DE967505C

DE967505C - Anlage zur Dosierung und gleichmaessigen Verteilung spanfoermiger Schuettgueter

Info

Publication number: DE967505C
Application number: DEV5403A
Authority: DE
Inventors: Peter Voelskow
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1953-01-30
Filing date: 1953-01-30
Publication date: 1957-11-14

Description

AUSGEGEBEN AM 14. NOVEMBER 1957

V 54O₃ Ib1381

Spanförmige Schüttgüter, z. B. Holzspäne, Flachs-Schäben, Asbestfasern, Häcksel u. dgl., werden vielfach als Füllstoffe für kunstharzgebundene Preßmassen, z. B. für Spanplatten, verwendet. Hierbei erfordert die Dosierung nach einer Zwischenlagerung in einem Silo, Bunker oder sonstigen Sammelbehälter und die gleichmäßige Verteilung der Späne, z. B. auf die Preßbleche, bisher einen sehr großen technischen Aufwand. Es sind auch horizontale Sammelbehälter mit annähernd gleichmäßigem Austrag an, einem Ende und kontinuierlichem Vorschub der Füllung im Behälter in Richtung der Austragvorrichtung bekannt. Diese liegenden Spänebunker benötigen einen hohen Bauaufwand und Raumbedarf. Es ist auch bekannt, die Austragung der Späne mittels sogenannter Kratzbänder vorzunehmen, das sind mit Spitzen oder Zacken behaftete Bänder, an welchen sich die Späne festhalten und auf diese Weise von der zusammengeballten und verfilzten Spänefüllung des Bunkers hinweggefördert werden. Derartige Kratzbänder werden aber, wenn sie von Umlenkrollen angetrieben werden, erheblich auf Zug beansprucht und müssen deshalb schwer und kostspielig ausgebildet sein. Die Gleichmäßigkeit der Späneaustragung mit solchen Kratzbändern ist ebenfalls nicht ausreichend. Bekannte Anlagen wenden deshalb zur Dosierung noch automatische Bandwaagen,

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Schwingschurren, Vibrationsförderrinnen u. dgl. an. Dabei sind die automatischen Bandwaagen sehr kostspielige Geräte, und die Schwingschurren od. dgl. erzielen bei leichten, zur Verfilzung neigenden Spangütern nicht den Vergleichmäßigungseffekt wie bei rieselfähigen Schüttgütern.

Gegenstand der Erfindung ist demgegenüber eine Anlage, die mit mehreren an sich bekannten Einrichtungen in verbesserter Ausführung in Kombination mit neuartigen Anordnungen und Einrichtungen arbeitet und dadurch gekennzeichnet ist, daß der Sammelbunker unten in einer Auslaufkrümmung endet, in deren Krümmungsmittelachse eine Sternwelle angeordnet ist, und daß das Nageltuch, das die Späne vom Bunkerauslauf schräg nach oben befördert, von einem kreisende Bewegungen ausübenden Stützrost angetrieben und gleichzeitig an der den Spänen gegenüberliegenden Seite unterstützt ist und daß zum Nachdosieren der Späne nach dem Abfallen von dem Nageltuch eine, als Saugsiebtrommel oder als Fächerwalze ausgebildete Dosierwalze hinter diesem angeordnet ist. In Anlehnung an die schematischen Abb. I und II der Zeichnung wird die Anlage nach der Erfindung erläutert. Als anfänglicher Sammelbehälter ist ein vertikaler Bunker 1 vorgesehen, dessen Querschnitt in bekannter Weise gegen Brückenbildung nach unten konisch erweitert ist. Der Druck der Spänemasse wird durch eine Auslaufkrümmung 2 und eine etwa im Mittelpunkt der Krümmung liegende Sternwelle 3 aufgefangen, zwischen, deren Achse und der Auslaufkrümmung 2 mindestens der Abstand des Bunkerquerschnitts besteht. Vorzugsweise soll sich der Halbmesser dieser Aus lauf krümmung 2 um die Sternwellenachse von oben nach unten noch etwas spiralenförmig erweitern. Die Sternwelle 3 ist z. B. aus einzelnen Sternrädern mit z. B. 50 cm langen, kräftigen Spießen ausgebildet, welche in die verfilzte Spänemasse einstechen. Durch langsame Drehung dieser Sternwelle 3, die vorteilhaft mit einem regelbaren Antrieb, z. B. regelbaren Getriebemotor, gekuppelt ist, kann das Nachrutschen der Späne zum Bunkerauslauf 4 gefördert werden. Der Bunkerauslauf 4 wird dann in bekannter Weise durch ein Kratzband oder Nageltuch 5 begrenzt. Dieses Nageltuch besitzt als besonderes Kennzeichen quer zur Förderrichtung rinnenförmig aufgereihte Nagelspitzenreihen 6 (Spitzenabstand etwa 10 mm) und mit einem bestimmten Abstand, z. B. 100 mm, der einzelnen Reihen 6 voneinander. Ferner wird dieses Nageltuchs nicht durch Umlenkrollen7 mitgenommen und durch die Spänemasse gezogen, sondern durch einen mittels Exzenter 8' exzenirische Kreisbewegungen ausübenden Stützrost 8 direkt unter der Spänemasse schrittweise vorwärts bewegt. Dabei legt sich das aufsteigende, durch die Spänemasse laufende Trum dieses Nageltuches 5 bei jeder Rückwärtsbewegung des kreisendenStützrostes 8 gegen einen von diesem durchdrungenen feststehenden (nicht dargestellten) Stützrost. Um eine weitere Dosierung und Vergleichmäßigung der ■ zwischen den Nagelreihen 6 hochgeführten und hinter der 'oberen Umlenkrolle 7 abgeworfenen Späne zu erreichen, werden die Späne nach Abb. II über Leitbleche 9 an eine Dosier walze 10 geleitet. Diese Dosierwalze 10 besteht z. B. aus einer rotierenden Trommel mit gelochtem Umfang, in welcher durch Gebläse ein Vakuum erzeugt wird. Etwa Zweidrittel des Innenumfangs der gelochten Trommel ist durch eine Blende 11 abgedeckt. Der Sog an den Löchern- der Dosierwalze 10 am aufsteigenden Drittel zieht die Späne an, welche den Umfang bedecken, bis alle Locher durch Späne verschlossen sind. Die übrigen Späne fallen herab und werden über eine Rutsche wieder zu dem Sammelbehälter zurückgeführt. Da an dem absteigenden Teil der rotierenden Dosierwalze 10 durch die innere Blende 11 kein Sog mehr herrscht, fallen hier die Späne ab und gelangen, gegebenenfalls über Leitbleche 12, auf das Transportband 13. Unter der Dosierwalze 10 kann auch noch als Fortsetzung des Leitbleches 12 eine Bürste 14 angeordnet sein, die etwa noch an der Dosierwalze 10 anhaftende Späne entfernt.

Die Dosierwalze kann aber auch ohne pneumatische Sogwirkung als einfache Fächerwalze ausgebildet sein, indem auf dem Umfang der Walze achsparallele, niedrige Fächer in gleichmäßiger Teilung, wie etwa auf dem Umfange eines Zahnrades, vorgesehen sind. Von den herabfallenden Spänen an der aufsteigenden Seite der Dosierwalze werden diese Fächer gefüllt, bis die überschüssigen Späne wieder herabfallen und in den Sammelbehälter zurückgeführt werden. An der absteigenden Seite der Dosierwalze werden die Späne dann aus den Fächern gleichmäßig abgeworfen. Vorteilhaft ist die rotierende Dosierwalze in ihrer Umfangsgeschwindigkeit bzw. Drehzahl stufenlos regelbar.

Claims

PATENTANSPRÜCHE:

1. Anlage zur Dosierung und gleichmäßigen Verteilung spanförmiger Schüttgüter unter Verwendung von Kratzbändern oder Nageltüchern als Austragvorrichtung aus vertikalen, nach unten konisch erweiterten Sammelbunkern, dadurch gekennzeichnet, daß der Sammelbunker

(1) unten in einer Auslaufkrümmung (2) endet, in deren Krümmungsmittelachse eine Sternwelle (3) angeordnet ist, daß das Nageltuch (5), das die Späne vom Bunkerauslauf (4) schräg nach oben befördert, von einem kreisende Bewegungen ausübenden Stützrost (8) angetrieben und gleichzeitig an der den Spänen gegenüberliegenden Seite unterstützt ist und daß zum Nachdosieren der Späne nach dem Abfallen von dem Nageltuch (5) eine als Saugsiebtrommel .oder als Fächerwalze ausgebildete Dosierwalze (10) hinter diesem angeordnet ist. iao

2. Anlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Nägel auf dem Nageltuch (5) mit -einem Spitzenabstand von etwa 10 mm in rinnenförmigen Reihen (6) mit einem bestimmten Abstand voneinander, z. B. 100 mm, quer zur Förderrichtung angeordnet sind.

3· Anlage nach Anspruch ι und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Sternwelle (3) mit einem regelbaren Antrieb, z. B. mit einem regelbaren Getriebemotor, gekuppelt ist.

4. Anlage nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der kreisende Bewegungen ausführende Stützrost (θ) auf parallel laufenden Exzentern (8') gelagert ist.

5. Anlage nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Nageltuch (5) auf einem feststehenden, mit Durchbrechungen versehenen Stützrost gegenüber der Spänemasse ruht, der nur bei der aufwärts gerichteten Bewegung des kreisenden Stützrostes (8) von diesem durchbrochen wird, wobei der kreisende Stützrost (8) das Nageltuch (5) vom feststehenden Stützrost abhebt und ein Stück weiter nach oben schiebt.

6. Anlage nach Anspruch 1 bis 5, dadurch · gekennzeichnet, daß die Dosierwalze (10) aus einer rotierenden Trommel mit gelochtem Mantel besteht, deren Innenumfang an der absteigenden Seite zu etwa Zweidrittel von einer feststehenden Blende (11) abgedeckt ist.

,7. Anlage nach Anspruch 6, dadurch gekenn- »5 zeichnet, daß die rotierende Dosierwalze (10) in ihrer Umfangegeschwindigkeit bzw. Drehzahl, stufenlos regelbar ist.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen