JP2000038000A - エンボス化粧材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基材表面にエンボス加工で賦型される凹陥部
の深度が実際の深度より深く感じられるような目視効果
を奏するエンボス化粧材を提供する。 【解決手段】 基材表面にエンボス成形される複数の凹
陥部Ｆの底面を、微細な凹凸形状を変えることによっ
て、少なくとも２種以上の互いに異なる所定の光沢を示
す複数の領域Ｒ１，Ｒ２−−−Ｒｎに区劃し、隣接する
前記領域同志の境界Ｃで光沢を非連続的に変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、薄手のエンボス基
材シートの使用を可能とするエンボス化粧材に関する。

【０００２】

【従来の技術】合成樹脂シート等の基材表面にエンボス
加工等を施すことによって多数の凹陥部を形成し、質
感、高級感、意匠性を高めたエンボス化粧材は、家具、
家電製品のキャビネット表面材等に多用されている。エ
ンボス絵柄パターン、すなわち凹凸模様は、木質系柄、
石材系柄、繊維系柄、抽象柄等にわたるが、代表的なも
のは、天然木材の有する木目導管断面パターンである。
従来の木目導管断面パターンを対象とするエンボス化粧
材３０は、その基材面において、平面視が、図７（ａ）
に示すような木目導管断面パターンＰ（実際には図１の
如く複雑な変形長楕円状であるがここでは説明の都合
上、簡略化して長楕円形で示している）に相当する部分
を図７（ｂ）の断面図に示すように溝状にエンボス加工
して得られる多数の凹陥部Ｆ’を形成したものであっ
て，図７（ｃ）の斜視図に示すように、その底面には、
特に微細な凹凸形状等の賦型は行われていない。この方
法で、天然の木材板の木目導管溝の深みを再現しようと
すると、木目柄にもよるが、凹陥部Ｆ’の深度はかなり
深いものとなり、それを実現するためには厚みのあるエ
ンボス基材シートの使用が必要になる。一般に、エンボ
ス化粧材の製造に使用される従来のエンボス版の版深
は、天然の木目導管溝の外観を再現するため１００〜１
５０μｍを必要としている。従ってエンボス時に使用さ
れる基材シート（一般に透明な賦型用のシート）の厚み
は少なくともこの範囲を越える必要がある。また、さら
に木目導管溝の深度変化をリアルに再現しようとする
と、木目柄によっては、凹陥部の深度は１５０〜１８０
μｍとなり、この範囲を越える厚みの基材シートを使用
しなければならない場合もある。一方、限られた厚みの
エンボス基材シートにおいて天然の木目導管溝をその実
際の深さ以上に深く見せて、リアルに再現するため、特
公昭５８−１４３１２号公報等では、ワイピングによっ
て凹陥部に黒色、褐色等の高濃度のインキを充填する方
法が開示されている。さらに、近年、所謂、ダブリング
エンボス（着色ベース基材シート上に透明トップ基材シ
ートを熱融着で積層すると同時に透明トップ基材シート
にエンボスする方法）が多用されるようになり、しか
も、それに使用される透明トップ基材シートを熔融押出
し成型すると同時に冷却ローラーをエンボス版としてエ
ンボス加工を行う製造方法が実施されるようになってき
ている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ワイピングによれば木
目導管断面の深さ、荒びた感じを再現することができ、
また使用するワイピングインキに低光沢のものを用いる
ことによって凹陥部の光沢を非凹陥部よりも低くするこ
とはできるが、各凹陥部は全て略同一の光沢を有してい
て、光沢という点では単調な意匠表現にならざるをえな
いという問題がある。また、ワイピングはインキコスト
がかかり、また工程数が増えるので手間がかかり、製造
コストの増加、納期の遅延に繋がるという問題がある。
一方、ワイピングを行わず、深い導管溝のエンボス版を
用い、エンボス凹陥部の深さ以上の厚さの基材シートを
用いて前記の如く充分な深さの導管溝を再現しようとす
ると、基材シートの厚さは１５０μｍ以上必要となる
が、この場合材料コストが高くなるのに加えて、化粧シ
ートにラッピング加工、Ｖカット加工等の曲げ加工を施
す際に、その加工適性が低下してしまうという不都合を
生じる。特に、熔融押し出し成形とインラインでエンボ
ス加工が施される基材シートには、押出し成型時の効率
性、材料コストの低減を図ることから、８０μｍ以下の
厚みが望まれている。従ってエンボス版の版深も８０μ
ｍ以下にせざるを得ないが、単に版深を下げたのでは、
エンボスによる意匠効果が弱まってしまうという問題が
ある。この傾向は、オーク系等の木目導管柄の場合に特
に顕著である。本発明は、前述の問題点に鑑みてなされ
たもので、従来よりも薄手の基材シートを用いて、比較
的浅い深度のエンボスであっても視覚的に深みを感じさ
せ、しかも立体的で、質感のある、高度な意匠表現を可
能とするエンボス化粧材の提供を目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
になされた本発明によるエンボス化粧材は、基材表面に
複数の凹陥部を有するエンボス化粧材において、前記凹
陥部の底面が、微細な凹凸形状を変えることによって、
少なくとも２種以上の互いに異なる所定の光沢を示す領
域に区劃され、隣接する前記領域同志の境界で光沢が異
なることを構成とするものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】エンボス化粧材とは、基材表面に
エンボス加工等により凹凸模様が表面に施されたシート
或いは板である。基材の材料としては、通常、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、オレフィン系熱可塑性エラスト
マー等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、アク
リル樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタ
ン樹脂、ＡＢＳ，ポリスチレン等の熱可塑性樹脂、メラ
ミン樹脂、不飽和（熱硬化性）ポリエステル樹脂、２液
硬化（熱硬化）型ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、ラジ
カル重合型不飽和アクリレート、カチオン重合型エポキ
シ樹脂を電離放射線（紫外線、電子線等）で架橋させて
なる電離放射線硬化性樹脂等が用いられる。また、用途
としては、壁、床、天井等の建築物の内装材、扉、窓
枠、扉枠、手摺等の建具の表面材、テレビジョン受像機
等の家電製品の筐体の表面材、箪笥等の家具の表面材、
箱等の容器の表面材、車両等の内装材、船舶内装材等で
あって、必要に応じて更に任意の素材が裏打ちして使用
される。本発明が対象とするエンボス絵柄には、木目導
管断面パターンを有する天然木材板を再現した木目柄、
トラバーチン大理石板の表面凹凸、タイル貼りや煉瓦積
みの表面の目地溝、不定型な独立凹陥部からなる各種パ
ターン等が含まれるが、中でも木目導管断面パターンが
重要なモチーフとなっている木目柄に対して、本発明は
効果的に適用できるので、以下の説明は、主として木目
導管断面パターン（以下導管パターンという）のある木
目柄の場合について行う。

【０００６】図１は、天然木材柄から抽出された導管パ
ターンの一例である。図１で示すように、個々の導管パ
ターンＰは、一見不規則に見えるが、略同一方向に延び
る長楕円形を変形したものであるので、以下の説明図で
は、導管パターンＰを長楕円形のパターンモデルをもっ
て示すことにする。

【０００７】図２は、本発明によるエンボス化粧材の導
管パターンを対象とした凹陥部の説明図である。図２
（ａ）は、凹陥部Ｆの平面図、図２（ｂ）は、図２
（ａ）のｘ−ｘ断面図、図２（ｃ）は、凹陥部Ｆの斜視
図である。本発明によるエンボス化粧材２０の基材（エ
ンボス基材シート４）表面に形成される個々の凹陥部Ｆ
の底面には、図２（ａ）、（１）に示すように、凹陥部
Ｆの長手方向（ｙ軸方向）に凹陥部Ｆの中央を過る境界
線Ｃ１を介してのその両側に光沢が明らかに異なって見
える領域Ｒ１，Ｒ２が区劃形成されている。さらに、図
２（ａ）、（２）に示すように、凹陥部Ｆの長手方向
（ｙ軸方向）の境界線Ｃ２，Ｃ３で凹陥部Ｆがｘ軸方向
に３分割され、あるいは、図示は略すが、それ以上に分
割されて縞状に複数の領域Ｒ１，Ｒ２−−−Ｒｎが区劃
されるようにしてもよい。そして、これらの領域Ｒ１，
Ｒ２−−−Ｒｎには、それぞれ固有の表面粗さを有する
微細な凹凸形状が形成され、境界線の両側の各領域それ
ぞれが、互いに異なる光沢を有している。その模様は、
図２（ｂ）の断面図と図２（ｃ）の斜視図においてさら
に分かり易く示されている。この領域Ｒの区劃数ｎは、
再現しようとする木目導管溝のある木目柄に応じて適宜
定めればよいが、２〜４程度が実用上からいって好まし
い。

【０００８】図３は、本発明によるエンボス化粧材のタ
イル貼り、煉瓦積み模様の目地溝を対象とした凹陥部の
斜視図である。図３に示すように、目地に相当する凹陥
部Ｆには、凹陥部Ｆの長手方向（ｙ軸方向）の境界線Ｃ
１，Ｃ２によってｘ軸方向に分割される領域Ｒ１，Ｒ
２，Ｒ３が区劃形成され、それぞれに固有の表面粗さを
有する微細な凹凸形状が形成され、それぞれが異なる光
沢が付与されている。

【０００９】図４は、本発明によるエンボス化粧材のト
ラバーチン大理模様の不定型な、孤立した陥没部を対象
とした凹陥部の斜視図である。トラバーチン大理模様の
中の不定型な、孤立した陥没部を再現した本発明による
エンボス化粧材の凹陥部Ｆには、中心部の領域Ｒ３とそ
れを取り巻く変形環状の領域Ｒ１，Ｒ２が区劃され、各
領域に固有の表面粗さを有する微細な凹凸形状が形成さ
れ、それぞれに異なる光沢が付与されている。

【００１０】本発明によるエンボス化粧材２０は、図２
〜図４に示すように、凹陥部Ｆに設けられている各領域
Ｒ１，Ｒ２−−，Ｒｎに、それぞれ異なる光拡散性の微
細な凹凸形状が形成されることによって、それぞれに異
なる固有の光沢が付与されて、凹陥部Ｆの見かけの深さ
を強調することができる。その強調の仕方としては、図
２（ａ）に示すように、凹陥部Ｆの幅方向の１方から他
方（図では左右方向）に順次凹凸形状を粗くしたり、あ
るいは細かくしたりすることによって、幅方向の一方向
に向かって、例えば、図２（ａ）では右方向に向かって
視覚的に深くなるようにすることができる。あるいは、
図３のように、目地溝を対象とする凹陥部Ｆの場合に
は、凹陥部Ｆの幅方向（ｘ軸方向）の両端部領域Ｒ１，
Ｒ３の凹凸形状を細かくし、中央の領域Ｒ２の凹凸形状
を粗くすることによって、視覚的に中央部を深く見せる
ことができる。さらに、図４のような孤立した陥没部を
対象とする凹陥部Ｆの場合は、中心部に向かうに従っ
て、順次凹凸形状が粗くなり、中心部に行く程視覚的に
深く見せることができる。なお、これら各領域Ｒ１，Ｒ
２−−，Ｒｎの隣接する領域同志は、互いに光沢（微細
凹凸の粗さ）が異なるようにするが、その変化の仕方
は、図２〜図４の場合のように、領域間の境界線を境に
して不連続的に変化させてもよいし、あるいは、図示は
略すが連続的に変化させてもよい。

【００１１】以上のように、凹陥部Ｆの底面を構成する
各領域Ｒ１，Ｒ２−−−Ｒｎに、それぞれ固有の微細な
凹凸形状をエンボス加工によって賦型するには、エンボ
ス版の版面に、凹陥部Ｆを賦型する凸状部とその凸状部
のトップ面内の前記領域相当部に微細な逆の凹凸形状を
フォトエッチング法（パターンニングとエッチングから
なる）で形成することが必要となり、パターンニングを
行う際のマスクパターンＭＰが必要になる。このマスク
パターンＭＰは、２値化された導管パターンＰの画像と
導管パターンＰ内部において前記各凹陥部Ｆの領域Ｒ
１，Ｒ２−−−Ｒｎに対応するように特定された領域ｒ
１，ｒ２−−−ｒｎにそれぞれ割当られる微細凹凸形状
パターンｐ１、ｐ２−−−ｐｎ画像とから構成される。
図６、に従って、マスクパターンＭＰの最も簡単なケ
ースについて説明すると、マスクパターンＭＰは２値化
された導管パターンＰと同一形状のマスクパターンＭＰ
１（作図の都合上、長楕円形の下半分は省力されてい
る）とその長手方向の中央の境界線Ｃの両側の領域ｒ
１，ｒ２に対して振り分けられた配列ピッチは同じであ
るが、面積％の異なるオフセット印刷網点状の微細凹凸
形状パターンｐ１、ｐ２からなるマスクパターンＭＰ２
とによって構成されている。この２種の微細凹凸形状パ
ターンｐ１、ｐ２は、一般に、出力スキャナーのドット
ジェネレーターによる網点出力レベルを適宜に変えるこ
とによって、容易に得ることができる。また、微細凹凸
形状パターンｐ１、ｐ２をあらかじめ画像データとして
コンピュータに記憶させておき、マスクパターンＭＰ１
の指定領域ｒ１，ｒ２に対して微細凹凸形状パターンｐ
１、ｐ２をマッピング（貼り込み）させるコンピュータ
グラフィック的手法を用いてもよい。以上の微細凹凸形
状パターンｐ１、ｐ２は、最終製品である本発明による
エンボス化粧材の基材表面に形成される凹陥部Ｆ内の隣
接する領域Ｒ１，Ｒ２間で明らかに目視によって光沢差
が識別できるように選択する必要がある。また、当然な
がら、これらの微細凹凸形状パターンｐ１、ｐ２から形
成される凹陥部Ｆ底面の微細な凹凸形状の平面視も異な
ったものになる。本発明によるエンボス版２０に適用さ
れる微細な凹凸形状の粗さは、中心線平均粗さ（ＪＩＳ
−Ｂ０６０１）で０．１〜５０μｍ程度とすることが好
ましい。

【００１２】図５は、本発明によるエンボス化粧材の微
細凹凸形状パターンの平面視形状の説明図である。微細
凹凸形状パターンｐは、凹陥部Ｆの底面を粗面化し、固
有の光沢を持たせるために使用されるものであって、図
５に示すような極めて広範囲のパターンが使用可能であ
る。例えば、凹凸が規則的に配列するものとしては、図
５（ａ）に示すような、グラビア印刷のセル配列パター
ン（通常はこの図の如き４角形のセルであるが、その他
にも３角形、６角形等他の形状のセルでもよい。）、あ
るいは図５（ｂ）に示すようなオフセット印刷の網点配
列パターンであってもよく、図５（ｃ）に示すような特
開平８−１４６５９４公報記載のＦＭ（Frequency Modu
ration) スクリーンによって形成される所定の大きさの
網点がランダムに分布する網点パターン、図５（ｄ）に
示すような砂目スクリーンによるパターン、また、図５
（ｅ）に示すようなコンピュータグラフィック的に作成
された不定型なパターンであってもよい。さらに、図示
はされていないが、万線パターン、格子パターンも好適
に適用できる。

【００１３】図６は、本発明によるエンボス化粧材の製
造方法の一例を示す説明図である。本発明によるエンボ
ス化粧材１０の製造工程は、次の３工程からなるもので
ある。 １）マスクパターンの画像データ作成工程 ２）エンボス版のフォトエッチング工程（パターンニン
グとエッチング） ３）エンボス加工工程 マスクパターンＭＰの画像データ作成は次の方法で行わ
れる。銀塩写真法等により天然木材板原稿を一旦銀塩感
光性フィルムに撮影し、次いで製版スキャナによってス
キャニングして光電変換し、デジタル信号化して読み取
り、ＣＥＰＳ（COLOR ELECTRONIC PREPRESS SYSTEM）の
ハードディスクに記憶させる。あるいは、デジタルカメ
ラを用いて撮影し、ＣＣＤ（荷電結合素子）撮像素子に
分け、光電変換し、デジタル信号化して得たデジタル画
像データを直接ＣＥＰＳに入力してもよい。次に、この
画像データから図１に示すような導管パターンＰのみを
２値化画像としてディスプレー画面に抽出し、エンボス
版シリンダーの円周長に合わせたエンドレス修正等を行
った上で、導管パターン画像ファイルを作成する。ま
た、図５に示すような微細凹凸形状パターンｐのいずれ
かを選択し、微細凹凸形状パターン画像をコンピュータ
に記憶させておく。これ以降は全てこの導管パターンＰ
と微細凹凸形状パターンｐの入力データをベースとした
コンピュータによる画像処理によって，図６、に示す
よマスクパターンＭＰの画像データを作成することがで
きる。その具体的な方法としては、例えば、国際公開Ｗ
Ｏ９５／２１０６０号公報に開示の如き手法を一部流用
することができる。すなわち、変形長楕円形である導管
パターンＰを一旦近似長楕円モデルに変換し、この長楕
円画像情報から各導管パターンの境界線Ｃ１を近似楕円
の長軸（長手径）として求め、この中心の境界線Ｃ１の
両側の領域ｒ１，ｒ２を特定して、長楕円モデルを変形
長楕円に逆変換した導管パターンＰの画像データを作成
し、画像ファイルとする。さらに、導管パターンＰの特
定領域ｒ１，ｒ２に対して出力する網点形状と、その出
力レベルを定めておくか、あるいは、領域ｒ１，ｒ２に
マッピングさせるための微細凹凸形状パターンｐ１、ｐ
２を選択し、それらの画像データをコンピュータに入力
させておく。以上の各パターンの画像データを用いてパ
ターンニング用のマスクパターンＭＰを作成することが
できる。その一つの方法として、ＣＥＰＳの出力スキャ
ナーから導管パターンＰの画像データのみを感光性フィ
ルムに出力（露光）して、図６、に示すような、マス
クパターンＭＰ１を作成し、また導管パターンＰの特定
領域ｒ１，ｒ２に対して、出力レベルを変えて網点出力
を行い、面積が異なるの２種の網点からなる無地網状の
微細凹凸形状パターンｐ１、ｐ２が導管パターンＰ内に
組み込まれてなるマスクパターンＭＰ２を作成する。こ
のマスクパターンＭＰ１，ＭＰ２は従来から使用されて
いるフォトマスク（遮光用のマスク）として機能する。
別の方法としては、以上の各パターンの画像データをレ
ーザー光ビーム走査による直接露光装置を用いて、エン
ボス版面に設けられているレジスト感光膜に対して直接
出力して、フォトマスクの場合と略同じ平面形状のレジ
ストパターンを直接エンボス版面に形成する方法であ
る。以上のいずれを使用してもよいが、後者のフィルム
レスの製造工程のほうが効率的であるので、後者の場合
について図６、〜に従ってさらに詳しく説明する。
先ず、２値化された導管パターンＰの画像データをレー
ザー光ビーム走査による直接露光装置によって、あらか
じめ、ネガ型レジスト感光膜を形成したエンボス版基材
１の銅メッキ層上に出力して、表面を走査する光ビーム
を焼付けパターン画像データで変調しつつ露光し、焼き
付け、現像し、非露光部の感光膜を洗浄除去すると、
に示すような導管パターンＰに相当するレジスト層２−
１を有するエンボス版基材１面が得られる。このエンボ
ス版面の非レジスト面を塩化第２鉄水溶液等の腐食液で
点線で示す所定の深さｄ１に至まで腐食、蝕刻する。次
いで、で得られたエンボス版面に、再度全面にレジス
ト感光膜を形成し、においてレジストで保護されて突
出している版面凸状部に対して、前記微細凹凸形状パタ
ーンｐ画像データを各導管パターンＰ内の領域ｒ１，ｒ
２に対して指定された出力（露光）レベルで網点出力を
行って焼き付け、現像し，非露光部の感光膜を洗浄除去
すると、に示すような微細凹凸パターンｐ１，ｐ２に
相当するレジスト層２−２を有するエンボス版基材１面
が得られる。この突出している版面の小さく開口してい
る非レジスト面を塩化第２鉄水溶液等の腐食液で点線で
示す所定の深さｄ２，ｄ３に至まで腐食、蝕刻して、レ
ジスト膜を除去すると、で示すような凸状部３に領域
ｒ１，ｒ２毎に異なる微細凹凸形状が形成されたエンボ
ス版Ｅが得られる。最後に、エンボス版Ｅの表面全体に
クロムメッキを施して仕上げる。メッキは、好ましく
は、マット（艶消）メッキとするか、あるいはエンボス
版表面全面をサンドブラスト加工で粗面としてからメッ
キすることによりエンボス版表面（特に、木目導管断面
パターン以外の面）を艶消し粗面とする。なお、本発明
に使用するエンボス版は、円筒状（シリンダー状）で
も、平板状であってもよい。

【００１４】次に、図６、に示すように、以上の製造
方法で作成されたエンボス版Ｅを用いてトップ基材シー
ト４にエンボス加工を行い、あらかじめグラビア印刷等
で木目柄が印刷されてインキ層５が形成されたベース基
材シート５をラミネートするとエンボス化粧シート１０
が得られる。エンボス基材シート１０の代表的な製造方
法としては、ポリオレフィン系樹脂あるいはポリ塩化ビ
ニル等の熱可塑性樹脂からなるエンボス基材シート１０
を加熱軟化せしめ、その表面にエンボス版Ｅを押圧する
方法がある。この方法についてさらに類別すると、
（１）単層シート（トップ基材シートのみ）を加熱軟化
させ、エンボス版Ｅを押圧するか、（２）トップ基材シ
ート４にエンボスを行い、それをベース基材シート６に
接着剤でドライラミネートして２層積層体の基材シート
とするか、あるいは，（３）エンボス版押圧時の熱圧で
トップ基材シート４とベース基材シート６とを熱融着す
ることにより、エンボスとラミネートを同時に行うダブ
リングエンボスにより２層積層体とするか、或いは、ト
ップ基材シート４をＴダイから熔融押し出しして冷却ロ
ールを兼ねるエンボス版シリンダー上に接触させてエン
ボスすると共に、トップ基材シート４の裏面に挿入した
ベース基材シート６と熱融着させてダブリングエンボス
をインラインで行って２層積層体とする方法がある。こ
のダブリングエンボスをインラインで行う場合に、本発
明が最も有効に活用される。また、別の方法として、特
開昭５７−８７３１８号公報、特開平７−３２４７６号
公報等に開示の如く、エンボス版Ｅ表面に電離放射線硬
化性樹脂の未硬化液状物を塗工し、その更に上にベース
基材６を重ねた状態で電離放射線を照射して該液状物を
硬化せしめトップ基材４とすると共にベース基材シート
６と接着せしめた後、エンボス版から離型し、トップ基
材シート４に版の凹凸を賦型する方法を用いてもよい。
あるいは、また、別の方法として、チタン紙等の紙に木
目印刷柄を形成し、メラミン樹脂、ジアリルフタレート
樹脂等の熱硬化性樹脂の未硬化物を含浸せしめ、次いで
含浸紙をコアー紙、木材合板等の基材上に載置し、熱プ
レス成形を行う際に、該含浸紙表面にエンボス版を挿入
することによって、熱硬化性樹脂が含浸硬化された化粧
板表面に熱プレスと同時に凹凸を賦型する方法を用いて
もよい。

【００１５】本発明によるエンボス化粧材２０の製造方
法の最後の仕上げ工程は、に示すように、エンボス化
粧シート１０に対して、さらに最終用途に応じて裏打ち
材７、例えばドアーに加工する場合にはハニカムボード
等を貼り合わせる等の方法によって、最終的に本発明に
よるエンボス化粧材２０が得られる。

【００１６】レジスト感光膜には露光部が硬化するネガ
型と露光部が現像されて溶出するポジ型とがあるが、エ
ッチングの表面保護機能があればいずれを使用してもよ
い。また、レジストの製膜方法は、金属基材面に直接塗
布しても、カーボンチッシュのように転写方式によって
もよい。ネガ型のレジスト膜としては、重クロム酸ゼラ
チンのほか、アクリル基またはメタアクリル基を有する
アクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジ
ドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系
化合物等を用いることができる。

【００１７】

【実施例】本発明によるエンボス化粧材２０の実施例サ
ンプルを次に方法で製造し、従来のエンボス化粧材と比
較した。木目導管溝が比較的密集している樫（オーク）
材の板目をデジタルカメラを使用して撮影した。このデ
ジタルカメラには４５００万画素の固体撮像素子（ＣＣ
Ｄ）が搭載され、ＣＣＤからの信号を、濃度については
８ビット（２５６段階）階調にＡＤ変換してデジタル画
像情報とし、ハードディスクに記録させた。このハード
ディスクにダウンロードされたデジタル画像から導管パ
ターンＰを２値化画像としＳＣＩＴＥＸ社製、ＰＲＩＳ
ＭＡＸディスプレーに抽出し、エンボスシリンダーの円
周長（９３０ｍｍ）に合わせたエンドレス処理を施し、
図１の如き導管パターンＰの画像ファイルを作成した。
次に、この導管パターン画像をベースにしたコンピュー
タ画像処理によって、近似長楕円形に変換し、長径に相
当する境界線の両側を特定してから、元の長楕円形に逆
変換した画像データを作成した。また、領域ｒ１，ｒ２
それぞれにオフセット網点面積が１０％と４５％となる
ような網点出力レベルを指定した。次に、鉄芯の表面に
銅メッキ層を設けたエンボス用シリンダー表面に重クロ
ム酸ゼラチンからなるネガ型レジスト感光膜をが塗布
し、該塗布面に対して、移動するアルゴンイオンレーザ
ービーム走査制御装置（シンク・ラボラトリー社製）を
用いて、先ず上記の方法で用意された導管パターン画像
を出力し、温水で現像して非露光部を除去後、非レジス
ト面を塩化第二鉄水溶液を用いて約７０μｍの深さに腐
食、蝕刻した。（図６、）続いて、同様の装置を用い
て、シリンダー全面に再度形成されたレジスト感光膜に
対して各導管パターンＰの各領域ｒ１，ｒ２ごとに網点
面積が１０％と４５％になるように１５０線／インチの
オフセット印刷網点出力を行い、現像後（図６、）、
各領域ｒ１，ｒ２の非レジスト面をそれぞれ３〜５μ
ｍ、１０〜１５μｍの深度に腐食、蝕刻して、微細凹凸
を形成してエンボス版Ｅを作成した。（図６、） 最
後に、別途用意しておいた梨地模様のパターン画像を用
いて版面全体のフォトエッチングを行い粗面化加工を行
ってから、クロムメッキを施しエンボス版を完成させこ
れをクーリングローラーとして次のエンボス加工を行っ
た。プロピレンを９０重量％含有するエチレン−プロピ
レン−ブテン３元共重合体にベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤８０００ｐｐｍ，ヒンダードアミン系ラジカル
補足剤４０００ｐｐｍ，エルカ酸アミド５００ｐｐｍを
添加したブレンド材をＴダイから熔融押し出しを行っ
て、厚み８０μｍのポリオレフィン系熱可塑性エラスト
マーの基材シート４を製膜すると同時にクーリングロー
ルとニップロールによる基材シート４へのエンボス加工
と別途供給されるラミネート基材シート６に対してラミ
ネートを同時に行い、本発明によるエンボス化粧シート
１０を作成した。なお、ラミネート基材シートには、あ
らかじめ、２液効果型アクリルウレタン樹脂をバインダ
ーとし、弁柄、黄鉛、カーボンブラックを主体とする顔
料を含んだインキで木目柄がグラビア印刷されて印刷イ
ンキ層５が形成された高密度ポリエチレン５５重量部
に、水素添加スチレン−ブタジエンゴム３０重量部、炭
酸カルシュウム粉末からなる無機充填材１０重量部及び
チタン白、弁柄、カーボンブラック、黄鉛からなる顔料
５重量部を混合してなるポリオレフィン系熱可塑性エラ
ストマーのブレンド材からなる着色シートを使用し、印
刷インキ層５側でラミネートを行った。このようにして
得られたエンボス化粧シート１０を、さらに裏打ち材
（ハードボード）７によって裏打ちし、実施例サンプル
を完成させた。このようにして製造された、実施例サン
プルの表面の風合いを実施例のエンボス版の微細凹凸形
状形成工程を省いて製造されたエンボス版を用い、１０
０μｍの深度にエンボス加工を行った以外は実施例の場
合と全く同じ天然木材板（オーク）、材料、工程で製造
されたエンボス化粧材３０（比較例サンプル、図７）と
比較したところ、実施例サンプルではエンボス深度が７
０μｍしかないのに、比較例サンプルの１００μｍの深
度を有するものと同等の深度が視覚的に感じられ、さら
に、木目導管溝の表現において、これまでのような単調
さがなくなり、凹陥部に陰影のある、趣のある風合いと
高度な意匠表現を有することが明らかになった。

【００１８】

【発明の効果】本発明によれば、木目導管溝、目地溝等
を再現する凹陥部において、凹陥部の底面の区劃された
領域に、それぞれ固有の微細な凹凸形状を形成し、異な
る光沢を持たせることによって、これら凹陥部が実際の
深度より深く見える視覚効果を奏するので、薄手のエン
ボス基材シート４の使用が可能となり、材料コストの軽
減は無論のこと、特にトップ基材シート４の押し出し成
形とエンボスをインラインで同時に行うダブリングエン
ボスの場合に生産効率の向上を図ることができる。ま
た、木目導管溝に相当する凹陥部において、あたかも一
方から光が照射されているような陰影を感じさせ、ある
いは、不定型の凹陥部の中心部ほど深くなっているよう
な視覚効果をもたらすので、風合いに単調さがなくな
り、高度な意匠性のあるエンボス化粧材を提供すること
がとができる。また、ワイピングを省くことによって製
造コストの低減、納期の短縮を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】天然木材柄から抽出された導管パターンの一例

【図２】本発明によるエンボス化粧材の導管パターンを
対象とした凹陥部の説明図

【図３】本発明によるエンボス化粧材のタイル貼り、煉
瓦積み模様の目地溝を対象とした凹陥部の斜視図

【図４】本発明によるエンボス化粧材のトラバーチン大
理模様の孤立した不定型な陥没部を対象とした凹陥部の
斜視図

【図５】本発明によるエンボス化粧材のマスクパターン
作成に使用される基本凹凸形状パターンの説明図

【図６】本発明によるエンボス化粧材の製造方法の一例
を示す説明図

【図７】従来の木目導管断面パターンを対象とするエン
ボス化粧材の説明図

【符号の説明】

１ エンボス版基材 ２−１ レジスト層 ２−２ レジスト層 ３ 凸状部 ４ トップ基材シート ５ 印刷インキ層 ６ ベース基材シート ７ 裏打ち材 １０ エンボス化粧シート ２０ 本発明によるエンボス化粧材 ３０ 従来のエンボス化粧材 Ｃ 境界、境界線 Ｅ エンボス版 Ｆ，Ｆ’ 凹陥部 ＭＰ マスクパターン ｐ 微細凹凸形状パターン Ｐ 導管パターン Ｒ 領域（凹陥部） ｒ 領域（導管パターン）

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2E110 AA57 AA70 AB03 AB04 AB05 AB23 AB46 BA02 BA12 BB22 BB23 DA06 DC21 EA05 EA09 GA03W GA04W GA05W GA23W GA32W GA33W GA33X GA37X GB43W GB44W GB46W GB49W GB52W GB54W GB62W GB63W 2E162 CC01 CC06 CD04 CD06 CD07 CD09 CD10 CE10 EA18 FD04

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材表面に複数の凹陥部を有するエンボ
   ス化粧材において、前記凹陥部の底面が、微細な凹凸形
   状を変えることによって、少なくとも２種以上の互いに
   異なる所定の光沢を示す領域に区劃され、隣接する前記
   領域同志の境界で光沢が異なることを特徴とするエンボ
   ス化粧材。