JP2001011311A - 耐光性ポリベンザゾール組成物、その繊維およびフィルム - Google Patents
耐光性ポリベンザゾール組成物、その繊維およびフィルムInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】太陽光暴露時の酸化劣化の少ないポリベンザゾ
ールを得ること。 【解決手段】ポリベンザゾールに、下記構造式［１］で
示されるアントラキノン化合物が１種類以上含有されて
いることを特徴とする耐光性ポリベンザゾール組成物、
その繊維およびフィルム。 【化１】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4〜Ｒ7はそれぞれ独立に、水素
原子、アミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハ
ロゲン原子を表す。Ｒ3は水素原子、アミノ基、置換ア
ミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハロゲン原
子、アミノフェニル基を表す。Ｒ8は水素原子、炭素数
１〜８のアルキル基、アリル基、置換アリル基を表
す。）
ールを得ること。 【解決手段】ポリベンザゾールに、下記構造式［１］で
示されるアントラキノン化合物が１種類以上含有されて
いることを特徴とする耐光性ポリベンザゾール組成物、
その繊維およびフィルム。 【化１】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4〜Ｒ7はそれぞれ独立に、水素
原子、アミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハ
ロゲン原子を表す。Ｒ3は水素原子、アミノ基、置換ア
ミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハロゲン原
子、アミノフェニル基を表す。Ｒ8は水素原子、炭素数
１〜８のアルキル基、アリル基、置換アリル基を表
す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリベンザゾール
に対して優れた耐光性を与える耐光剤をポリベンザゾー
ルに含有させてなる耐光性ポリベンザゾール組成物、該
ポリベンザゾール組成物を成形して得られる繊維および
フィルムに関するものである。
に対して優れた耐光性を与える耐光剤をポリベンザゾー
ルに含有させてなる耐光性ポリベンザゾール組成物、該
ポリベンザゾール組成物を成形して得られる繊維および
フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】最近、高耐熱、高強力繊維としてポリベ
ンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリベンズイミダゾール
（ＰＢＩ）またはポリベンゾチアゾール（ＰＢＴ）のポ
リマー（以下、ポリベンザゾールと呼ぶ）からなる繊維
が知られている。
ンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリベンズイミダゾール
（ＰＢＩ）またはポリベンゾチアゾール（ＰＢＴ）のポ
リマー（以下、ポリベンザゾールと呼ぶ）からなる繊維
が知られている。
【０００３】通常、物理的なダメージを受けていない繊
維は太陽光に暴露されても重大な引っ張り強力等の低下
は生じないが、物理的なダメージを受けたポリベンザゾ
ール繊維は、酸素または太陽光に暴露されると、その引
っ張り強度が低下する傾向がある。物理的ダメージに
は、例えば製織、製編工程などにおける繊維の折れ曲が
りまたは剪断力を受けた場合に生じるキンクバンドと呼
ばれるものがある。キンクバンドは、顕微鏡下２００倍
の倍率で黒い縞として観察することができる。繊維を製
織、製編工程を経て各種の製品に加工する場合におい
て、ダメージを避けることは非常に困難である。また、
フィルムについても同様のことが言える。物理的なダメ
ージを受けたポリベンザゾールフィルムは、酸素または
太陽光に暴露されるとその引っ張り強度が低下する傾向
がある。
維は太陽光に暴露されても重大な引っ張り強力等の低下
は生じないが、物理的なダメージを受けたポリベンザゾ
ール繊維は、酸素または太陽光に暴露されると、その引
っ張り強度が低下する傾向がある。物理的ダメージに
は、例えば製織、製編工程などにおける繊維の折れ曲が
りまたは剪断力を受けた場合に生じるキンクバンドと呼
ばれるものがある。キンクバンドは、顕微鏡下２００倍
の倍率で黒い縞として観察することができる。繊維を製
織、製編工程を経て各種の製品に加工する場合におい
て、ダメージを避けることは非常に困難である。また、
フィルムについても同様のことが言える。物理的なダメ
ージを受けたポリベンザゾールフィルムは、酸素または
太陽光に暴露されるとその引っ張り強度が低下する傾向
がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、ダメージを受
けた場合でも太陽光暴露による強力低下が小さいポリベ
ンザゾール繊維およびフィルムが望まれている。本発明
はこの強力低下が小さいポリベンザゾールを得るため、
太陽光暴露時の酸化劣化の少ないポリベンザゾールを得
ることを課題とするものである。
けた場合でも太陽光暴露による強力低下が小さいポリベ
ンザゾール繊維およびフィルムが望まれている。本発明
はこの強力低下が小さいポリベンザゾールを得るため、
太陽光暴露時の酸化劣化の少ないポリベンザゾールを得
ることを課題とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意研究した結果、遂に本発明を完成
するに至った。すなわち本発明は、ポリベンザゾール
に、下記構造式［１］で示されるアントラキノン化合物
の１種類以上含有されていることを特徴とするポリベン
ザゾール組成物、構造式［１］で示されるアントラキ
ノン化合物の含有量がポリベンザゾールドープに対して
０．０１〜１５重量％である前記記載のポリベンザゾ
ール組成物、構造式［１］で示されるアントラキノン
化合物をアルコール中で水素化ホウ素ナトリウムまたは
アルカリ水溶液中でハイドロサルファイトを用いて還元
し、ポリベンザゾールに付与した後、酸化発色させるこ
とを特徴とするポリベンザゾール組成物、前記記載
のポリベンザゾール組成物を成形して得られるポリベン
ザゾール繊維、前記記載のポリベンザゾール組成物
を成形して得られるポリベンザゾールフィルムである。
を解決するため、鋭意研究した結果、遂に本発明を完成
するに至った。すなわち本発明は、ポリベンザゾール
に、下記構造式［１］で示されるアントラキノン化合物
の１種類以上含有されていることを特徴とするポリベン
ザゾール組成物、構造式［１］で示されるアントラキ
ノン化合物の含有量がポリベンザゾールドープに対して
０．０１〜１５重量％である前記記載のポリベンザゾ
ール組成物、構造式［１］で示されるアントラキノン
化合物をアルコール中で水素化ホウ素ナトリウムまたは
アルカリ水溶液中でハイドロサルファイトを用いて還元
し、ポリベンザゾールに付与した後、酸化発色させるこ
とを特徴とするポリベンザゾール組成物、前記記載
のポリベンザゾール組成物を成形して得られるポリベン
ザゾール繊維、前記記載のポリベンザゾール組成物
を成形して得られるポリベンザゾールフィルムである。
【０００６】
【化２】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4〜Ｒ7はそれぞれ独立に、水素
原子、アミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハ
ロゲン原子を表す。Ｒ3は水素原子、アミノ基、置換ア
ミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハロゲン原
子、アミノフェニル基を表す。Ｒ8は水素原子、炭素数
１〜８のアルキル基、アリル基、置換アリル基を表
す。）
原子、アミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハ
ロゲン原子を表す。Ｒ3は水素原子、アミノ基、置換ア
ミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハロゲン原
子、アミノフェニル基を表す。Ｒ8は水素原子、炭素数
１〜８のアルキル基、アリル基、置換アリル基を表
す。）
【０００７】本発明におけるポリベンザゾールとは、ポ
リベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリベンゾチアゾー
ル（ＰＢＴ）またはポリベンズイミダゾール（ＰＢＩ）
から選ばれる一種以上のポリマーをいう。本発明におい
ては、ＰＢＯは芳香族基に結合されたオキサゾール環を
含むポリマーをいい、その芳香族基は必ずしもベンゼン
環である必要はない。さらにＰＢＯは、ポリ（フェニレ
ンベンゾビスオキサゾール）や芳香族基に結合された複
数のオキサゾール環の単位からなるポリマーが広く含ま
れる。同様の考え方は、ＰＢＴやＰＢＩにも適用され
る。また、ＰＢＯ、ＰＢＴ及び、またはＰＢＩの混合
物、ＰＢＯ、ＰＢＴ及びＰＢＩのブロックもしくはラン
ダムコポリマー等のような二つまたはそれ以上のポリベ
ンザゾールポリマーの混合物、コポリマー、ブロックポ
リマーも含まれる。好ましくは、ポリベンザゾールは、
ライオトロピック液晶ポリマーであり（鉱酸中、特定濃
度で液晶を形成する）、本発明においてはポリベンゾオ
キサゾールが好ましい。
リベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリベンゾチアゾー
ル（ＰＢＴ）またはポリベンズイミダゾール（ＰＢＩ）
から選ばれる一種以上のポリマーをいう。本発明におい
ては、ＰＢＯは芳香族基に結合されたオキサゾール環を
含むポリマーをいい、その芳香族基は必ずしもベンゼン
環である必要はない。さらにＰＢＯは、ポリ（フェニレ
ンベンゾビスオキサゾール）や芳香族基に結合された複
数のオキサゾール環の単位からなるポリマーが広く含ま
れる。同様の考え方は、ＰＢＴやＰＢＩにも適用され
る。また、ＰＢＯ、ＰＢＴ及び、またはＰＢＩの混合
物、ＰＢＯ、ＰＢＴ及びＰＢＩのブロックもしくはラン
ダムコポリマー等のような二つまたはそれ以上のポリベ
ンザゾールポリマーの混合物、コポリマー、ブロックポ
リマーも含まれる。好ましくは、ポリベンザゾールは、
ライオトロピック液晶ポリマーであり（鉱酸中、特定濃
度で液晶を形成する）、本発明においてはポリベンゾオ
キサゾールが好ましい。
【０００８】ＰＢＺポリマーに含まれる構造単位として
は、好ましくはライオトロピック液晶ポリマーから選択
される。モノマー単位は構造式(ａ)〜(k)に記載されて
いるモノマー単位から成る。
は、好ましくはライオトロピック液晶ポリマーから選択
される。モノマー単位は構造式(ａ)〜(k)に記載されて
いるモノマー単位から成る。
【０００９】
【化３】
【００１０】
【化４】
【００１１】
【化５】
【００１２】
【化６】
【００１３】
【化７】
【００１４】
【化８】
【００１５】
【化９】
【００１６】
【化１０】
【００１７】
【化１１】
【００１８】
【化１２】
【００１９】
【化１３】
【００２０】本発明において、ポリベンザゾールポリマ
ーの溶液（ポリマードープという）は、ポリマーを酸溶
媒中で重合することにより容易に調製することができ
る。溶媒として好ましくは鉱酸であり、例えば硫酸、メ
タンスルフォン酸、またはポリリン酸があるが、最も好
ましくはポリリン酸である。ドープ中のポリマー濃度
は、１〜３０％、好ましくは５〜２０％である。
ーの溶液（ポリマードープという）は、ポリマーを酸溶
媒中で重合することにより容易に調製することができ
る。溶媒として好ましくは鉱酸であり、例えば硫酸、メ
タンスルフォン酸、またはポリリン酸があるが、最も好
ましくはポリリン酸である。ドープ中のポリマー濃度
は、１〜３０％、好ましくは５〜２０％である。
【００２１】本発明において、好適なポリマーまたはコ
ポリマーとドープは公知の方法で合成される。例えばWo
lfeらの米国特許第4,533,693号明細書（1985,8,6）、Sy
bertらの米国特許第4,772,678号明細書（1988,9,22）、
Harrisの米国特許第4,847,350号明細書（1989,7,11）ま
たはGregoryらの米国特許第5,089,591号明細書（1992,
2,18）に記載されている。要約すると、好適なモノマー
は非酸化性で脱水性の酸溶液中、非酸化性雰囲気で高速
撹拌及び高剪断条件のもと約１２０℃から２３０℃まで
の段階的または一定昇温速度で温度を上げることで反応
させられる。
ポリマーとドープは公知の方法で合成される。例えばWo
lfeらの米国特許第4,533,693号明細書（1985,8,6）、Sy
bertらの米国特許第4,772,678号明細書（1988,9,22）、
Harrisの米国特許第4,847,350号明細書（1989,7,11）ま
たはGregoryらの米国特許第5,089,591号明細書（1992,
2,18）に記載されている。要約すると、好適なモノマー
は非酸化性で脱水性の酸溶液中、非酸化性雰囲気で高速
撹拌及び高剪断条件のもと約１２０℃から２３０℃まで
の段階的または一定昇温速度で温度を上げることで反応
させられる。
【００２２】次に本発明において配合される構造式
［１］で示されるアントラキノン化合物（以下耐候剤と
もいう）の具体例としては、１−アミノアントラキノ
ン、２−アミノアントラキノン、１，４−ジアミノアン
トラキノン、１，２−ジアミノアントラキノン、１，５
−ジアミノアントラキノン、１，６−ジアミノアントラ
キノン、１，７−ジアミノアントラキノン、１，８−ジ
アミノアントラキノン、２，３−ジアミノアントラキノ
ン、１，３−ジアミノアントラキノン、２，６−ジアミ
ノアントラキノン、２，７−ジアミノアントラキノン、
１−アミノ−２−フェノキシアントラキノン、１，４−
ジアミノ−２，３−ジフェノキシアントラキノン、１，
８−ジヒドロキシ−４，５−ジアミノアントラキノン、
１−アミノ２−フェニルオキシキシ−４−ヒドロキシア
ントラキノン、１−ヒドロキシ−２−フェノキシ−４−
アミノアントラキノン、１−ヒドロキシ−３−ベンジル
オキシ−４−アミノアントラキノン、１−ヒドロキシ−
３−メトキシ−４−アミノアントラキノン、１，８−ジ
アミノ−２，７−ジフェノキシアントラキノン、１，５
−ジアミノ−２，６−ジフェノキシアントラキノン、
１，４−ジアミノ−２，３−ジトリロキシアントラキノ
ン、１，４−ジアミノ−ジ−ｐ−クメニルオキシアント
ラキノン、１−ヒドロキシ−３−トリロキシ−４−アミ
ノアントラキノン、１−ヒドロキシ−３−（１−ナフト
キシ）−４−アミノアントラキノン、１−ヒドロキシ−
３−（２−ナフトキシ）−４−アミノアントラキノン、
１−アミノ−４−ヒドロキシアントラキノン、１−アミ
ノ−２−メチルアントラキノン、１，４−ビス（イソプ
ロピルアミノ）アントラキノン、１，４−ビス（ｎ‐ブ
チルアミノ）アントラキノン、１，４−ビス（メチルア
ミノ）アントラキノン、１−ヒドロキシー４−（ｐ−ト
ルイジノ）アントラキノン、１，４−ジアミノー２，３
−ジクロロアントラキノン、１−アミノー２−ブロモー
４−ヒドロキシアントラキノン、１，４−ビス（ｐ−ト
ルイジノ）アントラキノン、１，４−ジアミノ２，３−
ジヒドロキシアントラキノン等が挙げられる。また、こ
れらの化合物の１つまたは２つ以上の化合物との併用も
あり得る。添加量はポリベンザゾールに対して０.０１
重量％〜２０重量％、好ましくは０.１重量％〜１５重
量％である。
［１］で示されるアントラキノン化合物（以下耐候剤と
もいう）の具体例としては、１−アミノアントラキノ
ン、２−アミノアントラキノン、１，４−ジアミノアン
トラキノン、１，２−ジアミノアントラキノン、１，５
−ジアミノアントラキノン、１，６−ジアミノアントラ
キノン、１，７−ジアミノアントラキノン、１，８−ジ
アミノアントラキノン、２，３−ジアミノアントラキノ
ン、１，３−ジアミノアントラキノン、２，６−ジアミ
ノアントラキノン、２，７−ジアミノアントラキノン、
１−アミノ−２−フェノキシアントラキノン、１，４−
ジアミノ−２，３−ジフェノキシアントラキノン、１，
８−ジヒドロキシ−４，５−ジアミノアントラキノン、
１−アミノ２−フェニルオキシキシ−４−ヒドロキシア
ントラキノン、１−ヒドロキシ−２−フェノキシ−４−
アミノアントラキノン、１−ヒドロキシ−３−ベンジル
オキシ−４−アミノアントラキノン、１−ヒドロキシ−
３−メトキシ−４−アミノアントラキノン、１，８−ジ
アミノ−２，７−ジフェノキシアントラキノン、１，５
−ジアミノ−２，６−ジフェノキシアントラキノン、
１，４−ジアミノ−２，３−ジトリロキシアントラキノ
ン、１，４−ジアミノ−ジ−ｐ−クメニルオキシアント
ラキノン、１−ヒドロキシ−３−トリロキシ−４−アミ
ノアントラキノン、１−ヒドロキシ−３−（１−ナフト
キシ）−４−アミノアントラキノン、１−ヒドロキシ−
３−（２−ナフトキシ）−４−アミノアントラキノン、
１−アミノ−４−ヒドロキシアントラキノン、１−アミ
ノ−２−メチルアントラキノン、１，４−ビス（イソプ
ロピルアミノ）アントラキノン、１，４−ビス（ｎ‐ブ
チルアミノ）アントラキノン、１，４−ビス（メチルア
ミノ）アントラキノン、１−ヒドロキシー４−（ｐ−ト
ルイジノ）アントラキノン、１，４−ジアミノー２，３
−ジクロロアントラキノン、１−アミノー２−ブロモー
４−ヒドロキシアントラキノン、１，４−ビス（ｐ−ト
ルイジノ）アントラキノン、１，４−ジアミノ２，３−
ジヒドロキシアントラキノン等が挙げられる。また、こ
れらの化合物の１つまたは２つ以上の化合物との併用も
あり得る。添加量はポリベンザゾールに対して０.０１
重量％〜２０重量％、好ましくは０.１重量％〜１５重
量％である。
【００２３】前記構造式［１］で表されるアントラキノ
ン化合物の還元方法としてはメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコールを溶媒とし、アントラキノ
ン化合物と等量以上の水素化ホウ素ナトリウムを用いて
室温から溶媒の沸点の間で反応させる方法、水酸化ナト
リウム等の塩基性水溶液を溶媒としてハイドロサルファ
イトを用いて、室温から溶媒の沸点の間で反応させる方
法等を採用することができる。還元後、この溶液にポリ
ベンザゾール繊維、フィルム成型物を浸け、アントラキ
ノン化合物の還元体を付与、水洗後、過酸化水素水や空
気酸化等により酸化し、発色させる。勿論本発明技術内
容はこれらに限定されるものではない。
ン化合物の還元方法としてはメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコールを溶媒とし、アントラキノ
ン化合物と等量以上の水素化ホウ素ナトリウムを用いて
室温から溶媒の沸点の間で反応させる方法、水酸化ナト
リウム等の塩基性水溶液を溶媒としてハイドロサルファ
イトを用いて、室温から溶媒の沸点の間で反応させる方
法等を採用することができる。還元後、この溶液にポリ
ベンザゾール繊維、フィルム成型物を浸け、アントラキ
ノン化合物の還元体を付与、水洗後、過酸化水素水や空
気酸化等により酸化し、発色させる。勿論本発明技術内
容はこれらに限定されるものではない。
【００２４】次に、前記本発明繊維を製造する方法とし
ては、通常の方法を採用することができ、例えば、ドー
プを紡糸口金から押し出し、空間で引き伸ばしてフィラ
メントに形成される。好適な製造法は先に述べた参考文
献や米国特許第5,034,250号明細書に記載されている方
法を採用することができる。紡糸口金を出たドープは紡
糸口金と洗浄バス間の空間に入る。この空間は一般にエ
アギャップと呼ばれているが、空気である必要はない。
この空間は、溶媒を除去したり、ドープと反応しない溶
媒で満たされている必要があり、例えば空気、窒素、ア
ルゴン、ヘリウム、二酸化炭素等が挙げられる。
ては、通常の方法を採用することができ、例えば、ドー
プを紡糸口金から押し出し、空間で引き伸ばしてフィラ
メントに形成される。好適な製造法は先に述べた参考文
献や米国特許第5,034,250号明細書に記載されている方
法を採用することができる。紡糸口金を出たドープは紡
糸口金と洗浄バス間の空間に入る。この空間は一般にエ
アギャップと呼ばれているが、空気である必要はない。
この空間は、溶媒を除去したり、ドープと反応しない溶
媒で満たされている必要があり、例えば空気、窒素、ア
ルゴン、ヘリウム、二酸化炭素等が挙げられる。
【００２５】紡糸後のフィラメントは、過度の延伸を避
けるために洗浄され溶媒の一部が除去される。そして、
更に洗浄され、適宜水酸化ナトリウム等のアルカリで中
和され、ほとんどの溶媒は除去される。ここでいう洗浄
とは、繊維またはフィラメントをポリベンザゾールポリ
マーを溶解している酸溶媒に対し相溶性であり、ポリベ
ンザゾールポリマーに対して溶媒とならない液体に接触
させ、ドープから酸溶媒を除去することである。好適な
洗浄液体としては、水や水と酸溶媒との混合物等があ
る。フィラメントは、好ましくは残留濃度が８０００ｐ
ｐｍ以下、更に好ましくは５０００ｐｐｍ以下に洗浄さ
れる。その後、フィラメントは、乾燥、熱処理、巻き取
り等が必要に応じて行われる。ポリベンザゾール繊維は
ロープ、ケーブル、繊維強化複合材料または耐切創衣料
等に応用可能である。
けるために洗浄され溶媒の一部が除去される。そして、
更に洗浄され、適宜水酸化ナトリウム等のアルカリで中
和され、ほとんどの溶媒は除去される。ここでいう洗浄
とは、繊維またはフィラメントをポリベンザゾールポリ
マーを溶解している酸溶媒に対し相溶性であり、ポリベ
ンザゾールポリマーに対して溶媒とならない液体に接触
させ、ドープから酸溶媒を除去することである。好適な
洗浄液体としては、水や水と酸溶媒との混合物等があ
る。フィラメントは、好ましくは残留濃度が８０００ｐ
ｐｍ以下、更に好ましくは５０００ｐｐｍ以下に洗浄さ
れる。その後、フィラメントは、乾燥、熱処理、巻き取
り等が必要に応じて行われる。ポリベンザゾール繊維は
ロープ、ケーブル、繊維強化複合材料または耐切創衣料
等に応用可能である。
【００２６】また本発明フィルムを製造する方法として
は、典型的には米国特許第４，４８７，７３５号明細書
等に記載されているように粘稠なドープを回転ドラム上
に押し出すことにより一軸配向フィルムができる。これ
をチューブとして押し出し、マンドレル上で吹き込みま
たは押し込むことにより二軸配向させる。次いで水中に
浸して凝固させることにより、フィルムを形成させるこ
とができる。そして、更に洗浄することにより溶媒を除
去することができる。
は、典型的には米国特許第４，４８７，７３５号明細書
等に記載されているように粘稠なドープを回転ドラム上
に押し出すことにより一軸配向フィルムができる。これ
をチューブとして押し出し、マンドレル上で吹き込みま
たは押し込むことにより二軸配向させる。次いで水中に
浸して凝固させることにより、フィルムを形成させるこ
とができる。そして、更に洗浄することにより溶媒を除
去することができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】本発明組成物を得る方法として、
つまり前記耐光剤をポリベンザゾールに含有させる方法
としては特に限定されず、ポリベンザゾールの重合段
階、ドープの洗浄段階、乾燥工程前、または後加工段階
で含有させることができる。ポリベンザゾールの重合段
階での耐光剤の付与の方法としては、原料を仕込む際に
同時に耐光剤を仕込む方法、段階的または一定昇温速度
で温度を上げて反応させている任意の時点で耐光剤を添
加する方法、また、重合反応終了時に耐光剤を添加する
方法が好ましい。
つまり前記耐光剤をポリベンザゾールに含有させる方法
としては特に限定されず、ポリベンザゾールの重合段
階、ドープの洗浄段階、乾燥工程前、または後加工段階
で含有させることができる。ポリベンザゾールの重合段
階での耐光剤の付与の方法としては、原料を仕込む際に
同時に耐光剤を仕込む方法、段階的または一定昇温速度
で温度を上げて反応させている任意の時点で耐光剤を添
加する方法、また、重合反応終了時に耐光剤を添加する
方法が好ましい。
【００２８】ポリベンザゾールのドープの洗浄段階また
は乾燥工程前での耐光剤の付与の方法としては、水また
は有機溶媒に耐光剤を溶解し、または耐光剤の還元体を
含むアルカリ水溶液にドープ、フィラメントまたはフィ
ルムを浸漬する方法等を採用することができる。なお剛
直な構造となった後加工段階での付与の方法としては、
水に不溶の耐光剤を有機溶媒に溶解し、マルチフィラメ
ント、ステープル、ファブリック等を浸漬し、後に水洗
浄して溶媒だけを除き、表面及びダメージを受けて形成
したキンクバンド内部に耐光剤を析出させる方法、アル
カリ溶液に溶解する耐光剤をアルカリ水溶液に溶解し、
マルチフィラメント、ステープル、ファブリック、フィ
ルムを浸漬し、後に水もしくは弱酸（例えば酢酸）で洗
浄し、キンクバンド内部及び表面に耐光剤を析出させる
方法、耐光剤を還元しアルカリ水溶液に溶解し、マルチ
フィラメント、ステープル、ファブリック、フィルムを
浸漬し、後に水もしくは弱酸（例えば酢酸）で洗浄し、
キンクバンド内部及び表面に耐光剤を析出させる方法等
を採用することができる。耐光剤を賦与する場合の浸漬
時間は０．１秒以上、好ましくは１秒以上であれば何秒
でも充分量の耐光剤を賦与することが出来る。また、２
種類以上の耐光剤の同時添加も可能である。
は乾燥工程前での耐光剤の付与の方法としては、水また
は有機溶媒に耐光剤を溶解し、または耐光剤の還元体を
含むアルカリ水溶液にドープ、フィラメントまたはフィ
ルムを浸漬する方法等を採用することができる。なお剛
直な構造となった後加工段階での付与の方法としては、
水に不溶の耐光剤を有機溶媒に溶解し、マルチフィラメ
ント、ステープル、ファブリック等を浸漬し、後に水洗
浄して溶媒だけを除き、表面及びダメージを受けて形成
したキンクバンド内部に耐光剤を析出させる方法、アル
カリ溶液に溶解する耐光剤をアルカリ水溶液に溶解し、
マルチフィラメント、ステープル、ファブリック、フィ
ルムを浸漬し、後に水もしくは弱酸（例えば酢酸）で洗
浄し、キンクバンド内部及び表面に耐光剤を析出させる
方法、耐光剤を還元しアルカリ水溶液に溶解し、マルチ
フィラメント、ステープル、ファブリック、フィルムを
浸漬し、後に水もしくは弱酸（例えば酢酸）で洗浄し、
キンクバンド内部及び表面に耐光剤を析出させる方法等
を採用することができる。耐光剤を賦与する場合の浸漬
時間は０．１秒以上、好ましくは１秒以上であれば何秒
でも充分量の耐光剤を賦与することが出来る。また、２
種類以上の耐光剤の同時添加も可能である。
【００２９】水洗後、１００℃以上、通常３００℃以下
で乾燥することにより耐光剤を固定する。熱処理後の引
っ張り強度保持率は、耐光剤を付与していないポリベン
ザゾール成型体に対して８０％以上を有し、熱処理によ
るポリマーへの悪影響は少ない。
で乾燥することにより耐光剤を固定する。熱処理後の引
っ張り強度保持率は、耐光剤を付与していないポリベン
ザゾール成型体に対して８０％以上を有し、熱処理によ
るポリマーへの悪影響は少ない。
【００３０】繊維内部においての耐光剤化合物の化学的
な存在状態や作用については明確にはわかっていない。
着色による遮光性と、長い共役系をもち、酸化還元電位
の小さい耐光剤の電子供与性あるいはラジカル捕捉性、
あるいはポリマーとの反応、配位による安定化と推定さ
れるが、本発明はこの考察に拘束されるものではない。
な存在状態や作用については明確にはわかっていない。
着色による遮光性と、長い共役系をもち、酸化還元電位
の小さい耐光剤の電子供与性あるいはラジカル捕捉性、
あるいはポリマーとの反応、配位による安定化と推定さ
れるが、本発明はこの考察に拘束されるものではない。
【００３１】
【実施例】以下に実施例を用いて本発明を具体的に説明
するが、本発明はもとより下記の実施例によって制限を
受けるものではなく、前後記の主旨に適合し得る範囲で
適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、そ
れらはいずれも本発明の技範囲に含まれる。なお実施例
における各特性値は、以下の方法によって測定した。 １）繊維の耐光性の評価：光暴露の前後での繊維の強度
保持率を測定することで評価した。光暴露試験はアトラ
ス社製水冷キセノンアーク式ウェザーメーター（型式Ｃ
ｉ３５Ａ）を用いた。金属フレームに繊維を巻き付けて
装置にセットし、内側フィルターガラスに石英、外側フ
ィルターガラスにポロシケート、タイプＳを使用し、放
射照度０．３５Ｗ／ｍ2（ａｔ ３４０ｎｍ）、ブラッ
クパネル温度８３±３℃、試験糟内湿度５０±５％の条
件下にて１００時間連続運転を行った。強度保持率は、
光暴露前後の繊維強度をＪＩＳ#Ｌ１０１３に準じてテ
ンシロン試験機（Ａ＆Ｄ社製、型式ＲＴＭ２５０）にて
測定し、暴露試験後の繊維強度値を暴露試験前の未耐光
剤処理の繊維強度値で除して求めた。 ２）フィルムの耐光性の評価：フィルム状ポリベンザゾ
ールに対してキセノン光照射を行った後、顕微ＡＴＲ法
により表面の赤外吸収スペクトルを測定した。キセノン
光照射前後に共通の１６２０ｃｍ-1の吸収強度でキセノ
ン光照射後に新たに現れる１６８０ｃｍ-1の吸収強度を
規格化した。
するが、本発明はもとより下記の実施例によって制限を
受けるものではなく、前後記の主旨に適合し得る範囲で
適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、そ
れらはいずれも本発明の技範囲に含まれる。なお実施例
における各特性値は、以下の方法によって測定した。 １）繊維の耐光性の評価：光暴露の前後での繊維の強度
保持率を測定することで評価した。光暴露試験はアトラ
ス社製水冷キセノンアーク式ウェザーメーター（型式Ｃ
ｉ３５Ａ）を用いた。金属フレームに繊維を巻き付けて
装置にセットし、内側フィルターガラスに石英、外側フ
ィルターガラスにポロシケート、タイプＳを使用し、放
射照度０．３５Ｗ／ｍ2（ａｔ ３４０ｎｍ）、ブラッ
クパネル温度８３±３℃、試験糟内湿度５０±５％の条
件下にて１００時間連続運転を行った。強度保持率は、
光暴露前後の繊維強度をＪＩＳ#Ｌ１０１３に準じてテ
ンシロン試験機（Ａ＆Ｄ社製、型式ＲＴＭ２５０）にて
測定し、暴露試験後の繊維強度値を暴露試験前の未耐光
剤処理の繊維強度値で除して求めた。 ２）フィルムの耐光性の評価：フィルム状ポリベンザゾ
ールに対してキセノン光照射を行った後、顕微ＡＴＲ法
により表面の赤外吸収スペクトルを測定した。キセノン
光照射前後に共通の１６２０ｃｍ-1の吸収強度でキセノ
ン光照射後に新たに現れる１６８０ｃｍ-1の吸収強度を
規格化した。
【００３２】実施例1 ３０℃のメタンスルホン酸溶液で測定した固有粘度が２
５ｄＬ／ｇのポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル１２重量％と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から
成る紡糸ドープを、紡糸温度１５０℃で孔径１６０ミク
ロン、孔数３４０のノズルからフィラメントを適当な位
置で収束させてマルチフィラメントにするように配置さ
れた第１洗浄浴中に押し出した。紡糸ノズルと第１洗浄
浴の間のエアギャップには、より均一な温度でフィラメ
ントが引き伸ばされるようにクエンチチャンバーを設置
し、エアギャップ長は３０ｃｍとした。次いで、６０℃
の空気中にフィラメントを紡出した。テークアップ速度
を２００ｍ／分とし、紡糸延伸倍率を３０とし、フィラ
メント径が１１．５ミクロン、１．５デニールの繊維を
得た。なおポリベンザゾール繊維中の残留リン酸濃度が
５０００ｐｐｍ以下になるまで水洗した。得られた繊維
を１−アミノアントラキノン３ｇをメタノール３０ｍＬ
中で水素化ホウ素ナトリウム２．１ｇを用いて５０℃で
撹拌して還元して得られた浴中に１分間浸し、希酢酸お
よび水で洗浄後、２００℃で１分間乾燥した。このよう
にして得られた糸の光暴露試験を行った結果を表１に示
す。
５ｄＬ／ｇのポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル１２重量％と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から
成る紡糸ドープを、紡糸温度１５０℃で孔径１６０ミク
ロン、孔数３４０のノズルからフィラメントを適当な位
置で収束させてマルチフィラメントにするように配置さ
れた第１洗浄浴中に押し出した。紡糸ノズルと第１洗浄
浴の間のエアギャップには、より均一な温度でフィラメ
ントが引き伸ばされるようにクエンチチャンバーを設置
し、エアギャップ長は３０ｃｍとした。次いで、６０℃
の空気中にフィラメントを紡出した。テークアップ速度
を２００ｍ／分とし、紡糸延伸倍率を３０とし、フィラ
メント径が１１．５ミクロン、１．５デニールの繊維を
得た。なおポリベンザゾール繊維中の残留リン酸濃度が
５０００ｐｐｍ以下になるまで水洗した。得られた繊維
を１−アミノアントラキノン３ｇをメタノール３０ｍＬ
中で水素化ホウ素ナトリウム２．１ｇを用いて５０℃で
撹拌して還元して得られた浴中に１分間浸し、希酢酸お
よび水で洗浄後、２００℃で１分間乾燥した。このよう
にして得られた糸の光暴露試験を行った結果を表１に示
す。
【００３３】実施例２ 実施例１において１−アミノアントラキノンの代わりに
１，４−ジアミノアントラキノン３．２ｇを用いた他は
同様にして、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表１に示す。
１，４−ジアミノアントラキノン３．２ｇを用いた他は
同様にして、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表１に示す。
【００３４】実施例３ 実施例１において１−アミノアントラキノンの代わりに
１−アミノ−４−ヒドロキシアントラキノン３．２を用
いた他は同様にして、ポリパラフェニレンベンゾビスオ
キサゾール繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表１
に示す。
１−アミノ−４−ヒドロキシアントラキノン３．２を用
いた他は同様にして、ポリパラフェニレンベンゾビスオ
キサゾール繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表１
に示す。
【００３５】実施例４ 実施例１において１−アミノアントラキノンの代わりに
１，４−ビス（ｎ‐ブチルアミノ）アントラキノン４．
７ｇを用いた他は同様にして、ポリパラフェニレンベン
ゾビスオキサゾール繊維を得た。光暴露試験を行った結
果を表１に示す。
１，４−ビス（ｎ‐ブチルアミノ）アントラキノン４．
７ｇを用いた他は同様にして、ポリパラフェニレンベン
ゾビスオキサゾール繊維を得た。光暴露試験を行った結
果を表１に示す。
【００３６】実施例５ 実施例１において１−アミノアントラキノンの代わりに
１、４−ジアミノー２，３−ジフェニルオキシアントラ
キノン５．７ｇを用いた他は同様にしてポリパラフェニ
レンベンゾビスオキサゾール繊維を得た。光暴露試験を
行った結果を表１に示す。
１、４−ジアミノー２，３−ジフェニルオキシアントラ
キノン５．７ｇを用いた他は同様にしてポリパラフェニ
レンベンゾビスオキサゾール繊維を得た。光暴露試験を
行った結果を表１に示す。
【００３７】実施例６ 実施例１において１−アミノアントラキノンの代わりに
１−アミノ−２−フェニルオキシ−４−ヒドロキシアン
トラキノン４．４ｇを用いた他は同様にして、ポリパラ
フェニレンベンゾビスオキサゾール繊維を得た。光暴露
試験を行った結果を表１に示す。
１−アミノ−２−フェニルオキシ−４−ヒドロキシアン
トラキノン４．４ｇを用いた他は同様にして、ポリパラ
フェニレンベンゾビスオキサゾール繊維を得た。光暴露
試験を行った結果を表１に示す。
【００３８】実施例７ 実施例１において１−アミノアントラキノンの代わりに
１−アミノ−２−ブロモ−４−ヒドロキシアントラキノ
ン４．３ｇを用いた他は同様にして、ポリパラフェニレ
ンベンゾビスオキサゾール繊維を得た。光暴露試験を行
った結果を表１に示す。
１−アミノ−２−ブロモ−４−ヒドロキシアントラキノ
ン４．３ｇを用いた他は同様にして、ポリパラフェニレ
ンベンゾビスオキサゾール繊維を得た。光暴露試験を行
った結果を表１に示す。
【００３９】実施例８ 実施例６において水素化ホウ素ナトリウムおよびメタノ
ールの代わりにハイドロサルファイト１１．７ｇ、５％
水酸化ナトリウム水溶液３０ｍｌを用いた他は同様にし
てポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール繊維を得
た。光暴露試験を行った結果を表１に示す。
ールの代わりにハイドロサルファイト１１．７ｇ、５％
水酸化ナトリウム水溶液３０ｍｌを用いた他は同様にし
てポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール繊維を得
た。光暴露試験を行った結果を表１に示す。
【００４０】実施例９ 実施例８において１−アミノ−２−フェニルオキシ−４
−ヒドロキシアントラキノンの代わりに１、４−ジアミ
ノー２，３−ジフェニルオキシアントラキノン５．７ｇ
を用いた他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾビス
オキサゾール繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表
１に示した。
−ヒドロキシアントラキノンの代わりに１、４−ジアミ
ノー２，３−ジフェニルオキシアントラキノン５．７ｇ
を用いた他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾビス
オキサゾール繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表
１に示した。
【００４１】実施例１０ 実施例８において１−アミノ−２−フェニルオキシ−４
−ヒドロキシアントラキノンの代わりに１‐アミノー２
‐ブロモー４−ヒドロキシアントラキノン４．３ｇを用
いた他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾビスオキ
サゾール繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表１に
示す。
−ヒドロキシアントラキノンの代わりに１‐アミノー２
‐ブロモー４−ヒドロキシアントラキノン４．３ｇを用
いた他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾビスオキ
サゾール繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表１に
示す。
【００４２】実施例１１ 実施例８において１−アミノ−２−フェニルオキシ−４
−ヒドロキシアントラキノンの代わりに１、４−ジアミ
ノー２，３−ジクロロアントラキノン４．２ｇを用いた
他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾ
ール繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表１に示
す。
−ヒドロキシアントラキノンの代わりに１、４−ジアミ
ノー２，３−ジクロロアントラキノン４．２ｇを用いた
他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾ
ール繊維を得た。光暴露試験を行った結果を表１に示
す。
【００４３】実施例1２ 実施例８においてポリパラフェニレンベンゾビスオキサ
ゾールの代わりにポリパラフェニレンベンゾビスチアゾ
ールを用いた他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾ
ビスチアゾール繊維を得た。この繊維の光暴露試験を行
った結果を表１に示す。
ゾールの代わりにポリパラフェニレンベンゾビスチアゾ
ールを用いた他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾ
ビスチアゾール繊維を得た。この繊維の光暴露試験を行
った結果を表１に示す。
【００４４】実施例1３ 実施例８においてポリパラフェニレンベンゾビスオキサ
ゾールの代わりにポリメタフェニレンベンゾビスチアゾ
ールを用いた他は同様にしてポリメタフェニレンベンゾ
ビスチアゾール繊維を得た。この繊維の光暴露試験を行
った結果を表１に示す。
ゾールの代わりにポリメタフェニレンベンゾビスチアゾ
ールを用いた他は同様にしてポリメタフェニレンベンゾ
ビスチアゾール繊維を得た。この繊維の光暴露試験を行
った結果を表１に示す。
【００４５】実施例1４ 実施例８においてポリパラフェニレンベンゾビスオキサ
ゾールの代わりにポリ（２，５−ベンゾオキサゾール）
を用いた他は同様にしてポリ（２，５−ベンゾオキサゾ
ール）繊維を得た。この繊維の光暴露試験を行った結果
を表１に示す。
ゾールの代わりにポリ（２，５−ベンゾオキサゾール）
を用いた他は同様にしてポリ（２，５−ベンゾオキサゾ
ール）繊維を得た。この繊維の光暴露試験を行った結果
を表１に示す。
【００４６】実施例1５ 実施例８においてポリパラフェニレンベンゾビスオキサ
ゾールの代わりにポリ（２，６−ベンゾチアゾール）を
用いた他は同様にしてポリ（２，６−ベンゾチアゾー
ル）繊維を得た。この繊維の光暴露試験を行った結果を
表１に示す。
ゾールの代わりにポリ（２，６−ベンゾチアゾール）を
用いた他は同様にしてポリ（２，６−ベンゾチアゾー
ル）繊維を得た。この繊維の光暴露試験を行った結果を
表１に示す。
【００４７】比較例1 ３０℃のメタンスルホン酸溶液で測定した固有粘度が２
５ｄＬ／ｇのポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル１２重量％と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から
成る紡糸ドープを前述の方法により紡糸した。この糸を
水で洗浄後、２００℃で１分間乾燥した。このようにし
て得られた糸の光暴露試験を行った結果を表１に示す。
５ｄＬ／ｇのポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル１２重量％と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から
成る紡糸ドープを前述の方法により紡糸した。この糸を
水で洗浄後、２００℃で１分間乾燥した。このようにし
て得られた糸の光暴露試験を行った結果を表１に示す。
【００４８】
【表１】
【００４９】実施例1６ ３０℃のメタンスルホン酸溶液で測定した固有粘度が２
５ｄＬ／ｇのポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル１２重量％と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から
成るドープを、ポリベンザゾールのリン酸溶液（ポリマ
ードープ）を調製後、ヒートプレス機で２００℃、１５
０ｋｇ／ｃｍ2の条件下でテフロン（登録商標）シート
に挟んだ状態でプレスした。その後、シートを残留リン
酸濃度が５０００ｐｐｍ以下になるまで水洗して、フィ
ルムを得た。得られたフィルムを１−アミノアントラキ
ノン３ｇをメタノール３０ｍＬ中で水素化ホウ素ナトリ
ウム２．１ｇを用いて５０℃で撹拌して還元して得られ
た浴中に１分間浸し、希酢酸および水で洗浄後、２００
℃で１分間乾燥した。このようにして得られたフィルム
の光暴露試験を行った結果を表２に示す。
５ｄＬ／ｇのポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル１２重量％と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から
成るドープを、ポリベンザゾールのリン酸溶液（ポリマ
ードープ）を調製後、ヒートプレス機で２００℃、１５
０ｋｇ／ｃｍ2の条件下でテフロン（登録商標）シート
に挟んだ状態でプレスした。その後、シートを残留リン
酸濃度が５０００ｐｐｍ以下になるまで水洗して、フィ
ルムを得た。得られたフィルムを１−アミノアントラキ
ノン３ｇをメタノール３０ｍＬ中で水素化ホウ素ナトリ
ウム２．１ｇを用いて５０℃で撹拌して還元して得られ
た浴中に１分間浸し、希酢酸および水で洗浄後、２００
℃で１分間乾燥した。このようにして得られたフィルム
の光暴露試験を行った結果を表２に示す。
【００５０】実施例1７ 実施例１６において１−アミノアントラキノンの代わり
に１，４−ジアミノアントラキノン３．２ｇを用いた他
は実施例１６と同様にして、ポリパラフェニレンベンゾ
ビスオキサゾールのフィルムを得た。このフィルムの光
暴露試験を行った結果を表２に示す。
に１，４−ジアミノアントラキノン３．２ｇを用いた他
は実施例１６と同様にして、ポリパラフェニレンベンゾ
ビスオキサゾールのフィルムを得た。このフィルムの光
暴露試験を行った結果を表２に示す。
【００５１】実施例1８ 実施例１６において１−アミノアントラキノンの代わり
に１，４−ジアミノー２，３−ジフェニルオキシアント
ラキノン５．７ｇを用いた他は実施例１６と同様にし
て、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾールのフィ
ルムを得た。このフィルムの光暴露試験を行った結果を
表２に示す。
に１，４−ジアミノー２，３−ジフェニルオキシアント
ラキノン５．７ｇを用いた他は実施例１６と同様にし
て、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾールのフィ
ルムを得た。このフィルムの光暴露試験を行った結果を
表２に示す。
【００５２】実施例1９ 実施例１６において１−アミノアントラキノンの代わり
に１−アミノー２−フェニルオキシー４−ヒドロキシア
ントラキノン４．４ｇを用いた他は実施例１６と同様に
して、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾールのフ
ィルムを得た。このフィルムの光暴露試験を行った結果
を表２に示す。
に１−アミノー２−フェニルオキシー４−ヒドロキシア
ントラキノン４．４ｇを用いた他は実施例１６と同様に
して、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾールのフ
ィルムを得た。このフィルムの光暴露試験を行った結果
を表２に示す。
【００５３】実施例２０ 実施例１６においてポリパラフェニレンベンゾビスオキ
サゾールの代わりにポリパラフェニレンベンゾビスチア
ゾールを用いた他は実施例１６と同様にして、ポリパラ
フェニレンベンゾビスチアゾールのフィルムを得た。こ
のフィルムの光暴露試験を行った結果を表２に示す。
サゾールの代わりにポリパラフェニレンベンゾビスチア
ゾールを用いた他は実施例１６と同様にして、ポリパラ
フェニレンベンゾビスチアゾールのフィルムを得た。こ
のフィルムの光暴露試験を行った結果を表２に示す。
【００５４】実施例２１ ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール１２重量％
と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から成るドープを
前述の方法によりフィルム状にした。このフィルム状物
質を１−アミノアントラキノン３ｇを５％水酸化ナトリ
ウム水溶液３０ｍｌを用いて５０℃で撹拌し還元して得
られた浴中に１分間浸し、希酢酸および水で洗浄後、２
００℃で１分間乾燥した。このようにして得られたフィ
ルムの光暴露試験を行った結果を表２に示す。
と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から成るドープを
前述の方法によりフィルム状にした。このフィルム状物
質を１−アミノアントラキノン３ｇを５％水酸化ナトリ
ウム水溶液３０ｍｌを用いて５０℃で撹拌し還元して得
られた浴中に１分間浸し、希酢酸および水で洗浄後、２
００℃で１分間乾燥した。このようにして得られたフィ
ルムの光暴露試験を行った結果を表２に示す。
【００５５】実施例２２ 実施例２１において１−アミノアントラキノンの代わり
に１，４−ジアミノー２，３−ジフェニルオキシアント
ラキノン５．７ｇを用いた他は同様にしてポリパラフェ
ニレンベンゾビスオキサゾールのフィルムを得た。この
フィルムの光暴露試験を行った結果を表２に示す。
に１，４−ジアミノー２，３−ジフェニルオキシアント
ラキノン５．７ｇを用いた他は同様にしてポリパラフェ
ニレンベンゾビスオキサゾールのフィルムを得た。この
フィルムの光暴露試験を行った結果を表２に示す。
【００５６】実施例２３ 実施例２１において１−アミノアントラキノンの代わり
に１−アミノー２−フェニルオキシー４−ヒドロキシア
ントラキノン４．４ｇを用いた他は同様にしてポリパラ
フェニレンベンゾビスオキサゾールのフィルムを得た。
このフィルムの光暴露試験を行った結果を表２に示す。
に１−アミノー２−フェニルオキシー４−ヒドロキシア
ントラキノン４．４ｇを用いた他は同様にしてポリパラ
フェニレンベンゾビスオキサゾールのフィルムを得た。
このフィルムの光暴露試験を行った結果を表２に示す。
【００５７】実施例２４ 実施例２１において１−アミノアントラキノンの代わり
に１、４−ビス（メチルアミノ）アントラキノン３．６
ｇを用いた他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾビ
スオキサゾールのフィルムを得た。このフィルムの光暴
露試験を行った結果を表２に示す。
に１、４−ビス（メチルアミノ）アントラキノン３．６
ｇを用いた他は同様にしてポリパラフェニレンベンゾビ
スオキサゾールのフィルムを得た。このフィルムの光暴
露試験を行った結果を表２に示す。
【００５８】実施例２５ 実施例２１において１−アミノアントラキノンの代わり
に１、４−ビス（ｐ−トルイジノ）アントラキノンを用
いたほかは同様にしてポリパラフェニレンベンゾビスオ
キサゾールのフィルムを得た。このフィルムの光暴露試
験を行った結果を表２に示す。
に１、４−ビス（ｐ−トルイジノ）アントラキノンを用
いたほかは同様にしてポリパラフェニレンベンゾビスオ
キサゾールのフィルムを得た。このフィルムの光暴露試
験を行った結果を表２に示す。
【００５９】比較例２ ３０℃のメタンスルホン酸溶液で測定した固有粘度が２
５ｄＬ／ｇのポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル１２重量％と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から
成るドープを前述の方法によりフィルム状にした。水で
洗浄後、２００℃で１分間乾燥した。このようにして得
られたフィルムの光暴露試験を行った結果を表２に示
す。
５ｄＬ／ｇのポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾー
ル１２重量％と五酸化リン含有率８８％のポリ燐酸から
成るドープを前述の方法によりフィルム状にした。水で
洗浄後、２００℃で１分間乾燥した。このようにして得
られたフィルムの光暴露試験を行った結果を表２に示
す。
【００６０】
【表２】
【００６１】表１、２より明らかなように、構造式
［１］で表される化合物が付与されたポリベンザゾール
繊維およびフィルムは、酸化が抑制されていることが判
る。
［１］で表される化合物が付与されたポリベンザゾール
繊維およびフィルムは、酸化が抑制されていることが判
る。
【００６２】
【発明の効果】以上かかる構成よりなる本発明組成物、
繊維およびフィルムは、前記表１、２からも明らかなよ
うに、長時間太陽光に晒された後も酸化が少ないため、
その利用分野を飛躍的に拡大することができ、産業界に
寄与すること大である。
繊維およびフィルムは、前記表１、２からも明らかなよ
うに、長時間太陽光に晒された後も酸化が少ないため、
その利用分野を飛躍的に拡大することができ、産業界に
寄与すること大である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｄ０６Ｍ 13/335 Ｄ０６Ｍ 13/335 // Ｄ０６Ｍ 101:16 Ｆターム(参考） 4F071 AA60 AC07 AE05 AF57 AG06 AG07 AH19 BB06 BB07 BB08 BC01 4J002 CM031 EN096 FD046 GK01 4J043 RA52 RA57 YB04 YB13 YB21 YB32 ZA14 ZB04 ZB51 ZB53 4L033 AA06 AB01 AC15 BA11 BA57 DA00 DA02 4L035 BB02 BB07 BB22 BB91 EE07 FF01 JJ21 MD06 MD07
Claims (5)
- 【請求項１】ポリベンザゾールに、下記構造式［１］で
示されるアントラキノン化合物が１種類以上含有されて
いることを特徴とする耐光性ポリベンザゾール組成物。 【化１】 （ただし、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4〜Ｒ7はそれぞれ独立に、水素
原子、アミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハ
ロゲン原子を表す。Ｒ3は水素原子、アミノ基、置換ア
ミノ基、ヒドロキシル基、アリルオキシ基、ハロゲン原
子、アミノフェニル基を表す。Ｒ8は水素原子、炭素数
１〜８のアルキル基、アリル基、置換アリル基を表
す。） - 【請求項２】構造式［１］で示されるアントラキノン化
合物の含有量がポリベンザゾールドープに対して０．０
１〜１５重量％である請求項１記載の耐光性ポリベンザ
ゾール組成物。 - 【請求項３】構造式［１］で示されるアントラキノン化
合物をアルコール中で水素化ホウ素ナトリウムまたはア
ルカリ水溶液中でハイドロサルファイトを用いて還元
し、ポリベンザゾールに付与した後、酸化発色させるこ
とを特徴とする請求項１記載の耐光性ポリベンザゾール
組成物。 - 【請求項４】請求項１記載のポリベンザゾール組成物を
成形して得られる耐光性ポリベンザゾール繊維。 - 【請求項５】請求項１記載のポリベンザゾール組成物を
成形して得られる耐光性ポリベンザゾールフィルム。
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|---|---|---|---|
| JP18471599A JP2001011311A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 耐光性ポリベンザゾール組成物、その繊維およびフィルム |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18471599A JP2001011311A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 耐光性ポリベンザゾール組成物、その繊維およびフィルム |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001011311A true JP2001011311A (ja) | 2001-01-16 |
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ID=16158107
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18471599A Withdrawn JP2001011311A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 耐光性ポリベンザゾール組成物、その繊維およびフィルム |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001011311A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1999-06-30 JP JP18471599A patent/JP2001011311A/ja not_active Withdrawn
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