ES2232981T3 - Agente anti-suciedad, procedimiento para preparar una capa anti-suciedad, elemento optico antirreflectante y dispositivo de visualizacion. - Google Patents
Agente anti-suciedad, procedimiento para preparar una capa anti-suciedad, elemento optico antirreflectante y dispositivo de visualizacion.Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 101
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 85
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 title description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 14
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 89
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 87
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 41
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 17
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 11
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 2
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims 1
- 230000003669 anti-smudge Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 98
- 239000010408 film Substances 0.000 description 61
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 38
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 15
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- -1 alkyl compound Chemical class 0.000 description 12
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 11
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 11
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 10
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 10
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 10
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 7
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 7
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-undecafluoro-6-(trifluoromethyl)cyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 4
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 4
- LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)C1(F)F LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- 241001154287 Hucho taimen Species 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XONPDZSGENTBNJ-UHFFFAOYSA-N molecular hydrogen;sodium Chemical compound [Na].[H][H] XONPDZSGENTBNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100496169 Arabidopsis thaliana CLH1 gene Proteins 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 206010052128 Glare Diseases 0.000 description 1
- 201000005569 Gout Diseases 0.000 description 1
- 101100044057 Mesocricetus auratus SYCP3 gene Proteins 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 101100080600 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) nse6 gene Proteins 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 210000000577 adipose tissue Anatomy 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N caesium oxide Chemical compound [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001942 caesium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009500 colour coating Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 101150111293 cor-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical class [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 231100000206 health hazard Toxicity 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- AZQGFVRDZTUHBU-UHFFFAOYSA-N isocyanic acid;triethoxy(propyl)silane Chemical compound N=C=O.CCC[Si](OCC)(OCC)OCC AZQGFVRDZTUHBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005486 microgravity Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000012254 powdered material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- MZQZQKZKTGRQCG-UHFFFAOYSA-J thorium tetrafluoride Chemical compound F[Th](F)(F)F MZQZQKZKTGRQCG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
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- Optical Filters (AREA)
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Abstract
LA INVENCION SE REFIERE A UN AGENTE ANTIMACULADOR CARACTERIZADO PORQUE CONTIENE UN COMPUESTO DE ORGANOSILICIO REPRESENTADO POR LA SIGUIENTE FORMULA GENERAL (1): DONDE R F2 ES UN GRUPO PERFLUOROALQUILO LINEAL O RAMIFICADO CON 1 A 16 ATOMOS DE CARBONO; R 2 ES UN GRUPO HIDROLITICO; Z ES - OOCNH - O - O -; N2 ES UN ENTERO DE 1 A 50; M2 ES UN ENTERO DE 0 A 3; 12 ES UN ENTERO DE 0 A 3; Y S2 ES UN ENTERO DE 1 A 6; CON LA CONDICION DE QUE DICHOS M2 Y 12 CUMPLAN LA SIGUIENTE RELACION: 6 >= M2 + 12 > 0.
Description
Agente anti-suciedad,
procedimiento para preparar un capa anti-suciedad,
elemento óptico antirreflectante y dispositivo de visualización.
Esta invención se refiere a un agente
anti-suciedad para la formación de una capa
anti-suciedad sobre la superficie de distintos tipos
de sustrato que se van a tratar (en lo sucesivo denominado
simplemente como un sustrato para tratamiento) y que requiere una
propiedad anti-suciedad, y a un procedimiento para
la formación de una capa anti-suciedad haciendo uso
de este agente anti-suciedad. De forma adicional,
esta invención se refiere a un elemento óptico
anti-reflexión, el cual está adaptado para ser
aplicado a la superficie de la pantalla de visualización de un
elemento óptico (tal como una película
anti-reflexión, un filtro óptico, una lente óptica,
lentes para gafas, divisor de haz, prima, espejo, etc.) y un
dispositivo (tal como una pantalla de cristal líquido, una pantalla
CRT, un televisor de proyección, una pantalla de plasma, una
pantalla EL, etc.) para un elemento funcional óptico y para un
dispositivo de visualización en el que este elemento funcional
óptico se adhiera a la superficie de la pantalla de visualización
del dispositivo de visualización.
Los elementos ópticos, tales como una película
anti-reflexión, un filtro óptico, una lente óptica,
lentes para gafas, divisor de haz, prisma, espejo etc. son propensos
a mancharse con suciedad que se origina a partir de huellas
dactilares, grasa de la piel, sudor, cosméticos etc. ya que estos
elementos son usados por un operador. Una vez que estos elementos se
manchan con estas suciedades, es muy difícil eliminarlas. De forma
particular, en el caso de un elemento óptico provisto con un
recubrimiento antirreflexión, la suciedad adherida al recubrimiento
antirreflexión resalte desde el recubrimiento, dando lugar así a un
problema.
Asimismo, la mayoría de los dispositivos de
visualización se usan en general en condiciones tales que entra
libremente luz externa en la pantalla de visualización, tanto del
interior como desde el exterior de la habitación.
La luz incidente, como esta luz externa, es
reflejada a modo de espejo por la superficie de la pantalla de
visualización, provocando así una mezcla de imágenes entre la imagen
reflejada y la imagen visualizada, dando lugar al deterioro de la
calidad de visualización y de ahí a que la imagen del visualizador
se vuelva borrosa.
En particular, debido a que la frecuencia de uso
de un ordenador ha aumentado recientemente con el progreso de la
automatización en oficinas, y por tanto también ha aumentado
recientemente el tiempo durante el cual un operador se encuentra
ante la pantalla de visualización, el deterioro de la calidad de
visualización debido a la imagen de reflexión se considera ahora
como una de las causas de peligro para la salud, tal como la fatiga
de ojos.
Además, con una popularización creciente en los
últimos años de la vida en exterior, es ahora creciente las
ocasiones de uso de distintos tipos de dispositivo de visualización
en el exterior. Como consecuencia se demanda ahora mejorar la
calidad de visualización de modo que permita que una imagen
visualizada se reconozca más claramente.
Con el fin de solucionar estas demandas se ha
propuesto convencionalmente una idea de unir un elemento óptico que
evita la reflexión a la superficie de la pantalla de visualización,
siendo este elemento óptico que evita la reflexión capaz de evitar
la reflexión de la luz durante un amplio intervalo de luz visible.
Un ejemplo de tal elemento óptico que evita la reflexión es una
película laminada que comprende un sustrato transparente sobre la
superficie en la cual se laminan una capa de alto índice de
refracción y una capa de bajo índice de refracción, constituidas
ambas por un óxido de metal. También se conoce un elemento óptico
que evita la reflexión, el cual está formado por una película
laminada que comprende un sustrato transparente sobre la superficie,
la cual se lamina con una capa de bajo índice de refracción
constituida por un compuesto de flúor inorgánico u orgánico.
Por otro lado, también se sabe que se puede
obtener el mismo efecto que el de un elemento óptico que evita la
reflexión mediante el uso de una película reflectiva irregular, que
comprende un sustrato de película plástica transparente sobre la
superficie, en la que se deposita una capa de recubrimiento que
contiene partículas finas transparentes para formar una superficie
áspera, de modo que provoca que la luz externa sea reflejada de
forma irregular por parte de la superficie áspera.
Mientras tanto, los elementos ópticos que evitan
la reflexión anteriormente mencionados tienden a mancharse con
suciedades que se originan a partir de huellas dactilares, grasa
corporal, sudor, cosméticos, etc. cuando el dispositivo de
visualización provisto con este elemento óptico que evita la
reflexión es usado por parte de un operador. De forma específica,
debido a que la energía de superficie de la película que evita la
reflexión es, por lo general, tan alta como 60 J/m^{2} o similar,
la película que evita la reflexión se va a manchar más probablemente
con estas suciedades. Además, debido a que la superficie de la
película que evita la reflexión está constituida por una superficie
finamente rugosa, una vez que estas suciedades se adhieren sobre la
película que evita la reflexión es muy difícil eliminarlas. Además,
hay también un problema cuanto estas suciedades se adhieren a una
parte de la película que evita la reflexión, la parte manchada
comienza a ser más reflectiva, lo que hace que la parte manchada
resalte sobre la parte restante.
Con vistas a resolver este problema de la
suciedad sobre la superficie del elemento óptico que evita la
reflexión, se han propuesto hasta la fecha distintas técnicas para
la formación de una capa anti-suciedad que sea capaz
de evitar que la suciedad se adhiera sobre la misma y capaz de
eliminar fácilmente las suciedades adheridas.
La publicación no examinada de patente japonesa
S64-86101 muestra un artículo que evita la reflexión
que presenta propiedades anti-suciedad y resistivas
a la abrasión, en el que la superficie del sustrato se cubre con una
película que evita la reflexión constituida principalmente por
dióxido de silicona, y la superficie resultante se trata además con
un compuesto que contiene un grupo sustituyente organosilícico. La
publicación no revisada de patente japonesa
H4-338901 muestra un filtro CRT que presenta
propiedades anti-suciedad y resistivas a la
abrasión, cuya superficie del sustrato se cubre con un silanol
organopolixiloxano terminal. La publicación de patente japonesa
H6-29332 muestra un plástico
anti-suciedad / baja reflectancia cubierto sobre su
superficie con una película que evita la reflexión que contiene
compuestos mono- y di-silano que contienen grupo
polifluoroalquilo, y un halógeno silanizado, compuesto de alquilo o
alcoxi. Además, la publicación no examinada de patente japonesa
H7-16940 muestra un elemento óptico que comprende
una película fina óptica constituida principalmente por dióxido de
silicio, sobre la cual se forma un copolímero constituido por
(meta)acrilato de perfluoroalquilo y un monómero que presenta
grupo alcoxisilano.
El documento
EP-A-0797111 describe una
composición para la formación de una película antimanchas, que
contiene un compuesto de alcoxisilano del tipo
R_{f}(COR_{1}-R_{2}-Si(OR_{3})_{3})_{j}
que presenta un grupo perfluoropoliéter R_{f}.
La patente de Estados Unidos número 4.687.707
describe un material transparente de baja reflectancia que presenta
propiedades anti-manchado que comprende un
recubrimiento de capa fina de un producto de condensación de un
compuesto de silicio que contiene flúor
R^{f}-O-(C_{3}F_{6}O)_{n}-CF(CF_{3})CH_{2}O(CH_{2})_{3}-SiR'_{3}
(n = 1-3) que presenta una cadena de
perfluorocarbono.
El documento
JP-A-04213384 describe un compuesto
de silicio orgánico con distintos grupos perfluorooxialquileno
ramificados como un agente de recubrimiento de gran coloración.
Sin embargo, la capa
anti-suciedad fabricada de acuerdo con estos
procedimientos convencionales es insuficiente en cuanto a propiedad
anti-suciedad, incapaz de permitir que una suciedad
tal como huellas dactilares, grasa corporal, sudor, cosméticos etc.
sea fácilmente eliminada de la misma, y pobre en durabilidad
perdiendo su propiedad anti-suciedad con el uso
repetido. Por tanto, se desea ahora desarrollar una capa
anti-suciedad que sea excelente en cuanto a
propiedad anti-suciedad y en la durabilidad de la
propiedad anti-suciedad.
Esta invención se ha realizado para superar los
problemas convencionales anteriormente mencionados, y por tanto, un
objeto de esta invención es proporcionar un agente
anti-suciedad, el cual hace posible obtener una capa
anti-suciedad que es excelente en durabilidad de la
propiedad, capaz de evitar que la suciedad formada por huellas
dactilares, grasa de la piel, sudor, cosméticos etc. se adhiera
sobre la superficie de un elemento óptico tal como una película que
evita la reflexión, y capaz de permitir que estas suciedades se
eliminen fácilmente, incluso si estas suciedades se adhieren sobre
el elemento óptico.
Otro objeto de esta invención es proporcionar un
procedimiento de formación de una capa anti-suciedad
que es capaz de formar fácilmente una capa
anti-suciedad, la cual es excelente en propiedad
anti-suciedad y en propiedad de durabilidad de la
propiedad anti-suciedad.
Otro objeto más de esta invención es proporcionar
un elemento óptico que esté provisto con la capa
anti-suciedad anteriormente mencionada.
Otro objeto más de esta invención es proporcionar
un elemento óptico que evita la reflexión que esté provisto con la
capa anti-suciedad anteriormente mencionada.
Un objeto más de esta invención es proporcionar
un elemento funcional óptico que esté provisto con el elemento
óptico que evita la reflexión anteriormente mencionado.
Otro objeto más de esta invención es proporcionar
un dispositivo de visualización cuya superficie de pantalla de
visualización está constituida por el elemento funcional óptico
anteriormente mencionado.
De acuerdo con esta invención, se proporciona un
agente anti-suciedad que contiene un compuesto de
organosilicio representado por la siguiente fórmula general (1):
...(1)R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}-(CH_{2})_{12}-Z-(CH_{2})_{s2}-Si-(R_{2})_{3}
en la que R^{f2} es un grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado, que presenta de 1 a 16 átomos
de carbono; R^{2} es un grupo hidrolítico; Z es -OOCNH- u -O-; n2
es un número entero de 1 a 50; m2 es un número entero de 0 a 3; 12
es un número entero de 0 a 3; y s2 es un número entero de 1 a 6, con
una premisa de que m2 y 12 cumplan la condición de 6 \geqq m2 + 12
>
0.
De acuerdo con esta invención, se proporciona un
agente anti-suciedad que contiene un compuesto de
organosilicio representado por la siguiente fórmula general (3):
en la que R^{f2} es un grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado que presenta de 1 a 16 átomos
de carbono; R^{3} es un grupo alquilo que presenta de 1 a 10
átomos de carbono; X es un átomo de halógeno, n2 es un número entero
de 1 a 50; m2 es un número entero de 0 a 3, 12 es un número entero
de 0 a 3; y s2 es un número entero de 1 a 6; a es un número entero
de 0 a 3; b es un número entero de 0 a 3; c es 0 ó 1; d es 0 ó 1;
con la premisa de que estos m2, 12, a, b, c y d cumplan las
condiciones de 6 \geq m2 + 12 > 0, a + b = 3, y c + d
=1.
De acuerdo con esta invención se proporciona
además un procedimiento de formación de una capa
anti-suciedad que contiene el agente
anti-suciedad anteriormente mencionado.
De acuerdo con esta invención, se proporciona
además un elemento óptico provisto con una capa
anti-suciedad que contiene el agente
anti-suciedad anteriormente mencionado.
De acuerdo con esta invención, se proporciona
además un elemento óptico que evita la reflexión provisto con una
capa anti-suciedad que contiene el agente
anti-suciedad anteriormente mencionado.
De acuerdo con esta invención, se proporciona
además un elemento funcional óptico constituido por el elemento
óptico que evita la reflexión anteriormente mencionado.
De acuerdo con esta invención, se proporciona
además un dispositivo de visualización provisto con el elemento
funcional óptico anteriormente mencionado.
Este resumen de la invención no describe
necesariamente todas las características necesarias de modo que la
invención puede también ser una sub-combinación de
estas características descritas.
La invención se puede entender más detalladamente
a partir de la siguiente descripción detallada cuando se toma junto
con los dibujos acompañantes, en los que:
La figura 1 es una vista en sección transversal
que ilustra la estructura de un ejemplo del elemento óptico que
evita la reflexión de acuerdo con esta invención;
La figura 2 es una vista en sección transversal
que ilustra la estructura de un ejemplo del elemento funcional
óptico de acuerdo con esta invención:
Las figuras 3A y 3B son vistas esquemáticas que
ilustran cada una la estructura de un ejemplo del dispositivo de
visualización de acuerdo con esta invención;
La figura 4 es un diagrama FT-IR
de un compuesto de organosilicio que constituye un agente
anti-suciedad de acuerdo con esta invención; y
La figura 5 es una vista en sección transversal
que ilustra la estructura de otro ejemplo del elemento óptico que
evita la reflexión de acuerdo con esta invención.
El agente anti-suciedad de
acuerdo con esta invención se caracteriza porque contiene un tipo
específico de compuesto de organosilicio. Como consecuencia, cuando
se forma una capa anti-suciedad sobre la superficie
de un sustrato para tratamiento haciendo uso de este agente
anti-suciedad, es posible, si el sustrato para
tratamiento es cualquier tipo de elemento óptico tal como una
película anti-reflexión, un filtro óptico, una lente
óptica, lentes para gafas, divisor de haz, prisma, espejo etc., para
evitar que suciedades formadas de cualquier huella dactilar, grasa
de la piel, sudor, cosméticos, etc. se adhieran sobre la superficie
de estos elementos ópticos, y además, para eliminar fácilmente estas
suciedades adheridas sobre estos elementos ópticos sin deterioro de
las propiedades ópticas de estos elementos ópticos. Además, la capa
anti-suciedad formada haciendo uso de este agente
anti-suciedad es excelente en durabilidad de la
propiedad.
A saber, el agente anti-suciedad
de acuerdo con esta invención contiene un compuesto de organosilicio
representado por la siguiente fórmula general (1):
(1)R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}-(CH_{2})_{12}-z-(CH_{2})_{s2}-Si-(R^{2})_{3}
en la que R^{f2} es un grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado que presenta de 1 a 16 átomos
de carbono; R^{2} es un grupo hidrolítico; Z es -OOCNH- u -O-; n2
es un número entero de 1 a 50; m2 es un número entero de 0 a 3; 12
es un número entero de 0 a 3; y s2 es un número entero de 1 a 6, con
una premisa de que m2 y 12 cumplan la condición de 6 \geq m2 + 12
>
0.
El número de átomos de carbono del grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado a introducir en R^{f2} se
encuentra preferiblemente en el intervalo de 1 a 16, más
preferiblemente en el intervalo de 1 a 3. Por tanto, los ejemplos
más preferibles de R^{f2} son -CF_{3}, -C_{2}F_{5},
-C_{3}F_{7}, etc.
Ejemplos específicos del grupo hidrolítico que se
introduce en R^{2} son -Cl, -Br, -I, -OR^{11}, -OOCR^{11},
-OC(R^{11})C=C(R^{12})_{2},
-ON=C(R^{11})_{2}, -ON=CR^{13},
-N(R^{12})_{2}, -R^{12}NOCR^{11}, etc., en las
que R^{11} es un grupo hidrocarburo alifático que presenta de 1 a
10 átomos de carbono, tal como grupo alquilo o un grupo hidrocarburo
aromático que presenta de 6 a 20 átomos de carbono, tales como grupo
fenilo; R^{12} es un átomo de hidrógeno o un grupo hidrocarburo
alifático que presenta de 1 a 5 átomos de carbono, tal como grupo
alquilo; y R^{13} es un grupo hidrocarburo alifático divalente que
presenta de 3 a 6 átomos de carbono, tal como alquilideno.
Los ejemplos más preferibles del grupo
hidrolítico son -OCH_{3}, -OC_{2}H_{5}, -OOCCH_{3}, y
-NH_{2}.
Estos grupos hidrolíticos se pueden incluir solos
o en combinación de dos o más tipos en el compuesto de organosilicio
que constituye el agente anti-suciedad de esta
invención.
El n2 en la fórmula general (1) anteriormente
mencionada debería encontrarse preferiblemente en el intervalo de 1
a 30, más preferiblemente en el intervalo de 5 a 20. El m2 en la
fórmula general (1) anteriormente mencionada debería estar en el
intervalo de 1 a 2. El 12 en la fórmula general (1) anteriormente
mencionada debería estar preferiblemente en el intervalo de 1 a 2.
El s2 en la fórmula general (1) anteriormente mencionada debería
estar preferiblemente en el intervalo de 1 a 3.
Los compuestos en los que Z es -OOCNH- en la
fórmula general (1) se pueden preparar de acuerdo con la siguiente
fórmula de reacción:
R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}(CH_{2})_{12}-OH
OCN-(CH_{2})_{s2}-Si(R^{2})_{3}
\hskip1,5cm\downarrow
\hskip2,5cmcatalizador
R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}(CH_{2})_{12}-OOCNH-(CH_{2})_{s2}-Si(R^{2})_{3}
De forma más específica, se puede obtener un
compuesto de organosilicio representado por la siguiente fórmula
general (2D) permitiendo que una resina de flúor que presenta grupo
hidroxilo y representada por la fórmula general (2A) siguiente
reaccione con el catalizador y con un agente de acoplamiento de
silano basado en isocianato representado por la fórmula general (2C)
siguiente en un disolvente.
...(2A)R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}(CH_{2})_{12}-OH
...(2C)OCN-(CH_{2})_{s2}-Si(R^{2})_{3}
...(2D)R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}(CH_{2})_{12}-OOCNH-(CH_{2})_{s2}-Si(R^{2})_{3}
en la que R^{f2} es un grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado que presenta de 1 a 16 átomos
de carbono; R^{2} es un grupo hidrolítico; n2 es un número entero
de 1 a 50; m2 es un número entero de 0 a 3; 12 es un número entero
de 0 a 3; y s2 es un número entero de 0 a
6.
Esta reacción se puede llevar a cabo de forma
ventajosa mediante el uso de 0,001 a 0,01 mol de
C_{32}H_{64}O_{4}Sn como catalizador y de 1 a un exceso de un
agente de acoplamiento de silano basado en isocianato por 1 mol de
una resina de flúor que contiene grupo hidroxilo y llevando a cabo
la reacción a una temperatura que varía desde temperatura ambiente
hasta la temperatura de reflujo del disolvente durante 2 a 72 horas.
En cuanto al disolvente usual en este caso, es posible usar un
hidrocarburo perfluoroalifático común que presenta de 5 a 12 átomos
de carbono, tales como el perfluorohexano,
perfluorometilciclohexano,
perfluoro-1,3-dimetilciclohexano,
etc.; un polifluoruro de hidrocarburo aromático tal como
bis(trifluorometil)benceno; o un polifluoruro de
hidrocarburo alifático.
El agente de anti-suciedad de
acuerdo con esta invención puede incluir, si se desea, distintos
tipos de aditivos además de los compuestos organometálicos
anteriormente mencionados representados por la fórmula general (1).
Por ejemplo, el agente anti-suciedad puede contener
un catalizador para la promoción de la hidrólisis o policondensación
de los compuestos de organosilicio representados por la fórmula
general (1) o para la promoción de la formación de la unión de
uretano condensada.
En cuanto al catalizador que se puede usar en el
agente anti-suciedad de esta invención, es posible
usar ácido clorhídrico, ácido nítrico, ácido sulfúrico, ácido
acético, ácido fluorhídrico, ácido fórmico, ácido fosfórico, ácido
oxálico, amoniaco, acetilacetonato de aluminio, dilaurato de
dibutilestaño, compuesto octilato estaño, sodio, hidruro de sodio,
sulfonato de metano, sulfonato de trifluorometano, sulfonato de
paratolueno, trifluoroacetato, etc. Estos compuestos se pueden usar
solos o en combinación de dos o más tipos.
Los compuestos en los que Z es -O- en la fórmula
general (1) se pueden preparar de acuerdo con la fórmula
general:
R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}(CH_{2})_{12}-OH
X-(CH_{2})_{s2}-Si(R^{2})_{3}
\hskip1,3cm\downarrow
\hskip1cmcatalizador
R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}-(CH_{2})_{12}-OOCNH-(CH_{2})_{s2}-Si(R^{2})_{3}
De forma más específica, se puede obtener un
compuesto de organosilicio representado por la fórmula general (2E)
siguiente permitiendo que una resina de flúor que presenta grupo
hidroxilo y representada por la fórmula general siguiente (2A)
reaccione con el catalizador y un agente de acoplamiento de silano
basado en halógeno representado por la fórmula general (2B)
siguiente en un disolvente.
...(2A)R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}(CH_{2})_{12}-OH
...(2B)X-(CH_{2})_{s2}-Si(R^{2})_{3}
...(2E)R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}-(CH_{2})_{12}-OOCNH-(CH_{2})_{s2}-Si(R^{2})_{3}
en la que R^{f2} es un grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado que presenta de 1 a 16 átomos
de carbono; X es un átomo de halógeno; R^{2} es un grupo
hidrolítico; n2 es un número entero de 1 a 50; m2 es un número
entero de 0 a 3; 12 es un número entero de 0 a 3; y s2 es un número
entero de 0 a
6.
Esta reacción puede tener lugar de forma
ventajosa usando de 1 a un exceso de 1,1 de NaH como un catalizador
y de 1 a un exceso de agente de acoplamiento de silano basado en
halógeno por 1 mol de una resina de flúor que contiene grupo
hidroxilo y llevando a cabo la reacción a una temperatura que varía
desde la temperatura ambiente a la temperatura de reflujo del
disolvente durante 2 a 72 horas. En cuanto al disolvente usual en
este caso, es posible usar un hidrocarburo perfluoroalifático
ordinario que presenta de 5 a 12 átomos de carbono, tal como
perfluorohexano, perfluorometilciclohexano,
perfluoro-1,3-dimetilciclohexano,
etc.; un polifluoruro de hidrocarburo aromático tal como
bis(trifluorometil)benceno, o un polifluoruro de
hidrocarburo alifático.
El agente anti-suciedad de
acuerdo con esta invención puede incluir, si se desea, distintos
tipos de aditivos además de los compuestos organometálicos
anteriormente mencionados representados por la fórmula general (1).
Por ejemplo, el agente anti-suciedad puede contener
un catalizador para la promoción de la hidrólisis o policondensación
de los compuestos de organosilicio representados por la fórmula
general (1) o para la promoción de la formación de unión éter
condensada.
En cuanto al catalizador que se puede usar en el
agente anti-suciedad de esta invención, es posible
usar ácido clorhídrico, ácido nítrico, ácido sulfúrico, ácido
acético, ácido fluorhídrico, ácido fórmico, ácido fosfórico, ácido
oxálico, amoniaco, acetilacetonato de aluminio, dilaurato de
dibutilestaño, compuesto de octalato estaño, sodio, hidruro de
sodio, sulfonato de metano, sulfonato de trifluorometano, sulfonato
de paratolueno, trifluoroacetato, etc. Estos compuestos se pueden
usar solos o en combinación de dos o más tipos.
Otro ejemplo del compuesto de organosilicio que
constituye el agente anti-suciedad es un compuesto
de organosilicio representado por la fórmula general siguiente
(3):
en la que R^{f2} es un grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado que presenta de 1 a 16 átomos
de carbono; R^{3} es un grupo alquilo que presenta de 1 a 10
átomos de carbono; X es un átomo de halógeno, n2 es un número entero
de 1 a 50; m2 es un número entero de 0 a 3; 12 es un número entero
de 0 a 3; y s2 es un número entero de 1 a 6; a es un número entero
de 0 a 3; b es un número entero de 0 a 3; c es 0 ó 1; d es 0 ó 1;
con la premisa de que estos m2, 12, a, b, c y d cumplan las
condiciones de 6 \geq m2 + 12 > 0, a + b = 3 y c + d
=1.
El número de átomos de carbono del grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado que se va a introducir en
R^{f2} se encuentra preferiblemente en el intervalo de 1 a 16, más
preferiblemente en el intervalo de 1 a 3. Por tanto, los ejemplos
más preferibles de R^{f2} son -CF_{3}, -C_{2}F_{5},
-C_{3}F_{7}, etc.
El número de átomos de carbono del grupo alquilo
que se va a introducir en R^{3} se encuentra preferiblemente en el
intervalo de 1 a 10, más preferiblemente en el intervalo de 1 a 3.
Por tanto, los ejemplos más preferibles de R^{3} son -CH_{3},
-C_{2}H_{5}, -C_{3}H_{7}, etc.
Los compuestos representados por la fórmula
general (3) se pueden preparar de acuerdo con la siguiente fórmula
de reacción:
De forma más específica, se puede obtener un
compuesto de organosilicio representado por la siguiente fórmula
general (3) dejando que una resina de flúor que presenta grupo
hidroxilo y representada por la siguiente fórmula general (3A)
reaccione con el catalizador y un agente de acoplamiento de silano
basado en halógeno representado por la siguiente fórmula general
(3B) en un disolvente.
en la que R^{f2} es un grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado que presenta de 1 a 16 átomos
de carbono; R^{3} es un grupo alquilo que presenta de 1 a 10
átomos de carbono; X es un átomo de halógeno, n2 es un número entero
de 1 a 50; m2 es un número entero de 0 a 3; 12 es un número entero
de 0 a 3; y s2 es un número entero de 1 a 6; a es un número entero
de 0 a 3; b es un número entero de 0 a 3; c es 0 ó 1; d es 0 ó 1;
con la premisa de que m2, 12, a, b, c y d cumplan las condiciones de
6 \geq m2 + m2 > 0, a + b = 3 y c + d
=1.
Esta reacción puede tener lugar de forma
ventajosa mediante el uso de 1 a un exceso de 1,1 de NaH como un
catalizador y de 1 a un exceso de un agente de acoplamiento de
silano basado en halógeno por 1 mol de una resina de flúor que
contiene grupo hidroxilo y llevando a cabo la reacción a una
temperatura que varía de temperatura ambiente a la temperatura de
reflujo del disolvente durante 2 a 72 horas. En cuanto al disolvente
usual en este caso, es posible usar un hidrocarburo
perfluoroalifático ordinario que presente de 5 a 12 átomos de
carbono, tal como el perfluorohexano, perfluorometilciclohexano,
perfluoro-1,3-dimetilciclohexano,
etc.; un polifluoruro de hidrocarburo aromático, tal como
bis(trifluorometil)benceno; o un polifluoruro de
hidrocarburo alifático.
Estos compuestos de organosilicio representados
por la fórmula general (3) anteriormente mencionada se pueden usar
solos o en combinación de dos o más tipos para la constitución del
agente anti-suciedad de esta invención. Cuando se va
a usar una mezcla que comprenden varios tipos de estos compuestos de
silano, se deberían diferenciar los componentes "a", "b",
"c" y "d" en la fórmula general (3) anteriormente
mencionada.
El agente anti-suciedad de
acuerdo con esta invención puede incluir, si se desea, distintos
tipos de aditivos además de los compuestos organometálicos
anteriormente mencionados representados por la fórmula general (3).
Por ejemplo, el agente anti-suciedad puede contener
un catalizador para la promoción de la hidrólisis o policondensación
de los compuestos de organosilicio representados por la fórmula
general (3) o para la promoción de la formación de uniones éter
condensadas.
En cuanto al catalizador que se puede usar en el
agente anti-suciedad de esta invención es posible
usar ácido clorhídrico, ácido nítrico, ácido sulfúrico, ácido
acético, ácido fluorhídrico, ácido fórmico, ácido fosfórico, ácido
oxálico, amoniaco, acetilacetonato de aluminio, dilaurato de
dibutilestaño, compuesto de octilato estaño, sodio, hidruro de
sodio, sulfonato de metano, sulfonato de trifluorometano, sulfonato
de paratolueno, trifluoroacetato, etc. Estos compuestos se pueden
usar solos o en combinación de dos o más tipos.
En cuanto al sustrato para tratamiento, al cual
se aplica una capa anti-suciedad haciendo uso del
agente anti-suciedad de esta invención, no hay
restricción particular alguna, es decir, es aplicable un elemento
óptico ordinario. Por ejemplo, se pueden usar un sustrato inorgánico
tal como un panel de vidrio, un panel de vidrio que comprende una
capa de compuesto inorgánico; o un sustrato orgánico tal como un
sustrato plástico transparente, un sustrato plástico transparente
que comprende una capa de compuesto inorgánico.
Entre ellos, se puede usar principalmente un
panel de vidrio como un sustrato inorgánico. En cuanto al compuesto
inorgánico que se va a usar para constituir el panel de vidrio que
comprende una capa de compuesto inorgánico, es posible usar un óxido
de metal tal como óxido de silicio (dióxido de silicio, monóxido de
silicio, etc.), óxido de aluminio, óxido de magnesio, óxido de
titanio, óxido de estaño, óxido de zirconio, óxido de sodio, óxido
de antimonio, óxido de indio, óxido de bismuto, óxido de itrio,
óxido de cesio, óxido de cinc, ITO (óxido de indio y estaño), etc.;
o un haluro de metal, tal como fluoruro de magnesio, fluoruro de
calcio, fluoruro de sodio, fluoruro de lantano, fluoruro de cesio,
fluoruro de litio, fluoruro de torio, etc.
El sustrato inorgánico o la capa de compuesto
inorgánico formada por cualquiera de estos compuestos inorgánicos
puede ser de una capa única o una multi-capa. La
capa de compuesto inorgánico funciona como una capa que evita la
reflexión y de puede formar haciendo uso de cualquier procedimiento
convencional, tal como un procedimiento de recubrimiento en húmedo,
un procedimiento PVD (deposición física en fase vapor) y un
procedimiento CVD (deposición química en fase vapor). El
procedimiento de recubrimiento en húmedo puede ser un procedimiento
de recubrimiento por inmersión, un procedimiento de recubrimiento
por rotación, un procedimiento de recubrimiento por flujo, un
procedimiento de recubrimiento por pulverización, un procedimiento
de recubrimiento por laminación, un procedimiento de recubrimiento
por gravedad, etc. En cuanto al procedimiento PVD, es posible usar
un procedimiento de deposición a vacío, un procedimiento de
deposición reactiva en fase vapor, un procedimiento asistido por
divisor de iones, un procedimiento de pulverización catódica, un
procedimiento de galvanoplastia, etc.
En cuanto al sustrato plástico transparente, que
es un ejemplo de un sustrato orgánico que se va a usar como un
sustrato para tratamiento, se pueden usar distintos tipos de
sustratos de polímero orgánicos. Para los materiales que se van a
usar como un elemento óptico se requiere, por lo general, que sean
excelentes no sólo en cuanto a propiedades ópticas tales como
transparencia, índice de refracción y dispersividad, sino también en
cuanto a otras propiedades físicas tales como resistencia al choque,
resistencia al calor y durabilidad. En vista de estos requerimientos
se pueden usar una resina de poliolefina (polietileno,
polipropileno, etc.), una resina de poliéster (tereftalato de
polietileno, naftalato de polietileno, etc.), una resina de
poliamida, (nylon-6, nylon-66,
etc.), poliestireno, cloruro de polivinilo, poliimida, alcohol
polivinílico, alcohol etilenvinílico, resina acrílica, celulosa
(triacetilcelulosa, diacetilcelulosa, celofano etc.) o un copolímero
de estos polímeros orgánicos. Por tanto, estos polímeros se pueden
emplear también en esta invención como un sustrato plástico
transparente para la constitución del sustrato para tratamiento.
Es también posible incorporar distintos tipos de
aditivos convencionales tales como un agente
anti-estático, un absorbedor de radiación UV, un
plastificante, un lubricante, un colorante, un antioxidante, un
retardador de la llama etc. en el polímero orgánico que constituye
estos sustratos orgánicos.
Se puede superponer una capa de compuesto
inorgánico sobre estos sustratos orgánicos que se van a usar como el
sustrato para tratamiento en esta invención. En este caso, la capa
de compuesto inorgánico funciona como una capa que evita la
reflexión y se puede depositar sobre la superficie de los sustratos
orgánicos de la misma forma que se explicó anteriormente.
No hay limitación particular alguna respecto a la
forma del sustrato inorgánico o sustrato orgánico que se va a usar
como el sustrato para tratamiento. El sustrato de plástico
transparente que se va a usar como un elemento óptico se proporciona
por lo general en la forma de una película o lámina, y por tanto, se
puede usar también en esta invención un sustrato de plástico
transparente tipo película o tipo lámina. Este sustrato de plástico
transparente tipo película o tipo lámina puede estar formado por
una capa única o por una capa laminada constituida por varias capas
de polímero orgánico. Si bien no hay limitación particular alguna en
lo referente al espesor del sustrato de plástico transparente, el
espesor debería estar preferiblemente en el intervalo de 0,01 a 5
mm.
Es también posible interponer una capa de
recubrimiento dura entre el sustrato de plástico transparente y la
capa de compuesto inorgánico. La provisión de esta capa de
recubrimiento dura es efectiva en la mejora no solo de la dureza de
la superficie del sustrato, sino también en la adhesividad entre el
sustrato de plástico transparente y la capa de compuesto inorgánico,
debido a que la plenitud de la superficie del sustrato se puede
mejorar mediante esta capa de recubrimiento dura. Por tanto, se
puede evitar de forma efectiva cualquier arañazo que se pueda
provocar mediante la presión de un lápiz, etc. sobre la superficie
del sustrato. Además, se puede evitar de forma efectiva la
generación de grietas de la capa de compuesto inorgánico debido a la
mezcla del sustrato de plástico transparente, haciendo así posible
mejorar la resistencia mecánica del elemento óptico.
No hay limitación particular alguna respecto al
material de la capa de recubrimiento dura en tanto la capa de
recubrimiento dura sea excelente en transparencia, suficiente en
dureza y excelente en resistencia mecánica. Por ejemplo, se puede
usar una resina curada que se pueda curar mediante irradiación de
una radiación ionizante o de rayos ultravioleta o una resina
termoendurecible. En particular, son preferibles la resina acrílica
de tipo de curado por irradiación, una resina de silicona orgánica y
una resina de polisiloxano de tipo termoendurecible para la
formación de la capa de recubrimiento dura. Es más preferible que el
índice de refracción de estas resinas sea el mismo o casi el mismo
que el del sustrato de plástico transparente.
No hay limitación particular alguna respecto al
procedimiento de recubrimiento de la capa de recubrimiento dura en
tanto este sea capaz de formar una capa uniforme. El espesor de la
capa de recubrimiento dura puede ser suficiente si es 3 \mum o más
para asegurar una resistencia suficiente. No obstante, en vista de
la transparencia, la precisión del recubrimiento y la manipulación
del mismo, un intervalo preferible en espesor de la capa de
recubrimiento dura es de 5 a 7 \mum.
Es también posible mezclar y dispersar una
partículas fina inorgánica u orgánica que presenta un diámetro de
partícula medio de 0,01 a 3 \mum en la capa de recubrimiento dura,
con lo que se consigue un tratamiento de dispersión de luz o el
denominado tratamiento anti-deslumbramiento. Aunque
no hay limitación particular alguna respecto a esta partícula fina
inorgánica u orgánica en tanto la partícula fina sea transparente,
es más preferible usar un material de bajo índice de refracción. De
forma específica es especialmente preferible el óxido de silicio y
el fluoruro de magnesio a la vista de la estabilidad y resistencia
al calor de los mismos. El tratamiento de dispersión de luz
anteriormente mencionado se puede realizar también mediante
rugosificación de la superficie de la capa de recubrimiento
dura.
El sustrato para tratamiento anteriormente
mencionado se puede usar como un sustrato transparente para el
elemento que evita la reflexión en esta invención. En particular, el
sustrato para tratamiento provisto en su superficie con una película
que evita la reflexión se puede tratar en esta invención como un
sustrato transparente provisto con una película que evita la
reflexión. El elemento óptico que evita la reflexión de acuerdo con
esta invención se puede obtener mediante deposición de una capa
anti-suciedad sobre la superficie del sustrato
transparente resultante anteriormente mencionado.
En cuanto al procedimiento de formación de la
capa anti-suciedad, no hay limitación particular
alguna y de ahí que sea posible adoptar bien un procedimiento de
recubrimiento en húmedo o un procedimiento de recubrimiento en
seco.
Este procedimiento de recubrimiento en húmedo
puede ser un procedimiento de recubrimiento por inmersión, un
procedimiento de recubrimiento por rotación, un procedimiento de
recubrimiento por flujo, un procedimiento de recubrimiento por
pulverización, un procedimiento de recubrimiento por laminación, un
procedimiento de recubrimiento por grabado, etc.
Por otro lado, el procedimiento de recubrimiento
en seco puede ser, por ejemplo, un procedimiento de deposición a
vacío, un procedimiento de pulverización catódica o un procedimiento
CVD. De forma más específica, el procedimiento de deposición a vacío
se puede llevar a cabo por medio de un procedimiento de
calentamiento con resistencia, un procedimiento de haz de
electrones, un procedimiento de calentamiento con alta frecuencia,
un procedimiento de haz de iones, etc. El procedimiento CVD se puede
llevar a cabo por medio de un procedimiento CVD asistido por plasma,
un procedimiento DVD con luz, un procedimiento CVD térmico, etc.
Aunque no hay limitación particular alguna
respecto al disolvente diluyente que se va a usar en el
procedimiento de recubrimiento en húmedo, es preferible usar un
hidrocarburo perfluoroalifático que presente de 5 a 12 átomos de
carbono, tal como el perfluorohexano, perfluorometilciclohexano,
perfluoro-1,3-dimetilciclohexano; un
polifluoruro de hidrocarburo aromático, tal como un
bis(trifluorometil)benceno; y un polifluoruro de
hidrocarburo alifático. Estos disolventes se pueden usar solos o
como una mezcla que contenga dos o más tipos de estos
disolventes.
El uso de este procedimiento de recubrimiento en
húmedo es preferible cuando el sustrato para tratamiento es de
configuración complicada o grande en cuanto a área superficial.
Por otro lado, es preferible el uso del
procedimiento de recubrimiento en seco que se pueda dispensar con el
uso de un disolvente diluyente a la vista del ambiente de trabajo
en el momento de formación de una capa anti-suciedad
o a la vista del control del espesor de película de una capa
anti-suciedad. A este respecto, el uso de un
procedimiento de deposición a vacío es lo más preferible. Es
posible, de acuerdo con un procedimiento de recubrimiento en seco,
controlar de forma precisa el espesor de película de la capa
anti-suciedad en el orden de angstroms, donde la
técnica anterior fracasaba estrepitosamente en su consecución. Como
consecuencia, es ahora posible proporcionar un elemento óptico que
presenta una capa anti-suciedad deseada. Además, es
ahora posible proporcionar fácilmente un elemento óptico que
presenta una película que evita la reflexión con una propiedad
anti-suciedad sin provocar cambio alguno en el color
de interferencia de la película que evita la reflexión en donde el
color es difícil de ajustar.
Así, en el caso de que una capa
anti-suciedad se vaya a formar por medio de un
procedimiento de recubrimiento en seco, el espesor de película que
se va a formar cambia dependiendo de la cantidad de evaporación del
agente anti-suciedad. Por tanto, si el espesor de
película de una capa anti-suciedad se va a controlar
de forma precisa, la cantidad de evaporación del agente
anti-suciedad debería controlarse preferiblemente de
forma precisa.
Tras finalizar la deposición de una capa
anti-suciedad sobre un sustrato para tratamiento por
medio de un procedimiento de recubrimiento en seco o un
procedimiento de recubrimiento en húmedo, la capa
anti-suciedad se puede someter, si se desea, a
calentamiento, humidificación, irradiación de luz, irradiación con
haz de electrones etc.
En particular es también preferible formar una
capa de anti-suciedad por medio de procedimiento de
deposición a vacío usando un cuerpo moldeado poroso.
A saber, este procedimiento de deposición a vacío
comprende las etapas de; impregnar un cuerpo moldeado poroso con un
agente anti-suciedad de esta invención; y
calentamiento del cuerpo moldeado poroso impregnado con el agente
anti-suciedad a vacío de modo que se evapora el
agente anti-suciedad y depositar una capa
anti-suciedad sobre un sustrato transparente
cubierto previamente con una película que evita la reflexión.
En cuanto a los componentes que constituyen del
cuerpo moldeado poroso (agregado) que se van a usar en este
procedimiento, es posible usar SiO_{2}, TiO_{2}, ZrO_{2}, MgO,
Al_{2}O_{3}, CaSO_{4}, Cu, Fe, Al, acero inoxidable, carbono o
una mezcla de los mismos. Por lo general, estos materiales de
deberían pulverizar para presentar un diámetro de partícula en el
intervalo de 5 a 20 \mum. Estos materiales pulverizados se agregan
luego y se sinterizan de acuerdo al procedimiento convencional, con
lo que se obtiene un cuerpo moldeado poroso que se va a usar en esta
invención.
La etapa de sinterización del agregado se lleva a
cabo, en general, a una temperatura de 700 a 1.400ºC durante 1 a 10
horas. Dependiendo del diámetro de partícula de la partícula
primaria, densidad y condiciones de sinterizado, se puede obtener un
cuerpo moldeado poroso que presenta un grado variado de porosidad
que varía del 30 al 60%.
El agente anti-suciedad de esta
invención se disuelve en un disolvente tal como el perfluorohexano
para obtener una solución, en la cual se sumerge el cuerpo moldeado
poroso (agregado) de modo que se satura completamente el cuerpo
moldeado poroso con el agente anti-suciedad. Después
de esto, se deja evaporar el disolvente, obteniendo así un cuerpo
moldeado poroso impregnado con el agente
anti-suciedad de esta invención.
Luego, haciendo uso de este cuerpo moldeado
poroso impregnado con el agente anti-suciedad, se
deposita una capa anti-suciedad sobre la superficie
de un sustrato para tratamiento por medio de un procedimiento de
deposición a vacío. En cuanto al procedimiento de calentamiento para
el calentamiento del cuerpo moldeado poroso con el que se evapora el
agente anti-suciedad, se pueden usar de forma
efectiva un procedimiento de calentamiento con resistencia, un
procedimiento de calentamiento con haz de electrones, procedimiento
de calentamiento con haz de iones, procedimiento de calentamiento
con alta frecuencia o un procedimiento de calentamiento con luz.
Una vez finaliza la deposición de una capa
anti-suciedad sobre el sustrato para tratamiento, se
puede someter el sustrato resultante, si se desea, a calentar,
humidificación, irradiación con luz, irradiar con haz de
electrones.
Como se explicó anteriormente, si se va a formar
una capa anti-suciedad por medio de un procedimiento
de recubrimiento en seco, la cantidad de evaporación del agente
anti-suciedad debería controlarse preferiblemente de
forma precisa con el fin de controlar de forma precisa el espesor de
película de la capa anti-suciedad. Cuando se usa el
cuerpo moldeado poroso anteriormente mencionado, se determina la
cantidad de evaporación del agente anti-suciedad
mediante la cantidad impregnada del agente
anti-suciedad en el cuerpo moldeado poroso y
mediante las condiciones de calentamiento en el momento de la
formación de la capa anti-suciedad, y de ahí que el
uso del cuerpo moldeado poroso sea ventajoso en términos de control
del espesor de película. El uso del cuerpo moldeado poroso para la
formación de una capa anti-suciedad por medio de un
procedimiento de deposición a vacío es también ventajoso respecto a
que evita que el agente anti-suciedad se fugue
debido al calentamiento de la parte interior contaminada del aparato
y respecto a que disminuye el fenómeno de proyección del agente
anti-suciedad.
Aunque no hay limitación particular alguna
respecto al espesor de película de la capa
anti-suciedad que se va a formar usando un agente
anti-suciedad de esta invención, el espesor de
película debería estar preferiblemente en el intervalo de 10 a 500
angstroms en vista de la propiedad anti-suciedad,
resistencia a la abrasión y rendimiento óptico de un elemento
óptico.
La figura 1 muestra una vista en sección
transversal de un ejemplo del elemento óptico que evita la reflexión
de acuerdo con esta invención.
En lo referente a la figura 1, se deposita una
película que evita la reflexión 2 sobre una de las superficies de un
sustrato transparente 1. Además, se forma una capa
anti-suciedad 3 sobre esta película que evita la
reflexión 2 de acuerdo con el procedimiento de esta invención.
Este elemento óptico que evita la reflexión de
acuerdo con esta invención se adhiere luego a un elemento óptico
funcional, tal como una placa de polarización mediante un
procedimiento de unión adecuado, tal como laminación por lo que se
obtiene un elemento funcional óptico de esta invención que muestra
una función que evita la reflexión.
La figura 2 muestra una vista en sección
transversal de un ejemplo del elemento funcional óptico de acuerdo
con esta invención.
En referencia a la figura 2, se deposita una
película que evita la reflexión 2 sobre una de las superficies de un
sustrato transparente 1. Además, se forma una capa
anti-suciedad 3 sobre esta película que evita la
reflexión 2 de acuerdo con el procedimiento de esta invención.
Además, se forma una placa de polarización 4 que actúa como un
elemento óptico funcional sobre la otra superficie del sustrato
transparente 1.
Este elemento óptico que evita la reflexión o un
elemento funcional óptico laminado con este elemento óptico que
evita la reflexión se adhiere luego, haciendo uso de un adhesivo o
de un adhesivo sensible a la presión, sobre la placa frontal (una
placa de vidrio, una placa de plástico o una placa de polarización)
de distintos dispositivos de visualización (una pantalla de cristal
líquido, una pantalla CRT, un televisor de proyección, una pantalla
de plasma, una pantalla EL etc.) con lo que se obtiene un
dispositivo de visualización de esta invención.
La figura 3 muestra una vista esquemática de un
ejemplo del dispositivo de visualización de acuerdo con esta
invención. En la pantalla de cristal líquido mostrada en la figura
3A, se dispone un sustrato de TFT 10a provisto sobre una superficie
del mismo con una película de alineamiento 11a para orientarse hacia
un sustrato de vidrio 10b provisto sobre una superficie del mismo
con una película de alineamiento 11b con un espaciador 13 que está
interpuesto entre estos. De forma adicional, se mantiene una capa de
cristal líquido 12 sostenida entre el sustrato de TFT 10a y el
sustrato de vidrio 10b. Además, el sustrato de TFT 10a se
proporciona con un electro de visualización 14, y el sustrato de
vidrio 10b se proporciona con un filtro de color 15 y un electrodo
de conteo 16. Además, se forma una placa de polarización 17 sobre la
otra superficie de cada uno de los sustrato de TFT 10a y sustrato de
vidrio 10b.
Se forma un elemento funcional óptico 18 provisto
con una capa anti-suciedad, la cual se ha formado
usando el agente anti-suciedad de esta invención,
sobre la superficie de la placa de polarización 17 formada sobre el
sustrato de TFT 10a.
La figura 3B muestra una vista esquemática de una
parte de una pantalla CRT. Como se muestra en la figura 3B, se forma
un elemento funcional óptico 22 provisto con una capa
anti-suciedad, la cual se ha formado usando un
agente anti-suciedad de esta invención, sobre la
superficie de un panel 21.
Como se muestra en estas figuras 3A y 3B, se
forma una capa anti-suciedad sobre la superficie de
un elemento funcional óptico de modo que se evita que una suciedad,
tal como huellas dactilares, grasa de la piel, sudor, cosméticos,
etc. se adhiera sobre la superficie de un elemento funcional óptico.
Esta capa anti-suciedad es excelente en cuanto a
durabilidad y capaz de eliminar fácilmente por borrado una suciedad
incluso si la suciedad se adhiere sobre la superficie de la capa
anti-suciedad. Por tanto, es posible obtener un
dispositivo de visualización que es excelente en cuanto a la
reconocibilidad de imagen.
A continuación, esta invención se explicará
adicionalmente en referencia a ejemplos específicos, no se pretende
que los mismos limiten esta invención.
En primer lugar se prepara una película de TAC
(triacetilcelulosa) unida a una película que evita la reflexión como
sigue.
Se recubre una resina acrílica monofuncional
sobre la superficie de una película de TAC (espesor: 80 \mum) por
medio de un procedimiento de microgravedad. Luego se irradia con luz
desde una lámpara de metahaluro (120 w) en la capa recubierta desde
una distancia de 20 cm durante 10 segundos, con lo que se forma una
capa de recubrimiento dura. Después de esto, se depositan
sucesivamente una primera película de TiO_{2}, una primera
película de SiO_{2}, una segunda película de TiO_{2} y una
segunda película de SiO_{2} sobre la capa de recubrimiento dura
por medio de un procedimiento de deposición asistido por plasma, con
lo que se obtiene una capa que evita la reflexión.
Se fijaron el índice de refracción "n", el
espesor geométrico "d" y el espesor de película óptica
"nd" de cada capa: la película de TAC (n = 1,49), la capa de
recubrimiento dura (n = 1,51, d = aproximadamente 5 \mum), la
primera película de TiO_{2} (n = 2,30, nd = 60 nm), la primera
película de SiO_{2} (n = 1,46, nd = 40 nm), la segunda película de
TiO_{2} (n = 2,30, nd = 110 nm) y la segunda película de SiO_{2}
(n = 1,46, nd = 140 nm). Se sigue el espesor de la película óptica
haciendo uso de un monitor de espesor de película óptica, y cuando
se consigue una cantidad de luz suficiente, la operación de
formación de la película se detiene con lo que se obtiene un espesor
de película óptica predeterminado.
En los ejemplos y ejemplos comparativos
siguientes se usaron las películas de TAC unidas a la película que
evita la reflexión obtenidas de esta forma, como un sustrato para
tratamiento o como un sustrato transparente para la formación de una
capa anti-suciedad.
En primer lugar se disuelven 1,70 g de una resina
de flúor que presenta grupo hidroxilo y representada por la
siguiente fórmula química (4) en 7,13 g de
bis(trifluorometil)benceno para preparar una solución.
Se coloca luego la solución resultante en un matraz de cuatro bocas
dotado de un agitador, un embudo de goteo, un condensador de reflujo
y un termómetro.
...(4)C_{3}F_{7}(OC_{3}F_{6})_{24}-O-(CF_{2})_{2}-CH_{2}OH
Luego se añaden 0,0018 g de dilaurato de
dibutilestaño (catalizador) a la solución en el matraz, y se
mantiene luego la mezcla resultante a una temperatura de 100ºC con
agitación suficiente. Después de esto se gotean 0,13 g del
isocianato propiltrietoxisilano representado por la siguiente
fórmula química (5) desde el embudo de goteo al matraz.
...(5)OCN(CH_{2})_{3}-Si-(OC_{2}H_{5})_{3}
Después de finalizar el goteo del compuesto de
silano se deja que la mezcla reaccione mientras se calienta a
reflujo durante 10 horas, con lo que se obtiene un compuesto de
organosilicio.
Luego se somete este compuesto de organosilicio a
un análisis de FT-IR para obtener un diagrama
FT-IR como se muestra en la figura 4.
Como consecuencia se confirma que el compuesto
obtenido se trata de un compuesto de organosilicio representado por
la siguiente fórmula química (6).
...(6)C_{3}F_{7}(OC_{3}F_{6})_{24}-O-(CF_{2})_{2}-CH_{2}-OOCNH(CH_{2})_{3}-Si-(OC_{2}H_{5})_{3}
El compuesto de organosilicio así obtenido se
diluye con perfluorohexano a una solución al 0,1% en peso con lo que
se obtiene un agente anti-suciedad de esta
invención.
Luego, se usa la película de TAC unida a la
película que evita la reflexión preparada como se mencionó
anteriormente como un sustrato para tratamiento, y el agente
anti-suciedad obtenido en este ejemplo se recubre
sobre la superficie del sustrato para tratamiento por medio de un
procedimiento de recubrimiento por inmersión. El sustrato recubierto
se seca luego con calor a una temperatura de 60ºC durante un minuto
con lo que se forma una capa anti-suciedad,
obteniendo así un elemento óptico que evita la reflexión de este
ejemplo.
La figura 5 muestra una vista en sección
transversal del elemento óptico que evita la reflexión obtenida de
esta forma. Tal como se muestra en la figura 5, el elemento óptico
que evita la reflexión de acuerdo con este ejemplo se construyó de
modo tal que se formó una capa de recubrimiento dura 5 sobre un
sustrato transparente 1, y se depositó una película que evita la
reflexión 2 formada por una estructura laminada constituida por una
primera película de TiO_{2} 2a, una primera película de SiO_{2}
2b, una segunda película de TiO_{2} 2c y una segunda película de
SiO_{2} 2d sobre la superficie de la capa de recubrimiento dura 5.
La capa más superior de este elemento óptico estaba constituida por
una capa anti-suciedad 3 formada a partir del agente
anti-suciedad de esta invención.
Ejemplo comparativo
1
Se diluye
CF_{3}(CF_{2})_{7}(CH_{2})_{2}Si(NH)_{3}/_{2}
(KP801M; Shin-etsu Chemical Industries Ltd.) con
perfluorohexano hasta una solución al 0,1% en peso con lo que se
obtiene un agente anti-suciedad.
Luego, haciendo uso de este agente
anti-suciedad se forma una capa
anti-suciedad sobre la superficie de un sustrato
para tratamiento de la misma forma que se ilustra en el ejemplo
1.
Se diluye el compuesto de organosilicio obtenido
en el ejemplo 1 y representado mediante la fórmula química (6) con
perfluorohexano hasta una solución al 20% en peso con lo que se
obtiene un agente anti-suciedad de este ejemplo.
Luego, se usa la película de TAC unida a la
película que evita la reflexión preparada como se mencionó
anteriormente como un sustrato para tratamiento, y el agente
anti-suciedad obtenido en este ejemplo se deposita
sobre la superficie del sustrato para tratamiento por medio de un
procedimiento de deposición a vacío (procedimiento de calentamiento
con resistencia), con lo que se forma una capa
anti-sustancia.
En la práctica de este procedimiento de
deposición a vacío, se colocan 5 mg (materia sólida) del agente
anti-suciedad dentro de un bote y se evacua el
interior del aparato de deposición hasta un grado de vacío de 5 x
10^{-5} mm de Hg o menos. Después de esto se calienta el bote
hasta 400ºC de modo que se evapora el agente
anti-suciedad.
Ejemplo comparativo
2
Se repiten los mismos procedimientos que aquellos
del ejemplo 2, excepto que se usa
CF_{3}(CF_{2})_{7}(CH_{2})_{2}Si
\hbox{(NH) _{3/2} }
(KP801M; Shin-etsu Chemical Industries Ltd.) como un
agente anti-suciedad, con lo que se forma una capa
anti-suciedad sobre la superficie de un sustrato
para tratamiento.
Se prepara un agregado que presenta un diámetro
de 6 mm y una altura de 4 mm por medio de presión hidráulica y
haciendo uso de polvo de Al_{2}O_{3} que presenta un diámetro de
partícula de 1 a 10 \mum como material de partida. Luego, se
sinteriza este agregado a una temperatura de 1.200ºC durante 14
horas. Se encuentra que la sustancia sinterizada resultante
(agregado) presenta una porosidad de aproximadamente el 40%.
En primer lugar se coloca una suspensión de
aceite de hidruro de sodio en un matraz del tipo de planta ovalada
de dos bocas de 100 ml dotado con un embudo de goteo y un
condensador de reflujo con lo que tiene lugar el desplazamiento del
nitrógeno. Después de este desplazamiento se repite el lavado con
n-hexano en atmósfera de gas nitrógeno cuatro veces
y luego se destila n-hexano a vacío con lo que se
obtiene hidruro de sodio (0,011 mol).
Se disuelve 0,01 mol de una resina de flúor que
presenta grupo hidroxilo y representada mediante la fórmula química
(4) siguiente en 50 g de bis(trifluorometil)benceno
para preparar una solución. La solución resultante se gotea luego
con enfriamiento con hielo en el matraz a una velocidad de una gota
por segundo. Después de finalizar esta operación de goteo se retira
la mezcla de reacción del baño de hielo y se agita durante 10 horas
a temperatura ambiente. Se añade 0,1 mol de
clorometiltrimetoxisilano representado por la fórmula (7) siguiente
al alcóxido de sodio y se agita la mezcla resultante durante dos
horas a temperatura ambiente. Después de esto se calienta la mezcla
de reacción a reflujo durante 72 horas mientras se mantiene la
temperatura de calentamiento a 90ºC. Después de finalizar el
reflujo, se filtran el hidruro de sodio y el cloruro de sodio no
reaccionados a vacío, y se lava con agua el filtrado
suficientemente. Además se destila el
bis(triflurometil)benceno y el
clorometiltrimetoxisilano en exceso a vacío con lo que se obtiene un
compuesto de organosilicio representado por la fórmula (8)
siguiente:
...(4)C_{3}F_{7}-(OC_{3}F_{6})_{24}-O-(CF_{2})_{2}-CH_{2}-OH
...(7)ClCH_{2}Si(OCH_{3})_{3}
...(8)C_{3}F_{7}-(OC_{3}F_{6})_{24}-O-(CF_{2})_{2}-CH_{2}-OCH_{2}Si(OCH_{3})
Luego se diluyen 5 g del compuesto de
organosilicio representado por la fórmula (8) anteriormente
mencionada con perfluorohexano hasta una solución del 10% en peso
con lo que se obtiene un agente anti-suciedad. Luego
se sumerge el cuerpo moldeado poroso anteriormente mencionado
(agregado) en la solución de agente anti-suciedad de
modo que se satura completamente el cuerpo moldeado poroso con el
agente anti-suciedad. Subsiguientemente se retira el
cuerpo moldeado poroso de la solución de agente
anti-suciedad y se deja que el disolvente se
evapore. Como consecuencia se encuentra que el cuerpo moldeado
poroso (agregado) contiene aproximadamente el 2% en peso del agente
anti-suciedad.
Se monta el agregado en un bote de molibdeno y se
deja que el agente anti-suciedad se deposite sobre
la película de TAC unida a la película que evita la reflexión
anteriormente mencionada por medio de un procedimiento de deposición
a vacío (procedimiento de calentamiento con resistencia) con lo que
se forma una capa anti-suciedad. En este caso se
evacua el interior del aparato de deposición hasta un grado de vacío
de 5 x 10^{-5} mm de Hg o inferior. Después de esto, se calienta
el bote hasta 400ºC de forma que se evapora el agente
anti-suciedad.
Ejemplo comparativo
3
Se repite los mismos procedimientos que aquellos
del ejemplo 3, excepto que se usa
CF_{3}(CF_{2})_{7}(CH_{2})_{2}Si(NH)_{3/2}
(KP801M; Shin-etsu Chemical Industries Ltd.) como un
agente anti-suciedad, con lo que se forma una capa
anti-suciedad sobre la superficie de la película de
TAC unida a la película que evita la reflexión.
Se prepara un agregado que presenta una porosidad
de aproximadamente el 40% con los mismos procedimientos que los del
ejemplo 3.
En primer lugar se coloca una suspensión de
aceite de hidruro de sodio en un matraz del tipo de planta ovalada
de dos bocas de 100 ml dotada con un embudo de goteo y un
condensador de reflujo con lo que tiene lugar el desplazamiento del
nitrógeno. Después de este desplazamiento se repite el lavado con
n-hexano en atmósfera de gas nitrógeno cuatro veces
y luego se destila n-hexano a vacío con lo que se
obtiene hidruro de sodio (0,011 mol).
\newpage
Se disuelve 0,01 mol de una resina de flúor que
presenta grupo hidroxilo y representada mediante la fórmula química
(4) siguiente en 50 g de bis(trifluorometil)benceno
para preparar una solución. La solución resultante se gotea luego
con enfriamiento con hielo en el matraz a una velocidad de una gota
por segundo. Después de finalizar esta operación de goteo se recoge
la retira la mezcla de reacción del baño de hielo y se agita durante
10 horas a temperatura ambiente. Se añade 0,03 mol de
clorometiltrimetoxisilano representado por la fórmula (7) siguiente
al alcóxido de sodio y se agita la mezcla resultante durante dos
horas a temperatura ambiente. Después de esto se calienta la mezcla
de reacción a reflujo durante 48 horas mientras se mantiene la
temperatura de calentamiento a 100ºC. Después de finalizar el
reflujo, se filtran el hidruro de sodio y el cloruro de sodio no
reaccionados a vacío, y se lava con agua el filtra suficientemente.
Además se destila el bis(triflurometil)benceno y el
clorometiltrimetoxisilano en exceso a vacío con lo que se obtiene un
compuesto de organosilicio representado por la fórmula (9)
siguiente:
...(4)C_{3}F_{7}-(OC_{3}F_{6})_{24}-O-(CF_{2})_{2}-CH_{2}-OH
...(7)ClCH_{2}Si(OCH_{3})_{3}
...(9)[C_{3}F_{7}-(OC_{3}F_{6})_{24}-O-(CF_{2})_{2}-CH_{2}-O-CH_{2}]Si(OCH_{3})_{2}[(CH_{2})_{2}Cl]
Luego se diluyen 5 g del compuesto de
organosilicio representado por la fórmula (9) anteriormente
mencionada con perfluorohexano hasta una solución del 10% en peso
con lo que se obtiene un agente anti-suciedad. Luego
se sumerge el cuerpo moldeado poroso anteriormente mencionado
(agregado) en la solución de agente anti-suciedad de
modo que se satura completamente el cuerpo moldeado poroso con el
agente anti-suciedad. Subsiguientemente se retira el
cuerpo moldeado poroso de la solución de agente
anti-suciedad y se deja que el disolvente se
evapore. Como consecuencia se encuentra que el cuerpo moldeado
poroso (agregado) contiene aproximadamente el 2% en peso del agente
anti-suciedad.
Haciendo uso de los mismos procedimientos que
aquellos del ejemplo 3, se forma una capa de
anti-suciedad sobre la superficie de la película TAC
unida a película que evita la reflexión.
Las capas anti-suciedad obtenidas
en los ejemplos y ejemplos comparativos anteriores se usan como
muestras para evaluar las siguientes propiedades. Los resultados
obtenidos se resumen en la tabla 1 siguiente.
(a) La medida del ángulo de contacto: haciendo
uso de un calibre de ángulo de contacto (CA-X: Kyowa
Taimen Kagaku Co. Ltd.), se prepara una gota que presenta un
diámetro de 1,8 mm en el extremo de la punta de la aguja bajo
condiciones de sequedad (20ºC, humedad relativa del 65%). Luego, se
pone en contacto esta gota con la superficie de una muestra (cuerpo
sólido) de modo que se forma una gota sobre la superficie de la
muestra. Este ángulo de contacto es un ángulo formado entre la
superficie de un cuerpo sólido y la línea tangente respecto a la
superficie del líquido en el punto de contacto entre el sólido y el
líquido. Por tanto, se define el ángulo de contacto como un ángulo
que se mide desde la parte inferior de contacto del líquido. En
cuanto al líquido, se usa agua destilada y
n-hexadecano.
n-hexadecano.
(b) La medida del ángulo de caída: haciendo uso
del calibre de ángulo de goteo (CA-X: Kyowa Taimen
Kagaku Co. Ltd.), se prepara una gota que presenta un diámetro de
3,0 mm en el extremo de la punta de la aguja bajo una condición de
sequedad (20ºC, humedad relativa del 65%). Luego, se pone en
contacto esta gota con la superficie de una muestra horizontal
(cuerpo sólido) de modo que se forma una gota sobre la superficie de
una muestra horizontal. Cuando esta muestra sólida se inclina
gradualmente se provoca que la gota se deforme de modo gradual, y
cuando se inclina la muestra hasta cierto ángulo se provoca que la
gota se desplace hacia abajo. Por tanto, este ángulo inclinado final
se define como un ángulo de caída. En cuanto al líquido, se usan
agua destilada y n-hexadecano.
(c) La adhesividad de un lápiz de aceite:
haciendo uso de un lápiz de aceite (una tinta marcadora: tipo lean
Nº 500), se traza una línea recta de 1 cm de longitud sobre la
superficie de una muestra de modo que se determina visualmente la
facilidad de adhesión y el grado de permanencia de la parte escrita.
El criterio en este caso se define como
sigue:
sigue:
O: la parte escrita con el lápiz de aceite era
repelida esféricamente;
X: la parte escrita con el lápiz de aceite no era
repelida y se podría escribir la línea recta;
(d) Facilidad de borrado de una tinta basada en
aceite: la tinta basada en aceite que estaba adherida sobre la
superficie de una muestra se borraba usando una tela no tejida de
celulosa (Pencot M-3; Asahi Kasei Co., Ltd.) de modo
que se determina visualmente la facilidad de eliminación. Los
criterios en este caso se definen como
sigue.
sigue.
\newpage
O: la tinta basada en aceite se podría borrar
completamente;
\Delta: era posible reconocer una traza de
tinta basada en aceite tras el borrado;
X: era imposible borrar la tinta basada en
aceite;
(e) La adhesividad de las huellas dactilares: se
presiona un dedo sobre la superficie de una muestra durante varios
segundos con lo que se adhiere una huella digital sobre la
superficie de una muestra de modo que se determina visualmente la
facilidad de adhesión y el grado de permanencia de la huella
dactilar. Los criterios en este caso se definen como sigue.
O: La adhesión de la huella dactilar era mínima y
la traza de la huella dactilar no permanecía;
X: se podía reconocer la adhesión de la huella
dactilar;
(f) Facilidad de borrado de las huellas
dactilares; se borra una huella dactilar que se adhiere sobre la
superficie de una muestra usando una tela no tejida de celulosa
(Pencot M-3; Asahi Kasei Co., Ltd.) de modo que se
determina visualmente la facilidad de eliminación de las mismas. Los
criterios en este caso se definen como sigue.
O: la huella dactilar se podría borrar
completamente;
\Delta: era posible reconocer una traza de
huella dactilar tras el borrado;
X: era imposible borrar la huella dactilar;
(g) Resistencia a la abrasión: se frota 100 veces
la superficie de una muestra mientras se aplica una carga de 500 gf
haciendo uso de una tela no tejida de celulosa (Pencot
M-3; Asahi Kasei Co., Ltd.), tras lo cual se llevan
a cabo de nuevo las evaluaciones anteriormente mencionadas.
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(Tabla pasa a página
siguiente)
Los valores entre paréntesis denotan los
resultados tras el ensayo de resistencia a la abrasión.
Se apreciará a partir de la tabla 1 que las capas
anti-suciedad de acuerdo con los ejemplos 1 a 4 eran
menos humectables al agua destilada y al n-hexano y
menos adhesivas a la huella dactilar y manchas de grasa en
comparación con los ejemplos comparativos 1 a 3. Además, incluso si
se adhiere suciedad a las capas anti-suciedad de
acuerdo con los ejemplos 1 a 4, la suciedad se podría eliminar
fácilmente, indicando así una propiedad
anti-suciedad excelente. Además, como se muestra en
la tabla 1, se encuentra la característica
anti-suciedad de las muestras de estos ejemplos
durables tras el ensayo de resistencia a la abrasión, indicando así
una durabilidad excelente de su característica
anti-suciedad.
La capa anti-suciedad formada
sobre la superficie del elemento óptico haciendo uso de un agente
anti-suciedad de esta invención es capaz de evitar
de forma más efectiva que las suciedades formadas por huellas
dactilares, grasa de la piel, sudor, cosméticos, etc. se adhieran
sobre la superficie del mismo sin deterioro de las propiedades
ópticas del elemento óptico en comparación con la capa
anti-suciedad formada haciendo uso de los agentes
anti-suciedad convencionales, e incluso si se
adhiere suciedad a la capa anti-suciedad, la
suciedad se puede eliminar fácilmente, y al mismo tiempo, la
durabilidad de la característica anti-suciedad de la
capa anti-suciedad de esta invención es
excelente.
De forma adicional, cuando se va a formar una
capa anti-suciedad por medio de un procedimiento de
recubrimiento en húmedo usando un agente
anti-suciedad de esta invención, comienza a ser
posible aplicarla a un sustrato para tratamiento de configuración
complicada y de gran área superficial, cuyo procedimiento de
recubrimiento en seco convencional ha fallado en la aplicación. Por
otro lado, cuando se va a formar una capa
anti-suciedad por medio de un procedimiento de
recubrimiento en seco usando un agente anti-suciedad
de esta invención, se puede dispensar con este el uso de un
disolvente diluyente para la formación de una capa
anti-suciedad, y al mismo tiempo, comienza a ser
posible controlar de forma precisa el espesor de película de la capa
anti-suciedad. De forma particular, cuando se usa
un procedimiento de deposición a vacío haciendo uso de un cuerpo
moldeado poroso para la formación de una capa
anti-suciedad, el control del espesor de película
comenzaría a ser más sencillo, siendo así ventajoso en la formación
de la capa anti-suciedad.
Debido a que el elemento funcional óptico de esta
invención, que se puede obtener mediante la laminación de un
elemento óptico o un elemento óptico que evita la reflexión de esta
invención con un elemento óptico funcional tal como una placa de
polarización, se proporciona sobre la superficie del mismo con una
capa anti-suciedad que es excelente en cuanto a
característica anti-suciedad así como también en
durabilidad, es posible obtener un dispositivo de visualización que
es excelente en reconocibilidad de imagen, si este elemento
funcional óptico está unido a la cara frontal de la pantalla de
visualización de distintos dispositivos de visualización (tales como
una pantalla de cristal líquido, una pantalla CRT, una televisión de
proyección, una pantalla de plasma, una pantalla EL, etc.)
Claims (18)
1. Un agente anti-suciedad
caracterizado porque contiene un compuesto de organosilicio
representado por la siguiente fórmula general (1):
...(1)R^{f2}-(OC_{3}F_{6})_{n2}-O-(CF_{2})_{m2}-(CH_{2})_{12}-Z-(CH_{2})s_{2}-Si-(R_{2})_{3}
en la que R^{f2} es un grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado que presenta de 1 a 16 átomos
de carbono; R^{2} es un grupo hidrolítico; Z es -OOCNH- u -O-; n2
es un número entero de 1 a 50; m2 es un número entero de 0 a 3; 12
es un número entero de 0 a 3; y s2 es un número entero de 1 a 6, con
un la premisa de que m2 y 12 cumplan la condición de 6 \geq m2 +
12 >
0.
2. El agente anti-suciedad de
acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado porque dicho
R^{2} en dicha fórmula general (1) es un grupo alcoxi que presenta
de 1 a 10 átomos de carbono.
3. Un agente anti-suciedad,
caracterizado porque contiene un compuesto de organosilicio
representado por la fórmula general siguiente (3):
en la que R^{f2} es un grupo
perfluoroalquilo lineal o ramificado que presenta de 1 a 16 átomos
de carbono; R^{3} es un grupo alquilo que presenta de 1 a 10
átomos de carbono, X es un átomo de halógeno, n2 es un número entero
de 1 a 50; m2 es un número entero de 0 a 3; 12 es un número entero
de 0 a 3; y s2 es un número entero de 1 a 6; a es un número entero
de 0 a 3; b es un número entero de 0 a 3; c es 0 ó 1; d es 0 ó 1;
con la premisa de que estos m2, 12, a, b, c y d cumplan las
condiciones de 6 \geq m2 + 12 > 0, a + b = 3 y c + d
=1.
4. El agente anti-suciedad de
acuerdo con la reivindicación 3, caracterizado porque dicho
compuesto de organosilicio está formado por un primer compuesto de
organosilicio representado por dicha fórmula general (3) y un
segundo compuesto de organosilicio representado por dicha fórmula
general (3), y dicho primer compuesto de organosilicio y dicho
segundo compuesto de organosilicio son diferentes uno de otro en los
componentes "a", "b", "c" y "d" en dicha fórmula
general (3).
5. Un procedimiento de formación de una capa
anti-suciedad, caracterizada porque comprende
una etapa de deposición del agente anti-suciedad de
acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4 sobre un
sustrato para tratamiento.
6. El procedimiento de formación de una capa
anti-suciedad de acuerdo con la reivindicación 5
caracterizado por la deposición del agente
anti-suciedad sobre un sustrato para tratamiento por
medio de un procedimiento de recubrimiento en húmedo.
7. El procedimiento de formación de una capa
anti-suciedad de acuerdo con la reivindicación 5,
caracterizado por la deposición del agente
anti-suciedad sobre un sustrato de tratamiento por
medio de un procedimiento de recubrimiento en seco.
8. El procedimiento de formación de una capa
anti-suciedad de acuerdo con cualquiera de las
reivindicaciones 5 a 7, que comprende además una etapa de
sometimiento de dicha capa anti-suciedad que se ha
formado sobre el sustrato para tratamiento haciendo uso de dicho
agente anti-suciedad a calentamiento,
humidificación, irradiación con luz o irradiación con haz de
electrones.
9. Un procedimiento de formación de una capa
anti-suciedad caracterizada porque comprende
las etapas de:
impregnación de un cuerpo moldeado poroso con el
agente anti-suciedad de acuerdo con cualquiera de
las reivindicaciones 1 a 4; y
calentamiento de dicho cuerpo moldeado poroso
impregnado con dicho agente anti-suciedad a vacío
con lo que se evapora dicho agente anti-suciedad y
se forma una capa anti-suciedad sobre un sustrato
para tratamiento.
10. El procedimiento de formación de una capa
anti-suciedad de acuerdo con la reivindicación 9,
que comprende además una etapa de someter dicha capa
anti-suciedad que se ha formado sobre el sustrato
para tratamiento haciendo uso de dicho agente
anti-suciedad a calentamiento, humidificación,
irradiación con luz o irradiación con haz de electrones.
11. El procedimiento de formación de una capa de
anti-suciedad de acuerdo con la reivindicación 9,
caracterizado porque dicho cuerpo moldeado poroso está
constituido por al menos un tipo de materiales seleccionados del
grupo constituido por SiO_{2}, TiO_{2}, ZrO_{2}, MgO,
Al_{2}O_{3}, CaSO_{4}, Cu, Fe, Al, acero inoxidable y
carbono.
12. El procedimiento de formación de una capa
anti-suciedad de acuerdo con la reivindicación 9,
caracterizado porque el procedimiento de calentamiento para
la evaporación de dicho agente anti-suciedad
impregnado en dicho cuerpo moldeado poroso es al menos un
procedimiento seleccionado entre un procedimiento de calentamiento
con resistencia, un procedimiento de calentamiento por haz de
electrones, procedimiento de calentamiento por haz de iones,
procedimiento de calentamiento a alta frecuencia y procedimiento de
calentamiento con luz.
13. Un elemento óptico que evita la reflexión que
comprende un sustrato transparente; una película que evita la
reflexión formada sobre al menos una superficie de dicho sustrato
transparente; y una capa anti-suciedad formada sobre
una superficie más exterior; caracterizada porque dicha capa
anti-suciedad contiene el agente
anti-suciedad de una cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 4.
14. El elemento óptico que evita la reflexión de
acuerdo con la reivindicación 13, caracterizado porque dicho
sustrato transparente es un sustrato orgánico formado por un
sustrato transparente o un sustrato inorgánico formado por un
sustrato de vidrio.
15. Un elemento funcional óptico,
caracterizado porque comprende el elemento óptico que evita
la reflexión de la reivindicación 13 y un elemento óptico funcional
adherido a dicho elemento óptico que evita la reflexión.
16. El elemento funcional óptico de acuerdo con
la reivindicación 15, caracterizado porque dicho elemento
óptico funcional es una placa de polarización.
17. Un dispositivo de visualización que comprende
una pantalla de visualización que presenta una cara frontal, sobre
cuya superficie se adhiere un elemento de recubrimiento mediante un
adhesivo, caracterizado porque dicho elemento de
recubrimiento es el elemento funcional óptico de la reivindicación
15 ó 16.
18. El dispositivo de visualización de acuerdo
con la reivindicación 17, caracterizado porque dicho
dispositivo de visualización es una pantalla de cristal líquido, una
pantalla CRT, un televisor de proyección, una pantalla de plasma o
una pantalla EL.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3432898 | 1998-01-31 | ||
| JP3432898 | 1998-01-31 | ||
| JP25408998 | 1998-09-08 | ||
| JP25408998 | 1998-09-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2232981T3 true ES2232981T3 (es) | 2005-06-01 |
Family
ID=26373111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES99101960T Expired - Lifetime ES2232981T3 (es) | 1998-01-31 | 1999-01-29 | Agente anti-suciedad, procedimiento para preparar una capa anti-suciedad, elemento optico antirreflectante y dispositivo de visualizacion. |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0933377B1 (es) |
| JP (1) | JP4733798B2 (es) |
| KR (1) | KR100664904B1 (es) |
| AT (1) | ATE283274T1 (es) |
| CA (1) | CA2260420A1 (es) |
| DE (1) | DE69922064T2 (es) |
| DK (1) | DK0933377T3 (es) |
| ES (1) | ES2232981T3 (es) |
| TW (1) | TW483930B (es) |
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| CN113039307B (zh) | 2018-11-13 | 2023-11-28 | Ａｇｃ株式会社 | 带拒水拒油层的基材、蒸镀材料及带拒水拒油层的基材的制造方法 |
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| EP3922626A4 (en) | 2019-02-08 | 2022-11-23 | Agc Inc. | FLUORINE ETHER COMPOUND, FLUORINE ETHER COMPOSITION, COATING LIQUID, ARTICLE AND METHOD FOR MAKING THE SAME, AND METHOD FOR MAKING FLUORINE COMPOUND |
| WO2021010376A1 (ja) | 2019-07-17 | 2021-01-21 | Ａｇｃ株式会社 | ガラス、化学強化ガラスおよびカバーガラス |
| WO2021019693A1 (ja) | 2019-07-30 | 2021-02-04 | コニカミノルタ株式会社 | ノズルプレート、ノズルプレートの製造方法及びインクジェットヘッド |
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-
1999
- 1999-01-27 JP JP01860199A patent/JP4733798B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-01-28 CA CA002260420A patent/CA2260420A1/en not_active Abandoned
- 1999-01-29 TW TW088101405A patent/TW483930B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-01-29 DE DE69922064T patent/DE69922064T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-01-29 DK DK99101960T patent/DK0933377T3/da active
- 1999-01-29 EP EP99101960A patent/EP0933377B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-01-29 KR KR1019990002904A patent/KR100664904B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-01-29 ES ES99101960T patent/ES2232981T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-01-29 AT AT99101960T patent/ATE283274T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0933377A2 (en) | 1999-08-04 |
| EP0933377A3 (en) | 2000-12-27 |
| CA2260420A1 (en) | 1999-07-31 |
| DE69922064T2 (de) | 2006-03-02 |
| ATE283274T1 (de) | 2004-12-15 |
| TW483930B (en) | 2002-04-21 |
| KR19990068208A (ko) | 1999-08-25 |
| JP2000144097A (ja) | 2000-05-26 |
| KR100664904B1 (ko) | 2007-01-04 |
| EP0933377B1 (en) | 2004-11-24 |
| DK0933377T3 (da) | 2004-12-27 |
| DE69922064D1 (de) | 2004-12-30 |
| JP4733798B2 (ja) | 2011-07-27 |
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