであり、ＩとＪパターンとはパターン間の
間隔が異なる。ＡパターンはＢ、Ｃ、Ｄパターンと類似
しているが、パターン間の間隔が異なる。これら各パタ
ーンの幅及び間隔は表１に示されている。
【表１】
【００８３】図１２ａは各パターンに対するテストセル
（test cell）の光透過率をパーセント（％）で示した
グラフであり、図１２ｂはＢパターンの光透過率を基準
にして他のパターンの光透過率の比を示したグラフであ
る。
【００８４】図１２ａ及び１２ｂのグラフに示されてい
るように、Ｇパターンの光透過率が約１３％で最高であ
り、その次はＥ、Ｉ、Ｂ、Ｄ、Ａ、Ｃ、Ｆ、Ｊパターン
の順である。
【００８５】図１３は各パターンを適用したテストセル
の階調による応答時間を示すグラフである。実際に適用
する時には６４階調までのみを使用するが、本実験では
１１０階調まで実験した。
【００８６】図１３に示されているように、Ｂ、Ｃ、Ｄ
及びＪパターンの応答時間が全ての階調で比較的短い。
即ち、応答速度が速かった。他のパターンで応答速度が
遅い理由はＡ及びＩパターンの場合はテクスチャー移動
のためであり、Ｅ、Ｆ、Ｇパターンの場合は液晶分子が
２段階動作をするためである。
【００８７】表２は図１１の９つのパターンを実際のパ
ネルに適用して実験した結果である。各パターンに対し
て４つのパネルを制作して実験した。
【表２】
【００８８】実際のパネルの結果もテストセルの結果と
類似した。ただし、Ｉの応答速度がテストセルとは異な
って比較的速く、Ｊパターンの輝度が予想より明るかっ
た（テストセルではＪパターンの輝度がＢパターンに比
べて７５％程度であったが、実際のパネルではＢパター
ンに比べて９０％であった）。
【００８９】実際のパネルでＡ、Ｃ、Ｉ、Ｊパターンは
白残像が現れた。Ｃパターンでは白残像が強く現れるの
で問題になるが、Ｉ及びＪパターンではある程度は改善
することができる。
【００９０】以上の結果に基づいて、改善しようとする
特性に応じて選択することができるパターンについて説
明する。
【００９１】まず、輝度向上及び白残像改善を目的とす
る場合にはＢ、Ｄ、Ｅ、Ｉパターンが有利であり、輝度
を現在の水準以上に維持しながら応答速度を向上しよう
とする場合にはＢ、Ｄ、Ｉパターンが好ましく、輝度を
犠牲にして応答速度の向上を目的とする場合にはＤ、Ｊ
パターンが有利である。
【００９２】次いで、応答速度と開口部パターンの幅と
の関係をより明確にするために、形態が同一でパターン
の幅が異なるＢ、Ｃ、Ｄパターンに対して光特性の差に
ついて説明する。
【００９３】図１４は実際のパネルでのＢ、Ｃ、Ｄパタ
ーンそれぞれの階調による応答時間を示すグラフであ
る。
【００９４】２０階調から４０階調の間における応答時
間はＤ<Ｂ<Ｃの順に長かった。即ち、パターンの幅が大
きいほど応答時間が短い。
【００９５】約４０階調からはＣパターンの応答時間が
Ｂパターンより短く、約４５階調からはＣパターンの応
答時間がＤパターンよりも短い。しかし、これは白残像
現象のために応答時間が短いように見えるだけで、実際
に短いのではない。即ち、白残像のために応答波形が歪
曲して応答時間が実際より短く見えるのである。従っ
て、このような点を鑑みるとパターンの幅が広いほど応
答速度が速くなることがわかる。
【００９６】６０階調以上の高い電圧がかかるとテクス
チャー不安のために応答速度が急激に遅くなるが、その
うちでは開口部パターンの幅が最も広いＤパターンが最
も安定した（緩やかに増加）特性を有する。
【００９７】図１５はＣ、Ｂ、Ｄパターンに対する白色
階調での顕微鏡写真である。写真に示されているよう
に、輝度はテクスチャー安定度の低いＣが最も暗く、Ｂ
とＤとは近似した明るさを有する。Ｄは開口部パターン
の幅が大きいので開口率は低いがテクスチャー安定度が
比較的高い輝度を有する。テクスチャー安定度もフリン
ジフィールドの強さ及びパターンの幅によって決定され
るものと思われる。
【００９８】また、領域の境界部（開口部パターンが形
成されている部分）の形態が異なる。Ｃパターンの場合
は領域境界部のほとんどの部分で二股のテクスチャーが
鮮明に現れ、Ｂパターンの場合は微かに二股のテクスチ
ャーが現れるが、Ｄパターンの場合は領域境界部が１つ
の黒線として現れる。
【００９９】図１６はＣパターン及びＤパターンに対す
るテストセルの印加電圧別のドメイン分割写真である。
Ｃパターンの場合は３．５Ｖから領域境界部に二股のテ
クスチャーが現れて電圧が高くなるほど鮮明になる。し
かし、Ｄパターンの場合は５Ｖになってから領域境界部
が微かに二股に分かれる。領域境界部が二股に分かれる
のはその領域で液晶分子が不均一に配列されるためであ
る。この現象を説明するために、パターンの幅に応じた
フリンジフィールドの強さを考察してみる。
【０１００】図１７はパターンの幅に応じたフリンジフ
ィールドの強さを示す概念図である。開口部パターンの
幅が広くなるほどフリンジフィールドの水平成分が大き
くなる。水平成分は液晶が横になる方向を決定するのに
重要な役割を果たす。従って、広い幅の開口部パターン
がドメインを形成するのに効果的である。また、開口部
の中央の電気場の垂直成分の強さは開口部パターンの幅
が広くなるほど弱くなる。
【０１０１】図１８は開口部パターンの周辺での液晶分
子の配列状態を示す図面である。開口部パターンの幅が
狭い場合には開口部の中心部でも液晶分子がある程度横
になる。印加される電圧が低い場合には僅かに傾く程度
であるが、電圧が高くなると水平に完全に横になる。こ
れは開口部パターンの中央部でも電気場の垂直成分が強
いためである。このために光が漏れるようになり、領域
境界部が二股の線に分かれるようになる。また、液晶分
子が開口部で横になる方向を１８０°変更する時、開口
部の幅が狭いため弾性力が強い。反面、フリンジフィー
ルドの水平成分は弱いため、弾性力にフリンジフィール
ドが勝てない。従って、領域境界部での液晶分子の配列
が不均一である。このような不均一な液晶分子の配列は
画素の小領域の内部まで伝播される。
【０１０２】開口部パターンの幅が広い場合には、開口
部の中心で液晶分子が垂直に立つ。印加電圧が強くなる
のに伴って液晶分子が僅かに傾くが、その程度は幅が狭
い場合に比べて著しくない。従って、漏れる光が少な
く、小領域境界部が１つの黒線として現れる。
【０１０３】以上のように、開口部パターンの幅が広い
ほど応答速度が速く、画素の小領域が均一である。開口
部パターンの幅が広いと開口率は小さいが液晶分子の配
列が均一になるので輝度は良好である。以上の実験によ
ると、開口部パターンの幅は１３±３μｍ程度が適当で
ある。この時、セルギャップ（cell gap）は約４μｍな
いし６μｍ程度である。
【０１０４】以下、開口部パターン間の間隔に応じた光
特性について説明する。ＩパターンとＪパターンはパタ
ーンの幅は同一でパターン間の間隔は互いに異なる。テ
ストセルの結果ではＩパターンとＪパターンとが光特性
において顕著な差異を有するが、実際のパネルの結果で
は大きな差異がない。これは配向膜の種類の差異や保護
膜（絶縁膜）の有無の差異、印加される電圧波形の差異
などによるものであると推定される。しかし、実際のパ
ネルで動映像の移動速度を比較してみると、Ｉパターン
よりＪパターンの方が速い（灰色地に黒色で四角形を引
いてみれば分かる）。但し、階調によって応答速度に差
異がある。
【０１０５】開口部パターンの幅においても、パターン
間の距離が狭くなると開口率が顕著に減少するが、輝度
は大きな差異がない。これはテクスチャーのためであ
る。即ち、パターン間の距離が広くなるとテクスチャー
制御が難しくなり、狭くなると制御が容易になる。従っ
て、パターン間の距離が狭くなると開口率は減少するが
テクスチャーを適切に制御することができるので輝度は
補償される。ただし、Ｉパターンはパターン間の距離は
遠い方であるが、テクスチャー制御が比較的適切に行わ
れているために輝度が高い。
【０１０６】結論として、パターン間の間隔を狭くする
ほど階調応答速度が向上される。輝度は開口率が減少す
る分だけ低くなる確率が高いが、テクスチャーを制御す
ることによってある程度挽回される。
【０１０７】テクスチャーは応答速度と深い関連があ
る。動くテクスチャーは応答速度を低下させる。高い電
圧が印加されると大部分のパターンで応答速度が低下す
る。これはテクスチャーが発生するためである。従っ
て、テクスチャーを適切に制御すると、画質の向上は勿
論、応答速度も向上させ得る。以下でテクスチャーの発
生を抑制することができる方法を説明する。
【０１０８】図１９及び２０はそれぞれＢパターン及び
Ｊパターンでテクスチャーが発生する部分とこれを拡大
した図面である。
【０１０９】図１９の開口部パターンは図４ｃのパター
ンとほぼ類似する。ただし、画素電極１２に形成されて
いる第２及び第３開口部１２２、１２３が図４ｃとは異
なる。即ち、右側辺から始まっている。また、第２及び
第３開口部１２２、１２３が終わる部分には画素電極を
外部に突出させて形成する。これは開口部１２２、１２
３によって画素電極１２の各部分の連結が不良になるの
を防止するためである。
【０１１０】テクスチャーが発生する部分は主に共通電
極の開口部の端部と画素電極の開口部の端部とがぶつか
る部分である。上下基板の整列が正しく行われた場合に
はテクスチャーの発生が少ないが、誤整列された場合に
は半月形のテクスチャーが発生する。この時に発生する
テクスチャーは白残像現象を発生させない。テクスチャ
ー抑制策としては共通電極の開口部の端部の幅を広くす
ることがある。これを通じて整列誤差の限界を拡張す
る。
【０１１１】図２０のパターンは図８ｃのパターンと類
似しているが、横方向の開口部の数が異なる。また、画
素電極の横方向の開口部が一辺から始まっている点と横
方向の開口部の端部に突出部が形成されている点も異な
る。
【０１１２】テクスチャーが発生する部位は共通電極の
横方向の開口部の端部（ａ）である。また、ソース電極
との連結のために接触口が形成されることによって、形
態が凹んだ画素電極の下端部（ｂ）及び画素電極の縦方
向の開口部の端部（ｃ）でもテクスチャーが発生する。
テクスチャー抑制策は次の通りである。ａ部分の場合に
は共通電極の開口部の端部の幅を広くする。ｂ部分の場
合には共通電極の開口部がｂ部分と重畳するようにす
る。このためには開口部の幅及び間隔の調整が必要であ
る。間隔を狭くする場合には開口率は減少するが応答速
度は向上する。ｃ部分の場合には画素電極の縦方向開口
部の端部を尖った形態に形成する。
【０１１３】以上のようなテクスチャー改善方案を適用
したパターンが図２１ないし２１ｃに示されている。
【０１１４】一方、テクスチャーが発生する領域をゲー
ト配線又はブラックマトリックスで覆うことができる。
【０１１５】図２２及び２３はそれぞれ本発明の第１０
実施例による液晶表示装置の薄膜トランジスタ基板及び
カラーフィルタ基板の平面図である。
【０１１６】図２２に示されているように、走査信号を
伝達するゲート線２１が、画素電極２０に形成されてい
る分割配向を形成するための開口部２７と同様な形態
に、即ち、下辺のない台形の形態に形成されている。こ
れによって、金属からなるゲート線２１が後面光源から
入る光を遮断して薄膜トランジスタ基板の画素電極２０
に形成されている開口部２７による光漏れや輝度の低下
を防止することができる。
【０１１７】次いで、図２３に示されているように、カ
ラーフィルタ基板にはブラックマトリックス１１がテク
スチャーが発生する領域とカラーフィルタ基板側の開口
部が形成された部分とを覆うように形成されている。テ
クスチャーが発生する領域は、前述のように、薄膜トラ
ンジスタ基板の開口部２７と画素電極２０との境界間の
領域及び鋸の歯形の開口部１７、２７が折り曲げられた
部分である。このようなテクスチャーを覆うためのブラ
ックマトリックスパターンは、図２３に示されているよ
うに、下側基板に画素電極が形成されている領域を囲む
形態に形成されて画素領域を定義している周縁部１１１
と、分割配向を形成するための開口部１７が形成された
部分を覆うために鋸の歯形態に形成された部分１１２
と、鋸の歯形態の開口部１７、２７の間に発生するテク
スチャーを覆うために三角形で形成された部分１１３
と、鋸の歯形態の開口部１７、２７が折り曲げられる部
分で発生するテクスチャーを覆うために画素領域の中間
を横切る部分１１４とから構成される。これによって、
テクスチャーが発生する部分や開口部によって発生する
光漏れをブラックマトリックスを利用して遮断すること
ができる。また、このようにブラックマトリックスを比
較的広い面積に形成しても、開口部が形成されている部
分やテクスチャーが発生する部分は元来表示に寄与する
部分であるとは言えないので、開口率が減少する問題は
発生しない。
【０１１８】図２４は図２２及び２３に示されているよ
うな２枚の基板を結合して形成した液晶表示装置の平面
図であり、図２５は図２４のＸＸＶ−ＸＸＶ’線の断面
図である。
【０１１９】図２４及び２５に示されているように、下
側の基板である薄膜トランジスタ基板２００にはゲート
線２１が下辺のない台形の形態に形成されており、その
上に絶縁膜２２が覆われている。絶縁膜２２上には画素
電極２３が形成されており、ゲート線２１の上側の画素
電極２０の一部は除去されて鋸の歯形態の開口部２７を
形成している。画素電極２０上には液晶分子を垂直に配
向するための垂直配向膜２４が形成されている。
【０１２０】一方、上側基板であるカラーフィルタ基板
１００にはブラックマトリックス１１が画素の外側と分
割配向のための開口部が形成される部分とテクスチャー
が発生する部分とを共に覆うことができるようにパター
ニングされている。ブラックマトリックス１１の間の画
素領域にはカラーフィルタ１２が形成されており、ブラ
ックマトリックス１１とカラーフィルタ１２との上に保
護絶縁膜１５が形成されており、その上に形成されてい
るＩＴＯ共通電極１３はブラックマトリックス１１と重
畳する部分が除去された形態にでパターニングされてい
る。上側基板に形成された開口部１７は下側基板に形成
された開口部２７と平行に交互に形成されている。上側
基板１００にも共通電極１３上に垂直配向膜１４が形成
されている。
【０１２１】２枚の基板の間には陰の誘電率異方性を有
する液晶物質が注入されており、液晶分子は２枚の基板
１００、２００に形成されている垂直配向膜１４、２４
の配向力によって２枚の基板１００、２００に対して垂
直に配向されている。
【０１２２】本発明の第１０実施例とは異なって、ゲー
ト線は通常の方法と同様に形成し、下板の分割配向のた
めの開口部パターンが形成されている部分もブラックマ
トリックスを利用して覆うことができる。図２６は本発
明の第１１実施例による液晶表示装置の平面図である。
【０１２３】ブラックマトリックス１１が、図２３に示
された本発明の第１０実施例のように、画素の外側、上
板の開口部１７が形成される部分、テクスチャーが発生
する部分を覆っており、第１０実施例とは異なって、下
板の開口部２７が形成される部分まで覆うことができる
ように形成されている。
【０１２４】本発明の第１１実施例のようにブラックマ
トリックスを利用して開口部が形成される部分とテクス
チャーが発生する部分とを覆う場合、ゲート線パターン
の変更による影響を考慮しなくてもよく、追加の工程無
しで単純な工程で垂直配向液晶表示装置の視野角を広く
して輝度を向上させることができる。
【０１２５】その他に、開口部を形成する代わりに画素
電極の形態を変更してテクスチャーを除去することもで
きる。
【０１２６】前記のように、テクスチャーが発生する部
分は薄膜トランジスタ基板の開口部と画素電極の境界と
がぶつかる部分であるが、画素電極の境界は本質的に薄
膜トランジスタ基板の開口部と類似するので、この部分
は開口部の折り曲げられた部分の角度が鈍角をなすのが
よいという第１の条件に違反する部分である。即ち、開
口部パターンと画素電極の境界とがなす角が鋭角になり
この部分で液晶分子の配列が乱れて輝度の低下が発生す
ると共に、液晶層に印加される電界が変化する時に乱れ
た液晶分子の配列が移動して残像を誘発する原因にな
る。
【０１２７】従って、本発明の第１２実施例では、画素
電極２１の境界と画素電極に形成されている開口部２７
とがぶつかる部分で画素電極２１の形態を変更して画素
電極２１の境界と開口部２７とがなす角が９０°以上に
なるようにする。これによって、図２７に示されたよう
に、画素電極２１の形態は画素電極に形成された開口部
２７と共通電極に形成された開口部１７との間で鋸の歯
形に突出した形態になる。
【０１２８】本発明の第１３実施例では、画素電極の形
態を開口部の形態に沿って鋸の歯形に形成する。図２８
は、このように画素電極を鋸の歯形に形成した本発明の
第１３実施例による液晶表示装置の平面図である。
【０１２９】図２８に示されている本発明の第１３実施
例による液晶表示装置のように、画素電極２２を開口部
１７、２７を囲む形態に鋸の歯形に形成すると、開口部
１７、２７と画素電極２２の境界とがぶつかる部分がな
くなるので、これによるテクスチャーの問題などは発生
しない。
【０１３０】本発明の第１２及び第１３実施例における
開口部の幅や間隔などは前述の実施例と類似する。
【０１３１】以上では共通電極と画素電極との両方に開
口パターンを形成するものについて説明したが、共通電
極に開口パターンを形成する代わりに画素電極に開口パ
ターンと共に突起を形成する方法を使用することもでき
る。この場合には突起はゲート絶縁膜又は保護膜などで
形成する。突起を形成する時は、配線との間で寄生静電
容量が形成されることに注意しなければならない。この
時、開口パターン及び突起の配置は図２１と同様にす
る。
【０１３２】また、他の方法としては、画素電極には開
口パターンを形成し、共通電極には突起を形成する方法
がある。この場合にも開口パターン及び突起の配置は図
２１と同様にする。
【０１３３】
【発明の効果】本発明によると、視野角が広く、液晶分
子の配向が安定しており、応答速度が速い液晶表示装置
を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の技術による液晶表示装置の上下電極に形
成された開口パターンの重畳した状態を示す平面図であ
る。
【図２】本発明の実施例による液晶表示装置の概略的な
構造を示す断面図である。
【図３】本発明の第１及び第２実施例による液晶表示装
置の上下電極に形成された開口パターンの重畳した状態
を示す平面図である。
【図４】本発明の第３実施例による液晶表示装置の画素
電極のパターンを示す平面図、液晶表示装置の共通電極
に形成されている開口パターンを示す平面図、液晶表示
装置の上下基板を整列させた状態で画素電極のパターン
と共通電極の開口パターンとを重畳させた状態の平面図
である。
【図５】本発明の第４実施例による液晶表示装置の画素
電極のパターンを示す平面図、液晶表示装置の共通電極
に形成されている開口パターンを示す平面図、液晶表示
装置の上下基板を整列させた状態で画素電極のパターン
と共通電極の開口パターンとを重畳させた状態の平面図
である。
【図６】本発明の第５実施例による液晶表示装置の画素
電極のパターンを示す平面図、液晶表示装置の共通電極
に形成されている開口パターンを示す平面図、液晶表示
装置の上下基板を整列させた状態で画素電極のパターン
と共通電極の開口パターンとを重畳させた状態の平面図
である。
【図７】本発明の第６実施例による液晶表示装置の画素
電極のパターンを示す平面図、液晶表示装置の共通電極
に形成されている開口パターンを示す平面図、液晶表示
装置の上下基板を整列させた状態で画素電極のパターン
と共通電極の開口パターンとを重畳させた状態の平面図
である。
【図８】本発明の第７実施例による液晶表示装置の画素
電極のパターンを示す平面図、液晶表示装置の共通電極
に形成されている開口パターンを示す平面図、液晶表示
装置の上下基板を整列させた状態で画素電極のパターン
と共通電極の開口パターンとを重畳させた状態の平面図
である。
【図９】本発明の第８実施例による液晶表示装置の画素
電極のパターンを示す平面図、液晶表示装置の共通電極
に形成されている開口パターンを示す平面図、液晶表示
装置の上下基板を整列させた状態で画素電極のパターン
と共通電極の開口パターンとを重畳させた状態の平面図
である。
【図１０】本発明の第９実施例による液晶表示装置の画
素電極のパターンを示す平面図、液晶表示装置の共通電
極に形成されている開口パターンを示す平面図、液晶表
示装置の上下基板を整列させた状態で画素電極のパター
ンと共通電極の開口パターンとを重畳させた状態の平面
図である。
【図１１】パターンの幅及び間隔による応答速度及び輝
度を測定するために製作したパネルの開口部パターンの
多様な形態である。
【図１２】各パターン別の透過率を示したグラフと、Ｂ
パターンを基準にして各パターン別の透過率の比を示し
たグラフである。
【図１３】階調による応答時間を各パターン別に示した
グラフである。
【図１４】Ｂ、Ｃ、Ｄパターンの階調による応答時間の
みを拡大して示したグラフである。
【図１５】Ｂ、Ｃ、Ｄパターンの白色階調での顕微鏡写
真である。
【図１６】テストセルでのＣ、Ｄパターンの印加電圧別
の顕微鏡写真である。
【図１７】開口部パターンの幅が狭い場合及び広い場合
のフリンジフィールドの強さを示す図面である。
【図１８】開口部パターンの幅及び印加電圧によって開
口部における液晶分子の配列状態を示す図面である。
【図１９】図１１のＢパターンにおいてテクスチャーが
発生する部分及びテクスチャーの発生を防止するために
変更された開口部パターンを示す図面である。
【図２０】図１１のＪパターンにおいてテクスチャーが
発生する部分及びテクスチャーの発生を防止するために
変更された開口部パターンを示す図面である。
【図２１】図１１のＢ、Ｉ、Ｊパターンにおいてテクス
チャーの発生を防止するために変更された開口部パター
ンを示す図面である。
【図２２】本発明の第１０実施例による液晶表示装置の
薄膜トランジスタ基板の平面図である。
【図２３】本発明の第１０実施例による液晶表示装置の
カラーフィルタ基板の平面図である。
【図２４】本発明の第１０実施例による薄膜トランジス
タ基板とカラーフィルタ基板とを結合した液晶表示装置
の平面図である。
【図２５】図２４のＸＸＶ−ＸＸＶ’線の断面図であ
る。
【図２６】本発明の第１１実施例によるカラーフィルタ
基板の平面図である。
【図２７】本発明の第１２実施例による液晶表示装置の
平面図である。
【図２８】本発明の第１３実施例による液晶表示装置の
平面図である。
【符号の説明】
１、２ 開口パターン ３ 液晶分子 １０、２０ 基板 １１ スイッチング素子 １２ 画素電極 １４、２４ 偏光板 １５、２５ 補償フィルム ２１ ブラックマトリックス ２２ カラーフィルタ ２３ 共通電極 ３０ 液晶物質
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 李 癸 憲 大韓民国京畿道水原市八達区遠川洞25−１ 番地 明成連立マ棟211号 (72)発明者 李 惠 莉 大韓民国ソウル市瑞草区牛眠洞 コーロン グアパート102棟406号 (72)発明者 柳 在 鎭 大韓民国京畿道廣州郡五浦面陽筏１里629 −１ Ｆターム(参考） 2H090 JA05 LA01 LA06 LA09 LA15 MA01 MA12 2H091 FA02Y FA08Y FA11Y FA34Y FC08 FC09 GA01 GA02 GA06 GA13 LA19 2H092 JA24 JB04 JB05 JB06 JB14 JB45 JB51 NA05 PA01 PA02 PA10 PA11

Claims (62)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、第１開口パターンを
    有する画素電極と、 前記第１基板と対向している絶縁第２基板と、 前記第２基板に形成されており、第２開口パターンを有
    する共通電極と、 前記第１基板と第２基板との間に注入されている液晶物
    質とを含む液晶表示装置において、 前記第１開口パターン及び前記第２開口パターンは中央
    部が直線形に形成されており、互いに平行であり、互い
    に交互に配置されていることを特徴とする液晶表示装
    置。
  2. 【請求項２】前記第１開口パターンは、前記画素電極の
    上部領域に第１方向に形成されている第１開口部と、前
    記画素電極の下部領域に前記第１方向と垂直をなす第２
    方向に形成されている第２開口部とを含み、 前記第２開口パターンは、前記画素電極の上部領域と対
    応する位置に前記第１方向に形成されている第１幹開口
    部と、前記画素電極の下部領域と対応する位置に前記第
    ２方向に形成されている第２幹開口部とを含むことを特
    徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項３】前記第１方向は前記画素電極の辺に対して
    斜線方向であることを特徴とする請求項２に記載の液晶
    表示装置。
  4. 【請求項４】前記第２開口パターンは、前記画素電極の
    上下辺と重畳する第１枝開口部と、前記画素電極の左右
    辺と重畳する第２枝開口部とを含み、 前記第１開口パターンは前記画素電極の上下の中央に位
    置して前記画素電極の上下辺と平行な第３開口部を含
    み、 前記第１開口パターン及び前記第２開口パターンは前記
    画素電極を多数の閉じた多角形に分割していることを特
    徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項５】前記第２枝開口部は前記幹開口部より幅が
    広いことを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項６】前記第１方向は前記画素電極の辺のうちの
    いずれか１つと平行な方向であることを特徴とする請求
    項２に記載の液晶表示装置。
  7. 【請求項７】前記第１及び第２幹開口部の両端は端に行
    くほど幅が次第に広くなることを特徴とする請求項６に
    記載の液晶表示装置。
  8. 【請求項８】前記第２幹開口部のうちの１つは前記画素
    電極の下辺と重畳することを特徴とする請求項６に記載
    の液晶表示装置。
  9. 【請求項９】前記第１開口部の端部は端に行くほど幅が
    次第に狭くなることを特徴とする請求項６に記載の液晶
    表示装置。
  10. 【請求項１０】前記第１基板の下に形成されている第１
    偏光板と、前記第２基板の上に形成されている第２偏光
    板とをさらに含み、 前記第１及び第２偏光板の偏光方向は前記第１及び第２
    方向とそれぞれ４５°をなすことを特徴とする請求項２
    に記載の液晶表示装置。
  11. 【請求項１１】前記第１及び第２偏光板のうちの１つの
    内側に付着されている第１補償フィルムをさらに含む請
    求項１０に記載の液晶表示装置。
  12. 【請求項１２】前記第１補償フィルムは二軸性補償フィ
    ルムである請求項１１に記載の液晶表示装置。
  13. 【請求項１３】前記第１補償フィルムにおいて最大の屈
    折率を有する方向が前記第１及び第２偏光板の透過軸と
    一致するか直交する請求項１２に記載の液晶表示装置。
  14. 【請求項１４】前記第１及び第２偏光板のうちの１つの
    内側に付着されている第２補償フィルムをさらに含む請
    求項１１に記載の液晶表示装置。
  15. 【請求項１５】前記第１及び第２補償フィルムはそれぞ
    れａプレート及びｃプレート一軸性補償フィルムである
    請求項１４に記載の液晶表示装置。
  16. 【請求項１６】前記ａプレート一軸性補償フィルムにお
    いて最大の屈折率を有する方向が前記第１及び第２偏光
    板の透過軸と一致するか直交する請求項１５に記載の液
    晶表示装置。
  17. 【請求項１７】前記画素電極は前記第１及び第２開口部
    の終点と隣接した辺に突出部を有することを特徴とする
    請求項２に記載の液晶表示装置。
  18. 【請求項１８】前記第１及び第２開口パターンの幅は１
    ０μｍから１６μｍの範囲であることを特徴とする請求
    項１に記載の液晶表示装置。
  19. 【請求項１９】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、第１開口パターンを
    有する画素電極と、 前記第１基板と対向している第２基板と、 前記第２基板に形成されており、第２開口パターンを有
    する共通電極と、 前記第１基板と前記第２基板との間に注入されている液
    晶物質とを含む液晶表示装置において、 前記第１開口パターン及び前記第２開口パターンは重畳
    して前記画素電極を多数の小領域に分割しており、前記
    小領域は最も長い２つの辺が互いに平行な多角形である
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  20. 【請求項２０】前記小領域は、最も長い２つの辺が第１
    方向である第１小領域と、最も長い２つの辺が第２方向
    である第２小領域とに分割され、前記第１方向と前記第
    ２方向とは９０°をなすことを特徴とする請求項１９に
    記載の液晶表示装置。
  21. 【請求項２１】前記第１方向は前記画素電極の辺に対し
    て斜線方向であることを特徴とする請求項２０に記載の
    液晶表示装置。
  22. 【請求項２２】前記第１方向は前記画素電極の上下辺又
    は左右辺のうちの１つと平行であることを特徴とする請
    求項２０に記載の液晶表示装置。
  23. 【請求項２３】前記第１及び第２開口パターンの幅は１
    ０μｍから１６μｍの範囲であることを特徴とする請求
    項１９に記載の液晶表示装置。
  24. 【請求項２４】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、第１開口パターンを
    有する画素電極と、 前記第１基板と対向している絶縁第２基板と、 前記第２基板に形成されており、第２開口パターンを有
    する共通電極と、 前記第１基板と前記第２基板との間に注入されている液
    晶物質とを含む液晶表示装置において、 前記画素電極と前記共通電極との間に電圧が印加される
    時、前記第１及び第２開口パターンによって形成される
    フリンジフィールドによって前記液晶物質の液晶分子が
    配向される方向が前記液晶分子相互間の力によって配向
    される方向と一致することを特徴とする液晶表示装置。
  25. 【請求項２５】前記フリンジフィールドによる前記液晶
    分子の配向方向は４方向に分割されることを特徴とする
    請求項２４に記載の液晶表示装置。
  26. 【請求項２６】前記第１及び第２開口パターンの幅は１
    ０μｍから１６μｍの範囲であることを特徴とする請求
    項２４に記載の液晶表示装置。
  27. 【請求項２７】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、第１開口パターンを
    有する画素電極と、 前記第１基板と対向している絶縁第２基板と、 前記第２基板に形成されており、第２開口パターンを有
    する共通電極と、 前記第１基板と前記第２基板との間に注入されている液
    晶物質とを含み、 前記第１開口パターンは、前記画素電極の第１辺から横
    方向に形成されている第１開口部と；斜線方向に形成さ
    れており、前記第１開口部に対して互いに対称をなして
    おり、前記第１辺と対向する第２辺から前記第１辺に接
    近するほど互いに間隔が広くなる第２及び第３開口部
    と；からなり、 前記第２開口パターンは、横方向に形成されている幹部
    と、前記幹部からそれぞれ斜線方向に形成されており、
    前記幹部から離れるほど互いに遠くなる第１及び第２枝
    部と、前記第１及び第２枝部から縦方向に形成されてお
    り、互いに反対方向に伸びている第１及び第２枝端部と
    を含む第４開口部と；前記第１枝部と平行な第１中央部
    と、前記第１中央部の両端からそれぞれ横方向及び縦方
    向に形成されている第１及び第２屈折部とを含む第５開
    口部と；前記第４開口部に対して前記第５開口部と対称
    をなす第６開口部と；からなり、 前記第１開口パターン及び第２開口パターンは液晶表示
    装置を上から見ると交互に位置することを特徴とする液
    晶表示装置。
  28. 【請求項２８】前記第１及び第２枝端部と前記第２屈折
    部とは前記第２開口パターンの他の部分より幅が広いこ
    とを特徴とする請求項２７に記載の液晶表示装置。
  29. 【請求項２９】前記第１基板の下に形成されている第１
    偏光板と、前記第２基板の上に形成されている第２偏光
    板とをさらに含み、 前記第１及び第２偏光板の偏光方向はそれぞれ横方向及
    び縦方向又は縦方向及び横方向であることを特徴とする
    請求項２７又は２８に記載の液晶表示装置。
  30. 【請求項３０】前記第１ないし第６開口部の幅は１０μ
    ｍから１６μｍの範囲であることを特徴とする請求項２
    ７又は２８に記載の液晶表示装置。
  31. 【請求項３１】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、第１開口パターンを
    有する画素電極と、 前記第１基板と対向している絶縁第２基板と、 前記第２基板に形成されており、第２開口パターンを有
    する共通電極と、 前記第１基板と第２基板との間に注入されている液晶物
    質とを含み、 前記第１開口パターンは、前記画素電極の第１辺からこ
    れに対向する第２辺に向かって斜線方向に形成されてい
    る第１斜線部と、前記第１斜線部から折り曲げられて前
    記第１辺に向かって斜線方向に形成されている第２斜線
    部とを含む第１開口部を含み、 前記第２開口パターンは、縦方向に形成されている基底
    部及び前記基底部の中央から横方向に伸びていく横枝部
    を含む第２開口部と、縦方向に形成されている中央部及
    び前記中央部の両端からそれぞれ斜線方向に伸びている
    第１及び第２斜線枝部を含み、前記第２開口部に対して
    対称をなす第３開口部とからなり、 前記第１開口パターン及び第２開口パターンは液晶表示
    装置を上から見ると交互に位置することを特徴とする液
    晶表示装置。
  32. 【請求項３２】前記第１基板の下に形成されている第１
    偏光板と、前記第２基板の上に形成されている第２偏光
    板とをさらに含み、 前記第１及び第２偏光板の偏光方向はそれぞれ横方向及
    び縦方向又は縦方向及び横方向であることを特徴とする
    請求項３１に記載の液晶表示装置。
  33. 【請求項３３】前記第１ないし第３開口部の幅は１０μ
    ｍから１６μｍの範囲であることを特徴とする請求項３
    １又は３２に記載の液晶表示装置。
  34. 【請求項３４】前記画素電極の第２辺の両側の角及び前
    記第２開口部の前記基底部と前記横枝部とがぶつかる地
    点の両側の角は角取りが行われている請求項３１又は３
    ２に記載の液晶表示装置。
  35. 【請求項３５】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、第１開口パターンを
    有する画素電極と、 前記第１基板と対向している絶縁第２基板と、 前記第２基板に形成されており、第２開口パターンを有
    する共通電極と、 前記第１基板と第２基板との間に注入されている液晶物
    質とを含み、 前記第１開口パターンは、前記画素電極の第１辺からこ
    れに対向する第２辺に向かって掘り下げられる第１開口
    部と、前記第２辺から前記第１辺に向かって掘り下げら
    れる第２開口部とを含み、 前記第２開口パターンは、斜線方向に形成されている第
    １斜線部と、前記第１斜線部から折り曲げられて斜線方
    向に伸びている第２斜線部と、前記第２斜線部から折り
    曲げられて前記第１斜線部と同一な方向に伸びている第
    ３斜線図とを含む第３開口部を含み、 前記第３開口部は前記第１及び第２開口部によって３つ
    の領域に区分された前記画素電極の各領域をそれぞれ２
    分割することを特徴とする請求項３５に記載の液晶表示
    装置。
  36. 【請求項３６】前記第１基板の下に形成されている第１
    偏光板と、前記第２基板の上に形成されている第２偏光
    板とをさらに含み、 前記第１及び第２偏光板の偏光方向は横方向を０°であ
    るとする時にそれぞれ４５°及び１３５°又は１３５°
    及び４５°であることを特徴とする請求項３５に記載の
    液晶表示装置。
  37. 【請求項３７】前記第１ないし第３開口部の幅は１０μ
    ｍから１６μｍの範囲であることを特徴とする請求項３
    ５又は３６に記載の液晶表示装置。
  38. 【請求項３８】前記第１及び第２開口部の入口の両側の
    角及び前記画素電極の前記第３開口部と重畳しない２つ
    の角は角取りが行われている請求項３５又は３６に記載
    の液晶表示装置。
  39. 【請求項３９】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、第１開口パターンを
    有する画素電極と、 前記第１基板と対向している絶縁第２基板と、 前記第２基板に形成されており、第２開口パターンを有
    する共通電極と、 前記第１基板と第２基板との間に注入されている液晶物
    質とを含み、 前記第１開口パターンは前記画素電極に一定の間隔をお
    いて横方向に形成されている多数の直線形開口部からな
    り、 前記第２開口パターンは一定の間隔をおいて形成されて
    いる多数のＸ字形開口部からなり、 前記第１開口パターンによって多数の領域に区分されて
    いる前記画素電極の各領域を前記第２開口部パターンが
    ４分割していることを特徴とする液晶表示装置。
  40. 【請求項４０】前記第１基板の下に形成されている第１
    偏光板と、前記第２基板の上に形成されている第２偏光
    板とをさらに含み、 前記第１及び第２偏光板の偏光方向は横方向を０°であ
    るとする時にそれぞれ４５°及び１３５°又は１３５°
    及び４５°であることを特徴とする請求項３９に記載の
    液晶表示装置。
  41. 【請求項４１】前記直線形開口部及びＸ字形開口部の幅
    は１０μｍから１６μｍの範囲であることを特徴とする
    請求項３９又は４０に記載の液晶表示装置。
  42. 【請求項４２】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、第１開口パターンを
    有する画素電極と、 前記第１基板と対向している絶縁第２基板と、 前記第２基板に形成されており、第２開口パターンを有
    する共通電極と、 前記第１基板と第２基板との間に注入されている液晶物
    質とを含み、 前記第１開口パターンは、前記画素電極の上面を縦に分
    割する第１開口部と、前記第１開口部の下に位置してお
    り前記画素電極を横に分割する第２開口部とを含み、 前記第２開口パターンは、縦方向に形成されている第３
    開口部と、前記第３開口部の下に横方向に形成されてい
    る第４開口部とを含み、 前記第１開口部と前記第３開口部とは交互に位置して前
    記画素電極の上面を縦に多数の領域に分割し、前記第２
    開口部と前記第４開口部とは交互に位置して前記画素電
    極の下面を横に多数の領域に分割していることを特徴と
    する液晶表示装置。
  43. 【請求項４３】前記第４開口部のうちで一番下に位置す
    るものは前記画素電極の下辺と重畳することを特徴とす
    る請求項４２に記載の液晶表示装置。
  44. 【請求項４４】前記第４開口部は両端部において幅が次
    第に増加することを特徴とする請求項４２に記載の液晶
    表示装置。
  45. 【請求項４５】前記第１開口部の下端部は幅が次第に狭
    くなることを特徴とする請求項４２に記載の液晶表示装
    置。
  46. 【請求項４６】前記第１基板の下に形成されている第１
    偏光板と、前記第２基板の上に形成されている第２偏光
    板とをさらに含み、 前記第１及び第２偏光板の偏光方向は横方向を０°であ
    るとする時にそれぞれ４５°及び１３５°又は１３５°
    及び４５°であることを特徴とする請求項４２に記載の
    液晶表示装置。
  47. 【請求項４７】前記第１ないし第４開口部の幅は１０μ
    ｍから１６μｍの範囲であることを特徴とする請求項４
    ２に記載の液晶表示装置。
  48. 【請求項４８】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、第１開口パターンを
    有する画素電極と、 前記第１基板と対向している絶縁第２基板と、 前記第２基板に形成されており、第２開口パターンを有
    する共通電極と、 前記第１基板と第２基板との間に注入されている液晶物
    質とを含み、 前記第１開口パターンは前記画素電極の下部に横方向に
    形成されている直線形の第１開口部を含み、 前記第２開口パターンは縦方向に形成されている第２開
    口部と、前記第２開口部の下に位置しており横方向に形
    成されている第３開口部とを含み、 液晶表示装置を上から見ると、前記第２開口部によって
    画素電極の上面が左右に２分され、前記第１及び第３開
    口部によって前記画素電極の下面が多数の領域に分割さ
    れることを特徴とする液晶表示装置。
  49. 【請求項４９】前記第２開口部の上端部及び前記第３開
    口部の両端部は幅が次第に増加することを特徴とする請
    求項４８に記載の液晶表示装置。
  50. 【請求項５０】前記第３開口部のうちで一番下に位置す
    るものは前記画素電極の下辺と重畳することを特徴とす
    る請求項４８に記載の液晶表示装置。
  51. 【請求項５１】前記第１基板の下に形成されている第１
    偏光板と、前記第２基板上に形成されている第２偏光板
    とをさらに含み、 前記第１及び第２偏光板の偏光方向は横方向を０°であ
    るとする時にそれぞれ４５°及び１３５°又は１３５°
    及び４５°であることを特徴とする請求項４８に記載の
    液晶表示装置。
  52. 【請求項５２】前記第１ないし第３開口部の幅は１０μ
    ｍから１６μｍの範囲であることを特徴とする請求項４
    ８に記載の液晶表示装置。
  53. 【請求項５３】絶縁第１基板と、 前記第１基板上に形成されており、多数の楕円が一列に
    連結されている形態の画素電極と、 前記第１基板と対向している絶縁第２基板と、 前記第２基板に形成されており、開口パターンを有する
    共通電極と、 前記第１基板と第２基板との間に注入されている液晶物
    質とを含み、 前記開口パターンは、一定の間隔をおいて一列に配列さ
    れている多数のひし形の第１開口部と、前記第１開口部
    に面している辺は谷が曲線化された鋸の歯形状であり、
    前記第１開口部に対して左右対称をなしており、前記鋸
    の歯の山部分は前記第１開口部の間に位置している第２
    及び第３開口部とを含み、 液晶表示装置を上から見ると、前記画素電極をなす各楕
    円の中央に前記第１開口部が位置しており、前記第２及
    び第３開口部は画素電極を囲んでいることを特徴とする
    液晶表示装置。
  54. 【請求項５４】前記第１基板の下に形成されている第１
    偏光板と、前記第２基板の上に形成されている第２偏光
    板とをさらに含み、 前記第１及び第２偏光板の偏光方向はそれぞれ横方向及
    び縦方向又は縦方向及び横方向であることを特徴とする
    請求項５３に記載の液晶表示装置。
  55. 【請求項５５】前記第２及び第３開口部の鋸の歯形状の
    辺から前記画素電極の辺までの距離は一定であり、その
    距離は１０μｍから１６μｍの範囲であることを特徴と
    する請求項５３に記載の液晶表示装置。
  56. 【請求項５６】鋸の歯形状の開口部を有している画素電
    極と、 前記開口部と重畳するように形成されている配線とを含
    む液晶表示装置用基板。
  57. 【請求項５７】前記配線はゲート配線である請求項５６
    に記載の液晶表示装置用基板。
  58. 【請求項５８】鋸の歯形状の開口部を有している共通電
    極と、 前記開口部と重畳するように形成されているブラックマ
    トリックスとを含む液晶表示装置用基板。
  59. 【請求項５９】鋸の歯形状の第１開口部を有している画
    素電極が形成されている第１基板と、 前記第１開口部と互いに平行に交互に配列されている鋸
    の歯形状の第２開口部を有している共通電極とブラック
    マトリックスとが形成されている第２基板とを含み、 前記ブラックマトリックスは、前記第２開口部と重畳す
    る第１部分と、前記鋸の歯形状に形成されている第１開
    口部及び第２開口部の折り曲げられた部分を横切る形態
    に形成されている第２部分と、前記第１開口部及び第２
    開口部が前記画素電極の境界とぶつかる部分を覆う第３
    部分とを有している液晶表示装置。
  60. 【請求項６０】前記第１基板には前記第１開口部と重畳
    する配線がさらに形成されている請求項５９に記載の液
    晶表示装置。
  61. 【請求項６１】前記配線はゲート配線である請求項６０
    に記載の液晶表示装置。
  62. 【請求項６２】前記ブラックマトリックスは前記第１開
    口部と重畳する第４部分をさらに有している請求項５９
    に記載の液晶表示装置。
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