JP2000335934A - 光ファイバの製造装置及び製造方法 - Google Patents
光ファイバの製造装置及び製造方法Info
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
- C03B37/02718—Thermal treatment of the fibre during the drawing process, e.g. cooling
- C03B37/02727—Annealing or re-heating
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/40—Monitoring or regulating the draw tension or draw rate
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
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- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レイリー散乱強度を低減し、伝送損失の低い
光ファイバを製造するに際して、表面に樹脂が被覆され
た光ファイバ素線の量産に適用することが可能な光ファ
イバの製造方法を提供すること。 【解決手段】 線引き装置１は線引き炉１１、徐冷用加
熱炉２１及び樹脂硬化部３１を有している。線引き炉１
１にて加熱線引きされた光ファイバ３を徐冷用加熱炉２
１に送り、光ファイバ３の所定箇所を、所定の冷却速度
にて徐冷する。徐冷用加熱炉２１のヒータ２２の温度
は、炉中心の温度が１３００〜１６００℃の範囲内の温
度に設定されている。その後、光ファイバ３に、コーテ
ィングダイス５１によりＵＶ樹脂液５２を塗布し、樹脂
硬化部３１にてＵＶ樹脂が加熱硬化され、光ファイバ素
線４となる。
光ファイバを製造するに際して、表面に樹脂が被覆され
た光ファイバ素線の量産に適用することが可能な光ファ
イバの製造方法を提供すること。 【解決手段】 線引き装置１は線引き炉１１、徐冷用加
熱炉２１及び樹脂硬化部３１を有している。線引き炉１
１にて加熱線引きされた光ファイバ３を徐冷用加熱炉２
１に送り、光ファイバ３の所定箇所を、所定の冷却速度
にて徐冷する。徐冷用加熱炉２１のヒータ２２の温度
は、炉中心の温度が１３００〜１６００℃の範囲内の温
度に設定されている。その後、光ファイバ３に、コーテ
ィングダイス５１によりＵＶ樹脂液５２を塗布し、樹脂
硬化部３１にてＵＶ樹脂が加熱硬化され、光ファイバ素
線４となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レイリー散乱強度
の低減により、伝送損失が低くされた光ファイバの製造
装置及び製造方法に関する。
の低減により、伝送損失が低くされた光ファイバの製造
装置及び製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】レイリー散乱強度の低減により、伝送損
失が低くされた光ファイバの製造方法として、例えば特
開平１０−２５１２７号公報に記載されたものが知られ
ている。この製造方法は、光ファイバ母材を加熱線引き
して中間光ファイバを作製し、この中間光ファイバを再
加熱することにより熱処理を施すものであり、再加熱に
よりガラスの構造緩和（原子再配列）により仮想温度
（ガラス内の原子の配列状態の乱雑さが対応する温度）
を下げて、レイリー散乱強度の低減を図っている。
失が低くされた光ファイバの製造方法として、例えば特
開平１０−２５１２７号公報に記載されたものが知られ
ている。この製造方法は、光ファイバ母材を加熱線引き
して中間光ファイバを作製し、この中間光ファイバを再
加熱することにより熱処理を施すものであり、再加熱に
よりガラスの構造緩和（原子再配列）により仮想温度
（ガラス内の原子の配列状態の乱雑さが対応する温度）
を下げて、レイリー散乱強度の低減を図っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、加熱線
引きされた光ファイバを保護するため、線引き直後の光
ファイバの表面にＵＶ樹脂等を被覆しており、上述した
特開平１０−２５１２７号公報に記載された光ファイバ
の製造方法では、再加熱時の熱により光ファイバの表面
に被覆された樹脂が燃えてしまうため、光ファイバ素線
の量産に適したものではない。表面に樹脂を被覆しない
状態での光ファイバを再加熱することも考えられるが、
光ファイバ取り扱い時の傷付き等の問題から、量産の製
造方法として適用できるものではない。
引きされた光ファイバを保護するため、線引き直後の光
ファイバの表面にＵＶ樹脂等を被覆しており、上述した
特開平１０−２５１２７号公報に記載された光ファイバ
の製造方法では、再加熱時の熱により光ファイバの表面
に被覆された樹脂が燃えてしまうため、光ファイバ素線
の量産に適したものではない。表面に樹脂を被覆しない
状態での光ファイバを再加熱することも考えられるが、
光ファイバ取り扱い時の傷付き等の問題から、量産の製
造方法として適用できるものではない。
【０００４】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、レイリー散乱強度の低減により、伝送損失が低くさ
れた光ファイバを製造するに際して、表面に樹脂が被覆
された光ファイバ素線の量産に適用することが可能な光
ファイバの製造装置及び製造方法を提供することを目的
とする。
で、レイリー散乱強度の低減により、伝送損失が低くさ
れた光ファイバを製造するに際して、表面に樹脂が被覆
された光ファイバ素線の量産に適用することが可能な光
ファイバの製造装置及び製造方法を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、光ファイ
バ素線の量産に適用することが可能な光ファイバの製造
装置及び製造方法について鋭意研究を行った結果、レイ
リー散乱強度と線引き後の光ファイバの冷却速度との関
係について、以下のような事実を新たに見出した。
バ素線の量産に適用することが可能な光ファイバの製造
装置及び製造方法について鋭意研究を行った結果、レイ
リー散乱強度と線引き後の光ファイバの冷却速度との関
係について、以下のような事実を新たに見出した。
【０００６】高温のガラス内では熱エネルギーにより原
子は激しく振動しており、低温のガラスに比べて原子配
列は乱雑な状態となっている。高温のガラスをゆっくり
冷却した場合には、原子の再配列が許される温度範囲で
は、原子は各温度に対応した乱雑さに配列しながら冷却
されるので、ガラス内の原子の乱雑さは構造緩和が進行
する最低温度（１２００℃程度）に対応した状態とな
る。しかし、高温のガラスを急激に冷却した場合には、
原子配列が各温度に対応した平衡状態に達する前に冷却
固定されるために、徐冷した場合に比べて原子配列は乱
雑な状態となる。レイリー散乱強度は同一の物質でも原
子配列が乱雑な方が大きくなり、通常、線引き後に５０
００〜３００００℃／秒の冷却速度で冷却される光ファ
イバでは、バルクガラスに比べて原子配列が乱雑で、仮
想温度が高い状態になっており、これが原因でレイリー
散乱強度が大きくなっていると考えられる。
子は激しく振動しており、低温のガラスに比べて原子配
列は乱雑な状態となっている。高温のガラスをゆっくり
冷却した場合には、原子の再配列が許される温度範囲で
は、原子は各温度に対応した乱雑さに配列しながら冷却
されるので、ガラス内の原子の乱雑さは構造緩和が進行
する最低温度（１２００℃程度）に対応した状態とな
る。しかし、高温のガラスを急激に冷却した場合には、
原子配列が各温度に対応した平衡状態に達する前に冷却
固定されるために、徐冷した場合に比べて原子配列は乱
雑な状態となる。レイリー散乱強度は同一の物質でも原
子配列が乱雑な方が大きくなり、通常、線引き後に５０
００〜３００００℃／秒の冷却速度で冷却される光ファ
イバでは、バルクガラスに比べて原子配列が乱雑で、仮
想温度が高い状態になっており、これが原因でレイリー
散乱強度が大きくなっていると考えられる。
【０００７】一方、構造緩和に要する時間は温度が低く
なるほど長くなるため、例えば１２００℃程度ではその
温度に数十時間維持しておかないと構造緩和が起こらな
い。線引き後の光ファイバは、通常０．数秒で約２００
０℃から４００℃程度にまで冷却されるため、線引き工
程中の光ファイバが冷却される短時間の間に仮想温度を
低くして、 １２００℃に近づけるためには、１２
００℃よりも高温の状態で徐冷する必要がある。
なるほど長くなるため、例えば１２００℃程度ではその
温度に数十時間維持しておかないと構造緩和が起こらな
い。線引き後の光ファイバは、通常０．数秒で約２００
０℃から４００℃程度にまで冷却されるため、線引き工
程中の光ファイバが冷却される短時間の間に仮想温度を
低くして、 １２００℃に近づけるためには、１２
００℃よりも高温の状態で徐冷する必要がある。
【０００８】そこで、本発明者らは線引き後の光ファイ
バ温度及び冷却速度に着目して、純石英コアファイバの
温度が、上述した構造緩和が進行する最低温度（１２０
０℃程度）よりも高温且つ構造緩和が極めて短時間で進
行する１７００℃以下の１２００〜１７００℃になって
いる部分での冷却速度とレイリー散乱係数との関係を調
査した。その結果、純石英コアファイバの温度が１２０
０〜１７００℃となっている部分での冷却速度とレイリ
ー散乱係数との間には、図５に示されるような関係が存
在していることが確認された。なお、レイリー散乱強度
（Ｉ）は下記（１）式に示すように波長（λ）の４乗に
反比例する性質を有しており、この時の係数Ａをレイリ
ー散乱係数としている。 Ｉ＝Ａ／λ4 …………… （１）
バ温度及び冷却速度に着目して、純石英コアファイバの
温度が、上述した構造緩和が進行する最低温度（１２０
０℃程度）よりも高温且つ構造緩和が極めて短時間で進
行する１７００℃以下の１２００〜１７００℃になって
いる部分での冷却速度とレイリー散乱係数との関係を調
査した。その結果、純石英コアファイバの温度が１２０
０〜１７００℃となっている部分での冷却速度とレイリ
ー散乱係数との間には、図５に示されるような関係が存
在していることが確認された。なお、レイリー散乱強度
（Ｉ）は下記（１）式に示すように波長（λ）の４乗に
反比例する性質を有しており、この時の係数Ａをレイリ
ー散乱係数としている。 Ｉ＝Ａ／λ4 …………… （１）
【０００９】これらの結果から、加熱線引きされ、樹脂
が被覆される前の光ファイバ、特に光ファイバの温度が
１２００〜１７００℃となっている部分のうちの所定区
間での冷却速度を遅くすることにより、光ファイバのレ
イリー散乱強度を低減して、伝送損失を低くすることが
できるということが判明した。
が被覆される前の光ファイバ、特に光ファイバの温度が
１２００〜１７００℃となっている部分のうちの所定区
間での冷却速度を遅くすることにより、光ファイバのレ
イリー散乱強度を低減して、伝送損失を低くすることが
できるということが判明した。
【００１０】かかる研究結果を踏まえ、請求項１に記載
の本発明による光ファイバの製造装置は、光ファイバ母
材を加熱線引きし、線引きされた光ファイバを樹脂によ
り被覆する光ファイバの製造装置であって、光ファイバ
母材を加熱線引きする線引き炉と線引きされた光ファイ
バを樹脂により被覆する樹脂被覆部との間に、線引きさ
れた光ファイバを光ファイバの温度が１２００〜１７０
０℃の範囲内の温度であるように加熱する加熱炉が設け
られていることを特徴としている。
の本発明による光ファイバの製造装置は、光ファイバ母
材を加熱線引きし、線引きされた光ファイバを樹脂によ
り被覆する光ファイバの製造装置であって、光ファイバ
母材を加熱線引きする線引き炉と線引きされた光ファイ
バを樹脂により被覆する樹脂被覆部との間に、線引きさ
れた光ファイバを光ファイバの温度が１２００〜１７０
０℃の範囲内の温度であるように加熱する加熱炉が設け
られていることを特徴としている。
【００１１】上述の請求項１に記載の光ファイバの製造
装置によれば、線引き炉と樹脂被覆部との間に、線引き
された光ファイバを光ファイバの温度が１２００〜１７
００℃の範囲内の温度であるように加熱する加熱炉が設
けられているので、加熱線引きされ、樹脂が被覆される
前の光ファイバのうち、光ファイバの温度が１２００〜
１７００℃となっている部分のうちの所定区間での冷却
速度が遅くなり、徐冷される。このため、光ファイバの
仮想温度が低くなり、原子配列の乱雑さが低減されるこ
とになり、加熱線引きから樹脂被覆までの間で、レイリ
ー散乱強度を低減して伝送損失が低くされた光ファイバ
の製造が可能となる。また、線引き後の樹脂を被覆する
前の光ファイバの冷却速度を制御することによりレイリ
ー散乱強度の低減を図っているので、上述した先行技術
のような再加熱のための熱処理が不要となり、表面に樹
脂が被覆された光ファイバ素線の量産に極めて容易に適
用することが可能となる。
装置によれば、線引き炉と樹脂被覆部との間に、線引き
された光ファイバを光ファイバの温度が１２００〜１７
００℃の範囲内の温度であるように加熱する加熱炉が設
けられているので、加熱線引きされ、樹脂が被覆される
前の光ファイバのうち、光ファイバの温度が１２００〜
１７００℃となっている部分のうちの所定区間での冷却
速度が遅くなり、徐冷される。このため、光ファイバの
仮想温度が低くなり、原子配列の乱雑さが低減されるこ
とになり、加熱線引きから樹脂被覆までの間で、レイリ
ー散乱強度を低減して伝送損失が低くされた光ファイバ
の製造が可能となる。また、線引き後の樹脂を被覆する
前の光ファイバの冷却速度を制御することによりレイリ
ー散乱強度の低減を図っているので、上述した先行技術
のような再加熱のための熱処理が不要となり、表面に樹
脂が被覆された光ファイバ素線の量産に極めて容易に適
用することが可能となる。
【００１２】また、加熱炉は、線引きされた光ファイバ
を１３００〜１６００℃の範囲内の温度にて加熱するこ
とが好ましい。このように、加熱炉が、線引きされた光
ファイバを１３００〜１６００℃の範囲内の温度にて加
熱することで、光ファイバの温度が１２００〜１７００
℃となっている部分のうちの所定区間での光ファイバの
冷却速度が遅くなり、光ファイバの構造緩和が促進さ
れ、レイリー散乱強度をより低減することが可能とな
る。ここで、加熱炉の温度は、炉中心近傍の温度であ
り、例えば炉中心近傍の温度を１６００℃程度にするに
は、ヒータの温度を１７００℃程度にする。
を１３００〜１６００℃の範囲内の温度にて加熱するこ
とが好ましい。このように、加熱炉が、線引きされた光
ファイバを１３００〜１６００℃の範囲内の温度にて加
熱することで、光ファイバの温度が１２００〜１７００
℃となっている部分のうちの所定区間での光ファイバの
冷却速度が遅くなり、光ファイバの構造緩和が促進さ
れ、レイリー散乱強度をより低減することが可能とな
る。ここで、加熱炉の温度は、炉中心近傍の温度であ
り、例えば炉中心近傍の温度を１６００℃程度にするに
は、ヒータの温度を１７００℃程度にする。
【００１３】また、加熱炉は、線引きされた光ファイバ
が通る炉心管を有し、炉心管は、 Ｌ１≦０．２×Ｖ Ｌ１：線引き炉のヒータ下端から炉心管上端までの距離
（ｍ） Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満たす位置に配設されていることが好ましい。線引き
速度が速い場合、線引き速度が遅い場合に比して、線引
きされた光ファイバの温度が同じとなる位置が樹脂被覆
部寄りの位置となる。従って、加熱炉の炉心管の位置
を、 Ｌ１≦０．２×Ｖ が満たされる位置とすることにより、加熱炉の炉心管を
線引き速度の大きさに対応した適切な位置に配設するこ
とができ、光ファイバの冷却速度を適切に遅らせること
ができる。
が通る炉心管を有し、炉心管は、 Ｌ１≦０．２×Ｖ Ｌ１：線引き炉のヒータ下端から炉心管上端までの距離
（ｍ） Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満たす位置に配設されていることが好ましい。線引き
速度が速い場合、線引き速度が遅い場合に比して、線引
きされた光ファイバの温度が同じとなる位置が樹脂被覆
部寄りの位置となる。従って、加熱炉の炉心管の位置
を、 Ｌ１≦０．２×Ｖ が満たされる位置とすることにより、加熱炉の炉心管を
線引き速度の大きさに対応した適切な位置に配設するこ
とができ、光ファイバの冷却速度を適切に遅らせること
ができる。
【００１４】また、加熱炉は、線引きされた光ファイバ
が通る炉心管を有し、炉心管は、線引きされた光ファイ
バの炉心管への入線温度が１４００〜１８００℃の範囲
となる位置に配設されることが好ましい。この場合に
は、加熱炉の炉心管が、線引き速度の大きさに対応した
適切な位置に配設され、光ファイバの冷却速度を適切に
遅らせることができる。
が通る炉心管を有し、炉心管は、線引きされた光ファイ
バの炉心管への入線温度が１４００〜１８００℃の範囲
となる位置に配設されることが好ましい。この場合に
は、加熱炉の炉心管が、線引き速度の大きさに対応した
適切な位置に配設され、光ファイバの冷却速度を適切に
遅らせることができる。
【００１５】また、加熱炉は、線引きされた光ファイバ
が通る炉心管を有し、炉心管は、 Ｌ２≧Ｖ／８ Ｌ２：炉心管の全長（ｍ） Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満たすように形成されていることが好ましい。この場
合には、加熱炉の炉心管の長さを、線引き速度の大きさ
に対応した適切な長さに設定することができ、光ファイ
バの冷却速度を適切に遅らせることができる。
が通る炉心管を有し、炉心管は、 Ｌ２≧Ｖ／８ Ｌ２：炉心管の全長（ｍ） Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満たすように形成されていることが好ましい。この場
合には、加熱炉の炉心管の長さを、線引き速度の大きさ
に対応した適切な長さに設定することができ、光ファイ
バの冷却速度を適切に遅らせることができる。
【００１６】また、加熱炉は、線引き炉側を高温に、樹
脂被覆部側を低温とする温度勾配が与えられていること
が好ましい。加熱線引きされた光ファイバの温度は、線
引き炉側から樹脂被覆部側に向かって低下する温度分布
を有する。従って、加熱炉に、線引き炉側を高温に、樹
脂被覆部側を低温とする温度勾配を与えることにより、
加熱炉が上述した温度分布を有する光ファイバに対応し
た温度分布を有することとなり、光ファイバを更に適切
な冷却速度にて冷却することができる。
脂被覆部側を低温とする温度勾配が与えられていること
が好ましい。加熱線引きされた光ファイバの温度は、線
引き炉側から樹脂被覆部側に向かって低下する温度分布
を有する。従って、加熱炉に、線引き炉側を高温に、樹
脂被覆部側を低温とする温度勾配を与えることにより、
加熱炉が上述した温度分布を有する光ファイバに対応し
た温度分布を有することとなり、光ファイバを更に適切
な冷却速度にて冷却することができる。
【００１７】また、請求項７に記載の本発明による光フ
ァイバの製造方法は、光ファイバ母材を加熱線引きし、
線引きされた光ファイバを樹脂により被覆する光ファイ
バの製造方法であって、光ファイバ母材を加熱線引きす
る線引き炉と線引きされた光ファイバを樹脂により被覆
する樹脂被覆部との間に設けられる加熱炉にて、線引き
された光ファイバを光ファイバの温度が１２００〜１７
００℃の範囲内の温度であるように加熱することを特徴
としている。
ァイバの製造方法は、光ファイバ母材を加熱線引きし、
線引きされた光ファイバを樹脂により被覆する光ファイ
バの製造方法であって、光ファイバ母材を加熱線引きす
る線引き炉と線引きされた光ファイバを樹脂により被覆
する樹脂被覆部との間に設けられる加熱炉にて、線引き
された光ファイバを光ファイバの温度が１２００〜１７
００℃の範囲内の温度であるように加熱することを特徴
としている。
【００１８】上述の請求項７に記載の光ファイバの製造
方法によれば、線引き炉と樹脂被覆部との間に設けられ
る加熱炉にて、線引きされた光ファイバを光ファイバの
温度が１２００〜１７００℃の範囲内の温度であるよう
に加熱するので、加熱線引きされ、樹脂が被覆される前
の光ファイバのうち、光ファイバの温度が１２００〜１
７００℃となっている部分のうちの所定区間での冷却速
度が遅くなり、徐冷される。このため、光ファイバの構
造緩和が短時間の内に進行し、原子配列の乱雑さが低減
されることになり、加熱線引きから樹脂被覆までの極め
て短い間で、レイリー散乱強度を低減して伝送損失が低
くされた光ファイバの製造が可能となる。また、線引き
後の樹脂を被覆する前の光ファイバの冷却速度を制御す
ることによりレイリー散乱強度の低減を図っているの
で、上述した先行技術のような再加熱のための熱処理が
不要となり、表面に樹脂が被覆された光ファイバ素線の
量産に極めて容易に適用することが可能となる。
方法によれば、線引き炉と樹脂被覆部との間に設けられ
る加熱炉にて、線引きされた光ファイバを光ファイバの
温度が１２００〜１７００℃の範囲内の温度であるよう
に加熱するので、加熱線引きされ、樹脂が被覆される前
の光ファイバのうち、光ファイバの温度が１２００〜１
７００℃となっている部分のうちの所定区間での冷却速
度が遅くなり、徐冷される。このため、光ファイバの構
造緩和が短時間の内に進行し、原子配列の乱雑さが低減
されることになり、加熱線引きから樹脂被覆までの極め
て短い間で、レイリー散乱強度を低減して伝送損失が低
くされた光ファイバの製造が可能となる。また、線引き
後の樹脂を被覆する前の光ファイバの冷却速度を制御す
ることによりレイリー散乱強度の低減を図っているの
で、上述した先行技術のような再加熱のための熱処理が
不要となり、表面に樹脂が被覆された光ファイバ素線の
量産に極めて容易に適用することが可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。なお、図面の説明において同一の要素に
は同一の符号を付しており、重複する説明は省略する。
いて説明する。なお、図面の説明において同一の要素に
は同一の符号を付しており、重複する説明は省略する。
【００２０】まず、図１を参照しながら、本発明による
光ファイバの製造方法及びこの製造方法に用いられる線
引き装置の実施形態を説明する。
光ファイバの製造方法及びこの製造方法に用いられる線
引き装置の実施形態を説明する。
【００２１】線引き装置１は石英系光ファイバの線引き
装置であって、線引き炉１１、徐冷用加熱炉２１及び樹
脂硬化部３１を有し、線引き炉１１、徐冷用加熱炉２１
及び樹脂硬化部３１は光ファイバ母材２を線引きする方
向（図１において、上から下）に、線引き炉１１、徐冷
用加熱炉２１、樹脂硬化部３１の順で配設されている。
母材供給装置（図示せず）に保持された光ファイバ母材
２を線引き炉１１に供給し、線引き炉１１内のヒータ１
２で光ファイバ母材２の下端を加熱・軟化させ、光ファ
イバ３を線引きする。線引き炉１１の炉心管１３には、
不活性ガス供給部１４からの不活性ガス供給通路１５が
接続されており、線引き炉１１の炉心管１３内が不活性
ガス雰囲気となるように構成されている。加熱線引きさ
れた光ファイバ３は炉心管１３内にて、１７００℃程度
にまで不活性ガスにより急激に冷却される。その後、光
ファイバ３は、炉心管１３の下部から線引き炉１１外に
出され、線引き炉１１と徐冷用加熱炉２１との間にて空
冷される。不活性ガスとしては、例えばＮ2ガスを用い
ることができ、このＮ2ガスの熱伝導係数λ（Ｔ＝３０
０Ｋ）は２６ｍＷ／（ｍ・Ｋ）である。空気の熱伝導係
数λ（Ｔ＝３００Ｋ）は２６ｍＷ／（ｍ・Ｋ）である。
装置であって、線引き炉１１、徐冷用加熱炉２１及び樹
脂硬化部３１を有し、線引き炉１１、徐冷用加熱炉２１
及び樹脂硬化部３１は光ファイバ母材２を線引きする方
向（図１において、上から下）に、線引き炉１１、徐冷
用加熱炉２１、樹脂硬化部３１の順で配設されている。
母材供給装置（図示せず）に保持された光ファイバ母材
２を線引き炉１１に供給し、線引き炉１１内のヒータ１
２で光ファイバ母材２の下端を加熱・軟化させ、光ファ
イバ３を線引きする。線引き炉１１の炉心管１３には、
不活性ガス供給部１４からの不活性ガス供給通路１５が
接続されており、線引き炉１１の炉心管１３内が不活性
ガス雰囲気となるように構成されている。加熱線引きさ
れた光ファイバ３は炉心管１３内にて、１７００℃程度
にまで不活性ガスにより急激に冷却される。その後、光
ファイバ３は、炉心管１３の下部から線引き炉１１外に
出され、線引き炉１１と徐冷用加熱炉２１との間にて空
冷される。不活性ガスとしては、例えばＮ2ガスを用い
ることができ、このＮ2ガスの熱伝導係数λ（Ｔ＝３０
０Ｋ）は２６ｍＷ／（ｍ・Ｋ）である。空気の熱伝導係
数λ（Ｔ＝３００Ｋ）は２６ｍＷ／（ｍ・Ｋ）である。
【００２２】空冷された光ファイバ３を徐冷用加熱炉２
１に送り、光ファイバ３の所定区間を加熱し、所定の冷
却速度にて徐冷する。徐冷用加熱炉２１はその中を光フ
ァイバ３が通る炉心管２３を有し、この炉心管２３は、
光ファイバ母材２の線引き方向（図１において、上下方
向）での全長Ｌ２（ｍ）が、 Ｌ２≧Ｖ／８ ………………… （２） ここで、Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満足するように設定されている。また、徐冷用加熱炉
２１は、炉心管２３の位置が、炉心管２３に入る直前の
光ファイバ３の温度（入線温度）が１４００〜１８００
℃の範囲となる位置に設定されており、線引き炉１１に
対して、 Ｌ１≦０．２×Ｖ ………………… （３） ここで、Ｌ１：線引き炉１１のヒータ１２の下端から 炉心管２３の上端までの距離（ｍ） Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満足するように、設けられている。徐冷用加熱炉２１
のヒータ２２の温度は、炉中心（光ファイバ３が通る部
分）の温度が１３００〜１６００℃の範囲内の温度、特
に、１３００〜１５００℃の範囲内の温度に設定されて
いる。
１に送り、光ファイバ３の所定区間を加熱し、所定の冷
却速度にて徐冷する。徐冷用加熱炉２１はその中を光フ
ァイバ３が通る炉心管２３を有し、この炉心管２３は、
光ファイバ母材２の線引き方向（図１において、上下方
向）での全長Ｌ２（ｍ）が、 Ｌ２≧Ｖ／８ ………………… （２） ここで、Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満足するように設定されている。また、徐冷用加熱炉
２１は、炉心管２３の位置が、炉心管２３に入る直前の
光ファイバ３の温度（入線温度）が１４００〜１８００
℃の範囲となる位置に設定されており、線引き炉１１に
対して、 Ｌ１≦０．２×Ｖ ………………… （３） ここで、Ｌ１：線引き炉１１のヒータ１２の下端から 炉心管２３の上端までの距離（ｍ） Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満足するように、設けられている。徐冷用加熱炉２１
のヒータ２２の温度は、炉中心（光ファイバ３が通る部
分）の温度が１３００〜１６００℃の範囲内の温度、特
に、１３００〜１５００℃の範囲内の温度に設定されて
いる。
【００２３】上述した徐冷用加熱炉２１（炉心管２３）
の位置及び長さの設定により、徐冷用加熱炉２１におい
て、加熱線引きされた光ファイバ３において温度が１２
００〜１７００℃となる部分のうち、光ファイバ３の温
度差が５０℃以上となる区間、例えば、光ファイバ３の
温度が１４００〜１６００℃となる部分（温度差が２０
０℃となる区間）が１０００℃／秒以下の冷却速度で徐
冷されることになる。なお、炉中心の温度を１３００〜
１６００℃の範囲内の温度に設定することにより、加熱
線引きされた光ファイバ３において温度が１４００〜１
６００℃となる部分のうち、光ファイバ３の温度差が５
０℃以上となる区間が１０００℃／秒以下の冷却速度で
徐冷されることになる。
の位置及び長さの設定により、徐冷用加熱炉２１におい
て、加熱線引きされた光ファイバ３において温度が１２
００〜１７００℃となる部分のうち、光ファイバ３の温
度差が５０℃以上となる区間、例えば、光ファイバ３の
温度が１４００〜１６００℃となる部分（温度差が２０
０℃となる区間）が１０００℃／秒以下の冷却速度で徐
冷されることになる。なお、炉中心の温度を１３００〜
１６００℃の範囲内の温度に設定することにより、加熱
線引きされた光ファイバ３において温度が１４００〜１
６００℃となる部分のうち、光ファイバ３の温度差が５
０℃以上となる区間が１０００℃／秒以下の冷却速度で
徐冷されることになる。
【００２４】徐冷用加熱炉２１の炉心管２３には、Ｎ2
ガス供給部２４からのＮ2ガス供給通路２５が接続され
ており、徐冷用加熱炉２１の炉心管２３内がＮ2ガス雰
囲気となるように構成されている。Ｎ2ガスを用いる代
わりに、空気あるいはＡｒといったの分子量の比較的大
きいガス等を用いることも可能である。もちろんカーボ
ンヒータを用いる場合には、不活性ガスを用いる必要が
ある。
ガス供給部２４からのＮ2ガス供給通路２５が接続され
ており、徐冷用加熱炉２１の炉心管２３内がＮ2ガス雰
囲気となるように構成されている。Ｎ2ガスを用いる代
わりに、空気あるいはＡｒといったの分子量の比較的大
きいガス等を用いることも可能である。もちろんカーボ
ンヒータを用いる場合には、不活性ガスを用いる必要が
ある。
【００２５】徐冷用加熱炉２１を出た光ファイバ３は、
外径測定手段としての外径測定器４１により外径がオン
ライン測定され、その測定値がドラム４２を回転駆動す
る駆動モータ４３にフィードバックされて外径が一定と
なるように制御される。外径測定器４１からの出力信号
は、制御手段としての制御ユニット４４に送られ、光フ
ァイバ３の外径が予め設定された所定値となるように、
ドラム４２（駆動モータ４３）の回転速度を演算により
求める。制御ユニット４４からは、演算により求めたド
ラム４２（駆動モータ４３）の回転速度を示す出力信号
が駆動モータ用ドライバ（図示せず）に出力され、この
駆動モータ用ドライバは制御ユニット４４からの出力信
号に基づいて、駆動モータ４３の回転速度を制御する。
外径測定手段としての外径測定器４１により外径がオン
ライン測定され、その測定値がドラム４２を回転駆動す
る駆動モータ４３にフィードバックされて外径が一定と
なるように制御される。外径測定器４１からの出力信号
は、制御手段としての制御ユニット４４に送られ、光フ
ァイバ３の外径が予め設定された所定値となるように、
ドラム４２（駆動モータ４３）の回転速度を演算により
求める。制御ユニット４４からは、演算により求めたド
ラム４２（駆動モータ４３）の回転速度を示す出力信号
が駆動モータ用ドライバ（図示せず）に出力され、この
駆動モータ用ドライバは制御ユニット４４からの出力信
号に基づいて、駆動モータ４３の回転速度を制御する。
【００２６】その後、光ファイバ３に、コーティングダ
イス５１によりＵＶ樹脂５２を塗布し、樹脂硬化部３１
のＵＶランプ３２によりＵＶ樹脂５２が硬化され、光フ
ァイバ素線４となる。そして、光ファイバ素線４は、ガ
イドローラ６１を経て、ドラム４２により巻き取られ
る。ドラム４２は、回転駆動軸４５に支持されており、
この回転駆動軸４５の端部は駆動モータ４３に接続され
ている。ここで、コーティングダイス５１及び樹脂硬化
部３１は、各請求項における樹脂被覆部を構成してい
る。樹脂被覆部としては、熱硬化樹脂を塗布し、加熱炉
により硬化させるように構成してもよい。
イス５１によりＵＶ樹脂５２を塗布し、樹脂硬化部３１
のＵＶランプ３２によりＵＶ樹脂５２が硬化され、光フ
ァイバ素線４となる。そして、光ファイバ素線４は、ガ
イドローラ６１を経て、ドラム４２により巻き取られ
る。ドラム４２は、回転駆動軸４５に支持されており、
この回転駆動軸４５の端部は駆動モータ４３に接続され
ている。ここで、コーティングダイス５１及び樹脂硬化
部３１は、各請求項における樹脂被覆部を構成してい
る。樹脂被覆部としては、熱硬化樹脂を塗布し、加熱炉
により硬化させるように構成してもよい。
【００２７】なお、線引き炉１１の炉心管１３には、不
活性ガス供給部１４からの不活性ガス供給通路１５が接
続されており、線引き炉１１の炉心管１３内が不活性ガ
ス雰囲気となるように構成されているが、不活性ガス供
給部１４としてＮ2ガス供給部を設け、炉心管１３内に
Ｎ2ガスを供給してＮ2ガス雰囲気となるように構成して
もよい。炉心管１３内にＮ2ガスを供給する理由は、線
引き速度が低速、例えば１００ｍ／ｍｉｎの場合には、
光ファイバ３がＨｅガス雰囲気では線引き炉１１（炉心
管１３）内で１０００℃程度まで冷却されてしまうこと
があり、線引き速度が低速の場合に炉心管１３内をＮ2
ガス雰囲気として、線引き炉１１（炉心管１３）出口で
の光ファイバ３の温度を１７００℃程度とするためであ
る。もちろん、Ｈｅガス供給部とＮ2ガス供給部とを設
け、線引き速度に対応して、炉心管１３内にＨｅガス及
び／又はＮ2ガスを供給するように構成してもよい。
活性ガス供給部１４からの不活性ガス供給通路１５が接
続されており、線引き炉１１の炉心管１３内が不活性ガ
ス雰囲気となるように構成されているが、不活性ガス供
給部１４としてＮ2ガス供給部を設け、炉心管１３内に
Ｎ2ガスを供給してＮ2ガス雰囲気となるように構成して
もよい。炉心管１３内にＮ2ガスを供給する理由は、線
引き速度が低速、例えば１００ｍ／ｍｉｎの場合には、
光ファイバ３がＨｅガス雰囲気では線引き炉１１（炉心
管１３）内で１０００℃程度まで冷却されてしまうこと
があり、線引き速度が低速の場合に炉心管１３内をＮ2
ガス雰囲気として、線引き炉１１（炉心管１３）出口で
の光ファイバ３の温度を１７００℃程度とするためであ
る。もちろん、Ｈｅガス供給部とＮ2ガス供給部とを設
け、線引き速度に対応して、炉心管１３内にＨｅガス及
び／又はＮ2ガスを供給するように構成してもよい。
【００２８】次に、図２に基づいて、上述した線引き装
置１を用いて行った実験の結果について説明する。これ
らの実験において共通の条件は、以下のとおりである。
光ファイバ母材２として、外径３５ｍｍのものを用い、
この光ファイバ母材２から外径１２５μｍの光ファイバ
３を線引きした。線引き炉の温度は、炉心管内周面の表
面温度で２０００℃程度としている。なお、以下の実施
例１〜実施例８及び比較例１〜比較例４においては、光
ファイバ３の温度を、光ファイバ３の表面温度としてい
る。光ファイバ３の表面温度と光ファイバ３内部との温
度差は２０〜１００℃程度である。線引き炉１１及び徐
冷用加熱炉２１の温度は、各炉心管１３，２３の内周面
（光ファイバ母材２あるいは光ファイバ３の表面と対向
する面）の表面温度としている。実施例１〜実施例８及
び比較例１〜比較例４とも、全て不活性ガスにはＮ2ガ
スを使用した。
置１を用いて行った実験の結果について説明する。これ
らの実験において共通の条件は、以下のとおりである。
光ファイバ母材２として、外径３５ｍｍのものを用い、
この光ファイバ母材２から外径１２５μｍの光ファイバ
３を線引きした。線引き炉の温度は、炉心管内周面の表
面温度で２０００℃程度としている。なお、以下の実施
例１〜実施例８及び比較例１〜比較例４においては、光
ファイバ３の温度を、光ファイバ３の表面温度としてい
る。光ファイバ３の表面温度と光ファイバ３内部との温
度差は２０〜１００℃程度である。線引き炉１１及び徐
冷用加熱炉２１の温度は、各炉心管１３，２３の内周面
（光ファイバ母材２あるいは光ファイバ３の表面と対向
する面）の表面温度としている。実施例１〜実施例８及
び比較例１〜比較例４とも、全て不活性ガスにはＮ2ガ
スを使用した。
【００２９】実施例１〜実施例４は、上述した実施形態
に係る光ファイバの製造装置及び製造方法による実施例
であり、比較例１及び比較例２は、上述した実施形態に
係る光ファイバの製造装置及び製造方法による実施例と
の対比のために行った比較例である。
に係る光ファイバの製造装置及び製造方法による実施例
であり、比較例１及び比較例２は、上述した実施形態に
係る光ファイバの製造装置及び製造方法による実施例と
の対比のために行った比較例である。
【００３０】（実施例１）Ｌ１＝０．４ｍ、Ｌ２＝０．
５ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１３５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１３５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である０．５ｍの区間において平均約２０００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
５ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１３５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１３５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である０．５ｍの区間において平均約２０００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
【００３１】炉心管の位置に関しては、０．４＜０．８
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、０．５＝０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６７ｄＢ／ｋ
ｍであった。
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、０．５＝０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６７ｄＢ／ｋ
ｍであった。
【００３２】（実施例２）Ｌ１＝０．４ｍ、Ｌ２＝１．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１３５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１３５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約１０００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１３５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１３５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約１０００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
【００３３】炉心管の位置に関しては、０．４＜０．８
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６５ｄＢ／ｋ
ｍであった。
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６５ｄＢ／ｋ
ｍであった。
【００３４】（実施例３）Ｌ１＝０．４ｍ、Ｌ２＝２．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１３００℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１３００℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である２．０ｍの区間において平均約６００℃／秒の
徐冷速度にて冷却されたことになる。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１３００℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１３００℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である２．０ｍの区間において平均約６００℃／秒の
徐冷速度にて冷却されたことになる。
【００３５】炉心管の位置に関しては、０．４＜０．８
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、２．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６４ｄＢ／ｋ
ｍであった。
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、２．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６４ｄＢ／ｋ
ｍであった。
【００３６】（実施例４）Ｌ１＝０．６ｍ、Ｌ２＝１．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１４００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１３００℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１４００〜１３００℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約２５０℃／秒の
徐冷速度にて冷却されたことになる。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１４００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１３００℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１４００〜１３００℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約２５０℃／秒の
徐冷速度にて冷却されたことになる。
【００３７】炉心管の位置に関しては、０．８＝０．８
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６７ｄＢ／ｋ
ｍであった。
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６７ｄＢ／ｋ
ｍであった。
【００３８】（比較例１）徐冷用加熱炉を取り外した状
態で光ファイバの線引きを行った。線引きする光ファイ
バ母材は、コア部が純石英ガラスからなり、クラッド部
がフッ素添加ガラスからなる。線引き速度は２〜１０ｍ
／ｓ、線引き張力は２０ｇｆとした。この時、光ファイ
バの温度が１３００〜１７００℃となる部分は、約５０
００℃／秒の徐冷速度にて冷却された。
態で光ファイバの線引きを行った。線引きする光ファイ
バ母材は、コア部が純石英ガラスからなり、クラッド部
がフッ素添加ガラスからなる。線引き速度は２〜１０ｍ
／ｓ、線引き張力は２０ｇｆとした。この時、光ファイ
バの温度が１３００〜１７００℃となる部分は、約５０
００℃／秒の徐冷速度にて冷却された。
【００３９】線引きされた光ファイバの伝送損失（波長
１．５５μｍの光に対する伝送損失）を測定したとこ
ろ、０．１６８ｄＢ／ｋｍであり、線引き速度に対する
依存性はなかった。
１．５５μｍの光に対する伝送損失）を測定したとこ
ろ、０．１６８ｄＢ／ｋｍであり、線引き速度に対する
依存性はなかった。
【００４０】（比較例２）Ｌ１＝１．０ｍ、Ｌ２＝１．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１０００℃であった。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１０００℃であった。
【００４１】炉心管の位置に関しては、１．２＞０．８
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
ない。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４
／８）となり上述した（２）式を満足している。線引き
された光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に
対する伝送損失）を測定したところ、０．１６８ｄＢ／
ｋｍであり、徐冷用加熱炉を取り外した比較例１におけ
る伝送損失と同値となっている。
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
ない。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４
／８）となり上述した（２）式を満足している。線引き
された光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に
対する伝送損失）を測定したところ、０．１６８ｄＢ／
ｋｍであり、徐冷用加熱炉を取り外した比較例１におけ
る伝送損失と同値となっている。
【００４２】以上のように、実施例１〜実施例４におい
ては、波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．１
６４〜０．１６７ｄＢ／ｋｍとなり、比較例１及び比較
例２における波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が
０．１６８ｄＢ／ｋｍと比べて、伝送損失を０．００１
〜０．００４ｄＢ／ｋｍの範囲で低減できることが確認
された。線引き速度が４ｍ／ｓの場合、徐冷用加熱炉の
炉心管の位置としてＬ１を０．８ｍより大きく（線引き
炉から離れる）することは、線引き後の光ファイバの温
度が１２００〜１７００℃となる部分を加熱することが
難しくなり、この部分の冷却速度を遅くすることができ
ず、伝送損失を増加させることになる。また、徐冷用加
熱炉の炉心管を（３）式を満足する位置に配設した場合
においても、炉心管の全長を０．５ｍより短くすること
は、線引き後の光ファイバの温度が１２００〜１７００
℃となる部分を加熱することが難しくなり、この部分の
冷却速度を遅くすることができず、伝送損失を増加させ
ることになる。
ては、波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．１
６４〜０．１６７ｄＢ／ｋｍとなり、比較例１及び比較
例２における波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が
０．１６８ｄＢ／ｋｍと比べて、伝送損失を０．００１
〜０．００４ｄＢ／ｋｍの範囲で低減できることが確認
された。線引き速度が４ｍ／ｓの場合、徐冷用加熱炉の
炉心管の位置としてＬ１を０．８ｍより大きく（線引き
炉から離れる）することは、線引き後の光ファイバの温
度が１２００〜１７００℃となる部分を加熱することが
難しくなり、この部分の冷却速度を遅くすることができ
ず、伝送損失を増加させることになる。また、徐冷用加
熱炉の炉心管を（３）式を満足する位置に配設した場合
においても、炉心管の全長を０．５ｍより短くすること
は、線引き後の光ファイバの温度が１２００〜１７００
℃となる部分を加熱することが難しくなり、この部分の
冷却速度を遅くすることができず、伝送損失を増加させ
ることになる。
【００４３】次に、徐冷用加熱炉（炉心管内周面の表面
温度）の温度条件を変更して、実験を行った。実施例５
及び実施例６は、上述した実施形態に係る光ファイバの
製造装置及び製造方法による実施例であり、比較例３
は、上述した実施形態に係る光ファイバの製造装置及び
製造方法による実施例との対比のために行った比較例で
ある。
温度）の温度条件を変更して、実験を行った。実施例５
及び実施例６は、上述した実施形態に係る光ファイバの
製造装置及び製造方法による実施例であり、比較例３
は、上述した実施形態に係る光ファイバの製造装置及び
製造方法による実施例との対比のために行った比較例で
ある。
【００４４】（実施例５）Ｌ１＝０．４ｍ、Ｌ２＝１．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１５００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１５３０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１５３０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約２８０℃／秒の
徐冷速度にて冷却されたことになる。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１５００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１５３０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１５３０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約２８０℃／秒の
徐冷速度にて冷却されたことになる。
【００４５】炉心管の位置に関しては、０．４＜０．８
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６２ｄＢ／ｋ
ｍであった。
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６２ｄＢ／ｋ
ｍであった。
【００４６】（実施例６）Ｌ１＝０．４ｍ、Ｌ２＝１．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１２００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１２５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１２５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約３５０℃／秒の
徐冷速度にて冷却されたことになる。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１２００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１２５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１２５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約３５０℃／秒の
徐冷速度にて冷却されたことになる。
【００４７】炉心管の位置に関しては、０．４＜０．８
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６７ｄＢ／ｋ
ｍであった。
（＝４×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＞０．５（＝４／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６７ｄＢ／ｋ
ｍであった。
【００４８】（比較例３）Ｌ１＝０．４ｍ、Ｌ２＝１．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１０００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１０５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１０５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約２２００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は４ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１０００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１６００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１０５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１６００〜１０５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約２２００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
【００４９】比較例３は、炉心管の位置に関しては、
０．４＜０．８（＝４×０．２）となり上述した（３）
式を満足している。炉心管の全長に関しては、１．０＞
０．５（＝４／８）となり上述した（２）式を満足して
いる。しかし、徐冷用加熱炉の部分で光ファイバの温度
を１２００℃以上にできていない。線引きされた光ファ
イバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対する伝送損
失）を測定したところ、０．１６８ｄＢ／ｋｍであり、
徐冷用加熱炉を取り外した比較例１における伝送損失と
同値となっている。
０．４＜０．８（＝４×０．２）となり上述した（３）
式を満足している。炉心管の全長に関しては、１．０＞
０．５（＝４／８）となり上述した（２）式を満足して
いる。しかし、徐冷用加熱炉の部分で光ファイバの温度
を１２００℃以上にできていない。線引きされた光ファ
イバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対する伝送損
失）を測定したところ、０．１６８ｄＢ／ｋｍであり、
徐冷用加熱炉を取り外した比較例１における伝送損失と
同値となっている。
【００５０】以上のように、実施例５及び実施例６にお
いては、波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．
１６２〜０．１６７ｄＢ／ｋｍとなり、比較例３におけ
る波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．１６８
ｄＢ／ｋｍと比べて、伝送損失を０．００１〜０．００
６ｄＢ／ｋｍの範囲で低減できることが確認された。実
験結果から明らかなように、徐冷用加熱炉（炉心管内周
面の表面温度）の温度を１２００℃以上とすることで、
線引き後の光ファイバの温度が１３００〜１７００℃と
なる部分を加熱し、この部分の冷却速度を遅くらせるこ
とになり、伝送損失を低減することができる。実施例２
及び実施例５から分かるように、特に、徐冷用加熱炉
（炉心管内周面の表面温度）の温度を１３００〜１５０
０℃とすることで、伝送損失を更に低減することができ
る。
いては、波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．
１６２〜０．１６７ｄＢ／ｋｍとなり、比較例３におけ
る波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．１６８
ｄＢ／ｋｍと比べて、伝送損失を０．００１〜０．００
６ｄＢ／ｋｍの範囲で低減できることが確認された。実
験結果から明らかなように、徐冷用加熱炉（炉心管内周
面の表面温度）の温度を１２００℃以上とすることで、
線引き後の光ファイバの温度が１３００〜１７００℃と
なる部分を加熱し、この部分の冷却速度を遅くらせるこ
とになり、伝送損失を低減することができる。実施例２
及び実施例５から分かるように、特に、徐冷用加熱炉
（炉心管内周面の表面温度）の温度を１３００〜１５０
０℃とすることで、伝送損失を更に低減することができ
る。
【００５１】次に、線引き速度条件を変更して、実験を
行った。実施例７及び実施例８は、上述した実施形態に
係る光ファイバの製造装置及び製造方法による実施例で
あり、比較例４は、上述した実施形態に係る光ファイバ
の製造装置及び製造方法による実施例との対比のために
行った比較例である。
行った。実施例７及び実施例８は、上述した実施形態に
係る光ファイバの製造装置及び製造方法による実施例で
あり、比較例４は、上述した実施形態に係る光ファイバ
の製造装置及び製造方法による実施例との対比のために
行った比較例である。
【００５２】（実施例７）Ｌ１＝０．８ｍ、Ｌ２＝１．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は８ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１７００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１５５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１７００〜１５５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約１２００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は８ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１７００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１５５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１７００〜１５５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である１．０ｍの区間において平均約１２００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
【００５３】炉心管の位置に関しては、０．８＜１．６
（＝８×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＝１．０（＝８／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６７ｄＢ／ｋ
ｍであった。
（＝８×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、１．０＝１．０（＝８／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６７ｄＢ／ｋ
ｍであった。
【００５４】（実施例８）Ｌ１＝０．８ｍ、Ｌ２＝２．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は８ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１７００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１４５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１７００〜１４５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である２．０ｍの区間において平均約１０００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は８ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１７００℃であり、徐
冷用加熱炉から出た直後の光ファイバの温度は、光ファ
イバの表面温度で１４５０℃であった。従って、徐冷用
加熱炉において、線引きされた光ファイバのうち温度が
１７００〜１４５０℃となる部分が、徐冷用加熱炉の全
長である２．０ｍの区間において平均約１０００℃／秒
の徐冷速度にて冷却されたことになる。
【００５５】炉心管の位置に関しては、０．８＜１．６
（＝８×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、２．０＞１．０（＝８／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６５ｄＢ／ｋ
ｍであった。
（＝８×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
る。炉心管の全長に関しては、２．０＞１．０（＝８／
８）となり上述した（２）式を満足している。線引きさ
れた光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に対
する伝送損失）を測定したところ、０．１６５ｄＢ／ｋ
ｍであった。
【００５６】（比較例４）Ｌ１＝２．０ｍ、Ｌ２＝１．
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は８ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１０００℃であった。
０ｍとなる炉心管（内周直径が略３０ｍｍ）を有する徐
冷用加熱炉を用いて、光ファイバの線引きを行った。線
引きする光ファイバ母材は、コア部が純石英ガラスから
なり、クラッド部がフッ素添加ガラスからなる。線引き
速度は８ｍ／ｓ、線引き張力は２０ｇｆ、徐冷用加熱炉
（炉中心の温度）の温度は１３００℃とした。この時、
徐冷用加熱炉に入る直前の光ファイバの温度（入線温
度）は、光ファイバの表面温度で１０００℃であった。
【００５７】炉心管の位置に関しては、２．０＞１．６
（＝８×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
ない。炉心管の全長に関しては、１．０＝１．０（＝８
／８）となり上述した（２）式を満足している。線引き
された光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に
対する伝送損失）を測定したところ、０．１６８ｄＢ／
ｋｍであり、徐冷用加熱炉を取り外した比較例１におけ
る伝送損失と同値となっている。
（＝８×０．２）となり上述した（３）式を満足してい
ない。炉心管の全長に関しては、１．０＝１．０（＝８
／８）となり上述した（２）式を満足している。線引き
された光ファイバの伝送損失（波長１．５５μｍの光に
対する伝送損失）を測定したところ、０．１６８ｄＢ／
ｋｍであり、徐冷用加熱炉を取り外した比較例１におけ
る伝送損失と同値となっている。
【００５８】以上のように、実施例７及び実施例８にお
いては、波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．
１６５〜０．１６７ｄＢ／ｋｍとなり、比較例４におけ
る波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．１６８
ｄＢ／ｋｍと比べて、伝送損失を０．００１〜０．００
３ｄＢ／ｋｍの範囲で低減できることが確認された。線
引き速度が８ｍ／ｓの場合、徐冷用加熱炉の炉心管の位
置としてＬ１を２．０ｍとすることは、線引き後の光フ
ァイバの温度が１２００〜１７００℃となる部分を加熱
することが難しくなり、この部分の冷却速度を遅くする
ことができず、伝送損失を増加させることになる。ま
た、徐冷用加熱炉の炉心管を上述した（３）式を満足す
る位置に配設した場合においても、炉心管の全長を１．
０ｍより短くすることは、線引き後の光ファイバの温度
が１２００〜１７００℃となる部分を加熱することが難
しくなり、この部分の冷却速度を遅くすることができ
ず、伝送損失を増加させることになる。
いては、波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．
１６５〜０．１６７ｄＢ／ｋｍとなり、比較例４におけ
る波長１．５５μｍの光に対する伝送損失が０．１６８
ｄＢ／ｋｍと比べて、伝送損失を０．００１〜０．００
３ｄＢ／ｋｍの範囲で低減できることが確認された。線
引き速度が８ｍ／ｓの場合、徐冷用加熱炉の炉心管の位
置としてＬ１を２．０ｍとすることは、線引き後の光フ
ァイバの温度が１２００〜１７００℃となる部分を加熱
することが難しくなり、この部分の冷却速度を遅くする
ことができず、伝送損失を増加させることになる。ま
た、徐冷用加熱炉の炉心管を上述した（３）式を満足す
る位置に配設した場合においても、炉心管の全長を１．
０ｍより短くすることは、線引き後の光ファイバの温度
が１２００〜１７００℃となる部分を加熱することが難
しくなり、この部分の冷却速度を遅くすることができ
ず、伝送損失を増加させることになる。
【００５９】このように、上述した実験結果からも明ら
かなように、本実施形態に係る光ファイバの製造装置及
び製造方法においては、線引き炉１１と樹脂硬化部３１
（コーティングダイス５１）との間に、線引き炉１１に
て加熱線引きされた後ＵＶ樹脂５２を被覆する前の光フ
ァイバ３を１２００〜１７００℃の範囲内の温度にて加
熱する徐冷用加熱炉２１が設けられているので、上述し
た光ファイバ３のうち、その温度が１２００〜１７００
℃となる部分の所定区間における冷却速度が遅くなるこ
とにより、原子配列の乱雑さが低減されるので、加熱線
引きからＵＶ樹脂５２の被覆までの間で、レイリー散乱
強度を低減して伝送損失が低くされた光ファイバ３を製
造することが可能となる。また、線引き後のＵＶ樹脂５
２を被覆する前の光ファイバ３の冷却速度を制御するこ
とによりレイリー散乱強度の低減を図っているので、上
述した先行技術のような再加熱のための熱処理が不要と
なり、表面にＵＶ樹脂５２が硬化、被覆された光ファイ
バ素線４の量産に極めて容易に適用することが可能とな
る。
かなように、本実施形態に係る光ファイバの製造装置及
び製造方法においては、線引き炉１１と樹脂硬化部３１
（コーティングダイス５１）との間に、線引き炉１１に
て加熱線引きされた後ＵＶ樹脂５２を被覆する前の光フ
ァイバ３を１２００〜１７００℃の範囲内の温度にて加
熱する徐冷用加熱炉２１が設けられているので、上述し
た光ファイバ３のうち、その温度が１２００〜１７００
℃となる部分の所定区間における冷却速度が遅くなるこ
とにより、原子配列の乱雑さが低減されるので、加熱線
引きからＵＶ樹脂５２の被覆までの間で、レイリー散乱
強度を低減して伝送損失が低くされた光ファイバ３を製
造することが可能となる。また、線引き後のＵＶ樹脂５
２を被覆する前の光ファイバ３の冷却速度を制御するこ
とによりレイリー散乱強度の低減を図っているので、上
述した先行技術のような再加熱のための熱処理が不要と
なり、表面にＵＶ樹脂５２が硬化、被覆された光ファイ
バ素線４の量産に極めて容易に適用することが可能とな
る。
【００６０】また、徐冷用加熱炉２１にて、線引き炉１
１にて加熱線引きされた後ＵＶ樹脂５２を被覆する前の
光ファイバ３を１３００〜１６００℃の範囲内の温度に
て加熱することで、光ファイバ３の温度が１２００〜１
７００℃となっている部分のうちの所定区間での光ファ
イバ３の冷却速度が遅くなり、光ファイバ３の構造緩和
が促進され、レイリー散乱強度をより低減することが可
能となる。
１にて加熱線引きされた後ＵＶ樹脂５２を被覆する前の
光ファイバ３を１３００〜１６００℃の範囲内の温度に
て加熱することで、光ファイバ３の温度が１２００〜１
７００℃となっている部分のうちの所定区間での光ファ
イバ３の冷却速度が遅くなり、光ファイバ３の構造緩和
が促進され、レイリー散乱強度をより低減することが可
能となる。
【００６１】また、徐冷用加熱炉２１の炉心管２３の位
置を、上述した（３）式を満足する位置とすることによ
り、線引き炉１１にて加熱線引きされた後ＵＶ樹脂５２
を被覆する前の光ファイバ３において温度が１２００〜
１７００℃となる部分の所定区間を、確実に加熱し、こ
の部分における冷却速度を適切に遅くすることができ
る。
置を、上述した（３）式を満足する位置とすることによ
り、線引き炉１１にて加熱線引きされた後ＵＶ樹脂５２
を被覆する前の光ファイバ３において温度が１２００〜
１７００℃となる部分の所定区間を、確実に加熱し、こ
の部分における冷却速度を適切に遅くすることができ
る。
【００６２】また、徐冷用加熱炉２１の炉心管２３の位
置を、炉心管２３に入る直前の光ファイバ温度（入線温
度）が１４００〜１８００℃の範囲となる位置とするこ
とにより、線引き炉１１にて加熱線引きされた後ＵＶ樹
脂５２を被覆する前の光ファイバ３において温度が１２
００〜１７００℃となる部分の所定区間を、確実に加熱
し、この部分における冷却速度を適切に遅くすることが
できる。
置を、炉心管２３に入る直前の光ファイバ温度（入線温
度）が１４００〜１８００℃の範囲となる位置とするこ
とにより、線引き炉１１にて加熱線引きされた後ＵＶ樹
脂５２を被覆する前の光ファイバ３において温度が１２
００〜１７００℃となる部分の所定区間を、確実に加熱
し、この部分における冷却速度を適切に遅くすることが
できる。
【００６３】また、徐冷用加熱炉２１の炉心管２３の全
長を、上述した（３）式を満足する長さとすることによ
り、線引き炉１１にて加熱線引きされた後ＵＶ樹脂５２
を被覆する前の光ファイバ３において温度が１２００〜
１７００℃となる部分の所定区間を、確実に加熱し、こ
の部分における冷却速度を適切に遅くすることができ
る。
長を、上述した（３）式を満足する長さとすることによ
り、線引き炉１１にて加熱線引きされた後ＵＶ樹脂５２
を被覆する前の光ファイバ３において温度が１２００〜
１７００℃となる部分の所定区間を、確実に加熱し、こ
の部分における冷却速度を適切に遅くすることができ
る。
【００６４】また、徐冷用加熱炉２１の炉心管２３内を
Ｎ2ガス雰囲気としているため、徐冷用加熱炉２１（炉
心管２３）内における冷却速度を低減することができ、
光ファイバ３の更なる低伝送損失化が可能となる。ま
た、線引き炉１１の炉心管１３内をＨｅガス雰囲気とす
ると、線引き炉１１（炉心管１３）内における光ファイ
バ３の冷却速度が３００００℃／秒程度となり、線引き
炉１１と徐冷用加熱炉２１との間で空冷としているため
に光ファイバ３の冷却速度が４０００〜５０００℃／秒
となり、光ファイバ母材２を加熱軟化させて一定径に漸
近させるまで速やかに冷却され、光ファイバ３の外径の
変動を抑制することが可能となる。また、線引き炉１１
の炉心管１３内をＨｅガス雰囲気とし、線引き炉１１と
徐冷用加熱炉２１との間で空冷とすると、徐冷用加熱炉
２１に入る前の、光ファイバ３の温度が１７００℃より
高くなる部分を４０００℃／秒以上の冷却速度にて冷却
することになるので、光ファイバ３の冷却のために必要
となる設備高さを低減することが可能となる。なお、１
７００℃より高温では、例えば３００００℃／秒程度で
急激に冷却しても、仮想温度が１７００℃より低くなる
ので、レイリー散乱には影響しない。
Ｎ2ガス雰囲気としているため、徐冷用加熱炉２１（炉
心管２３）内における冷却速度を低減することができ、
光ファイバ３の更なる低伝送損失化が可能となる。ま
た、線引き炉１１の炉心管１３内をＨｅガス雰囲気とす
ると、線引き炉１１（炉心管１３）内における光ファイ
バ３の冷却速度が３００００℃／秒程度となり、線引き
炉１１と徐冷用加熱炉２１との間で空冷としているため
に光ファイバ３の冷却速度が４０００〜５０００℃／秒
となり、光ファイバ母材２を加熱軟化させて一定径に漸
近させるまで速やかに冷却され、光ファイバ３の外径の
変動を抑制することが可能となる。また、線引き炉１１
の炉心管１３内をＨｅガス雰囲気とし、線引き炉１１と
徐冷用加熱炉２１との間で空冷とすると、徐冷用加熱炉
２１に入る前の、光ファイバ３の温度が１７００℃より
高くなる部分を４０００℃／秒以上の冷却速度にて冷却
することになるので、光ファイバ３の冷却のために必要
となる設備高さを低減することが可能となる。なお、１
７００℃より高温では、例えば３００００℃／秒程度で
急激に冷却しても、仮想温度が１７００℃より低くなる
ので、レイリー散乱には影響しない。
【００６５】また、徐冷用加熱炉２１から出た光ファイ
バ３の外径を測定するための外径測定器４１と、外径測
定器４１からの出力信号に応じて光ファイバ３の外径が
所定値となるようにドラム４２（駆動モータ４３）の回
転速度を制御する制御ユニット４４とを備えているの
で、徐冷用加熱炉２１から出て、外径長さが安定した状
態にある光ファイバ３の外径を測定して、この安定した
外径に基づいてドラム４２（駆動モータ４３）の回転速
度を制御され、光ファイバ３の線引き速度を適切に制御
することが可能となる。
バ３の外径を測定するための外径測定器４１と、外径測
定器４１からの出力信号に応じて光ファイバ３の外径が
所定値となるようにドラム４２（駆動モータ４３）の回
転速度を制御する制御ユニット４４とを備えているの
で、徐冷用加熱炉２１から出て、外径長さが安定した状
態にある光ファイバ３の外径を測定して、この安定した
外径に基づいてドラム４２（駆動モータ４３）の回転速
度を制御され、光ファイバ３の線引き速度を適切に制御
することが可能となる。
【００６６】次に、図３及び図４に基づいて、本実施形
態の変形例を説明する。図３に示されるように、石英系
光ファイバの線引き装置１０１においては、徐冷用加熱
炉２１のヒータ２２が、第１ヒータ７１、第２ヒータ７
２及び第３ヒータ７３を含んでいる。各ヒータ７１，７
２，７３は光ファイバ母材２を線引きする方向（図２に
おいて、上から下）に、第１ヒータ７１、第２ヒータ７
２、第３ヒータ７３の順で配設されている。各ヒータ７
１，７２，７３は、 Ｔ１＝Ｔ２＋２５℃ …………………… （４） Ｔ３＝Ｔ２−２５℃ …………………… （５） ここで、Ｔ１：炉心管２３の第１ヒータ７１に対応する
位置の内周面の表面温度 Ｔ２：炉心管２３の第２ヒータ７２に対応する位置の内
周面の表面温度 Ｔ３：炉心管２３の第３ヒータ７３に対応する位置の内
周面の表面温度 を満たすように、その温度が調節されている。なお、Ｔ
１とＴ２との温度差、あるいは、Ｔ２とＴ３との温度差
は、上述した２５℃に限られるものではなく、例えば３
０℃程度の温度差を付けるようにしてもよい。
態の変形例を説明する。図３に示されるように、石英系
光ファイバの線引き装置１０１においては、徐冷用加熱
炉２１のヒータ２２が、第１ヒータ７１、第２ヒータ７
２及び第３ヒータ７３を含んでいる。各ヒータ７１，７
２，７３は光ファイバ母材２を線引きする方向（図２に
おいて、上から下）に、第１ヒータ７１、第２ヒータ７
２、第３ヒータ７３の順で配設されている。各ヒータ７
１，７２，７３は、 Ｔ１＝Ｔ２＋２５℃ …………………… （４） Ｔ３＝Ｔ２−２５℃ …………………… （５） ここで、Ｔ１：炉心管２３の第１ヒータ７１に対応する
位置の内周面の表面温度 Ｔ２：炉心管２３の第２ヒータ７２に対応する位置の内
周面の表面温度 Ｔ３：炉心管２３の第３ヒータ７３に対応する位置の内
周面の表面温度 を満たすように、その温度が調節されている。なお、Ｔ
１とＴ２との温度差、あるいは、Ｔ２とＴ３との温度差
は、上述した２５℃に限られるものではなく、例えば３
０℃程度の温度差を付けるようにしてもよい。
【００６７】このように、第１ヒータ７１、第２ヒータ
７２、第３ヒータ７３を設けることにより、徐冷用加熱
炉２１の炉心管２３内において、線引き炉１１側を高温
に、樹脂硬化部３１（コーティングダイス５１）側を低
温とする温度勾配が与えられる。線引き炉１１にて加熱
線引きされた光ファイバ３の温度は、線引き炉１１側か
ら樹脂硬化部３１（コーティングダイス５１）側に向か
って低下する温度分布を有する。従って、上述したよう
に各々の温度が調節された第１ヒータ７１、第２ヒータ
７２、第３ヒータ７３を設けることによって、徐冷用加
熱炉２１に、線引き炉１１側を高温に、樹脂硬化部３１
（コーティングダイス５１）側を低温とする温度勾配が
与えられ、炉心管２３内が光ファイバ３の温度に対応し
た温度分布を有することとなり、光ファイバ３との温度
差を適切に保ち、光ファイバ３を更に適切な冷却速度に
て冷却することができる。
７２、第３ヒータ７３を設けることにより、徐冷用加熱
炉２１の炉心管２３内において、線引き炉１１側を高温
に、樹脂硬化部３１（コーティングダイス５１）側を低
温とする温度勾配が与えられる。線引き炉１１にて加熱
線引きされた光ファイバ３の温度は、線引き炉１１側か
ら樹脂硬化部３１（コーティングダイス５１）側に向か
って低下する温度分布を有する。従って、上述したよう
に各々の温度が調節された第１ヒータ７１、第２ヒータ
７２、第３ヒータ７３を設けることによって、徐冷用加
熱炉２１に、線引き炉１１側を高温に、樹脂硬化部３１
（コーティングダイス５１）側を低温とする温度勾配が
与えられ、炉心管２３内が光ファイバ３の温度に対応し
た温度分布を有することとなり、光ファイバ３との温度
差を適切に保ち、光ファイバ３を更に適切な冷却速度に
て冷却することができる。
【００６８】更なる変形例として、図４に示された線引
き装置２０１のように、徐冷用加熱炉２１を線引き炉１
１に連続して一体的に設けるように構成してもよい。こ
のように、徐冷用加熱炉２１を線引き炉１１に連続して
一体的に設けた場合においても、線引き炉１１にて加熱
線引きされた後ＵＶ樹脂５２を被覆する前の光ファイバ
３のうち、その温度が１２００〜１７００℃となる部分
の所定区間における冷却速度が遅くなることにより、構
造緩和が短時間の内に進行し、原子配列の乱雑さが低減
されるので、加熱線引きからＵＶ樹脂５２の被覆までの
極めて短い間で、レイリー散乱強度を低減して伝送損失
が低くされた光ファイバ３を製造することが可能とな
る。
き装置２０１のように、徐冷用加熱炉２１を線引き炉１
１に連続して一体的に設けるように構成してもよい。こ
のように、徐冷用加熱炉２１を線引き炉１１に連続して
一体的に設けた場合においても、線引き炉１１にて加熱
線引きされた後ＵＶ樹脂５２を被覆する前の光ファイバ
３のうち、その温度が１２００〜１７００℃となる部分
の所定区間における冷却速度が遅くなることにより、構
造緩和が短時間の内に進行し、原子配列の乱雑さが低減
されるので、加熱線引きからＵＶ樹脂５２の被覆までの
極めて短い間で、レイリー散乱強度を低減して伝送損失
が低くされた光ファイバ３を製造することが可能とな
る。
【００６９】
【発明の効果】以上、詳細に説明したとおり、本発明に
よれば、レイリー散乱強度の低減により、伝送損失が低
くされた光ファイバを製造するに際して、表面に樹脂が
被覆された光ファイバ素線の量産に適用することが可能
な光ファイバの製造装置及び製造方法を提供することが
できる。
よれば、レイリー散乱強度の低減により、伝送損失が低
くされた光ファイバを製造するに際して、表面に樹脂が
被覆された光ファイバ素線の量産に適用することが可能
な光ファイバの製造装置及び製造方法を提供することが
できる。
【図１】本発明による光ファイバの製造装置の実施形態
を示す概略構成図である。
を示す概略構成図である。
【図２】本発明による光ファイバの製造装置及び製造方
法による実施例と比較例を示す図表である。
法による実施例と比較例を示す図表である。
【図３】本発明による光ファイバの製造装置の実施形態
の変形例を示す概略構成図である。
の変形例を示す概略構成図である。
【図４】本発明による光ファイバの製造装置の実施形態
の変形例を示す概略構成図である。
の変形例を示す概略構成図である。
【図５】レイリー散乱係数と光ファイバの冷却速度との
関係を示す図表である。
関係を示す図表である。
１，１０１，２０１…線引き装置、２…光ファイバ母
材、３…光ファイバ、４…光ファイバ素線、１１…線引
き炉、１２…ヒータ、１３…炉心管、１４…不活性ガス
供給部、１５…不活性ガス供給通路、２１…徐冷用加熱
炉、２２…ヒータ、２３…炉心管、２４…Ｎ2ガス供給
部、２５…Ｎ2ガス供給通路、３１…樹脂硬化部、３２
…ＵＶランプ、４１…外径測定器、４２…ドラム、４３
…駆動モータ、４４…制御ユニット、４５…回転駆動
軸、５１…コーティングダイス、５２…ＵＶ樹脂液、６
１…ガイドローラ、７１…第１ヒータ、７２…第２ヒー
タ、７３…第３ヒータ。
材、３…光ファイバ、４…光ファイバ素線、１１…線引
き炉、１２…ヒータ、１３…炉心管、１４…不活性ガス
供給部、１５…不活性ガス供給通路、２１…徐冷用加熱
炉、２２…ヒータ、２３…炉心管、２４…Ｎ2ガス供給
部、２５…Ｎ2ガス供給通路、３１…樹脂硬化部、３２
…ＵＶランプ、４１…外径測定器、４２…ドラム、４３
…駆動モータ、４４…制御ユニット、４５…回転駆動
軸、５１…コーティングダイス、５２…ＵＶ樹脂液、６
１…ガイドローラ、７１…第１ヒータ、７２…第２ヒー
タ、７３…第３ヒータ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 齋藤 達彦 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 桑原 一也 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Ｆターム(参考） 2H050 AA01 AB04X AB10Y AC03 BA22 BA32 BB33Q
Claims (7)
- 【請求項１】 光ファイバ母材を加熱線引きし、線引き
された光ファイバを樹脂により被覆する光ファイバの製
造装置であって、 前記光ファイバ母材を加熱線引きする線引き炉と前記線
引きされた光ファイバを前記樹脂により被覆する樹脂被
覆部との間に、前記線引きされた光ファイバを前記光フ
ァイバの温度が１２００〜１７００℃の範囲内の温度で
あるように加熱する加熱炉が設けられていることを特徴
とする光ファイバの製造装置。 - 【請求項２】 前記加熱炉は、前記線引きされた光ファ
イバを１３００〜１６００℃の範囲内の温度にて加熱す
ることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバの製造
装置。 - 【請求項３】 前記加熱炉は、前記線引きされた光ファ
イバが通る炉心管を有し、 前記炉心管は、 Ｌ１≦０．２×Ｖ Ｌ１：線引き炉のヒータ下端から前記炉心管上端までの
距離（ｍ） Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満たす位置に配設されていることを特徴とする請求項
１又は２に記載の光ファイバの製造装置。 - 【請求項４】 前記加熱炉は、前記線引きされた光ファ
イバが通る炉心管を有し、前記炉心管は、前記線引きさ
れた光ファイバの前記炉心管への入線温度が１４００〜
１８００℃の範囲となる位置に配設されることを特徴と
する請求項１又は２に記載の光ファイバの製造装置。 - 【請求項５】 前記加熱炉は、前記線引きされた光ファ
イバが通る炉心管を有し、前記炉心管は、 Ｌ２≧Ｖ／８ Ｌ２：前記炉心管の全長（ｍ） Ｖ：線引き速度（ｍ／ｓ） を満たすように形成されていることを特徴とする請求項
１〜４のいずれか一項に記載の光ファイバの製造装置。 - 【請求項６】 前記加熱炉は、線引き炉側を高温に、樹
脂被覆部側を低温とする温度勾配が与えられていること
を特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光フ
ァイバの製造装置。 - 【請求項７】 光ファイバ母材を加熱線引きし、線引き
された光ファイバを樹脂により被覆する光ファイバの製
造方法であって、 前記光ファイバ母材を加熱線引きする線引き炉と前記線
引きされた光ファイバを前記樹脂により被覆する樹脂被
覆部との間に設けられる加熱炉にて、前記線引きされた
光ファイバを前記光ファイバの温度が１２００〜１７０
０℃の範囲内の温度であるように加熱することを特徴と
する光ファイバの製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14814499A JP4482954B2 (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 光ファイバの製造方法 |
| AU47817/00A AU773667B2 (en) | 1999-05-27 | 2000-05-26 | Production device and method for optical fiber |
| EP00929884.5A EP1205449B1 (en) | 1999-05-27 | 2000-05-26 | Production device and method for optical fiber |
| PCT/JP2000/003412 WO2000073224A1 (fr) | 1999-05-27 | 2000-05-26 | Dispositif de production et procede pour fibre optique |
| CNB200510106965XA CN100389084C (zh) | 1999-05-27 | 2000-05-26 | 光纤的制造装置和制造方法 |
| CNB008020574A CN1247477C (zh) | 1999-05-27 | 2000-05-26 | 光纤的制造装置和制造方法 |
| US11/245,095 US20060101861A1 (en) | 1999-05-27 | 2005-10-07 | Optical fiber making apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14814499A JP4482954B2 (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 光ファイバの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000335934A true JP2000335934A (ja) | 2000-12-05 |
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Family
ID=15446259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14814499A Expired - Fee Related JP4482954B2 (ja) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | 光ファイバの製造方法 |
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| Country | Link |
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| CN (1) | CN100389084C (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001027045A1 (fr) * | 1999-10-12 | 2001-04-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Procede de production de fibres optiques |
| JP2001192230A (ja) * | 1999-12-30 | 2001-07-17 | Alcatel | 線引き中の光ファイバーの冷却方法 |
| JP2001192228A (ja) * | 1999-12-30 | 2001-07-17 | Alcatel | 線引き中の光ファイバーの冷却方法 |
| JP2005162610A (ja) * | 2002-04-30 | 2005-06-23 | Corning Inc | 光ファイバの作製方法 |
| WO2014046274A1 (ja) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
| JP2015199621A (ja) * | 2014-04-07 | 2015-11-12 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
| KR20180029920A (ko) * | 2016-09-13 | 2018-03-21 | 스미토모 덴키 고교 가부시키가이샤 | 광 파이버 및 광 파이버 심선 |
| JP2018115905A (ja) * | 2017-01-17 | 2018-07-26 | 住友電気工業株式会社 | 評価方法 |
| JP2018537385A (ja) * | 2015-10-30 | 2018-12-20 | コーニング インコーポレイテッド | 光ファイバの製造方法、及び光ファイバ |
| CN114751640A (zh) * | 2022-04-29 | 2022-07-15 | 浙江奕菲科技有限公司 | 一种控制增强光强度的光学处理设备 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6048105B2 (ja) | 2012-12-12 | 2016-12-21 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ製造方法および光ファイバ |
| US9658394B2 (en) * | 2014-06-24 | 2017-05-23 | Corning Incorporated | Low attenuation fiber with viscosity matched core and inner clad |
| JP6295234B2 (ja) * | 2015-08-04 | 2018-03-14 | 株式会社フジクラ | 光ファイバの製造方法 |
| JP2017081796A (ja) * | 2015-10-29 | 2017-05-18 | 株式会社フジクラ | 光ファイバの製造方法 |
| JP7360270B2 (ja) | 2018-09-18 | 2023-10-12 | 株式会社フジクラ | 光ファイバの製造方法及び光ファイバの製造装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0321182A3 (en) * | 1987-12-14 | 1990-08-29 | AT&T Corp. | Methods of and apparatus for making optical fiber having relatively low absorption loss and product produced thereby |
| KR0150154B1 (ko) * | 1995-09-29 | 1998-10-15 | 김광호 | 전송 손실을 최소화 할 수 있는 광섬유의 인출 방법 및 장치 |
| JPH1025127A (ja) * | 1996-07-04 | 1998-01-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光ファイバの作製法 |
| JPH10218635A (ja) * | 1997-02-05 | 1998-08-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光ファイバの製造方法 |
| JPH11116264A (ja) * | 1997-10-15 | 1999-04-27 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバの線引方法及び線引装置 |
-
1999
- 1999-05-27 JP JP14814499A patent/JP4482954B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-05-26 CN CNB200510106965XA patent/CN100389084C/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6928840B1 (en) | 1999-10-12 | 2005-08-16 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber producing method |
| WO2001027045A1 (fr) * | 1999-10-12 | 2001-04-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Procede de production de fibres optiques |
| JP2001192230A (ja) * | 1999-12-30 | 2001-07-17 | Alcatel | 線引き中の光ファイバーの冷却方法 |
| JP2001192228A (ja) * | 1999-12-30 | 2001-07-17 | Alcatel | 線引き中の光ファイバーの冷却方法 |
| JP2005162610A (ja) * | 2002-04-30 | 2005-06-23 | Corning Inc | 光ファイバの作製方法 |
| JP2005523868A (ja) * | 2002-04-30 | 2005-08-11 | コーニング インコーポレイテッド | 線引き中のガラス光ファイバの熱処理のための方法及び装置 |
| EP2899168A4 (en) * | 2012-09-24 | 2016-10-12 | Sumitomo Electric Industries | PROCESS FOR PRODUCING OPTICAL FIBER |
| WO2014046274A1 (ja) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
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