JPS61241143A - 防汚性を有する低反射性プラスチツク - Google Patents
防汚性を有する低反射性プラスチツクInfo
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- JPS61241143A JPS61241143A JP8216985A JP8216985A JPS61241143A JP S61241143 A JPS61241143 A JP S61241143A JP 8216985 A JP8216985 A JP 8216985A JP 8216985 A JP8216985 A JP 8216985A JP S61241143 A JPS61241143 A JP S61241143A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プラスチック表面の反射性を低下させた低反
射性プラスチックに関し、更に詳しくは、透明プラスチ
ック表面に少なくとも二層の薄膜が形成されてなる防汚
性、低反射性及び耐久性に優れた低反射性プラスチック
に関するものである。
射性プラスチックに関し、更に詳しくは、透明プラスチ
ック表面に少なくとも二層の薄膜が形成されてなる防汚
性、低反射性及び耐久性に優れた低反射性プラスチック
に関するものである。
一般に、プラスチック、特に透明プラスチック材料、例
えば、ポリ（ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート）、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート
、ポリスチレン。
えば、ポリ（ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート）、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート
、ポリスチレン。
ポリ塩化ビニルなどは透明性に加えて、自身の有する軽
量、易加工性及び耐衝撃性などの利点を活かして、建築
物の窓・ドアー・間仕切り、ショーウィンド・ショーケ
ース、車輛の窓・照明灯レンズ、２輪車の風防、ＯＡ機
器のハウジング、光学レンズ、メガネレンズなどの広い
分野に利用されている。
量、易加工性及び耐衝撃性などの利点を活かして、建築
物の窓・ドアー・間仕切り、ショーウィンド・ショーケ
ース、車輛の窓・照明灯レンズ、２輪車の風防、ＯＡ機
器のハウジング、光学レンズ、メガネレンズなどの広い
分野に利用されている。
しかしながら、それらプラスチック製品は太陽光、照明
光の反射忙よるギラツキや眩しさ、あるいは周囲の景観
が映り、透視性や透明性に支障を与えたり、光の反射に
より光線透過率が低下して、プラスチックを通して見る
と明るさが損なわれるという問題がある。
光の反射忙よるギラツキや眩しさ、あるいは周囲の景観
が映り、透視性や透明性に支障を与えたり、光の反射に
より光線透過率が低下して、プラスチックを通して見る
と明るさが損なわれるという問題がある。
従来から、ガラス、プラスチックなどの透明物品表面の
反射防止は光学部品のレンズを中心に開発が進められて
きている。ガラス、プラスチック表面の可視光の反射防
止にはＭｇＦｚ 、氷晶石などからなる単層膜が、また
、赤外用にはＳｉｎ、 Ｃｅｎｔ、 Ｚｎ８などからな
る単層膜、ＢｉＯ−ＭｇＦｚ。
反射防止は光学部品のレンズを中心に開発が進められて
きている。ガラス、プラスチック表面の可視光の反射防
止にはＭｇＦｚ 、氷晶石などからなる単層膜が、また
、赤外用にはＳｉｎ、 Ｃｅｎｔ、 Ｚｎ８などからな
る単層膜、ＢｉＯ−ＭｇＦｚ。
三硫化ひ素ガラスーＷＯ，−氷晶石などからなる複層膜
が、更に紫外用には５ｉＯｚ、 ＬｉＦなどからなる単
層膜が、反射防止膜として、真空蒸着法あるいはスパッ
タリング法によって形成され、光学レンズ、メガネレン
ズ、フィルターなどの小型精密光学物品に実用化されて
いる。
が、更に紫外用には５ｉＯｚ、 ＬｉＦなどからなる単
層膜が、反射防止膜として、真空蒸着法あるいはスパッ
タリング法によって形成され、光学レンズ、メガネレン
ズ、フィルターなどの小型精密光学物品に実用化されて
いる。
一方、ガラス、プラスチック表面に高分子物質からなる
低反射処理剤を直接塗布、あるいは処理剤中に浸漬する
ことによる反射防止膜の形成方法ならびに処理剤が提案
されている。かかる反射防止膜の形成方法ならびに処理
剤として、例えば反射防止膜の耐久性、耐擦傷性などの
特性の改良を目的として、透明材料、特にプラスチック
基材上に金属酸化物含有組成物を水を含む環境下で処理
してプレコート層を設け、核プレコート層上に有機ケイ
素化合物を含有する組成物からなる反射防止膜を形成さ
せる方法（特開昭５９−４９９６０号公報参照）が開示
されている。
低反射処理剤を直接塗布、あるいは処理剤中に浸漬する
ことによる反射防止膜の形成方法ならびに処理剤が提案
されている。かかる反射防止膜の形成方法ならびに処理
剤として、例えば反射防止膜の耐久性、耐擦傷性などの
特性の改良を目的として、透明材料、特にプラスチック
基材上に金属酸化物含有組成物を水を含む環境下で処理
してプレコート層を設け、核プレコート層上に有機ケイ
素化合物を含有する組成物からなる反射防止膜を形成さ
せる方法（特開昭５９−４９９６０号公報参照）が開示
されている。
前記の反射防止膜の形成方法において、真空蒸着法ある
いはスパッタリング法は装置の機構上及びコスト面から
適応物品は小型精密光学部品などに限定されるという制
約があり、更に連続的製造には適してはいない。
いはスパッタリング法は装置の機構上及びコスト面から
適応物品は小型精密光学部品などに限定されるという制
約があり、更に連続的製造には適してはいない。
特に、前記の公知の低反射処理剤により形成された反射
防止膜は汚染され易く、通常の洗浄作業によっては容易
に除去されず、強く払拭すると膜が剥離するという問題
がある。
防止膜は汚染され易く、通常の洗浄作業によっては容易
に除去されず、強く払拭すると膜が剥離するという問題
がある。
したがって、現状では防汚性と高性能の低反射率化とを
満足する低反射性プラスチックは得られ【いない。
満足する低反射性プラスチックは得られ【いない。
本発明者は、上記の如き問題点の認識に基づいて、プラ
スチック製の小型精密光学部品はもとより、大をプラス
チックにも応用が可能であって、プラスチックの透視性
、透明性を損なうことなく塗布、吹付け、浸漬など既知
の簡便な方法によってプラスチック表面に反射防止処理
剤の薄膜層が形成され、その膜の性能は、可視光域の全
域を平均に低反射化せしめるとともに防汚性に優れ、し
かも長期に亘つ持続され得る低反射プラスチックを提供
すべく種々研究、検討を行なった。その結果、反射防止
膜として二層以上の構造を有し、プラスチック表面上の
膜あるいは中間層膜はｎｄ＝λ／４〜３λ／４を満足す
るとともにプラスチック及び上記膜上に形成される上層
膜との接着力に優れたものとして金属酸化物を含有する
縮合体が好適であり、更に上層膜として特定の含フツ素
シリコーン化合物の縮合体からなる薄膜を形成すること
によって可視光全域を平均に低反射化するとともに防汚
性に優れた低反射プラスチックが得られるという知見を
得て本発明を完成するに至ったものである。
スチック製の小型精密光学部品はもとより、大をプラス
チックにも応用が可能であって、プラスチックの透視性
、透明性を損なうことなく塗布、吹付け、浸漬など既知
の簡便な方法によってプラスチック表面に反射防止処理
剤の薄膜層が形成され、その膜の性能は、可視光域の全
域を平均に低反射化せしめるとともに防汚性に優れ、し
かも長期に亘つ持続され得る低反射プラスチックを提供
すべく種々研究、検討を行なった。その結果、反射防止
膜として二層以上の構造を有し、プラスチック表面上の
膜あるいは中間層膜はｎｄ＝λ／４〜３λ／４を満足す
るとともにプラスチック及び上記膜上に形成される上層
膜との接着力に優れたものとして金属酸化物を含有する
縮合体が好適であり、更に上層膜として特定の含フツ素
シリコーン化合物の縮合体からなる薄膜を形成すること
によって可視光全域を平均に低反射化するとともに防汚
性に優れた低反射プラスチックが得られるという知見を
得て本発明を完成するに至ったものである。
即ち、本発明はプラスチック表面上に金属酸化物を含有
する縮合体からなる薄膜層が少な′（とも一層設けられ
、該薄膜層上に炭素数３〜２゜のパーフルオロアルキル
基を有する含フツ素シリコーン化合物の縮合体からなる
薄膜層が設けられた少なくとも二層構造の薄膜が形成さ
れてなることを特徴とする防汚性を有する低反射プラス
チックを提供するものである。
する縮合体からなる薄膜層が少な′（とも一層設けられ
、該薄膜層上に炭素数３〜２゜のパーフルオロアルキル
基を有する含フツ素シリコーン化合物の縮合体からなる
薄膜層が設けられた少なくとも二層構造の薄膜が形成さ
れてなることを特徴とする防汚性を有する低反射プラス
チックを提供するものである。
本発明におけるプラスチックとしては、表面の反射を低
下させるという目的から透明プラスチックであるのが好
適である。
下させるという目的から透明プラスチックであるのが好
適である。
本発明におい【プラスチック表面上に設けられる少なく
とも一層の薄膜層、即ち、下層膜あるいは中間層膜とし
ての金属酸化物を含有する縮合体において、金属酸化物
はＴｉＣｈ系化合物、日１（ｈ系化合物、ＺｒＯＨ系化
合物、Ｔａ！Ｏ箇系化台系化合物１０ｓ系化合物などが
好適であって、それらを含有する縮合体としては、例え
ば、’ｒｔｏ＝、系化合物にて代表して例示するとＴｉ
（ＯＣＲｓ）＊・Ｔｉ（ＯＣ＊Ｈｓ）４． Ｔｉ（ＯＯ
ＩＨｙ）、、 Ｔｉ（００４Ｈｅ）４などのテトラアル
コキシチタン及びこれらの低重合体、Ｔｉ（０−１（ｊ
Ｈ？）ｔ ［ＯＣ（ＣＨｓ）ＯＨＣＯＣＨｍ′３Ｒ、
Ｔｉ（０−１０ｓＨｙ八（ＱＣ！Ｈｚ（Ｈ（ＯｚＨｉ）
ＯＨ（ＯＨ）ＣｔＨテ〕４−ｎなどのチタンキレート化
合物が挙げられる。また、８１ｏｚ系化合物としては、
例えばＳｉ （ＯＣＨｍ）４ 、８１ （ＯＣ＊Ｈｓ）
４ 。
とも一層の薄膜層、即ち、下層膜あるいは中間層膜とし
ての金属酸化物を含有する縮合体において、金属酸化物
はＴｉＣｈ系化合物、日１（ｈ系化合物、ＺｒＯＨ系化
合物、Ｔａ！Ｏ箇系化台系化合物１０ｓ系化合物などが
好適であって、それらを含有する縮合体としては、例え
ば、’ｒｔｏ＝、系化合物にて代表して例示するとＴｉ
（ＯＣＲｓ）＊・Ｔｉ（ＯＣ＊Ｈｓ）４． Ｔｉ（ＯＯ
ＩＨｙ）、、 Ｔｉ（００４Ｈｅ）４などのテトラアル
コキシチタン及びこれらの低重合体、Ｔｉ（０−１（ｊ
Ｈ？）ｔ ［ＯＣ（ＣＨｓ）ＯＨＣＯＣＨｍ′３Ｒ、
Ｔｉ（０−１０ｓＨｙ八（ＱＣ！Ｈｚ（Ｈ（ＯｚＨｉ）
ＯＨ（ＯＨ）ＣｔＨテ〕４−ｎなどのチタンキレート化
合物が挙げられる。また、８１ｏｚ系化合物としては、
例えばＳｉ （ＯＣＨｍ）４ 、８１ （ＯＣ＊Ｈｓ）
４ 。
Ｂ ｉ （ＯＣｍＨｙ ）４ 、８１ （ＯＯｎＨ＊
）４などのテトラアルコキシシラン、１Ｈ１３１（ＯＯ
Ｈｓ）１． Ｈｅ１（ｏｃｇｕｍ）ｓ。
）４などのテトラアルコキシシラン、１Ｈ１３１（ＯＯ
Ｈｓ）１． Ｈｅ１（ｏｃｇｕｍ）ｓ。
Ｈ８１（ＱＣ４Ｈｅ）３． （ＨｓＳｉ（ＯＯＨｓ）１
、０１ｍ８１（ＯＯ＊Ｈｓ）１ 。
、０１ｍ８１（ＯＯ＊Ｈｓ）１ 。
ＣＨｓｓｉ （ＯＣｍＨｙ）ｇ 、○Ｈｓ８１ （ＱＣ
！４Ｈｓ）１ などのトリアＡ′３キシ′う：／％
ゝ晋ゝ○ＨｚＯＣｍＨｙＳｉ （ＯＲ）４などのシラ
ンカップリング剤が用いられる。かかる５１０２系化合
物において、メチルアルコキシシランは８１０ｇ含有量
が約４０チと高いので、例えば、エチルアルコキシシラ
ンなどよりは有利である。
！４Ｈｓ）１ などのトリアＡ′３キシ′う：／％
ゝ晋ゝ○ＨｚＯＣｍＨｙＳｉ （ＯＲ）４などのシラ
ンカップリング剤が用いられる。かかる５１０２系化合
物において、メチルアルコキシシランは８１０ｇ含有量
が約４０チと高いので、例えば、エチルアルコキシシラ
ンなどよりは有利である。
これらの金属酸化物は単独で用いることも出来るが、屈
折率を調整するためには２成分あるいはそれ以上の共縮
合体であるのが好適である。
折率を調整するためには２成分あるいはそれ以上の共縮
合体であるのが好適である。
また、その他に下層膜あるいは中間層膜の脆性、接着性
の改良を目的として、他の添加剤を併用した共縮合物で
あってもよい。他の添加剤として用い得るものとしては
、例えばポリエチレングリコール、ペンタエリスリトー
ルなどの多価アルコールあるいはメラミン樹脂、エポキ
シ樹脂などであって、かかる添加剤は下層膜あるいは中
間層膜の耐クラツク性、接着性の向上に有用である。
の改良を目的として、他の添加剤を併用した共縮合物で
あってもよい。他の添加剤として用い得るものとしては
、例えばポリエチレングリコール、ペンタエリスリトー
ルなどの多価アルコールあるいはメラミン樹脂、エポキ
シ樹脂などであって、かかる添加剤は下層膜あるいは中
間層膜の耐クラツク性、接着性の向上に有用である。
金属酸化物を含有する縮合体において、金属酸化物及び
必要により併用される添加剤の配合割合は、金属酸化物
を含有する縮合体中に金属酸化物は少なくとも２０重量
−以上、好ましくは３０重量−以上配合される。添加剤
は金属酸化物を含有する縮合体中２０重量％までである
。
必要により併用される添加剤の配合割合は、金属酸化物
を含有する縮合体中に金属酸化物は少なくとも２０重量
−以上、好ましくは３０重量−以上配合される。添加剤
は金属酸化物を含有する縮合体中２０重量％までである
。
金属酸化物を含有する縮合体は金属酸化物、及び必要に
より添加剤を配合した後、アルコール系溶媒、例えばエ
タノール、ブタノールなどの単独または混合溶媒中で加
水分解反応することによって調製される。加水分解反応
には触媒として酢酸、塩酸が用いられ、室温によって行
なわれる。
より添加剤を配合した後、アルコール系溶媒、例えばエ
タノール、ブタノールなどの単独または混合溶媒中で加
水分解反応することによって調製される。加水分解反応
には触媒として酢酸、塩酸が用いられ、室温によって行
なわれる。
上記金属酸化物を含有する縮合体からなる下層膜あるい
は中間層膜上に形成される低屈折率の薄膜としての上層
膜は炭素数３〜２０のパー７／Ｌ／オロアルキ５ル基を
有する含フツ素シリコーン化合物の縮合体からなる。
は中間層膜上に形成される低屈折率の薄膜としての上層
膜は炭素数３〜２０のパー７／Ｌ／オロアルキ５ル基を
有する含フツ素シリコーン化合物の縮合体からなる。
而して、炭素数３以下のパーフルオロアルキル基を有す
る含フツ素シリコーン化合物では防汚性と低反射率化と
いう両特性を滴定させるに至らない。また、炭素数２０
以上のパーフルオロアルキル基を有する含フツ素シリコ
ーン化合物は実質的に入手し難く、コスト的にも不利で
ある。
る含フツ素シリコーン化合物では防汚性と低反射率化と
いう両特性を滴定させるに至らない。また、炭素数２０
以上のパーフルオロアルキル基を有する含フツ素シリコ
ーン化合物は実質的に入手し難く、コスト的にも不利で
ある。
ポリフルオロアルキル基含有化合物はフッ素原子の分極
率が小さく、従って屈折率も低く、例えば、Ｏ，Ｆｌの
屈折率（２５℃、以下同じ）は１．２７１、（０４Ｆ＊
）ＩＮは１．２９０、（ｃｙｚ＝ｃｙｘ１０１ＦｍＯＯ
Ｆ−ＯＦｇ）の重合体は１．３３０である。かかるポリ
フルオロアルキル基含有化合物は低反射率処理剤として
好適であるが、薄膜を形成し化学的に接着せしめるには
−８１−ＯＲ，−８１−Ｃ１などの存在が好ましいこと
から、本発明しおける含フツ素シリコーン化合物の縮合
体は、炭素数３〜２０のポリフルオロアルキル基を含有
スルジアルコキシクラン、トリプルコキシシラン、ジク
ロルシラン及びトリクロルシランから選ばれる少なくと
も１種の化合物と、シランカップリング剤との共縮合体
からなるのが好適である。
率が小さく、従って屈折率も低く、例えば、Ｏ，Ｆｌの
屈折率（２５℃、以下同じ）は１．２７１、（０４Ｆ＊
）ＩＮは１．２９０、（ｃｙｚ＝ｃｙｘ１０１ＦｍＯＯ
Ｆ−ＯＦｇ）の重合体は１．３３０である。かかるポリ
フルオロアルキル基含有化合物は低反射率処理剤として
好適であるが、薄膜を形成し化学的に接着せしめるには
−８１−ＯＲ，−８１−Ｃ１などの存在が好ましいこと
から、本発明しおける含フツ素シリコーン化合物の縮合
体は、炭素数３〜２０のポリフルオロアルキル基を含有
スルジアルコキシクラン、トリプルコキシシラン、ジク
ロルシラン及びトリクロルシランから選ばれる少なくと
も１種の化合物と、シランカップリング剤との共縮合体
からなるのが好適である。
前者のポリフルオロアルキル基を含有する各種７２ン化
合物は種々のものが例示可能である。
合物は種々のものが例示可能である。
代表例として
ＣＦＮ （ＯＦＦ）、０ＮＨ４日ｉ （０（Ｊａｍ ）
ｓ 。
ｓ 。
口Ｆｍ （ＱＦｇ）、ＣｚＨａ１３１ （ｏＯＨｓ）ｓ
ｔＯＦｓ （ｃシ）’ｒ （！５Ｈｎ８１（００１（
ｓ）ｓ ｅＣＩＦｓ （（！Ｆ＊）１１０＊Ｈ４８１（
ＯＣＲｍ）３ 。
ｔＯＦｓ （ｃシ）’ｒ （！５Ｈｎ８１（００１（
ｓ）ｓ ｅＣＩＦｓ （（！Ｆ＊）１１０＊Ｈ４８１（
ＯＣＲｍ）３ 。
ＯＦｍ （ＯＦ２）１１０２８４日１ （ＯＯＨ為）、
。
。
ＣＦｓ （ａｙｓ）、 ＱｓＨ４８１（ＯＯｓＨｓ）ｓ
ｅＯＦｓ （ＯＦＦ雪）ｙ Ｏ！ｕ４Ｂ１０１ｇ。
ｅＯＦｓ （ＯＦＦ雪）ｙ Ｏ！ｕ４Ｂ１０１ｇ。
０１’ ｌ （ＯＦ ２ ）？ ０ＯＮＨ（ＣＨｚ ）
＠ ８１ （ＯＯＨａ ）＠ 。
＠ ８１ （ＯＯＨａ ）＠ 。
（１！Ｆｌ （ａｙｓ ）ｖ Ｃ０ＮＨ（ａｉｓ）、
５１０１ｇ。
５１０１ｇ。
ＯＦＩ （ａｙｓ）、 ８０ｚＮＨ（ＣＨｚ）、 ５１
（ＯＯＨｊ）、 。
（ＯＯＨｊ）、 。
Ｆｍ
―
ＣＦｓ （ａｙｘ）、 ｃｚａ４ｏｏｏＮａ（ｏｕｔ）
、 ａｌ（ＯＣＲｍ）、 。
、 ａｌ（ＯＣＲｍ）、 。
（ｏＢｓｏ）ｓ日１（ｈ！ｉａ （ＯＦｓ）６０ｚＨ＜
５ｉ（ＯＯＨｓ）、。
５ｉ（ＯＯＨｓ）、。
０１ｓＢ１０ｍＦｉａ（Ｃ！Ｆ＊）、Ｃ＊１Ｈ４８１Ｃ
１ｓ。
１ｓ。
Ｏ意Ｈ４０ＧＯ’ｔＪＨＯｓＨ＠Ｂ１０’Ｌｓ。
の如き炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を含む
シラン化合物が拳げられる。これらは加水分解して縮合
体として使用される。かかる縮合体のそれぞれの屈折率
は１．３３〜１．４２の範囲にあり、フッ素の含有竜が
多くなるに従い屈折率は低くなる。これらは２ｆｉ以上
を適宜選択して共縮合することにより所望の屈折率の共
縮合体となし得る。
シラン化合物が拳げられる。これらは加水分解して縮合
体として使用される。かかる縮合体のそれぞれの屈折率
は１．３３〜１．４２の範囲にあり、フッ素の含有竜が
多くなるに従い屈折率は低くなる。これらは２ｆｉ以上
を適宜選択して共縮合することにより所望の屈折率の共
縮合体となし得る。
更ニ、上記パーフルオロアルキル基を含むシラン化合物
と共縮合体を形成せしめるシランカップリング剤として
は例えば 日１（ＯＯＨＩ）４ ｌ 日１（ＯＯｖＨｓ）４．
８１Ｇ’ｌ＊、 Ｈ８１０１ｍ。
と共縮合体を形成せしめるシランカップリング剤として
は例えば 日１（ＯＯＨＩ）４ ｌ 日１（ＯＯｖＨｓ）４．
８１Ｇ’ｌ＊、 Ｈ８１０１ｍ。
ＣＨｓ８１０１ｓなどが挙げられる。かかるシランカッ
プリング剤は共縮合体において、下層膜あるいは中間層
膜との接着性をより一層向上せしめるのに有用であって
、前記パーフルオロアルキル基を含むシラン花金物に対
して５〜９０重量％、好ましくは１０〜７５重量−が配
合される。
プリング剤は共縮合体において、下層膜あるいは中間層
膜との接着性をより一層向上せしめるのに有用であって
、前記パーフルオロアルキル基を含むシラン花金物に対
して５〜９０重量％、好ましくは１０〜７５重量−が配
合される。
勿論、シランカップリング剤との共縮合体でなくとも、
下層膜あるいは中間層膜との接着性は実用的には十分で
ある。
下層膜あるいは中間層膜との接着性は実用的には十分で
ある。
縮合体あるいは共縮合体の調製方法は、アルコール系溶
媒、例えばブタノール、好ましくは七〇ｒｔ−ブタノー
ル中で触媒として酢酸及び有機錫化合物の存在下に室温
にて加水分解反♂する方法によって行なわれる。
媒、例えばブタノール、好ましくは七〇ｒｔ−ブタノー
ル中で触媒として酢酸及び有機錫化合物の存在下に室温
にて加水分解反♂する方法によって行なわれる。
プラスチック表面上への金属酸化物を含有する縮合体か
らなる下層膜の形成は、アルコール系溶媒などが添加さ
れて適当な流動性を有するように調整された金属酸化物
を含有する縮合体を通常の塗布方法によってプラスチッ
ク表面に塗布、例えば、はげ塗り、ロール塗り、吹付け
、浸漬などの各種方法によって行ない、塗布後は室温〜
１５Ｇ℃にて乾燥して硬化させる。かかる方法によって
、金属酸化物含有縮合体からなる薄膜層、即ち、プラス
チック表面上に好適な下層膜が形成される。該下層膜は
一層であっても効果は認められるが、二層以上の薄膜層
として形成されてもよい。かかる場合の下層膜上におけ
る実質的な中間層膜としての金属酸化物を含有する縮合
体からなる薄膜の形成は、上記の下層膜の形成方法と同
様の方法によって行なわれるが、下層膜及び中間層膜の
薄膜を連続的に形成する場合は下層膜を塗布して、室温
〜１５Ｇ℃にて乾燥した後、同様の塗布処理を繰返して
行なわれる。下層膜と中間層膜用の金属酸化物を含有す
る縮合体はその成分、あるいは配合割合は異なるもので
あるのが好ましいが同一であってもよい。
らなる下層膜の形成は、アルコール系溶媒などが添加さ
れて適当な流動性を有するように調整された金属酸化物
を含有する縮合体を通常の塗布方法によってプラスチッ
ク表面に塗布、例えば、はげ塗り、ロール塗り、吹付け
、浸漬などの各種方法によって行ない、塗布後は室温〜
１５Ｇ℃にて乾燥して硬化させる。かかる方法によって
、金属酸化物含有縮合体からなる薄膜層、即ち、プラス
チック表面上に好適な下層膜が形成される。該下層膜は
一層であっても効果は認められるが、二層以上の薄膜層
として形成されてもよい。かかる場合の下層膜上におけ
る実質的な中間層膜としての金属酸化物を含有する縮合
体からなる薄膜の形成は、上記の下層膜の形成方法と同
様の方法によって行なわれるが、下層膜及び中間層膜の
薄膜を連続的に形成する場合は下層膜を塗布して、室温
〜１５Ｇ℃にて乾燥した後、同様の塗布処理を繰返して
行なわれる。下層膜と中間層膜用の金属酸化物を含有す
る縮合体はその成分、あるいは配合割合は異なるもので
あるのが好ましいが同一であってもよい。
而して、プラスチック表面上への下層膜の形成方法にお
いて、特性を向上せしめるために、プラスチック表面を
例えば、アルカリ性溶液による処理、プラズマ処理、グ
ロー放電処理、シランカップリング剤、官能基含有アク
リル樹脂からなるプライマ一層の形成などの活性処理を
行なうことができる。
いて、特性を向上せしめるために、プラスチック表面を
例えば、アルカリ性溶液による処理、プラズマ処理、グ
ロー放電処理、シランカップリング剤、官能基含有アク
リル樹脂からなるプライマ一層の形成などの活性処理を
行なうことができる。
更に、下層膜あるいは中間層膜の特性向上及び、該薄膜
層上に形成される含フツ素シリコーン化合物の縮合体か
らなる上層膜の特性向上、には、特に形成された下層膜
あるいは中間層膜が活性処理されてなるのが好ましく、
かか□る活性処理としては、例えば希薄フッ酸水溶液あ
るいは苛性ソーダ水溶液に浸漬などがあり、かかる処理
後は水洗、乾燥される。
層上に形成される含フツ素シリコーン化合物の縮合体か
らなる上層膜の特性向上、には、特に形成された下層膜
あるいは中間層膜が活性処理されてなるのが好ましく、
かか□る活性処理としては、例えば希薄フッ酸水溶液あ
るいは苛性ソーダ水溶液に浸漬などがあり、かかる処理
後は水洗、乾燥される。
次に、上記下層膜あるいは中間層膜の上に含フツ素シリ
コーン化合物の縮合体からなる上層膜が形成されるが、
これらの薄膜層上への含フツ素シリコーン化合物の縮合
体の塗布方法は特に限定されることな（、上記の如く下
層膜あるいは中間層膜の形成における塗布方法と同様く
、はけ塗り、ロール塗り、吹付け、浸漬などによって行
なわれ、塗布後は７０℃〜１５０℃に加熱することによ
って硬化され、薄膜層が形成される。
コーン化合物の縮合体からなる上層膜が形成されるが、
これらの薄膜層上への含フツ素シリコーン化合物の縮合
体の塗布方法は特に限定されることな（、上記の如く下
層膜あるいは中間層膜の形成における塗布方法と同様く
、はけ塗り、ロール塗り、吹付け、浸漬などによって行
なわれ、塗布後は７０℃〜１５０℃に加熱することによ
って硬化され、薄膜層が形成される。
本発明における金属酸化物を含有する縮合体からなる下
層膜あるいは中間層膜上に形成され決定されるが、下層
膜あるいは中間層膜の膜厚は０．３μ以下、好ましくは
０．０３〜０．２μ、上層膜の膜厚は０．２μ以下、好
ましくは０．０５〜０、１μであって、かかる膜厚の調
整は、塗布方法の条件によってなし得るものであり、例
えば、浸漬法においては組成濃度と引上げ速度とによっ
て決定される。
層膜あるいは中間層膜上に形成され決定されるが、下層
膜あるいは中間層膜の膜厚は０．３μ以下、好ましくは
０．０３〜０．２μ、上層膜の膜厚は０．２μ以下、好
ましくは０．０５〜０、１μであって、かかる膜厚の調
整は、塗布方法の条件によってなし得るものであり、例
えば、浸漬法においては組成濃度と引上げ速度とによっ
て決定される。
上記の方法によって、含フツ素シリコーン化合物の縮合
体からなる上層膜を形成した後に、下層膜あるいは中間
層膜との接着性を向上させるために、例えば、紫外線照
射などを行なってもよい。
体からなる上層膜を形成した後に、下層膜あるいは中間
層膜との接着性を向上させるために、例えば、紫外線照
射などを行なってもよい。
本発明においてプラスチックとしては透明プラスチック
においてその効果は顕著であり、かかる透明プラスチッ
クとしてはポリ（ジエチレンクリー−ルビスアリルカー
ボネー））、ホｌＪメチルメタクリレート、ポリカーボ
ネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルなどが挙げられ
る。
においてその効果は顕著であり、かかる透明プラスチッ
クとしてはポリ（ジエチレンクリー−ルビスアリルカー
ボネー））、ホｌＪメチルメタクリレート、ポリカーボ
ネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルなどが挙げられ
る。
その成形体としての形状は特に限定されるものではない
。
。
次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例の入に限定されるものではない。なお
実施例において、防汚性を有する低反射性プラスチック
の評価方法は次の通りである。
明はこれら実施例の入に限定されるものではない。なお
実施例において、防汚性を有する低反射性プラスチック
の評価方法は次の通りである。
反射率測定：自記分光光度計正反射光測定付属装置（日
立製作新製：３２３型）を使用し、波長４００ｎμ〜７
００ｎμの入射角５°における平均反射率を測定。
立製作新製：３２３型）を使用し、波長４００ｎμ〜７
００ｎμの入射角５°における平均反射率を測定。
膜厚測定：Ｉタリステップ’ （Ｒａｎｋ Ｔａｙｌｏ
ｒＨｏｂｓｏｎ社製）を使用し針圧測定より求める。
ｒＨｏｂｓｏｎ社製）を使用し針圧測定より求める。
撥水性測定：水滴の接触角を測定。
撥油性測定：ヘキサデカンの接触角を測定。
合成例１
下層膜あるいは中間層膜用金属酸化物を含有する縮合体
の調製。
の調製。
第１表に示す原料のそれぞれのｆｉ （Ｐ）を混合して
、室温にて攪拌しながら１週間反応せしめた後−過して
ＡＡ〜Ｃなる日１（ｈ−ＴｉＯ＊含有縮合体及びＢ１（
ｈ −ＺｒＯ＊含有縮合体の処理液を調製した。
、室温にて攪拌しながら１週間反応せしめた後−過して
ＡＡ〜Ｃなる日１（ｈ−ＴｉＯ＊含有縮合体及びＢ１（
ｈ −ＺｒＯ＊含有縮合体の処理液を調製した。
第 １ 表
合成例２
上層膜用含フツ素シリコーン化合物の縮合体の調製。
第２表に示す原料のそれぞれの量（ｆ）を混合して室温
にて攪拌しながら４８時間反応せしめ、続いて５０℃に
昇温して゛２４時間反応させて、ムＤ−χなる含フツ素
シリコーン化合物の縮合体からなる処理液を調製した。
にて攪拌しながら４８時間反応せしめ、続いて５０℃に
昇温して゛２４時間反応させて、ムＤ−χなる含フツ素
シリコーン化合物の縮合体からなる処理液を調製した。
第 ２ 表
峯１）０１〜０１嘗の混合物で平均値がＯ・。
合成例３
上層膜用含フツ素シリコーン化合物の縮合体の調製。
比較例用に第３表に示す原料のそれぞれの量（めを混合
して合成例２と同様に反応せしめてぶＦなる処理液を調
製した。
して合成例２と同様に反応せしめてぶＦなる処理液を調
製した。
第 ３ 表
合成例４
プラスチック表面上に必要によって形成されるプライマ
一層用処理液の調製。
一層用処理液の調製。
メチルメタクリレ−）？Ｏｆ、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレ−）１５ｆ％に！、Ｎ−ジメチルアミノエチル
メタクリＱ−ト１ｓｔ、ｚ−プロパツール３９７ｆ及び
アゾビスイソブチロニトリル３ｆをオートクレーブ反応
器に仕込入、反応器内を窒素ガスで置換し、６５℃で１
０時間攪拌しながら反応させて重合体を得た。この重合
体にインプロピルアルコール５ｏｏｒとエチルセロソル
ブＩＧＯＯｆを加えて処理液ムＧを調製した。
タクリレ−）１５ｆ％に！、Ｎ−ジメチルアミノエチル
メタクリＱ−ト１ｓｔ、ｚ−プロパツール３９７ｆ及び
アゾビスイソブチロニトリル３ｆをオートクレーブ反応
器に仕込入、反応器内を窒素ガスで置換し、６５℃で１
０時間攪拌しながら反応させて重合体を得た。この重合
体にインプロピルアルコール５ｏｏｒとエチルセロソル
ブＩＧＯＯｆを加えて処理液ムＧを調製した。
別にメチルトリメトキシシラン３０ｆ％ｒ −グリシド
キシプロピルトリメトキクシラン２０ｆ、３−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン１０ｔ、テトラメト
キシシラン４０ｆ１アルミニウムアセチルアセトネート
３を及びエタノール４００ｔを混合し、攪拌しながら１
％塩酸水溶液３７．６ｆを加えて、室温にて１０時間反
応させて、処理液ＡＨを調製した。
キシプロピルトリメトキクシラン２０ｆ、３−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン１０ｔ、テトラメト
キシシラン４０ｆ１アルミニウムアセチルアセトネート
３を及びエタノール４００ｔを混合し、攪拌しながら１
％塩酸水溶液３７．６ｆを加えて、室温にて１０時間反
応させて、処理液ＡＨを調製した。
実施例１
ポリ（ジエチレングリコールピスアＩＪ Ａ／カーボネ
ート）製の平板（ｓ ａｎ ｘ ｓ ａｎ ）を用意し
、５０℃に加温した１０％苛性ソーダ溶液に１分間浸漬
して直ちに水洗、乾燥した。この平板を合成例１の第１
表に示す金属酸化物を含有する縮合体の処理液ムムに浸
漬し、１０１ＭＩ／’１１１１の速度で引き上げ、１２
０℃で１０分間乾燥して下層膜を形成させ、続いて同処
理液ＡＡに再び浸漬し、ｘｏｃｍ／−の速度で引き上げ
、１２０℃で１０分間乾燥して屈折率１．ＳＯ，＠厚０
．１３μの下層膜及び中間層からなる薄膜を形成させた
。
ート）製の平板（ｓ ａｎ ｘ ｓ ａｎ ）を用意し
、５０℃に加温した１０％苛性ソーダ溶液に１分間浸漬
して直ちに水洗、乾燥した。この平板を合成例１の第１
表に示す金属酸化物を含有する縮合体の処理液ムムに浸
漬し、１０１ＭＩ／’１１１１の速度で引き上げ、１２
０℃で１０分間乾燥して下層膜を形成させ、続いて同処
理液ＡＡに再び浸漬し、ｘｏｃｍ／−の速度で引き上げ
、１２０℃で１０分間乾燥して屈折率１．ＳＯ，＠厚０
．１３μの下層膜及び中間層からなる薄膜を形成させた
。
次に、上記の薄膜の形成された平板を合成例２の第２表
に示す含フツ索シリコーン縮合体からなる処理液ＡＤに
浸漬し、７．５ｃｒｒ１／−の速度で引き上げ、１２０
℃で９０分間熱処理して、屈折率１．４０．膜厚０．０
９μの上層膜を形成させた。
に示す含フツ索シリコーン縮合体からなる処理液ＡＤに
浸漬し、７．５ｃｒｒ１／−の速度で引き上げ、１２０
℃で９０分間熱処理して、屈折率１．４０．膜厚０．０
９μの上層膜を形成させた。
このようにして得られた薄膜の形成された平板の反射率
は片面当り０．７チであり、また、水、ヘキサデカンの
接触角は１１０．５°、７０．５°であった。
は片面当り０．７チであり、また、水、ヘキサデカンの
接触角は１１０．５°、７０．５°であった。
実施例２〜６
実施例１における下層膜あるいは中間層膜用金属酸化物
を含有する縮合体の処理液を第１表に示すＡＡ−０とし
、更に上層膜用含フツ素シリコーン化合物の縮合体から
なる処理液を第２表に示すＡＤ、Ｅとした他は実施例１
と同様に処理して、薄膜の形成された平板を得た。
を含有する縮合体の処理液を第１表に示すＡＡ−０とし
、更に上層膜用含フツ素シリコーン化合物の縮合体から
なる処理液を第２表に示すＡＤ、Ｅとした他は実施例１
と同様に処理して、薄膜の形成された平板を得た。
得られた薄膜の形成された平板の膜厚、屈折率、反射率
及び接触角の測定結果を第４表に示した。
及び接触角の測定結果を第４表に示した。
実施例７〜８
実施例３における平板の１０％苛性ソーダ溶液浸漬処理
に代え【、平板を合成例４のプライマ一層用処理液ＡＧ
、Ｈに浸漬して７ｆＭＩ／―の速度で引き上げた後、１
２０℃で３０分間熱理してプライマ一層を形成させた。
に代え【、平板を合成例４のプライマ一層用処理液ＡＧ
、Ｈに浸漬して７ｆＭＩ／―の速度で引き上げた後、１
２０℃で３０分間熱理してプライマ一層を形成させた。
このようにしてプライマ一層の形成された平板を実施例
３と同様に処理して、プライマ一層上に薄膜を形成させ
て、薄膜の形成された平板を得た。
３と同様に処理して、プライマ一層上に薄膜を形成させ
て、薄膜の形成された平板を得た。
得られた薄膜の形成された平板の特性測定結果を第４表
に示した。
に示した。
比較例１〜２
実施例１における含フツ素シリコーン縮合体からなる上
層膜用処理液を合成例３の第３表に示す処理液ＡＦに代
えた他は実施例１と同様に処理して薄膜の形成された平
板を得た。
層膜用処理液を合成例３の第３表に示す処理液ＡＦに代
えた他は実施例１と同様に処理して薄膜の形成された平
板を得た。
得られた薄膜の形成された平板及び実施例１において薄
膜形成処理を全く行なわない未処理の平板の特性測定結
果をＭ４表に示した。
膜形成処理を全く行なわない未処理の平板の特性測定結
果をＭ４表に示した。
実施例９
ポリカーボネート製の平板（５５ＲＸ ５ ｃｐｓ ）
を用いた他は実施例フと同様に処理して薄膜の形成され
た平板を得た。
を用いた他は実施例フと同様に処理して薄膜の形成され
た平板を得た。
得染れた平板の特性測定結果を第５表に示した。
実施例 １０
ポリメチルメタクリレート製の平板（５ｍ×５ ｃＩｆ
ｌ）を用いた他は実施例８と同様に処理して薄膜の形成
された平板を得た。
ｌ）を用いた他は実施例８と同様に処理して薄膜の形成
された平板を得た。
得られた平板の特性測定結果を第５表に示した。
実施例１１
実施例７におい【、上層膜の形成後第６表に示す薄膜の
活性逃理を行ない、その特性評価として、防汚性につい
て、フェルトペンのインクを塗りつけ、１時間放置後、
線面′でき拭し、その除去性を試験した。その結果を第
６表に示した。
活性逃理を行ない、その特性評価として、防汚性につい
て、フェルトペンのインクを塗りつけ、１時間放置後、
線面′でき拭し、その除去性を試験した。その結果を第
６表に示した。
実施例 １２〜１３
実施例７において、金属酸化物を含有する縮合体からな
る下層膜及び中間層膜を形成後、第６表に示す薄膜の活
性処理を行ない水洗、乾燥後、該薄膜上に実施例７と同
様に処理して上層膜の形成された平板を得た。得られた
薄膜の形成された平板の特性として防汚性を実施例１１
と同様の方法で試験した。その結果を第６表に示した。
る下層膜及び中間層膜を形成後、第６表に示す薄膜の活
性処理を行ない水洗、乾燥後、該薄膜上に実施例７と同
様に処理して上層膜の形成された平板を得た。得られた
薄膜の形成された平板の特性として防汚性を実施例１１
と同様の方法で試験した。その結果を第６表に示した。
実施例１４、比較例３
実施例７及び比較例１において得られた薄膜の形成され
た平板について、特性として防汚性を実施例１１と同様
の方法で試験した。その結果を第６表に示した。
た平板について、特性として防汚性を実施例１１と同様
の方法で試験した。その結果を第６表に示した。
第 ６ 表
４４）Ａ：インクは、はじかれ、完全に払拭される。
Ｂ：Ａと同様であるが、薄膜は僅かに傷が発生。
Ｃ：インクは全く払拭されない。
本発明の低反射性プラスチックは可視光域１ｔＣおける
平均反射率が１．０％以下であり、通常の透明プラスチ
ックの反射率４．０チに対して優れた低反射性を有し、
しかも形成された薄膜は硬度が高く、更に汚れに対して
浸れた耐汚染性を示し、低反射性が長期に亘って持続さ
れるとい５効果を有するものである。
平均反射率が１．０％以下であり、通常の透明プラスチ
ックの反射率４．０チに対して優れた低反射性を有し、
しかも形成された薄膜は硬度が高く、更に汚れに対して
浸れた耐汚染性を示し、低反射性が長期に亘って持続さ
れるとい５効果を有するものである。
手続補正書
昭和６０年６月２２日
Claims (4)
- （１）プラスチツク表面上に金属酸化物を含有する縮合
体からなる薄膜層が少なくとも一層設けられ、該薄膜層
上に炭素数３〜２０のパーフルオロアルキル基を有する
含フツ素シリコーン化合物の縮合体からなる薄膜層が設
けられた少なくとも二層構造の薄膜が形成されてなるこ
とを特徴とする防汚性を有する低反射性プラスチツク。 - （２）プラスチツクが透明プラスチツクである特許請求
の範囲第１項記載の低反射性プラスチツク。 - （３）金属酸化物を含有する縮合体からなる薄膜層が活
性処理されてなる特許請求の範囲第１項記載の低反射性
プラスチツク。 - （４）プラスチツク表面が活性処理されてなる特許請求
の範囲第１項記載の低反射性プラスチツク。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8216985A JPS61241143A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 防汚性を有する低反射性プラスチツク |
| DE8585107552T DE3583707D1 (de) | 1984-06-26 | 1985-06-19 | Durchsichtiger schwer schmutzender gegenstand mit niedriger reflexion. |
| EP19850107552 EP0166363B1 (en) | 1984-06-26 | 1985-06-19 | Low reflectance transparent material having antisoiling properties |
| CA000484686A CA1257513A (en) | 1984-06-26 | 1985-06-20 | Low reflectance transparent material having antisoiling properties |
| US06/939,296 US4687707A (en) | 1984-06-26 | 1986-12-05 | Low reflectance transparent material having antisoiling properties |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8216985A JPS61241143A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 防汚性を有する低反射性プラスチツク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61241143A true JPS61241143A (ja) | 1986-10-27 |
| JPH0570655B2 JPH0570655B2 (ja) | 1993-10-05 |
Family
ID=13766926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8216985A Granted JPS61241143A (ja) | 1984-06-26 | 1985-04-19 | 防汚性を有する低反射性プラスチツク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61241143A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000144097A (ja) * | 1998-01-31 | 2000-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 防汚剤、防汚層の形成方法、光学部材、反射防止光学部材、光学機能性部材及び表示装置 |
| JP2002210876A (ja) * | 2001-01-19 | 2002-07-31 | Nippon Soda Co Ltd | 撥水層担持構造体及びその製造方法 |
| JP2005146272A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-06-09 | Nippon Arc Co Ltd | 防汚膜被覆樹脂物品の製造方法 |
| JP2014522433A (ja) * | 2011-05-31 | 2014-09-04 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素 |
| JP2018122543A (ja) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | 株式会社トプコン | 防汚コート構造およびその形成方法、測量機器、眼科機器 |
| JP2018198821A (ja) * | 2017-05-29 | 2018-12-20 | 東レ株式会社 | カーペット |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19730245B4 (de) * | 1997-07-15 | 2007-08-30 | W.L. Gore & Associates Gmbh | Beschichtungsmaterial, beschichtetes Material und Verfahren zu deren Herstellung |
-
1985
- 1985-04-19 JP JP8216985A patent/JPS61241143A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000144097A (ja) * | 1998-01-31 | 2000-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 防汚剤、防汚層の形成方法、光学部材、反射防止光学部材、光学機能性部材及び表示装置 |
| JP2002210876A (ja) * | 2001-01-19 | 2002-07-31 | Nippon Soda Co Ltd | 撥水層担持構造体及びその製造方法 |
| JP2005146272A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-06-09 | Nippon Arc Co Ltd | 防汚膜被覆樹脂物品の製造方法 |
| JP2014522433A (ja) * | 2011-05-31 | 2014-09-04 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素 |
| JP2016183099A (ja) * | 2011-05-31 | 2016-10-20 | ショット アクチエンゲゼルシャフトＳｃｈｏｔｔ ＡＧ | イージークリーンコーティングでのコーティング用の基材要素 |
| JP2018122543A (ja) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | 株式会社トプコン | 防汚コート構造およびその形成方法、測量機器、眼科機器 |
| JP2018198821A (ja) * | 2017-05-29 | 2018-12-20 | 東レ株式会社 | カーペット |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0570655B2 (ja) | 1993-10-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |