JP2000057175A - 半導体集積回路装置の自動配線方式 - Google Patents

半導体集積回路装置の自動配線方式

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JP2000057175A
JP2000057175A JP10220320A JP22032098A JP2000057175A JP 2000057175 A JP2000057175 A JP 2000057175A JP 10220320 A JP10220320 A JP 10220320A JP 22032098 A JP22032098 A JP 22032098A JP 2000057175 A JP2000057175 A JP 2000057175A
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Mitsuaki Hayashi
林  光昭
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 2つの機能ブロックの端子どうしを、中間の
機能ブロック内の回路部自体の配線との間に容量を生じ
させないで自動配線できるようにする。 【解決手段】 各機能ブロックのレイアウトデータをデ
ータベースに記憶し、中間の機能ブロックにおける配線
禁止領域を定める矩形データCのマスクレイアウトレイ
アをデータベースに記憶しておく。CPUは、データー
ベースから各機能ブロックの配置情報、端子情報、配線
規則をそれぞれ読み出し、2つの機能ブロックの接続す
べき端子A,A’間、B,B’間を前記各情報・規則に
従って接続配線することが可能なすべての仮想配線の経
路を生成し、矩形データCが指定する配線禁止領域の仮
想配線を除外し、除外が行われた残りの仮想配線の経路
から配線距離が最短になる経路を算出し、自動配線を行
う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置において2つの機能ブロックの端子どうしをこれら両
機能ブロックの間の別の機能ブロックを介して自動配線
する方式に関する。本明細書において、「配線」や「接
続」という表現は、物理的な意味での配線や接続を意味
するものではなく、そのような物理的接続を行う前提と
なる「配線の設計のためのデータを取得する」という意
味で用いる。
【0002】
【従来の技術】近年、機器の小型化、高機能化に伴って
機器に要求される多くの機能を1チップの半導体集積回
路で実現することが求められている。多くの機能を1チ
ップ化した半導体集積回路は、機器の高機能化に伴い高
速動作が求められるとともに、大規模化も進んでいる。
このような背景の中で、半導体集積回路を構成する機能
ブロックどうしの接続配線は、コンピュータ支援設計
(CAD)システムを用いて自動的に行われるが、機能
ブロック間の信号伝搬時間と、機能ブロック間の配線領
域によるチップ面積の増加を大きく左右するため、半導
体集積回路を実現する上でひとつの重要な課題となって
いる。
【0003】図25は従来の半導体集積回路装置の自動
配線方式の構成を示すブロック図であり、101,10
2,103はデータベース、104はCPU(中央処理
装置)、105はキーボードやマウスなどの外部入力装
置、106はデータバスである。なお、CPUによる制
御・演算等のためのプログラムを格納しているROM
(リードオンリーメモリ)および制御・演算等を補助す
るとともにデータを格納するRAM(ランダムアクセス
メモリ)は図示を省略している。
【0004】データベース101は機能ブロックの配置
情報を保管するもので、半導体集積回路を構成する各機
能ブロックが半導体集積回路上のどの位置に配置される
かといった情報をもつ。データベース102は端子情報
を保管するもので、各機能ブロックが有する各端子の位
置と各端子が他の機能ブロックのどの端子に接続配線さ
れるかといった情報と、接続配線すべき複数の配線の内
どの端子間の配線から接続配線するかといった優先順位
の情報をもつ。データベース103は配線規則を保管す
るもので、機能ブロック間を接続配線するためのX方向
に用いる配線層とY方向に用いる配線層を定義した情報
と、X方向およびY方向の配線層の幅および間隔を定義
した情報と、X方向の配線層とY方向の配線層を接続配
線するヴィアホールの大きさと各配線層とヴィアホール
との配置関係を定義した情報とからなる。本例におい
て、X方向の配線層は2層配線(2層目配線)で定義
し、Y方向の配線層は3層配線(3層目配線)で定義す
る。
【0005】CPU104はデータバス106を介し
て、データベース101の配置情報と、データベース1
02の端子情報と、データベース103の配線規則を読
み込み、機能ブロックの端子間を自動的に接続配線する
機能を有している。
【0006】図26は機能ブロック121,122,1
23からなる半導体集積回路の模式図である。機能ブロ
ック121は端子Aと端子Bを有し、機能ブロック12
3は端子A’と端子B’を有し、自動配線により端子A
と端子A’を接続配線し、端子Bと端子B’を接続配線
することとする。機能ブロック121側の端子A,Bと
機能ブロック123側の端子A’,B’とは上下関係が
逆になっている。なお、機能ブロック121,122,
123内での配線は一層配線で設計されている。
【0007】CPU104の動作は、外部入力装置10
5からの入力に基づき開始される。CPU104の機能
について、図27を参照しながら説明する。図27はC
PU104による処理を表すフローチャートである。外
部入力装置105の入力に基づきステップ111から順
に処理が開始される。ステップ111ではデータベース
101から各機能ブロックの配置情報を読み込む。ステ
ップ112ではデータベース102から端子情報を読み
込む。ステップ113ではデータベース103から配線
規則を読み込む。
【0008】ステップ114〜116は、ステップ11
1,112,113により読み込んだ情報・規則から各
端子を接続配線するステップであり、図28、図29を
参照しながら説明する。ステップ114では、前記ステ
ップ113で読み込んだ配線規則に従い、端子Aと端子
A’とが、また、端子Bと端子B’とが接続配線可能と
なるすべての経路を仮想配線として生成する。図28は
このステップ114での仮想配線の模式図である。機能
ブロック121と機能ブロック123間において接続す
べき各端子A,A’,B,B’から各々X方向に2層配
線データを仮想的に生成する。次に前記ステップ113
で読み込んだデータベース103の配線規則に従い、仮
想的に生成した2層配線データと平行する方向に2層配
線データを仮想的に複数生成する。更に2層配線データ
と直交する方向にもデータベース103の配線規則に従
い、3層配線データを仮想的に複数生成する。図28で
は、仮想の2層配線データが機能ブロック122の下面
側に横方向の破線で示され、仮想の3層破線データが上
面側に縦方向の実線で示されている。
【0009】ステップ115では、前記ステップ114
で生成した仮想配線データから、前記ステップ112で
読み込んだ端子情報のうちの接続順位に従って最短距離
で接続配線する経路を算出する。本例では、端子Aと端
子A’との接続が第1位であり、端子Bと端子B’との
接続が第2位と定義されているものとする。まず前記ス
テップ114で仮想的に生成した配線経路より、端子A
と端子A’を最短距離で接続配線する配線経路を任意に
算出し決定する。次に端子Aと端子A’の接続配線に用
いられた配線経路を除き、端子Bと端子B’を最短距離
で接続配線する配線経路を任意に算出し決定する。
【0010】ステップ116では、前記ステップ115
で算出した配線経路に従って、図29の模式図に示すよ
うに、各々X方向に沿った2層配線データおよびY方向
に沿った3層配線データを生成するとともに、2層配線
と3層配線の交差箇所に前記ステップ113で読み込ん
だデータベース103の配線規則をもとにヴィアホール
データを生成する。図29ではヴィアホールを黒点で示
してある。4つの端子A,A’,B,B’はともに2層
目に位置している。端子Aからまず2層配線(破線)と
してX方向に経路が延び、ヴィアホールを介して3層配
線(実線)としてY方向に経路が延び、さらにヴィアホ
ールを介して2層配線(破線)としてX方向に経路が延
びて、端子A’へと接続配線されている。同様に、端子
Bからまず2層配線(破線)としてX方向に経路が延
び、ヴィアホールを介して3層配線(実線)としてY方
向に経路が延び、さらにヴィアホールを介して2層配線
(破線)としてX方向に経路が延びて、端子B’へと接
続配線されている。端子Bと端子B’との配線経路中の
Y方向部分は、端子Aと端子A’との配線経路中のX方
向部分に対して立体的に交差している。端子A,A’の
配線経路中のY方向部分をヴィアホールを介して3層配
線としてあるのは、図示しない他の配線とのショートを
回避するためである。
【0011】この従来の自動配線方式では、図29に示
すように機能ブロック122を間に挟んで配置された機
能ブロック121と機能ブロック123との接続配線が
機能ブロック122上で行われるため、接続配線を最短
距離で行うことができ、配線遅延を抑制できるととも
に、特に接続配線のみの領域を必要とせず面積の増加も
抑制した接続配線が可能となる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の自動配線方式においては、機能ブロック121
と機能ブロック123とを接続配線する配線はその下層
を通過する機能ブロック122内の図示しない配線との
間に容量を生じてしまう。そのため機能ブロック121
と機能ブロック123とを接続配線する配線が遷移する
際に、その配線の下層にある機能ブロック122内の配
線がカップリングによるノイズの影響を受け誤動作を起
こしたり、機能ブロック122内の配線の容量が予想以
上に増加し信号遅延による誤動作を起こしたりしてしま
うという問題がある。
【0013】本発明は上記従来の問題を解決するもの
で、機能ブロック内の回路部自体の配線との間に容量を
生じさせないで自動配線が行えるようにすることを目的
としている。
【0014】
【課題を解決するための手段】中間に位置する機能ブロ
ック内において、上層を配線が通過するとした場合に信
号遅延や誤動作を起こすおそれのある領域については予
めわかっている。そこで、本発明にかかわる半導体集積
回路装置の自動配線方式においては、前記の配線禁止領
域を指定するための配線禁止情報を用意しておき、その
配線禁止情報を自動配線のフローに組み込むことによ
り、配線禁止領域を除く領域で自動配線を行う。これに
より、離れた機能ブロック端子間の接続配線は、機能ブ
ロック内の回路部自体の配線との間に信号遅延の原因と
なる容量を生じることがなく、また、カップリングによ
るノイズの影響による誤動作を生じることがない。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明にかかわる請求項1の半導
体集積回路装置の自動配線方式は、2つの機能ブロック
の端子どうしをこれら両機能ブロックの間の別の機能ブ
ロックを介して自動配線する方式であって、前記別の機
能ブロックにおける配線禁止領域を定める配線禁止情報
を設定しておき、自動配線中に現れる仮想配線のうち前
記配線禁止情報に基づいて配線禁止領域内の仮想配線を
除外し、残りの仮想配線データに基づいて自動配線を行
うように構成されている。これにより、離れた2つの機
能ブロックの端子どうし間を、機能ブロック内の回路部
自体の配線との間に容量を生じさせることなく自動配線
することができる。
【0016】本発明にかかわる請求項2の半導体集積回
路装置の自動配線方式は、2つの機能ブロックの端子ど
うしをこれら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを
介して自動配線する方式であって、前記別の機能ブロッ
クにおける配線禁止領域を定める矩形データを設定して
おき、自動配線中に現れる仮想配線のうち前記矩形デー
タに基づく配線禁止領域内の仮想配線を除外し、残りの
仮想配線データに基づいて自動配線を行うように構成さ
れている。中間の機能ブロックで上層を配線が通過する
とした場合に信号遅延や誤動作を起こすおそれのある領
域を配線禁止領域として定めるのに、矩形データを設定
しておけばよい。これにより、離れた2つの機能ブロッ
クの端子どうし間を、機能ブロック内の回路部自体の配
線との間に容量を生じさせることなく自動配線する。
【0017】本発明にかかわる請求項3の半導体集積回
路装置の自動配線方式は、2つの機能ブロックの端子ど
うしをこれら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを
介して自動配線する方式であって、前記別の機能ブロッ
クにおける配線禁止領域を定めるセルデータに対応した
セルデータ名を設定しておき、自動配線中に現れる仮想
配線のうち前記セルデータ名に基づく配線禁止領域内の
仮想配線を除外し、残りの仮想配線データに基づいて自
動配線を行うように構成されている。中間の機能ブロッ
クで上層を配線が通過するとした場合に信号遅延や誤動
作を起こすおそれのある領域を配線禁止領域として定め
るのに、その領域のセルデータに対応したセルデータ名
を設定しておけばよい。これにより、離れた2つの機能
ブロックの端子どうし間を、機能ブロック内の回路部自
体の配線との間に容量を生じさせることなく自動配線す
る。
【0018】本発明にかかわる請求項4の半導体集積回
路装置の自動配線方式は、2つの機能ブロックの端子ど
うしをこれら両機能ブロックの間のROMまたはRAM
機能を有するメモリ機能ブロックを介して自動配線する
方式であって、前記メモリ機能ブロックにおけるメモリ
セルアレイ部の領域とこのメモリセルアレイ部内のビッ
ト線の方向とを設定しておき、自動配線中に現れる仮想
配線のうち前記メモリセルアレイ部内での前記ビット線
方向と平行な仮想配線を除外し、残りの仮想配線データ
に基づいて自動配線を行うように構成されている。中間
のメモリ機能ブロックで上層を配線が通過するとした場
合にビット線容量増大によって信号遅延や誤動作を起こ
すおそれのある信号線の領域を配線禁止領域として定め
るのに、メモリセルアレイ部の領域とこのメモリセルア
レイ部内のビット線の方向とを設定しておけばよい。こ
れにより、離れた2つの機能ブロックの端子どうし間
を、機能ブロック内の回路部自体の配線との間に容量を
生じさせることなく自動配線する。
【0019】本発明にかかわる請求項5の半導体集積回
路装置の自動配線方式は、2つの機能ブロックの端子ど
うしをこれら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを
介して自動配線する方式であって、前記別の機能ブロッ
クにおける配線禁止領域を定める信号線データに対応し
た信号線名を設定しておき、自動配線中に現れる仮想配
線のうち前記信号線名に基づく配線禁止領域内の仮想配
線を除外し、残りの仮想配線データに基づいて自動配線
を行うように構成されている。中間の機能ブロックで上
層を配線が通過するとした場合に信号遅延や誤動作を起
こすおそれのある領域を配線禁止領域として定めるの
に、その領域の信号線データに対応した信号線名を設定
しておけばよい。これにより、離れた2つの機能ブロッ
クの端子どうし間を、機能ブロック内の回路部自体の配
線との間に容量を生じさせることなく自動配線する。
【0020】本発明にかかわる請求項6の半導体集積回
路装置の自動配線方式は、次のような構成となってい
る。2つの機能ブロックの端子どうしをこれら両機能ブ
ロックの間の別の機能ブロックを介して自動配線する方
式であって、各機能ブロックの配置情報を記憶する手段
と、前記2つの機能ブロックの端子位置および接続先の
端子についての端子情報を記憶する手段と、機能ブロッ
ク間を接続配線する配線層とそれとは異なる配線層を接
続配線するヴィアホールの配線規則を記憶する手段と、
前記別の機能ブロックにおける配線禁止領域を定める矩
形データを記憶する手段と、2つの機能ブロックの接続
すべき端子間を前記各情報・規則に従って接続配線する
ことが可能なすべての仮想配線の経路を生成する手段
と、前記の生成された仮想配線の経路から前記矩形デー
タが指定する配線禁止領域の仮想配線を除外する手段
と、前記の除外が行われた残りの仮想配線の経路から配
線距離が最短になる経路を算出する手段とを備えてい
る。中間の機能ブロックで上層を配線が通過するとした
場合に信号遅延や誤動作を起こすおそれのある領域を配
線禁止領域として定めるのに、矩形データを設定してお
けばよい。これにより、離れた2つの機能ブロックの端
子どうし間を、機能ブロック内の回路部自体の配線との
間に容量を生じさせることなく自動配線する。
【0021】本発明にかかわる請求項7の半導体集積回
路装置の自動配線方式は、次のような構成となってい
る。2つの機能ブロックの端子どうしをこれら両機能ブ
ロックの間の別の機能ブロックを介して自動配線する方
式であって、各機能ブロックの配置情報を記憶する手段
と、前記2つの機能ブロックの端子位置および接続先の
端子についての端子情報を記憶する手段と、機能ブロッ
ク間を接続配線する配線層とそれとは異なる配線層を接
続配線するヴィアホールの配線規則を記憶する手段と、
前記別の機能ブロックにおける配線禁止領域を定めるセ
ルデータを指定するセルデータ名を記憶する手段と、2
つの機能ブロックの接続すべき端子間を前記各情報・規
則に従って接続配線することが可能なすべての仮想配線
の経路を生成する手段と、前記の生成された仮想配線の
経路から前記セルデータ名が指定するセルデータに対応
した配線禁止領域の仮想配線を除外する手段と、前記の
除外が行われた残りの仮想配線の経路から配線距離が最
短になる経路を算出する手段とを備えている。中間の機
能ブロックで上層を配線が通過するとした場合に信号遅
延や誤動作を起こすおそれのある領域を配線禁止領域と
して定めるのに、その領域のセルデータに対応したセル
データ名を設定しておけばよい。これにより、離れた2
つの機能ブロックの端子どうし間を、機能ブロック内の
回路部自体の配線との間に容量を生じさせることなく自
動配線する。
【0022】本発明にかかわる請求項8の半導体集積回
路装置の自動配線方式は、次のような構成となってい
る。2つの機能ブロックの端子どうしをこれら両機能ブ
ロックの間のROMまたはRAM機能を有するメモリ機
能ブロックを介して自動配線する方式であって、各機能
ブロックの配置情報を記憶する手段と、前記2つの機能
ブロックの端子位置および接続先の端子についての端子
情報を記憶する手段と、機能ブロック間を接続配線する
配線層とそれとは異なる配線層を接続配線するヴィアホ
ールの配線規則を記憶する手段と、前記メモリ機能ブロ
ックにおけるメモリセルアレイ部の領域とメモリセルア
レイ部でのビット線方向とを記憶する手段と、2つの機
能ブロックの接続すべき端子間を前記各情報・規則に従
って接続配線することが可能なすべての仮想配線の経路
を生成する手段と、前記の生成された仮想配線の経路か
ら前記メモリセルアレイ部の領域内でビット線方向と平
行な仮想配線を除外する手段と、前記の除外が行われた
残りの仮想配線の経路から配線距離が最短になる経路を
算出する手段とを備えている。中間のメモリ機能ブロッ
クで上層を配線が通過するとした場合にビット線容量増
大によって信号遅延や誤動作を起こすおそれのある信号
線の領域を配線禁止領域として定めるのに、メモリセル
アレイ部の領域とこのメモリセルアレイ部内のビット線
の方向とを設定しておけばよい。これにより、離れた2
つの機能ブロックの端子どうし間を、機能ブロック内の
回路部自体の配線との間に容量を生じさせることなく自
動配線する。
【0023】本発明にかかわる請求項9の半導体集積回
路装置の自動配線方式は、次のような構成となってい
る。2つの機能ブロックの端子どうしをこれら両機能ブ
ロックの間の別の機能ブロックを介して自動配線する方
式であって、各機能ブロックの配置情報を記憶する手段
と、前記2つの機能ブロックの端子位置および接続先の
端子についての端子情報を記憶する手段と、機能ブロッ
ク間を接続配線する配線層とそれとは異なる配線層を接
続配線するヴィアホールの配線規則を記憶する手段と、
前記別の機能ブロックにおける信号線のうちで配線禁止
領域に対応する信号線の信号線名を記憶する手段と、2
つの機能ブロックの接続すべき端子間を前記各情報・規
則に従って接続配線することが可能なすべての仮想配線
の経路を生成する手段と、前記の生成された仮想配線の
経路から前記信号線名が指定する信号線に対応した配線
禁止領域の仮想配線を除外する手段と、前記の除外が行
われた残りの仮想配線の経路から配線距離が最短になる
経路を算出する手段とを備えている。中間の機能ブロッ
クで上層を配線が通過するとした場合に信号遅延や誤動
作を起こすおそれのある領域を配線禁止領域として定め
るのに、その領域の信号線データに対応した信号線名を
設定しておけばよい。これにより、離れた2つの機能ブ
ロックの端子どうし間を、機能ブロック内の回路部自体
の配線との間に容量を生じさせることなく自動配線す
る。
【0024】以下、本発明にかかわる半導体集積回路装
置の自動配線方式の具体的な実施の形態を図面に基づい
て詳細に説明する。
【0025】(実施の形態1)図1は本発明の実施の形
態1の半導体集積回路装置の自動配線方式の構成を示す
ブロック図であり、符号の11,12,101,10
2,103はデータベース、104はCPU(中央処理
装置)、105はキーボードやマウスなどの外部入力装
置、106はデータバスである。なお、CPUによる制
御・演算等のためのプログラムを格納しているROM
(リードオンリーメモリ)および制御・演算等を補助す
るとともにデータを格納するRAM(ランダムアクセス
メモリ)は図示を省略している。前記した従来例の自動
配線方式の場合と同様に、データベース101は機能ブ
ロックの配置情報を保管するもので、半導体集積回路を
構成する各機能ブロックが半導体集積回路上のどの位置
に配置されるかといった情報をもつ。データベース10
2は端子情報を保管するもので、各機能ブロックが有す
る各端子の位置と各端子が他の機能ブロックのどの端子
に接続配線されるかといった情報と、接続配線すべき複
数の配線の内どの端子間の配線から接続配線するかとい
った優先順位の情報をもつ。データベース103は配線
規則を保管するもので、機能ブロック間を接続配線する
ためのX方向に用いる配線層とY方向に用いる配線層を
定義した情報と、X方向およびY方向の配線層の幅およ
び間隔を定義した情報と、X方向の配線層とY方向の配
線層を接続配線するヴィアホールの大きさと各配線層と
ヴィアホールとの配置関係を定義した情報とからなる。
X方向の配線層は2層目配線で定義し、Y方向の配線層
は3層目配線で定義する。データベース11は、半導体
集積回路装置を構成する各機能ブロックのレイアウトデ
ータを保管するものである。データベース12は、後述
する機能ブロック間の接続配線を禁止するマスクレイア
ウトレイア(配線禁止情報)を保管するものである。C
PU104はデータバス106を介して、データベース
101の配置情報と、データベース102の端子情報
と、データベース103の配線規則を読み込み、データ
ベース11から各機能ブロックのレイアウトデータを読
み込み、データベース12から矩形データCのマスクレ
イアウトレイアを読み込み、後述するような配線禁止の
処理を行った上で、機能ブロックの端子間を自動的に接
続配線する機能を有している。
【0026】図2は本実施の形態1における半導体集積
回路の模式図であり、前記従来例の図26と同じ機能ブ
ロック121,122,123から構成され、端子およ
び配線定義についても図26と同一であるが、機能ブロ
ック122の内部には機能ブロック間の接続配線が上層
を通過するとした場合に誤動作を起こすおそれのある回
路部を包含するために設けた矩形データCのマスクレイ
アウトレイアにより配線禁止領域(ハッチング部分)を
新たに設定してある。
【0027】本実施の形態1におけるCPU104の機
能について図3を参照しながら説明する。図3はCPU
104による処理を表すフローチャートである。前記従
来例の場合と同様に、外部入力装置105の入力に基づ
きステップ111から順に処理が開始される。ステップ
111ではデータベース101から各機能ブロックの配
置情報を読み込む。ステップ112ではデータベース1
02から端子情報を読み込む。ステップ113ではデー
タベース103から配線規則を読み込む。ステップ11
4では、前記ステップ113で読み込んだ配線規則に従
い、端子Aと端子A’とが、また、端子Bと端子B’と
が接続配線可能となるすべての経路を仮想配線として生
成する(図4参照)。
【0028】ステップ14ではデータベース11より各
機能ブロックのレイアウトデータを読み込む。ステップ
15ではデータベース12から矩形データCのマスクレ
イアウトレイアを読み込む。ステップ16では前記ステ
ップ14で読み込んだレイアウトデータと前記ステップ
15で読み込んだマスクレイアウトレイアにより、半導
体集積回路上での配線禁止領域を定めた矩形データCの
配置と領域を検出する。図4はステップ16までの仮想
配線の模式図である。
【0029】ステップ17では、前記ステップ114で
仮想的に生成した配線経路からステップ16により検出
した配線禁止領域に対応する矩形データCが包含する部
分を配線経路から除外する。図5は除外した様子を示す
模式図である。図4においてX方向およびY方向の仮想
配線のうち矩形データCで示す配線禁止領域内に表示さ
れている幾つかのX方向・Y方向の仮想配線が図5にお
いては消去されている。
【0030】ステップ115では、前記ステップ114
で生成した仮想配線データよりステップ17で除外した
残りの仮想配線データから、前記ステップ112で読み
込んだ端子情報のうちの接続順位に従って最短距離で接
続配線する経路を算出する。本例では、端子Aと端子
A’との接続が第1位であり、端子Bと端子B’との接
続が第2位と定義されているものとする。まず前記の残
りの仮想配線データによる配線経路より、端子Aと端子
A’を最短距離で接続配線する配線経路を任意に算出し
決定する。次に端子Aと端子A’の接続配線に用いられ
た配線経路を除き、端子Bと端子B’を最短距離で接続
配線する配線経路を任意に算出し決定する。
【0031】ステップ18は前記ステップ115の結
果、接続配線経路が算出できたか、できなかったかを判
定するステップであり、できなかった場合は一旦処理を
ストップし、機能ブロック配置を変更するなどの処置を
行った後、再度START(ステップ111)から処理
を行う必要がある。
【0032】ステップ116では、前記ステップ115
で算出した配線経路に従って、図6の模式図に示すよう
に、各々X方向に沿った2層配線データおよびY方向に
沿った3層配線データを生成するとともに、2層配線と
3層配線の交差箇所に前記ステップ113で読み込んだ
データベース103の配線規則をもとにヴィアホールデ
ータ(黒点参照)を生成する。4つの端子A,A’,
B,B’はともに2層目に位置している。端子Aからま
ず2層配線(破線)としてX方向に経路が延び、ヴィア
ホールを介して3層配線(実線)へと続くが、この3層
配線は矩形データCで示す配線禁止領域(ハッチング部
分)を避けるようにしてY方向に経路が延び、さらにヴ
ィアホールを介して2層配線(破線)としてX方向に経
路が延びて、端子A’へと接続配線されている。同様
に、端子Bからまず2層配線(破線)としてX方向に沿
って矩形データCで示す配線禁止領域を避ける位置まで
経路が延び、ヴィアホールを介して3層配線(実線)と
してY方向に経路が延び、さらにヴィアホールを介して
2層配線(破線)としてX方向に経路が延びて、端子
B’へと接続配線されている。端子Aと端子A’との配
線経路中のY方向部分は、端子Bと端子B’との配線経
路中のX方向部分に対して立体的に交差している。端子
B,B’の配線経路中のY方向部分をヴィアホールを介
して3層配線としてあるのは、図示しない他の配線との
ショートを回避するためである。なお、機能ブロック1
21側の端子A,Bと機能ブロック123側の端子
A’,B’とは上下関係が逆になっている。
【0033】本実施の形態1によれば、機能ブロックの
内部に上層での接続配線を禁止する矩形データを入力
し、その矩形データによる配線禁止情報を自動配線方式
に新たに組み入れることにより、機能ブロックの内部に
おいて上層が配線経路になったとした場合に誤動作、性
能低下を起こすような回路部分を除外した状態で機能ブ
ロックどうしの接続配線が可能になるため、機能ブロッ
クの回路動作を考慮した自動接続配線が可能となる。
【0034】(実施の形態2)図7は実施の形態2の半
導体集積回路装置の自動配線方式の構成を示すブロック
図であり、前記実施の形態1における図1の構成に対
し、データベース12の代わりにデータベース20を追
加した構成となっている。このデータベース20は、機
能ブロックを構成するセルデータの中で、もしも機能ブ
ロック間の接続配線が上層を通過するとした場合に誤動
作を起こすおそれのある機能ブロック内の回路部に該当
するセルデータについての名称であるセルデータ名を保
管するものである。すなわち、セルデータ名の指定に基
づいて配線禁止領域のセルデータを判断できるようにな
っている。その他の構成は実施の形態1(図1)と同様
であるので、同一部分について同一符号を付すにとど
め、説明を省略する。
【0035】図8は本実施の形態2における半導体集積
回路の模式図であり、前記実施の形態1の図2と同じ機
能ブロック121,122,123から構成され、端子
および配線の定義については図2と同一である。本実施
の形態2においては、機能ブロック122の内部には機
能ブロック間の接続配線が上層を通過するとした場合に
誤動作を起こすおそれのある回路部を包含するために設
けた矩形の配線禁止領域についてのセルデータの名称で
あるセルデータ名Dがポイントとなる。
【0036】本実施の形態2におけるCPU104の機
能について図9を参照しながら説明する。図9はCPU
104による処理を表すフローチャートである。前記実
施の形態1の場合と同様に、外部入力装置105の入力
に基づきステップ111から順に処理が開始される。ス
テップ111でデータベース101から各機能ブロック
の配置情報を読み込み、ステップ112でデータベース
102から端子情報を読み込み、ステップ113でデー
タベース103から配線規則を読み込む。ステップ11
4では、前記ステップ113で読み込んだ配線規則に従
い、端子Aと端子A’とが、また、端子Bと端子B’と
が接続配線可能となるすべての経路を仮想配線として生
成する(図10参照)。
【0037】ステップ14ではデータベース11より各
機能ブロックのレイアウトデータを読み込む。ステップ
21ではデータベース20からセルデータ名Dを読み込
む。ステップ22では前記ステップ14で読み込んだレ
イアウトデータとステップ21で読み込んだセルデータ
名Dに基づいて半導体集積回路上での配線禁止領域のセ
ルデータの配置と領域を検出する。図10はステップ2
1までの仮想配線の模式図である。
【0038】ステップ23では、前記ステップ114で
仮想的に生成した配線経路からステップ22により検出
した配線禁止領域に対応するセルデータ名Dが指示する
セルデータに対応する部分を配線経路から除外する。図
11は除外した様子を示す模式図である。図10におい
てX方向およびY方向の仮想配線のうちセルデータ名D
で示す配線禁止領域内に表示されている幾つかのX方向
・Y方向の仮想配線が図11においては消去されてい
る。
【0039】ステップ115では、前記ステップ114
で生成した仮想配線データよりステップ23で除外した
残りの仮想配線データから、前記ステップ112で読み
込んだ端子情報のうちの接続順位に従って最短距離で接
続配線する経路を算出する。本例では、端子Aと端子
A’との接続が第1位であり、端子Bと端子B’との接
続が第2位と定義されているものとする。まず前記の残
りの仮想配線データによる配線経路より、端子Aと端子
A’を最短距離で接続配線する配線経路を任意に算出し
決定する。次に端子Aと端子A’の接続配線に用いられ
た配線経路を除き、端子Bと端子B’を最短距離で接続
配線する配線経路を任意に算出し決定する。
【0040】ステップ18では、前記ステップ115の
結果、接続配線経路が算出できたか、できなかったかを
判定する。できなかった場合は一旦処理をストップし、
機能ブロック配置を変更するなどの処置を行った後、再
度START(ステップ111)から処理を行う必要が
ある。
【0041】ステップ116では、前記ステップ115
で算出した配線経路に従って、図12の模式図に示すよ
うに、各々X方向に沿った2層配線データおよびY方向
に沿った3層配線データを生成するとともに、2層配線
と3層配線の交差箇所に前記ステップ113で読み込ん
だデータベース103の配線規則をもとにヴィアホール
データ(黒点参照)を生成する。4つの端子A,A’,
B,B’はともに2層目に位置している。端子Aからま
ず2層配線(破線)としてX方向に経路が延び、ヴィア
ホールを介して3層配線(実線)へと続くが、この3層
配線はセルデータ名Dで示した配線禁止領域(ハッチン
グ部分)を避けるようにしてY方向に経路が延び、さら
にヴィアホールを介して2層配線(破線)としてX方向
に経路が延びて、端子A’へと接続配線されている。同
様に、端子Bからまず2層配線(破線)としてX方向に
沿って配線禁止領域を避ける位置まで経路が延び、ヴィ
アホールを介して3層配線(実線)としてY方向に経路
が延び、さらにヴィアホールを介して2層配線(破線)
としてX方向に経路が延びて、端子B’へと接続配線さ
れている。その他については実施の形態1と同様であ
る。
【0042】本実施の形態2によれば、機能ブロックの
内部で上層での接続配線を禁止する回路部についてその
セルデータを指定するためのセルデータ名を入力し、そ
のセルデータ名による配線禁止情報を自動配線方式に新
たに組み入れることにより、機能ブロックの内部におい
て上層が配線経路になったとした場合に誤動作、性能低
下を起こすような回路部分を除外した状態で機能ブロッ
クどうしの接続配線が可能になるため、機能ブロックの
回路動作を考慮した自動接続配線が可能となる。
【0043】(実施の形態3)図13は実施の形態3の
半導体集積回路装置の自動配線方式の構成を示すブロッ
ク図であり、前記実施の形態1における図1の構成に対
し、データベース11,12を除去し、その代わりにデ
ータベース40を追加した構成となっている。このデー
タベース40は、機能ブロックのうち特にROM、RA
Mといったメモリ機能ブロック情報を保管するもので、
メモリ機能ブロック124(図14参照)の半導体集積
回路装置上での配置と領域の情報と、メモリ機能ブロッ
ク内部のメモリセルアレイ部の配置とビット線方向の情
報をもつものである。その他の構成は実施の形態1(図
1)と同様であるので、同一部分について同一符号を付
すにとどめ、説明を省略する。
【0044】図14はメモリ機能ブロック124と実施
の形態1の図2と同じ機能ブロック121,123とか
らなる半導体集積回路の模式図である。MEMは複数の
メモリセルがマトリクス状に配置されたメモリセルアレ
イ部であり、ビット線BLがメモリセルアレイ部MEM
の上層において、図示例の場合はY方向に横断してい
る。端子および配線の定義については図2と同一であ
り、説明を省略する。
【0045】本実施の形態3におけるCPU104の機
能について図15を参照しながら説明する。図15はC
PU104による処理を表すフローチャートである。前
記実施の形態1の場合と同様に、外部入力装置105の
入力に基づきステップ111から順に処理が開始され
る。ステップ111でデータベース101から各機能ブ
ロックの配置情報を読み込み、ステップ112でデータ
ベース102から端子情報を読み込み、ステップ113
でデータベース103から配線規則を読み込む。ステッ
プ114では、前記ステップ113で読み込んだ配線規
則に従い、端子Aと端子A’とが、また、端子Bと端子
B’とが接続配線可能となるすべての経路を仮想配線と
して生成する(図16参照)。
【0046】ステップ41では、データベース40より
半導体集積回路装置におけるメモリ機能ブロック124
の配置の情報と、メモリ機能ブロック124内のメモリ
セルアレイ部MEMの配置と領域の情報およびビット線
BLの方向を読み込む。ステップ42では、前記ステッ
プ41での情報をもとに図14に示した半導体集積回路
上でのメモリセルアレイ部MEMの配置と領域およびビ
ット線BLの方向を検出する。図16はステップ42ま
での仮想配線の模式図である。
【0047】ステップ43では、前記ステップ114で
仮想的に生成した配線経路からステップ42により検出
した半導体集積回路上でのメモリセルアレイ部MEMの
領域においてビット線BLの方向であるY方向と平行す
る配線経路を除外する。図17は除外した様子を示す模
式図である。図16においてX方向およびY方向の仮想
配線のうちメモリセルアレイ部MEMの領域内でビット
線BLの方向(Y方向)に沿って表示されている幾つか
のY方向の仮想配線が図17においては消去されてい
る。
【0048】ステップ115では、前記ステップ114
で生成した仮想配線データよりステップ43で除外した
残りの仮想配線データから、前記ステップ112で読み
込んだ端子情報のうちの接続順位に従って最短距離で接
続配線する経路を算出する。本例では、端子Aと端子
A’との接続が第1位であり、端子Bと端子B’との接
続が第2位と定義されているものとする。まず前記の残
りの仮想配線データによる配線経路より、端子Aと端子
A’を最短距離で接続配線する配線経路を任意に算出し
決定する。次に端子Aと端子A’の接続配線に用いられ
た配線経路を除き、端子Bと端子B’を最短距離で接続
配線する配線経路を任意に算出し決定する。この場合
に、X方向に沿ってはメモリセルアレイ部MEMの領域
内を通ることができるが、Y方向に沿ってはメモリセル
アレイ部MEMの領域内を通ることが禁止されている。
【0049】ステップ18では、前記ステップ115の
結果、接続配線経路が算出できたか、できなかったかを
判定する。できなかった場合は一旦処理をストップし、
機能ブロック配置を変更するなどの処置を行った後、再
度START(ステップ111)から処理を行う必要が
ある。
【0050】ステップ116では、前記ステップ115
で算出した配線経路に従って、図18の模式図に示すよ
うに、各々X方向に沿った2層配線データおよびY方向
に沿った3層配線データを生成するとともに、2層配線
と3層配線の交差箇所に前記ステップ113で読み込ん
だデータベース103の配線規則をもとにヴィアホール
データ(黒点参照)を生成する。4つの端子A,A’,
B,B’はともに2層目に位置している。端子Aからま
ず2層配線(破線)としてメモリセルアレイ部MEMの
領域内でX方向に経路が延び、ヴィアホールを介して3
層配線(実線)へと続くが、この3層配線はY方向に延
びるので、メモリセルアレイ部MEMである配線禁止領
域を避けるようにしてY方向に経路が延び、さらにヴィ
アホールを介して2層配線(破線)としてX方向に経路
が延びて、端子A’へと接続配線されている。同様に、
端子Bからまず2層配線(破線)としてX方向に沿って
メモリセルアレイ部MEMである配線禁止領域を避ける
位置まで経路が延び、ヴィアホールを介して3層配線
(実線)としてY方向に経路が延び、このときメモリセ
ルアレイ部MEMである配線禁止領域を避けるようにし
てY方向に経路が延び、さらにヴィアホールを介して2
層配線(破線)としてX方向に経路が延びて、端子B’
へと接続配線されている。なお、端子Bと端子B’とを
結ぶ配線経路中で破線で示すX方向の配線部分はメモリ
セルアレイ部MEMの領域内を通ってもよい。それは、
ビット線BLの方向がY方向となっているからである。
その他については実施の形態1と同様である。なお、ビ
ット線の方向がX方向となっている場合には、メモリセ
ルアレイ部MEMの全域が配線禁止領域となる。
【0051】本実施の形態3によれば、メモリ機能ブロ
ック内のメモリセルアレイ部の配置と、そのメモリセル
アレイ部内のビット線の方向とを配線禁止情報として自
動配線方式に新たに組み入れることにより、機能ブロッ
ク間の接続配線がメモリの機能ブロック内のビット線上
を平行して通過することがない。そのためビット線容量
を増大させることなく自動配線でき、メモリ機能ブロッ
クの回路動作を考慮した自動接続配線が可能となる。
【0052】(実施の形態4)図19は実施の形態4の
半導体集積回路装置の自動配線方式の構成を示すブロッ
ク図であり、前記実施の形態1における図1の構成に対
し、レイアウトデータをもつデータベース11はそのま
まとし、データベース12を除去し、その代わりにデー
タベース50を追加した構成となっている。このデータ
ベース50は、もしも機能ブロック間の接続配線が上層
を通過するとした場合に誤動作を起こすおそれのある機
能ブロック内の信号線に対応した信号線名を保管するも
のである。その他の構成は実施の形態1(図1)と同様
であるので、同一部分について同一符号を付すにとど
め、説明を省略する。
【0053】図20は本実施の形態4における半導体集
積回路の模式図であり、前記実施の形態1の図2と同じ
機能ブロック121,122,123から構成されてい
る。信号線名E,Fによって指示されるそれぞれの信号
線は、もしも上層に機能ブロック間の接続配線が通過す
るとした場合に誤動作を起こすおそれのある信号線であ
り、機能ブロック122のマスクレイアウトデータ作成
時にマスクレイアウト上に信号線名E,Fをテキストデ
ータとして付加しておく。端子および配線の定義につい
ては図2と同一である。
【0054】本実施の形態4におけるCPU104の機
能について図21を参照しながら説明する。図21はC
PU104による処理を表すフローチャートである。前
記実施の形態1の場合と同様に、外部入力装置105の
入力に基づきステップ111から順に処理が開始され
る。ステップ111でデータベース101から各機能ブ
ロックの配置情報を読み込み、ステップ112でデータ
ベース102から端子情報を読み込み、ステップ113
でデータベース103から配線規則を読み込む。ステッ
プ114では、前記ステップ113で読み込んだ配線規
則に従い、端子Aと端子A’とが、また、端子Bと端子
B’とが接続配線可能となるすべての経路を仮想配線と
して生成する(図22参照)。
【0055】ステップ14ではデータベース11より各
機能ブロックのレイアウトデータを読み込む。ステップ
51ではデータベース50より信号線名E,Fを読み込
む。ステップ52では、前記ステップ14で読み込んだ
レイアウトデータとステップ51で読み込んだ信号線名
E,Fに基づいて半導体集積回路上での配線禁止領域の
信号線データの配置と領域を検出する。図22はステッ
プ52までの仮想配線の模式図である。信号線名E,F
で示す信号線データの領域と破線で示すX方向の仮想配
線とが重なっている。
【0056】ステップ53では、前記ステップ114で
仮想的に生成した配線経路からステップ52により検出
した配線禁止領域に対応する信号線名E,Fが指示する
信号線データに対応する部分を配線経路から除外する。
図23は除外した様子を示す模式図である。図22にお
いてX方向およびY方向の仮想配線のうち信号線名E,
Fで示す配線禁止領域内に表示されている2つのX方向
の仮想配線が図23においては消去されている。
【0057】ステップ115では、前記ステップ114
で生成した仮想配線データよりステップ53で除外した
残りの仮想配線データから、前記ステップ112で読み
込んだ端子情報のうちの接続順位に従って最短距離で接
続配線する経路を算出する。本例では、端子Aと端子
A’との接続が第1位であり、端子Bと端子B’との接
続が第2位と定義されているものとする。まず前記の残
りの仮想配線データによる配線経路より、端子Aと端子
A’を最短距離で接続配線する配線経路を任意に算出し
決定する。次に端子Aと端子A’の接続配線に用いられ
た配線経路を除き、端子Bと端子B’を最短距離で接続
配線する配線経路を任意に算出し決定する。
【0058】ステップ18では、前記ステップ115の
結果、接続配線経路が算出できたか、できなかったかを
判定する。できなかった場合は一旦処理をストップし、
機能ブロック配置を変更するなどの処置を行った後、再
度START(ステップ111)から処理を行う必要が
ある。
【0059】ステップ116では、前記ステップ115
で算出した配線経路に従って、図24の模式図に示すよ
うに、各々X方向に沿った2層配線データおよびY方向
に沿った3層配線データを生成するとともに、2層配線
と3層配線の交差箇所に前記ステップ113で読み込ん
だデータベース103の配線規則をもとにヴィアホール
データ(黒点参照)を生成する。4つの端子A,A’,
B,B’はともに2層目に位置している。端子Aからま
ず2層配線(破線)としてX方向に経路が延び、ヴィア
ホールを介して3層配線(実線)へと続くが、この3層
配線は信号線名E,Fで示した配線禁止領域を避けるよ
うにしてY方向に経路が延び、さらにヴィアホールを介
して2層配線(破線)としてX方向に経路が延びて、端
子A’へと接続配線されている。同様に、端子Bからま
ず2層配線(破線)としてX方向に沿って配線禁止領域
を避ける位置まで経路が延び、ヴィアホールを介して3
層配線(実線)としてY方向に経路が延び、さらにヴィ
アホールを介して2層配線(破線)としてX方向に経路
が延びて、端子B’へと接続配線されている。その他に
ついては実施の形態1と同様である。なお、仮想配線か
ら除去すべき信号線としてはY方向に沿った信号線の場
合もあり得るし、X方向に沿った信号線とY方向に沿っ
た信号線の組み合わせの場合もあり得るし、さらにはX
方向とY方向とに屈折した信号線の場合もあり得る。そ
れぞれの場合に対応することができる。
【0060】本実施の形態4によれば、機能ブロックの
内部で上層での接続配線を禁止する回路部についてその
信号線データを指定するための信号線名を、機能ブロッ
クのマスクレイアウトデータにテキストデータとして入
力し、その信号線名による配線禁止情報を自動配線方式
に新たに組み入れることにより、機能ブロックの内部に
おいて上層が配線経路となったとした場合に誤動作、性
能低下を起こすような信号線部を除外した状態で機能ブ
ロックどうしの接続配線が可能になるため、機能ブロッ
クの回路動作を考慮した自動接続配線が可能となる。
【0061】以上、いくつかの実施の形態について説明
してきたが、それぞれの実施の形態の技術は論理的に矛
盾しない限りにおいて他のどの実施の形態ともハイブリ
ッドに組み合わせしてよいものとする。
【0062】
【発明の効果】半導体集積回路装置の自動配線方式につ
いての請求項1の発明によれば、中間の機能ブロックで
配線が通過するとした場合に信号遅延や誤動作を起こす
おそれのある領域を配線禁止領域として定める配線禁止
情報を設定しておき、自動配線中に現れる仮想配線のう
ち前記配線禁止領域内の仮想配線を除外し、残りの仮想
配線データに基づいて自動配線を行うことにより、離れ
た2つの機能ブロックの端子どうし間を、機能ブロック
内の回路部自体の配線との間に容量を生じさせることな
く自動配線することができる。その結果として、端子間
の接続配線は、機能ブロック内の回路部自体の配線との
間に信号遅延の原因となる容量を生じることを避けるこ
とができ、また、カップリングによるノイズの影響によ
る誤動作を避けることができる。
【0063】半導体集積回路装置の自動配線方式につい
ての請求項2または請求項6の発明によれば、中間の機
能ブロックで配線が通過するとした場合に信号遅延や誤
動作を起こすおそれのある領域を配線禁止領域として定
めるのに矩形データを設定しておき、自動配線中に現れ
る仮想配線のうち矩形データによって指示される配線禁
止領域内の仮想配線を除外し、残りの仮想配線データに
基づいて自動配線を行うことにより、離れた2つの機能
ブロックの端子どうし間を、機能ブロック内の回路部自
体の配線との間に信号遅延や誤動作の原因となる容量を
生じさせることなく、したがって中間の機能ブロックの
回路動作に配慮した状態で自動配線することができる。
【0064】請求項3または請求項7の発明によれば、
中間の機能ブロックで配線が通過するとした場合に信号
遅延や誤動作を起こすおそれのある領域を配線禁止領域
として定めるのに、その配線禁止領域のセルデータに対
応したセルデータ名を設定しておき、自動配線中に現れ
る仮想配線のうちセルデータ名に基づく配線禁止領域内
の仮想配線を除外し、残りの仮想配線データに基づいて
自動配線を行うことにより、離れた2つの機能ブロック
の端子どうし間を、機能ブロック内の回路部自体の配線
との間に信号遅延や誤動作の原因となる容量を生じさせ
ることなく、したがって中間の機能ブロックの回路動作
に配慮した状態で自動配線することができる。
【0065】請求項4または請求項8の発明によれば、
ROMまたはRAM機能を有するメモリ機能ブロックで
配線が通過するとした場合に信号遅延や誤動作を起こす
おそれのある領域を配線禁止領域として定めるのに、メ
モリセルアレイ部の領域とこのメモリセルアレイ部内の
ビット線の方向とを設定しておき、自動配線中に現れる
仮想配線のうちメモリセルアレイ部内でのビット線方向
と平行な仮想配線を除外し、残りの仮想配線データに基
づいて自動配線を行うことにより、離れた2つの機能ブ
ロックの端子どうし間を、メモリ機能ブロックでのメモ
リセルアレイ部に対して信号遅延や誤動作を起こすビッ
ト線容量の増大を生じさせることなく、したがって中間
のメモリ機能ブロックの書き込み・読み出し動作に配慮
した状態で自動配線することができる。
【0066】請求項5または請求項9の発明によれば、
中間の機能ブロックで配線が通過するとした場合に信号
遅延や誤動作を起こすおそれのある領域を配線禁止領域
として定めるのに、信号線データに対応した信号線名を
設定しておき、自動配線中に現れる仮想配線のうち信号
線名に基づく配線禁止領域内の仮想配線を除外し、残り
の仮想配線データに基づいて自動配線を行うことによ
り、離れた2つの機能ブロックの端子どうし間を、機能
ブロック内の回路部自体の配線との間に信号遅延や誤動
作の原因となる容量を生じさせることなく、したがって
中間の機能ブロックの回路動作に配慮した状態で自動配
線することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1における半導体集積回
路装置の自動配線方式の構成を示すブロック図
【図2】 実施の形態1における半導体集積回路の模式
【図3】 実施の形態1の自動配線方式の動作を示すフ
ローチャート
【図4】 実施の形態1における仮想配線の模式図
【図5】 実施の形態1において配線禁止領域内の仮想
配線を消去した残りの仮想配線の模式図
【図6】 実施の形態1において自動配線が完了した状
態の配線の模式図
【図7】 本発明の実施の形態2における半導体集積回
路装置の自動配線方式の構成を示すブロック図
【図8】 実施の形態2における半導体集積回路の模式
【図9】 実施の形態2の自動配線方式の動作を示すフ
ローチャート
【図10】 実施の形態2における仮想配線の模式図
【図11】 実施の形態2において配線禁止領域内の仮
想配線を消去した残りの仮想配線の模式図
【図12】 実施の形態2において自動配線が完了した
状態の配線の模式図
【図13】 本発明の実施の形態3における半導体集積
回路装置の自動配線方式の構成を示すブロック図
【図14】 実施の形態3における半導体集積回路の模
式図
【図15】 実施の形態3の自動配線方式の動作を示す
フローチャート
【図16】 実施の形態3における仮想配線の模式図
【図17】 実施の形態3においてメモリセルアレイ部
の領域内でビット線の方向に沿った仮想配線を消去した
残りの仮想配線の模式図
【図18】 実施の形態3において自動配線が完了した
状態の配線の模式図
【図19】 本発明の実施の形態4における半導体集積
回路装置の自動配線方式の構成を示すブロック図
【図20】 実施の形態4における半導体集積回路の模
式図
【図21】 実施の形態4の自動配線方式の動作を示す
フローチャート
【図22】 実施の形態4における仮想配線の模式図
【図23】 実施の形態4において配線禁止領域内の仮
想配線を消去した残りの仮想配線の模式図
【図24】 実施の形態4において自動配線が完了した
状態の配線の模式図
【図25】 従来の技術における半導体集積回路装置の
自動配線方式の構成を示すブロック図
【図26】 従来の技術における半導体集積回路の模式
【図27】 従来の技術の自動配線方式の動作を示すフ
ローチャート
【図28】 従来の技術における仮想配線の模式図
【図29】 従来の技術において自動配線が完了した状
態の配線の模式図
【符号の説明】
11 レイアウトデータのデータベース 12 除外領域マスクレイアウトレイアのデータベース 20 除外領域セルデータ名のデータベース 40 メモリ機能ブロック情報のデータベース 50 除外領域信号線名のデータベース 101 配置情報のデータベース 102 端子情報のデータベース 103 配線規則のデータベース 104 CPU 105 外部入力装置 106 データバス 121 機能ブロック 122 機能ブロック 123 機能ブロック 124 メモリ機能ブロック A,A’接続配線すべき端子 B,B’接続配線すべき端子 C 矩形データ D セルデータ名 E,F 信号線名 MEM メモリセルアレイ部 BL ビット線

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2つの機能ブロックの端子どうしをこれ
    ら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを介して自動
    配線する方式であって、前記別の機能ブロックにおける
    配線禁止領域を定める配線禁止情報を設定しておき、自
    動配線中に現れる仮想配線のうち前記配線禁止情報に基
    づいて配線禁止領域内の仮想配線を除外し、残りの仮想
    配線データに基づいて自動配線を行うように構成されて
    いる半導体集積回路装置の自動配線方式。
  2. 【請求項2】 2つの機能ブロックの端子どうしをこれ
    ら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを介して自動
    配線する方式であって、前記別の機能ブロックにおける
    配線禁止領域を定める矩形データを設定しておき、自動
    配線中に現れる仮想配線のうち前記矩形データに基づく
    配線禁止領域内の仮想配線を除外し、残りの仮想配線デ
    ータに基づいて自動配線を行うように構成されている半
    導体集積回路装置の自動配線方式。
  3. 【請求項3】 2つの機能ブロックの端子どうしをこれ
    ら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを介して自動
    配線する方式であって、前記別の機能ブロックにおける
    配線禁止領域を定めるセルデータに対応したセルデータ
    名を設定しておき、自動配線中に現れる仮想配線のうち
    前記セルデータ名に基づく配線禁止領域内の仮想配線を
    除外し、残りの仮想配線データに基づいて自動配線を行
    うように構成されている半導体集積回路装置の自動配線
    方式。
  4. 【請求項4】 2つの機能ブロックの端子どうしをこれ
    ら両機能ブロックの間のROMまたはRAM機能を有す
    るメモリ機能ブロックを介して自動配線する方式であっ
    て、前記メモリ機能ブロックにおけるメモリセルアレイ
    部の領域とこのメモリセルアレイ部内のビット線の方向
    とを設定しておき、自動配線中に現れる仮想配線のうち
    前記メモリセルアレイ部内での前記ビット線方向と平行
    な仮想配線を除外し、残りの仮想配線データに基づいて
    自動配線を行うように構成されている半導体集積回路装
    置の自動配線方式。
  5. 【請求項5】 2つの機能ブロックの端子どうしをこれ
    ら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを介して自動
    配線する方式であって、前記別の機能ブロックにおける
    配線禁止領域を定める信号線データに対応した信号線名
    を設定しておき、自動配線中に現れる仮想配線のうち前
    記信号線名に基づく配線禁止領域内の仮想配線を除外
    し、残りの仮想配線データに基づいて自動配線を行うよ
    うに構成されている半導体集積回路装置の自動配線方
    式。
  6. 【請求項6】 2つの機能ブロックの端子どうしをこれ
    ら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを介して自動
    配線する方式であって、 各機能ブロックの配置情報を記憶する手段と、 前記2つの機能ブロックの端子位置および接続先の端子
    についての端子情報を記憶する手段と、 機能ブロック間を接続配線する配線層とそれとは異なる
    配線層を接続配線するヴィアホールの配線規則を記憶す
    る手段と、 前記別の機能ブロックにおける配線禁止領域を定める矩
    形データを記憶する手段と、 2つの機能ブロックの接続すべき端子間を前記各情報・
    規則に従って接続配線することが可能なすべての仮想配
    線の経路を生成する手段と、 前記の生成された仮想配線の経路から前記矩形データが
    指定する配線禁止領域の仮想配線を除外する手段と、 前記の除外が行われた残りの仮想配線の経路から配線距
    離が最短になる経路を算出する手段とを備えている半導
    体集積回路装置の自動配線方式。
  7. 【請求項7】 2つの機能ブロックの端子どうしをこれ
    ら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを介して自動
    配線する方式であって、 各機能ブロックの配置情報を記憶する手段と、 前記2つの機能ブロックの端子位置および接続先の端子
    についての端子情報を記憶する手段と、 機能ブロック間を接続配線する配線層とそれとは異なる
    配線層を接続配線するヴィアホールの配線規則を記憶す
    る手段と、 前記別の機能ブロックにおける配線禁止領域を定めるセ
    ルデータを指定するセルデータ名を記憶する手段と、 2つの機能ブロックの接続すべき端子間を前記各情報・
    規則に従って接続配線することが可能なすべての仮想配
    線の経路を生成する手段と、 前記の生成された仮想配線の経路から前記セルデータ名
    が指定するセルデータに対応した配線禁止領域の仮想配
    線を除外する手段と、 前記の除外が行われた残りの仮想配線の経路から配線距
    離が最短になる経路を算出する手段とを備えている半導
    体集積回路装置の自動配線方式。
  8. 【請求項8】 2つの機能ブロックの端子どうしをこれ
    ら両機能ブロックの間のROMまたはRAM機能を有す
    るメモリ機能ブロックを介して自動配線する方式であっ
    て、 各機能ブロックの配置情報を記憶する手段と、 前記2つの機能ブロックの端子位置および接続先の端子
    についての端子情報を記憶する手段と、 機能ブロック間を接続配線する配線層とそれとは異なる
    配線層を接続配線するヴィアホールの配線規則を記憶す
    る手段と、 前記メモリ機能ブロックにおけるメモリセルアレイ部の
    領域とメモリセルアレイ部でのビット線方向とを記憶す
    る手段と、 2つの機能ブロックの接続すべき端子間を前記各情報・
    規則に従って接続配線することが可能なすべての仮想配
    線の経路を生成する手段と、 前記の生成された仮想配線の経路から前記メモリセルア
    レイ部の領域内でビット線方向と平行な仮想配線を除外
    する手段と、 前記の除外が行われた残りの仮想配線の経路から配線距
    離が最短になる経路を算出する手段とを備えている半導
    体集積回路装置の自動配線方式。
  9. 【請求項9】 2つの機能ブロックの端子どうしをこれ
    ら両機能ブロックの間の別の機能ブロックを介して自動
    配線する方式であって、 各機能ブロックの配置情報を記憶する手段と、 前記2つの機能ブロックの端子位置および接続先の端子
    についての端子情報を記憶する手段と、 機能ブロック間を接続配線する配線層とそれとは異なる
    配線層を接続配線するヴィアホールの配線規則を記憶す
    る手段と、 前記別の機能ブロックにおける信号線のうちで配線禁止
    領域に対応する信号線の信号線名を記憶する手段と、 2つの機能ブロックの接続すべき端子間を前記各情報・
    規則に従って接続配線することが可能なすべての仮想配
    線の経路を生成する手段と、 前記の生成された仮想配線の経路から前記信号線名が指
    定する信号線に対応した配線禁止領域の仮想配線を除外
    する手段と、 前記の除外が行われた残りの仮想配線の経路から配線距
    離が最短になる経路を算出する手段とを備えている半導
    体集積回路装置の自動配線方式。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6289412B1 (en) * 1998-03-13 2001-09-11 Legend Design Technology, Inc. Layout synopsizing process for efficient layout parasitic extraction and circuit simulation in post-layout verification
KR20040027226A (ko) * 2002-09-27 2004-04-01 김현기 그래프 감소기법을 이용한 Shape Based 방식에 의한 PCB자동배치 시스템
JP2008205092A (ja) * 2007-02-19 2008-09-04 Nec Electronics Corp 半導体集積回路装置及びそのレイアウト方法
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CN116845047A (zh) * 2023-08-30 2023-10-03 之江实验室 晶圆基板布线方法、装置及可读存储介质

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