JP2000227680A

JP2000227680A - 静電潜像現像用キャリア

Info

Publication number: JP2000227680A
Application number: JP27913299A
Authority: JP
Inventors: Kimitoshi Yamaguchi; 公利山口; Akihiro Koban; 昭宏小番
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1998-12-01
Filing date: 1999-09-30
Publication date: 2000-08-15

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】帯電制御性が良好で、充分なトナー帯電量が
得られ、且つ長時間使用しても、キャリアへのトナース
ペントや帯電量能力の低下が少なく、しかもトナー飛
散、および地肌汚れを生じることなく、長時間高画質を
維持することができるキャリアの提供。【解決手段】被覆層中に下記一般式（Ｉ）で表わされ
る４級アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物を
含有させる。例えば

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真、静電記
録、静電印刷などに使用される乾式２成分現像剤用キャ
リアに関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真に用いられている乾式現像方式
は、摩擦帯電付与部材と摩擦させた粉体トナーを、静電
潜像に静電的に付着させて可視像を形成するものであ
る。この乾式現像方法には、トナーのみを主成分とする
いわゆる一成分系現像方式と、ガラスビーズ、磁性体キ
ャリア、あるいは、それらの表面を樹脂などで被覆した
コートキャリアとトナーを混合して使用する、いわゆる
二成分系現像方式がある。

【０００３】後者で用いられる二成分現像剤は、比較的
大きなキャリア粒子表面上に微小なトナー粒子が両粒子
の摩擦により発生した電気力により保持されている。静
電潜像に近接されると、静電潜像が形成する電界によ
り、トナー粒子はキャリア粒子との結合力に打ち勝っ
て、静電潜像上に現像されるものである。そして、現像
剤は現像によって消費されたトナーを補充しながら反復
使用される。従って、キャリア粒子は長時間の使用中、
常にトナー粒子を所望する極性で、かつ、充分な帯電量
に摩擦帯電しなけれぱならない。

【０００４】しかしながら、粒子間の衝突、粒子と現像
装置内での機械的撹拌、又はこれらによる発熱で、キャ
リア粒子表面にトナーが融着し、いわゆるスペントトナ
ーが生じ、キャリア粒子の帯電特性が使用時間と共に低
下する。それに伴い、画像の地肌汚れや、トナー飛散が
生じるため、現像剤全体を取り替える必要が生じる。

【０００５】このようなスペント化を防止するため、キ
ャリア芯材表面に、表面エネルギーの低い樹脂、例えば
フッ素樹脂、シリコーン樹脂などをコートすることによ
りキャリアの長寿命化がはかられてきた。低表面エネル
ギーの樹脂を被覆したキャリアの例としては、次のよう
なものが挙げられる。

【０００６】特開昭５５−１２７５６９号公報：常温
硬化型シリコーン樹脂と正帯電性窒素樹脂で被覆したキ
ャリア特開昭５５−１５７７５１号公報：変性シリコーン樹
脂を少なくとも１種含有した被覆材をコートしたキャリ
ア特開昭５６−１４０３５８号公報：常温硬化型シリコ
ーン樹脂及びスチレン・アクリル樹脂を含有した樹脂被
覆層を有するキャリア特開昭５８−２０７０５４号公報：炭化ケイ素を含有
するシリコーン樹脂で表面を被覆したキャリア特開昭６１−１１０１６１号公報：２０ｄｙｎ／ｃｍ
以下の臨界表面張力を示す材料で被覆した正帯電性キャ
リア特開昭６２−２７３５７６号公報：フッ素アルキルア
クリレートを含有する被覆材でコートしたキャリアと、
含クロムアゾ染料を含むトナーからなる現像剤

【０００７】しかしながら、近年、省エネルギー化のた
めに、低温定着性のトナーが要求される様になってきて
おり、また、カラートナーにおいては充分な色調を得る
ために、軟化点の低いトナーが使用されることが多い。
更に、高画質化のためにトナーが小粒径化する傾向にあ
る。このようなトナーを用いた現像剤は、長時間使用す
ると、キャリアに対してスペントトナーが生じ易く、ト
ナーの帯電量低下や、トナー飛散及び地肌汚れが起こ
り、高画質が維持出来ないのが現状である。

【０００８】

【発明が解決しようとする謀題】従って、本発明の目的
は、以下の特性をもつキャリアを提供することにある。１）帯電制御性が良好で、充分なトナー帯電量が得られ
るキャリア、２）長時間使用しても、キャリアヘのトナースペントが
少なく、帯電量能力の低下が少ないキャリア、３）トナー飛散及び地肌汚れを生じることなく、長時間
高画質を維持できるキャリア。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成するための手段を鋭意検討した結果、特定の化
合物をコート素材に含有させ、更に特定の膜構成を持つ
シリコーン系樹脂系との組み合わせにより上記目的を達
成し得るこを見出し、本発明に到達した。即ち、本発明
によれば、第一に、芯材表面に樹脂被覆層を有する乾式
２成分現像剤用キャリアにおいて、被覆層中に下記一般
式（Ｉ）で表される４級アンモニウム塩構造を有する有
機ケイ素化合物を含有することを特徴とする静電潜像現
像用キャリアが提供される。

【化２】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃は、炭素数１〜６のアルキル基
又はフェニル基又は置換フェニル基を、Ｒ₄は、アルキ
ル基、置換アルキル墓、脂環アルキル基、フェニル基、
置換フェニル基、ベンジル基又は置換ベンジル基を表
す。また、Ｘは、ハロゲン原子、ベンゼンスルホン酸残
基、置換ベンゼンスルホン酸残基、ヒドロキシナフタレ
ンスルホン酸残基、又はＢＰｈ₄、ＢＦ₄、ＣｌＯ₄又は
ＳｂＣｌ₅を表す。ｎは正の整数であり、１又は２を示
す。）第二に、被覆層中に含有される化合物（Ｉ）のＸが、パ
ラトルエンスルホン酸残基であることを特徴とする上記
第一に記載した静電潜像現像用キャリアが提供される。
第三に、被覆層中に含有される化合物（Ｉ）が、ビスア
ンモニウム化合物であることを特徴とする上記第一に記
載した静電潜像現像用キャリアが提供される。第四に、
樹脂被覆層がシリコーン樹脂よりなることを特徴とする
上記第一に記載した静電潜像現像用キャリアが提供され
る。第五に、被覆材の厚さ方向において、芯材に近いほ
ど化合物（Ｉ）の含有量が多いことを特徴とする上記第
四に記載した静電潜像現像用キャリアが提供される。第
六に、被覆材の厚さ方向において、表層に近いほど低抵
抗物質が多く含有されていることを特徴とする上記第四
に記載した静電潜像現像用キャリアが提供される。第七
に、被覆材の厚さ方向において、芯材に近いほど化合物
（Ｉ）の量が多く、かつ、表層に近いほど低抵抗物質が
多く含有されていることを特徴とする上記第四に記載し
た静電潜現像用キャリアが提供される。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明について、具体的に
詳しく説明する。本発明の静電潜像現像用キャリアは、
芯材表面に樹脂被覆層を有するキャリアにおいて、被覆
層中に前記一般式（Ｉ）で表される４級アンモニウム塩
構造を有する有機ケイ素を化合物を含有することを特徴
とする。

【００１１】一般式（Ｉ）で表される、４級アンモニウ
ム塩構造を有する有機ケイ素化合物は、下記一般式
（Ａ）で表される３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
シランを、下記一般式（Ｂ）で表される４級化試剤で４
級化して得られる。

【化３】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃は、Ｃ₁からＣ₆のアルキル基、
フェニル基又は置換フェニル基を表す。）Ｒ₄Ｘ（Ｂ）（式中、Ｒ₄は、アルキル基、置換アルキル基、脂環ア
ルキル基、フェニル基、置換フェニル基、ベンジル基、
置換ベンジル基を表す。また、Ｘは、ハロゲン原子、ベ
ンゼンスルホン酸残基、置換ベンゼンスルホン酸残基、
ヒドロキシナフタレンスルホン酸残基、ＢＰｈ₄、Ｂ
Ｆ₄、ＣｌＯ₄又はＳｂＣｌ₅を表す。）

【００１２】本発明の前記一般式（Ｉ）で表される４級
アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物は、樹脂
被覆層中に含有させて使用する。被覆用樹脂としては、
各種のモノマーよりなる重合体を使用することができ
る。一般式（Ｉ）で表される化合物中、ビスアンモニウ
ム化合物および式中のＸがパラトルエンスルホン酸残基
である化合物が、特に好ましい。

【００１３】一般式（Ｉ）で表される４級アンモニウム
塩構造を有する有機ケイ素化合物の例としては、表１で
示すものが挙げられる。

【００１４】

【表１】

【００１５】本発明のキャリアにおいて、樹脂被覆層と
しては、シリコーン樹脂よりなるものが好ましい。本発
明で被覆樹脂として使用できるシリコーン樹脂として
は、下記一般式で表される繰り返し単位を含むシリコー
ン樹脂が挙げられる。

【化４】上式中Ｒは水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メ
トキシ基、Ｃ₁〜Ｃ₄の低級アルキル基又はフェニル基を
表す。

【００１６】このようなシリコーン樹脂には、ストレー
トシリコーン樹脂としては、ＫＲ２７１、ＫＲ２７２、
ＫＲ２８２、ＫＲ２５２、ＫＲ２５５、ＫＲ１５２（信
越化学工業社製）、ＳＲ２４００、ＳＲ２４０６（東レ
ダウコーニングシリコーン社製）などがある。また、変
性シリコーンとしては、エポキシ変性シリコーン、アク
リル変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、ウレ
タン変性シリコーン、ポリエステル変性シリヨーン、ア
ルキッド変性シリコーンなどが挙げられる。変性シリコ
ーンの例としては、エポキシ変性：ＥＳ−１００１Ｎ、
アクリル変性シリコーン：ＫＲ−５２０８、ポリエステ
ル変性：ＫＲ−５２０３、アルキッド変性：ＫＲ−２０
６、ウレタン変性：ＫＲ−３０５（以上、信越化学工業
社製）、エポキシ変性：ＳＲ２１１５、アルキッド変
性：ＳＲ２１１０（東レダウコーニングシリコーン社
製）などがある。

【００１７】本発明のキャリアでは、被覆材の厚さ方向
において、芯材に近いほど前期一般式（Ｉ）で表される
化合物の含有量が多いことが好ましい。と言うのは、樹
脂被膜の削れと、４級アンモニウム塩構造を有する有機
ケイ素化合物の帯電制御性を利用して、スペントによる
キャリアの帯電能力低下を防止することが出来るためで
ある。即ち、詳しく述べると、キャリアの繰り返し使用
に伴い、シリコーン樹脂は少しずつ被膜の削れが起きる
ので、被覆材の厚さ方向において、芯材に近いほど一般
式（Ｉ）で表される化合物の含有量を多くしておくと、
削れに伴ない、摩擦帯電能力の高いキャリアコート層が
出現し、経時での帯電量低下を防止する。キャリア芯材
に近いほど一般式（Ｉ）で表される化合物の比率を多く
する為には、該化合物の含有量の異なる２種のコート液
を作成し、一方のコート液を塗布しながら、他方のコー
ト液を任意の割合で投入して行けば良い。これにより、
帯電安定性の良い長寿命キャリアが得られる。

【００１８】また、本発明では、被覆材の厚さ方向にお
いて、表層に近いほど低抵抗物質が多く含有されている
ことが好ましい。と言うのは、有機ケイ素化合物を含有
するシリコーン樹脂コートキャリアにおいて、被覆材の
表層ほど、低抵抗物質を多く含有させておくと、経時で
の被膜削れによるキャリア帯電能力の低下をより少なく
することが出来るためである。これは、被覆材中の低抵
抗物質の量によりキャリアの飽和帯電能力が制限される
結果だと考えられ、低抵抗物質の含有量が多いとキャリ
アの帯電能力は低くなる。キャリア被覆材の表層に近い
ほど低抵抗物質の比率を多くする為には、低抵抗物質の
含有量の異なる２種のコート液を作成し、一方のコート
液を塗布しながら、他方のコート液を任意の割合で投入
して行けば良い。これにより、帯電安定性の良い長寿命
キャリアが得られる。

【００１９】使用可能な抵抗調整剤には、以下のような
ものがある。導電性ＺｎＯ、Ａｌ等の金属粉、各種の方
法で作られたＳｎＯ₂及び種々の元素をドープしたＳｎ
Ｏ₂ホウ化物、例えばＴｉＢ₂、ＺｎＢ₂、ＭｏＢ₂、炭化
ケイ素、及び導電性高分子（ポリアセチレン、ポリパラ
フェニレン、ポリ（パラ−フェニレンスルフィド）、ポ
リピロール、ポリエチレン−カーボンブラック）等があ
る。

【００２０】また、本発明では、被覆材の厚さ方向にお
いて、芯材に近いほど一般式（Ｉ）で表される化合物の
量が多く、かつ、表層に近いほど低抵抗物質が多く含有
されていると、経時での帯電量低下が、より小さくな
り、かつ高画質が維持される。

【００２１】なお、本発明では、被覆用樹脂として、以
下のものを単独又は２種以上混合して、使用することも
可能である。即ち、例えば、ポリスチレン、クロロポリ
スチレン、ポリ−α−メチルスチレン、スチレン−クロ
ロスチレン共重合体、スチレン−プロピレン共重合体、
スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−塩化ビニル
共重合体、スチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−
マレイン酸共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共
重合体（スチレン−アクリル酸メチル共重合体、スチレ
ン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−アクリル酸
ブチル共重合体、スチレン−アクリル酸オクチル共重合
体、スチレン−アクリル酸フェニル共重合体等）、スチ
レン−メタクリル酸エステル共重合体（スチレン−メタ
クリル酸メチル共重合体、スチレン−メタクリル酸エチ
ル共重合体、スチレン−メタクリル酸ブチル共重合体、
スチレン−メタクリル酸フェニル共重合体等）、スチレ
ン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−
アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体などの
スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アイオノマー樹
脂、ポリウレタン樹脂、ケトン樹脂、エチレン−エチル
アクリレート共重合体、キシレン樹脂、ポリアミド樹
脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。

【００２２】

【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、以下において、示す部はいずれも重量基準である。

【００２３】製造例１（トナーＡの作成）ポリエステル（重量平均分子量１２０００）１００部銅フタロシアニン顔料２部極性制御剤２部

【化５】上記の材料を、熱ロールで１２０℃で混練後、冷却固化
した後、粉砕、分級して、体積平均粒径７．１μｍのフ
ルカラー用シアントナーを得た。更に、このトナー１０
０部に対して、シリカＲ９７２（日本アエロジル社製）
を、０．５部添加混合してトナーＡを得た。

【００２４】製造例２（キャリアＢの作成）メチルメタクリレート樹脂（分子量約３０万）５部をト
ルエン９５部に溶解し、液を作成した。次に、キャリ
ア芯材（ＣｕＺｎフェライト、粒径５０μｍ、飽和磁気
モーメント５５ｅｍｕ／ｇ）に対して、流動床型コーテ
ィング装置を用いて、液を塗布し、平均膜厚０．１７
μｍの樹脂コートキャリアＢを得た。

【００２５】実施例１（キャリアＣの作成）次式（３）で表される４級アンモニウム塩構造を有する
有機ケイ素化合物を１０部をブチルセロソルブ９０部に
溶解し、液を作成した。Ｐｈ₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｎ⁺Ｍｅ₂（ｎＢｕ）Ｉ^- （３）製造例２で作成した、液１００部に対して、液１０
部を混合し、この液をキャリア芯材（ＣｕＺｎフェライ
ト、粒径５０μｍ、飽和磁気モーメント５５ｅｍｕ／
ｇ）に対して、流動床型コーティング装置を用いて塗布
し、平均膜厚０．１９μｍの樹脂コートキャリアＣを得
た。

【００２６】実施例２（キャリアＤの作成）４級アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物
（３）の代わりに、次式で表される有機ケイ素化合物
（４）を使用する以外は、実施例１と全く同じ方法でキ
ャリアを作成し、平均膜厚０．１８μｍの枇脂コートキ
ャリアをＤ得た。

【化６】

【００２７】実施例３（キャリアＥの作成）４級アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物
（３）の代わりに、次式で表される有機ケイ素化合物
（１０）を使用する以外は、実施例１と全く同じ方法で
キャリアを作成し、平均膜厚０．１９μｍの枇脂コート
キャリアＥを得た。

【化７】

【００２８】実施例４（キャリアＦの作成）次式（３）で表される４級アンモニウム塩構造を有する
有機ケイ素化合物１０部をブチルセロソルブ９０部に溶
解し、液を作成した。Ｐｈ₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｎ⁺Ｍｅ₂（ｎＢｕ）Ｉ^- （３）次に、下記処方で、液を調整した。シリコーン樹脂Ｕ（重量平均分子量約４０００）・・・固形分１０％のトルエン溶液１００部

【化８】触媒（ＣＨ₃）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ₃）₂ ０．５部液１００部に対して、液２０部を混合し、この液
をキャリア芯材（ＣｕＺｎフェライト、粒径５０μｍ、
飽和磁気モーメント５５ｅｍｕ／ｇ）に対して、流動床
型コーティング装置を用いて、１００℃の雰囲気下で塗
布した。更に、この樹脂被覆粒子を、１５０℃で１時間
加熱してシリコーン樹脂コートキャリアＦを得た。平均
膜厚は、０．１８μｍであった。

【００２９】実施例５（キャリアＧの作成）４級アンモニウム塩構造を有する有機ケイ素化合物
（３）を２０部にする以外は、実施例４と全く同じ方法
でコート液を作成した。コート液１００部に対し
て、コート液１００部を５部／分の割合で、均一に分
散させながら添加しつつ同時に、この液をキャリア芯材
（ＣｕＺｎフェライト、粒径５０μｍ、飽和磁気モーメ
ント５５ｅｍｕ／ｇ）に対して、流動床型コーティング
装置を用いて、１００℃の雰囲気下で、２０分かけて塗
布した。更に、この樹脂被覆粒子を、１５０℃で１時間
加熱してシリコーン樹脂コートキャリアＧを得た。平均
膜厚は、０．１９μｍであった。

【００３０】実施例６（キャリアＨの作成）実施例４で作成した液１００部に対して、カーボン
（ライオン・アクゾケッチェンブラックＥＣ−ＤＪ６０
０）１０部を添加し、ホモミキサーで３０分間分散し、
コート液を得た。次に、コート液１００部に対し
て、コート液１００部を５部／分の割合で、均一に分
散させながら添加しつつ同時に、この液をキャリア芯材
（ＣｕＺｎフェライト、粒径５０μｍ、飽和磁気モーメ
ント５５ｅｍｕ／ｇ）に対して、流動床型コーティング
装置を用いて、１００℃の雰囲気下で、２０分かけて塗
布した。更に、この樹脂被覆粒子を、１５０℃で１時間
加熱してシリコーン樹脂コートキャリアＨを得た。平均
膜厚は、０．１９μｍであった。

【００３１】実施例７（キャリアＩの作成）実施例６で作成したコート液１００部に対して、実施
例５で作成したコート液１００部を５部／分の割合
で、均一に分散させながら添加しつつ同時に、この液を
キャリア芯材（ＣｕＺｎフェライト、粒径５０μｍ、飽
和磁気モーメント５５ｅｍｕ／ｇ）に対して、流動床型
コーティング装置を用いて、１００℃の雰囲気下で、２
０分かけて塗布した。更に、この樹脂被覆粒子を、１５
０℃で１時間加熱してシリコーン樹脂コートキャリアＩ
を得た。平均膜厚は、０．２０μｍであった。

【００３２】応用例１キャリアＣ（１００部）に対して、トナーＡ（６部）を
加え、ボールミルで１０分撹拌して現像剤を作成した
所、トナー帯電量は、−１４．８μｃ／ｇであった。次
に、プリテール５００（リコー社製フルカラー複写機）
を使用し、単色モードで画像出しを行った所、地肌汚れ
のない高画質が得られた。引続き、２万枚の連統コピー
テストを行った所、１万５千枚位からわずかにトナー飛
散が見られたが、２万枚後も地肌汚れのない、高画質が
維持されていた。２万枚コピーテスト後のトナー帯電量
は、−１０．７μｃ／ｇであった。

【００３３】比較例１キャリアＢ（１００部）に対して、トナーＡ（６部）を
加え、ボールミルで１０分撹拌して現像剤を作成した
所、トナー帯電量は、−９．８μＣ／ｇであった。次
に、プリテール５００（リコー社製フルカラー複写機）
を使用し、単色モードで画像出しを行った所、地肌汚れ
のない高画質が得られた。引続き、２万枚の連統コピー
テストを行った所、すぐにトナー飛散が発生し始め、２
万枚時点では、トナー飛散、地肌汚れ共に非常に悪くな
った。２万枚コピーテスト後のトナー帯電量は、−４．
７μｃ／ｇと非常に低くなっていた。

【００３４】以下、応用例１と全く同じ方法で、キャリ
アＤ〜キャリアＩの試験を実施した。応用例２〜応用例
７の結果を、表２に示す。

【００３５】

【表２】

【００３６】本発明のキャリアの好ましい実施態様とし
ては、次の態様が挙げられる。（１）被覆層が４級アンモニウム塩構造を有する有機け
い素化合物を含有するメチルメタクリレート樹脂からな
るキャリア、（２）被覆層が４級アンモニウム塩構造有
機けい素化合物／パラトルエンスルホン酸残基を含有す
るメチルメタクリレート樹脂からなるキャリア、（３）
被覆層がビスアンモニウム・有機けい素化合物を含有す
るメチルメタクリレート樹脂からなるキャリア、（４）
被覆層が４級アンモニウム塩構造有する有機けい素化合
物を含有するシリコーン樹脂からなるキャリア、（５）
被覆層が厚さ方向において、芯材に近いほど４級アンモ
ニウム塩構造を有する有機けい素化合物を多く含有する
キャリア、（６）被覆層が４級アンモニウム塩構造有機
けい素化合物を含有し、表面に近いほど低抵抗物質を多
く含有しているキャリア、（７）被覆層が芯材に近いほ
ど４級アンモニウム塩構造有機けい素化合物を多く含有
し、かつ表面に近いほど低抵抗物質を多く含有するキャ
リア。

【００３７】

【発明の効果】キャリアの樹脂被覆層中に４級アンモ
ニウム塩構造を有する特定の有機けい素化合物を含有さ
せる事上記有機けい素化合物をシリコーン樹脂中に含有させ
る事上記のキャリア被覆層において、層の深さ方向で、有
機けい素化合物および導伝材の濃度勾配をもたせること
により、トナーに充分な帯電を付与し、しかも経時での
帯電量の低下が少ないキャリアを提供することができ、
長時間使用してもトナー飛散、地肌汚れを生じることが
なく、高画質が維持される。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】芯材表面に樹脂被覆層を有する乾式２成
分現像剤用キャリアにおいて、被覆層中に下記一般式
（Ｉ）で表される４級アンモニウム塩構造を有する有機
ケイ素化合物を含有することを特徴とする静電潜像現像
用キャリア。【化１】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃は、炭素数１〜６のアルキル
基、フェニル基又は置換フェニル基を、Ｒ₄は、アルキ
ル基、置換アルキル基、脂環アルキル基、フェニル基、
置換フェニル基、ベンジル基又は置換ベンジル基を表
す。また、Ｘは、ハロゲン原子、ベンゼンスルホン酸残
基、置換ベンゼンスルホン酸残基、ヒドロキシナフタレ
ンスルホン酸残基、又はＢＰｈ₄、ＢＦ₄、ＣｌＯ₄又は
ＳｂＣｌ₅を表す。ｎは正の整数であり、１又は２を示
す。）
【請求項２】被覆層中に含有される化合物（Ｉ）のＸ
が、パラトルエンスルホン酸残基であることを特徴とす
る請求項１記載の静電潜像現像用キャリア。
【請求項３】被覆層中に含有される化合物（Ｉ）が、
ビスアンモニウム化合物であることを特徴とする請求項
１記載の静電潜像現像用キャリア。
【請求項４】樹脂被覆層がシリコーン樹脂よりなるこ
とを特徴とする請求項１記載の静電潜像現像用キャリ
ア。
【請求項５】被覆材の厚さ方向において、芯材に近い
ほど化合物（Ｉ）の含有量が多いことを特徴とする請求
項４記載の静電潜像現像用キャリア。
【請求項６】被覆材の厚さ方向において、表層に近い
ほど低抵抗物質が多く含有されていることを特徴とする
請求項４記載の静電潜像現像用キャリア。
【請求項７】被覆材の厚さ方向において、芯材に近い
ほど化合物（Ｉ）の量が多く、かつ、表層に近いほど低
抵抗物質が多く含有されていることを特徴とする請求項
４記載の静電潜像現像用キャリア。