DE4132831C2 - Halbleiterspeichervorrichtung - Google Patents
HalbleiterspeichervorrichtungInfo
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- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
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- G11C29/848—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved access time or stability by adjacent switching
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- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halbleiterspei
chervorrichtung.
Im allgemeinen wird ein Halbleiterspeicher wie ein dynamischer
Speicher mit wahlfreiem Zugriff (nachfolgend als "DRAM" bezeich
net) oder ein statischer Speicher mit wahlfreiem Zugriff
(nachfolgend als "SRAM" bezeichnet) mit einer Redundanzschaltung
versehen, um die Ausbeute bei der Herstellung zu verbessern. Wenn
ein produzierter Halbleiterspeicher eine fehlerhafte Speicherzelle
enthält, wird der Halbleiterspeicher durch Wirkung der Redundanz
schaltung repariert.
Bei einem herkömmlichen Verfahren wird eine Zeile oder Spalte mit
einer fehlerhaften Speicherzelle innerhalb einer redundanten
Schaltung durch eine vorbestimmte (oder festgelegte) Ersatzzeile
oder Ersatzspalte ersetzt. Nach einem anderen Verfahren wird eine
zusätzliche Anzahl von Zeilen oder Spalten in einem Speicherzel
lenfeld vorgesehen und die Zeilen oder Spalten mit defekter
Speicherzelle werden durch einen Dekoder nicht ausgewählt.
Die japanische Offenlegungs
schrift No. 61-61 300 (1986) und die EP 0 401 957 A2 zeigen ein Beispiel für den
Stand der Technik nach dem zuletzt beschriebenen Verfahren.
Die Fig. 1 zeigt ein Blockschaltbild eines allgemeinen Halbleiter
speichers zum Verdeutlichen des Erfindungshintergrundes.
Der Halbleiter
speicher 100 umfaßt ein Speicherzellenfeld 1, in welchem Speicher
zellen in einer Matrix aus (n + 1) Zeilen und (m + 1) Spalten an
geordnet sind. Wie im folgenden im Detail beschrieben, umfaßt das
Speicherzellenfeld 1 eine Redundanzzeile und eine Redundanzspalte,
deren Positionen nicht festgelegt sind.
Ein Zeilenadreßpuffer 2, ein Zeilendecoder 3 und eine Zeilenrepa
raturschaltung 4 sind zum Auswählen einer Zeile im Speicherzellen
feld 1 vorgesehen. Der Zeilenadreßpuffer 2 empfängt ein extern an
gelegtes Zeilenadreßsignal RA und erzeugt ein internes Zei
lenadreßsignal. Der Zeilendecoder 3 decodiert das vom internen
Zeilenadreßpuffer 2 angelegte interne Zeilenadreßsignal, wählt
eine Zeile im Speicherzellenfeld 1 aus und legt ein Aktivierungs
signal an die ausgewählte Zeile an.
Die Zeilenreparaturschaltung 4 ist zwischen Zeilendecoder 3 und
Speicherzellenfeld 1 vorgesehen und legt das Ausgangssignal des
Zeilendecoders 3 an betreffende Zeilen im Speicherzellenfeld 1 an,
so daß eine fehlerhafte Zeile sich immer in einem nicht ausgewähl
ten Zustand befindet.
Ein Spaltenadreßpuffer 5, ein Spaltendecoder 6, ein Spaltenrepara
turkreis 7, ein Leseverstärker 8, sowie ein Spaltenauswahlgatter 9
sind zum Auswählen einer Spalte im Speicherzellenfeld 1 vorgese
hen. Der Spaltenadreßpuffer 5 empfängt ein extern angelegtes Spal
tenadreßsignal CA und erzeugt ein internes Spaltenadreßsignal. Der
Spaltendecoder 6 decodiert das interne Spaltenadreßsignal des
Spaltenadreßpuffers 5 und erzeugt ein eine Spalte im Speicherzel
lenfeld 1 auswählendes Signal.
Die Spaltenreparaturschaltung 7 hält stets eine fehlerhafte Spalte
in einem nicht ausgewählten Zustand und legt das Ausgangssignal
des Spaltendecoders 6 an das Spaltenauswahlgatter 9 an. Das Spal
tenauswahlgatter 9 reagiert auf vom Spaltenreparaturkreis 7 ange
legte Spaltenauswahlsignale, zum Auswählen einer ausgewählten
Spalte im Speicherzellenfeld 1 mit einer IO-Leitung, die nicht ge
zeigt ist.
Der Leseverstärker 8 verstärkt die Datensignale, die in den
Speicherzellen der durch den Zeilendecoder 3 ausgewählen Zeile
enthalten sind.
Eine Dateneingabe/-ausgabeschaltung 10 ist zum Eingeben/Ausgeben
von zu speichernden Daten aus einer externen Vorrichtung oder zu
speichernden Daten in einer externen Vorrichtung vorgesehen. Die
Dateneingabe/-ausgabeschaltung 10 empfängt ein extern angelegtes
Eingabedatensignal Din und überträgt dieses über die IO-Leitung
(nicht gezeigt) und das Spaltenauswahlgatter 8 zu der ausgewählten
Speicherzelle. Die Dateneingabe/-ausgabeschaltung 10 empfängt die
vom Leseverstärker 8 verstärkten Datensignale und legt diese als
Ausgabedaten Dout nach außen an.
Eine Adressenübergangserkennungsschaltung 11 ist zum Definieren
eines Zeitpunkts einer Zeilenauswahl und Spaltenauswahl im Halb
leiterspeicher 100 vorgesehen. Die Adressenübergangserkennungs
schaltung 11 überwacht das interne Zeilenadreßsignal des Zei
lenadreßpuffers 2 und erzeugt ein Zeilenadreßübergangserkennungs
signal ATDx als Reaktion auf den Zeitpunkt des Übergangs. Die
Adreßübergangserkennungsschaltung 11 empfängt das interne Spal
tenadreßsignal des Spaltenadreßpuffers 5 und stellt ein Spal
tenadreßübergangserkennungssignal ATDy bereit, als Reaktion auf
den Zeitpunkt des Übergangs.
Ein allgemeiner Halbleiterspeicher 100 wird in Fig. 1 gezeigt, und
es wird darauf hingewiesen, daß ein DRAM oder ein SRAM oder der
gleichen als Halbleiterspeicher 100 vorgesehen werden kann. Zu
sätzlich wird darauf hingewiesen, daß ein von einer gestrichelten
Linie umgebener Block 100, wie in Fig. 1 dargestellt, auch einen
Halbleiterchip darstellt.
Fig. 2 zeigt ein Schaltbild einer Spalte in einem herkömmlichen
DRAM. Wie in Fig. 2 gezeigt, umfaßt die j-te Spalte Cj Speicher
zellen MC (nur eine wird gezeigt), die zwischen Bitleitungen BLj
und und einem Leseverstärker 9j verbunden sind. Der Lesever
stärker 9j umfaßt NMOS-Transistoren Q1 und Q2, sowie PMOS-Transi
storen Q3 und Q4. Ein NMOS-Transistor Q8 ist zwischen der Bitlei
tung BLj und einer IO-Leitung verbunden. Ein NMOS-Transistor Q9
ist zwischen der Bitleitung und einer -Leitung verbunden.
Die Transistoren Q8 und Q9 werden als Reaktion auf ein Spaltenaus
wahlsignal Yj eingeschaltet, das von dem in Fig. 1 gezeigten Spal
tendecoder 6 erzeugt wird.
Während des Lesebetriebs wird ein Ansteigen der i-ten Wortleitung
WLi bewirkt, nachdem NMOS-Transistor Q5 das Ausgleichen der Bit
leitungen BLj und beendet hat. Ein Schalttransistor Qs in der
Speicherzelle MC wird eingeschaltet, so daß eine kleine Potential
differenz zwischen den Bitleitungen BLj und erscheint. Der Lese
verstärker 9j wird als Reaktion auf Aktivierungssignale Sp und Sn
aktiviert, so daß die kleine Potentialdifferenz durch den Lesever
stärker 9j verstärkt wird. Die Transistoren Q8 und Q9 werden als
Reaktion auf das Hochpegel-Spaltenauswahlsignal Yj eingeschaltet,
so daß das verstärkte Datensignal an das IO-Leitungspaar angelegt
wird. Das Datensignal auf dem IO-Leitungspaar wird über die in
Fig. 1 gezeigte Dateneingabe/-ausgabeschaltung 10 nach außen be
reitgestellt.
Während des Schreibbetriebs wird ein zu speicherndes Datensignal
Din über die Dateneingabe/-ausgabeschaltung 10 an das IO-Leitungs
paar angelegt. Die Transistoren Q8 und Q9 werden als Reaktion auf
ein Hochpegelspaltenauswahlsignal Yj eingeschaltet, so daß das Da
tensignal an das Bitleitungspaar BLj, angelegt wird. Ein Hoch
pegelwortleitungssignal BLi wird angelegt, so daß der Transistor
Qs in der Speicherzelle MC eingeschaltet wird, und das Datensignal
in einem Kondensator Cs gespeichert wird. Es wird darauf hingewie
sen, daß die zuzugreifende Spalte Cj durch ein Spaltenauswahlsi
gnal Yj ausgewählt wird, das vom Spaltendecoder 6 sowohl während
des Lese- als auch während des Schreibbetriebs erzeugt wird.
Fig. 3 zeigt ein Blockschaltbild des in Fig. 1 gezeigten Spalten
reparaturkreises 7. Wie in Fig. 3 gezeigt, umfaßt die Spaltenrepa
raturschaltung 7 eine Sicherungsverbindung mit Sicherungen 3 1-
3n, sowie einem hohen Widerstand 12, die in Reihe zwischen einem
Versorgungspotential Vcc und Massepotential verbunden sind, Schalte
lemente oder Schaltungen 5 1 bis 5n auf der oberen Seite und
Schaltelemente oder Schaltungen 6 1 bis 6n auf der unteren Seite.
Jedes der Paare von Schaltelementen oder Schaltungen der oberen
und unteren Seite wird als Reaktion auf die Potentiale an entspre
chenden Verbindungsknoten N1a-Nna von zwei entsprechenden Siche
rungen gesteuert. Zum Beispiel wird das Schaltkreispaar 5 1 und 6 1
zum Auswählen einer ersten Spalte C1 in einer komplementären Weise
ein- und ausgeschaltet, als Reaktion auf ein vom Spaltendecoder 6
erzeugtes Spaltenauswahlsignal Y1 und das Potential am Knoten N1a.
Der Spaltendecoder 6 umfaßt Spaltenauswahlsignalleitungen Y1-Yn
zum Auswählen einer Spalte, auf die zuzugreifen ist. Der Spalten
decoder 6 verbringt selektiv eine der Spaltenauswahlleitungen Y1
bis Yn auf einen hohen Pegel, als Reaktion auf ein extern angeleg
tes Spaltenadreßsignal.
Eine Spalte - z. B. die erste Spalte C1 - umfaßt Spaltenauswahl
transistoren Q81 und Q91, die zwischen einem Bitleitungspaar
BL1, und einem IO-Leitungspaar verbunden sind, eine Lesever
stärkerschaltung 9j, sowie Speicherzellen MC, die mit den Bitlei
tungen BL1, verbunden sind. Die Transistoren Q81 und Q91 ar
beiten als Reaktion auf ein Spaltenauswahlsignal Y1a, welches vom
Spaltendecoder 6 über die Spaltenreparaturschaltung 7 bereitge
stellt wird. Mit anderen Worten wird das Lesen oder Schreiben
(d. h. der Zugriff) von oder in die Speicherzellen MC der ersten
Spalte C1 als Reaktion auf das Spaltenauswahlsignal Y1a ausge
führt.
Die jeweiligen Schaltungen in den anderen Spalten C2-C(n + 1)
weisen denselben Schaltungsaufbau wie den der ersten Spalte C1
auf, so daß auf eine Darstellung und Beschreibung derselben ver
zichtet wird.
Das Speicherzellenfeld 1 umfaßt (n + 1) Spalten C1-C(n + 1). Der
Spaltendecoder 6 umfaßt n Ausgangssignalleitungen Y1-Yn, so daß
eine der (n + 1) Spalten C1-C(n + 1), d. h. diejenige, die nicht
festgelegt ist, als Redundanzschaltung arbeitet.
Wenn sich in den ganzen Spalten C1-C(n + 1) keine fehlerhafte
Speicherzelle befindet, wird keine Sicherung in der Sicherungsver
bindung (fuse link) unterbrochen. Der Widerstand 12 besitzt einen
hohen Widerstandswert, so daß alle Knoten N1a-Nna sich auf hohem
Potential befinden, d. h. dem Versorgungspotential Vcc. Folglich
sind die Schaltelemente oder Schaltungen 5 1 bis 5n der oberen
Seite eingeschaltet und die Schaltelemente oder Schaltungen 6 1 bis
6n der unteren Seite ausgeschaltet. Als Ergebnis werden die Aus
gangssignalleitungen Y1-Yn des Spaltendecoders 6 elektrisch über
die Spaltenreparaturschaltung 7 jeweils mit den Spaltenauswahllei
tungen Y1a-Yna verbunden.
In dem Fall, daß sich eine fehlerhafte Speicherzelle in einer der
Spalten befindet, z. B. im Fall, daß eine fehlerhafte Speicherzelle
in der zweiten Spalte C2 gefunden wird, arbeitet die Spaltenrepa
raturschaltung 7 wie im folgenden beschrieben. Zuerst wird die Si
cherung 32 vorab durch eine Sicherungsschmelzvorrichtung unterbro
chen. Daher werden, während sich der Knoten N1a auf hohem Poten
tial hält, die Knoten N2a bis Nna auf ein niedriges Potential,
d. h. Massepotential gesetzt. Während die Schaltkreise 51 und 61 des
ersten Schaltpaares ein- bzw. ausgeschaltet sind, werden die
Schaltkreise der oberen und unteren Seiten in jedem der anderen
Schalterpaare aus- bzw. eingeschaltet. Folglich werden die Aus
gangssignalleitungen Y2-Yn des Spaltendecoders 6 über die Spal
tenreparaturschaltung 7 mit den Spaltenauswahlleitungen Y3a bis
Y(n + 1)a verbunden. Die Spaltenauswahlleitung Y2a ist nicht elek
trisch mit einer der Ausgangssignalleitungen des Spaltendecoders 6
verbunden, so daß die zweite Spalte C2 nicht ausgewählt wird. Mit
anderen Worten, ein Zugriff auf die Spalte C2 mit einer defekten
Speicherzelle während des Lese- und Schreibbetriebes wird nicht
vorgenommen.
Fig. 4 zeigt ein Schaltbild der in Fig. 3 gezeigten Spaltenrepara
turschaltung 7. Wie in Fig. 4 gezeigt, wird jeder der Schaltkreise
5 1 bis 5n und 6 1 bis 6n mit einem CMOS-Transmissionsgatter imple
mentiert. NMOS-Transistoren Q11, Q12 zum Verbringen der nicht ausgewählten
Spaltenauswahlleitung Y1a bis Y(n + 1)a auf Massepotential sind dar
gestellt, während ihre Darstellung für Schaltung 7 in Fig. 3 weg
gelassen wurde. Zum Beispiel sind die NMOS-Transistoren Q11 und
Q12 in Reihe zwischen der Spaltenauswahlleitung Y2a und Masse ver
bunden. Wenn eine fehlerhafte Speicherzelle in der Spalte C2 exi
stiert, wird die Spaltenauswahlleitung Y2a nicht aktiviert. Ge
nauer gesagt werden die Transmissionsgatter 61 und 52 ausgeschal
tet und die Transistoren Q11 und Q12 eingeschaltet, so daß die
Spaltenauswahlleitung Y2a auf Massepotential durch die Transistoren
Q11 und Q12 verbracht wird. Als Ergebnis werden die Transistoren
Q82 und Q92 in Spalte 2 vollständig ausgeschaltet, so daß ein
falscher Zugriff auf die Spalte 2 verhindert wird. Während oben
die Spaltenreparaturschaltung 7 zur Spaltenauswahl beschrieben
wurde, wird darauf hingewiesen, daß die in Fig. 1 dargestellte
Zeilenreparaturschaltung denselben Schaltungsaufbau aufweist. Ge
nauer gesagt, wenn eine fehlerhafte Speicherzelle in einer Zeile
auftritt, verbindet die Zeilenreparaturschaltung 4 die Ausgangssi
gnalleitungen des Zeilendecoders 3 jeweils mit den Wortleitungen,
mit Ausnahme der fehlerhaften Zeile.
Die im folgenden beschriebenen Probleme sind bei den obigen Spal
tenreparaturschaltungen 7 (bzw. Zeilenreparaturschaltungen 4) auf
getreten. Zuerst ist die in Fig. 3 gezeigte Spaltenreparaturschal
tung 7 nur in der Lage, eine Spalte (C2 im obigen Beispiel) zu re
parieren. Mit anderen Worten, wenn fehlerhafte Speicherzellen in
zwei oder mehr Spalten (oder Zeilen) auftreten, ist es nicht mög
lich, den Halbleiterspeicher durch die Reparaturschaltung 7 (oder
4) zu reparieren.
Es ist möglich, zwei kaska
dierte Reparaturschaltungen zum Reparieren eines Halbleiterspei
chers mit zwei fehlerhaften Zeilen oder Spalten vorzuse
hen. Genauer gesagt werden zwei in Fig. 3 gezeigte Reparatur
schaltungen 7 kaskadiert, und es wird möglich, zwei defekte Zeilen
(oder Spalten) zu reparieren. Zwei kaskadierte Schaltungen, ähn
lich Schaltung 7, in benachbarten Bereichen auf einem Halbleiter
substrat führten allerdings zu einer hohen Konzentration von
Sicherungen und Schaltelementen oder Schaltungen. Genauer gesagt
sind eine Anzahl von Sicherungen nahe zueinander vorgesehen, so
daß es schwierig wird, eine gewünschte Sicherung sauber zu un
terbrechen. Zusätzlich ist eine Anzahl von Schaltelementen oder
Schaltungen nahe zueinander vorgesehen, so daß durch das Schalten
bewirktes Rauschen erzeugt wird. Es ergibt sich, daß das Vorsehen
von mehr als zwei Reparaturschaltungen nah beieinander, wie in
Fig. 3 gezeigt, vermieden werden sollte.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Halbleiterspeicher
vorrichtung zu schaffen, bei der zwei oder mehr fehlerhafte Zeilen
oder Spalten repariert werden können.
Die Aufgabe wird durch die Halbleiterspeichervorrichtung nach dem
Patentanspruch 1 gelöst.
Bevorzugte Ausgestaltungen sind in den Unteransprüchen angegeben.
Es wird möglich gemacht, einen Halbleiterspeicher
mit zwei oder mehr fehlerhaften Spalten oder Zeilen zu reparieren.
Es kann auch eine zu hohe Konzentration von Sicherungselementen
verhindert und eine Häufung
von Schalterelementen oder Schaltungen verhindert werden, so daß die Erzeugung
von unvorteilhaftem Rauschen verhindert wird.
Es folgt die Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Figu
ren.
Von den Figuren zeigen
Fig. 1 ein Blockschaltbild eines allgemeinen Halbleiterspei
chers zum Verdeutlichen des technischen Hintergrundes;
Fig. 2 ein Schaltbild einer Spalte im DRAM;
Fig. 3 ein Blockschaltbild des in Fig. 1 gezeigten Spaltenre
paraturkreises;
Fig. 4 ein Schaltbild der in Fig. 3 gezeigten Spaltenrepara
turschaltung;
Fig. 5 ein Blockschaltbild von Spaltenreparaturschaltungen ent
sprechend einer Ausführungsform;
Fig. 6 ein Schaltbild zum Verdeutlichen eines anderen Beispiels
für die Spaltenauswahl;
Fig. 7 ein Schaltbild zum Verdeutlichen eines weiteren Bei
spiels für die Spaltenauswahl;
Fig. 8 ein Schaltbild zum Verdeutlichen eines anderen Beispiels
des in Fig. 5 gezeigten Schaltkreises;
Fig. 9 ein Schaltbild zum Verdeutlichen noch eines weiteren
Beispiels des in Fig. 5 gezeigten Schaltkreises;
Fig. 10 ein Blockschaltbild von Spaltenreparaturschaltungen nach
einer weiteren Ausführungsform; und
Fig. 11 ein Schaltbild von Zeilenreparaturschaltungen ent
sprechend einer weiteren Ausführungsform.
Wie in Fig. 5 gezeigt, ist eine erste Spaltenreparaturschaltung 7a
mit Ausgangssignalleitungen Y1-Yn eines Spaltendecoders 6 ver
bunden. Die erste Spaltenreparaturschaltung 7a besitzt denselben
Schaltungsaufbau wie die in Fig. 3 gezeigte Schaltung 7. Die in
Fig. 3 gezeigten Schaltungen 8, 9 und 1 sind in zwei Schaltungs
blöcke 891a und 891b in Fig. 5 eingeteilt. Jeder der Schaltungs
blöcke 891a und 891b besitzt eine gleiche Schaltungskonfiguration
wie die der Schaltungen 8, 9 und 1 nach Fig. 3, mit der Ausnahme,
daß die Zahl der enthaltenen Speicherzellen auf die Hälfte redu
ziert ist. Die erste Spaltenreparaturschaltung 7a ist mit Spalten
auswahlleitungen Y1a-Y(n + 1)a verbunden, die im ersten
Speicherzellenfeldblock 891a vorgesehen sind. Zusätzlich ist die
erste Spaltenreparaturschaltung 7a über Spaltenauswahlleitungen
Y1a-Y(n + 1)a mit einem zweiten Spaltenreparaturkreis 7b verbun
den. Die zweite Spaltenreparaturschaltung 7b besitzt eine gleiche
Schaltungskonfiguration wie die Schaltung 7a mit der Ausnahme, daß
sie ein weiteres Paar von Schaltelementen oder Schaltungen ent
hält. Die zweite Spaltenreparaturschaltung 7b umfaßt Sicherungen
4 1-4(n + 1) und einen hohen Widerstand 13, die in Reihe zwischen
einem Versorgungspotential Vcc und einem Erdpotential verbunden
sind, Schaltelemente oder Schaltungen 7 1-7(n + 1) auf der oberen
Seite und Schaltungen oder Schaltelemente 8 1-8(n + 1) auf der
unteren Seite. Jedes Paar von Schaltelementen oder Schaltungen auf
der oberen und unteren Seite wird als Reaktion auf das Potential
auf einem entsprechenden Knoten in der Sicherungsverbindung ein-
und ausgeschaltet. Der zweite Speicherfeldblock 891b umfaßt (n+2)
Spaltenauswahlleitungen Y1b-Y(n + 2)b. Die zweite Spaltenre
paraturschaltung 7b ist über Spaltenauswahlleitungen Y1b-Y(n +
2)b mit dem zweiten Speicherfeldblock 891b verbunden.
In dem Fall, daß keine fehlerhafte Speicherzelle in den Speicher
feldblöcken 891a und 891b exisistiert, ist keine der Sicherungen
3 1-3n und 4 1-4(n + 1) unterbrochen. Alle Knoten N1a-Nna und
N1b-N(n + 1)b in der Sicherungsanordnung werden auf Versorgungs
potential gehalten, so daß alle Schaltelemente oder Schaltungen 5 1-5n
und 7 1-7(n + 1) auf der oberen Seite eingeschaltet sind.
Andererseits sind alle Schaltelemente oder Schaltungen 6 1-6n und
8 1-8(n + 1) auf der unteren Seite ausgeschaltet. Folglich sind
die Ausgangssignalleitungen Y1-Yn des Spaltendecoders 6 durch
die erste Spaltenreparaturschaltung 7a mit den Spaltenauswahllei
tungen Y1a-Yna elektrisch verbunden. Zusätzlich sind die Spal
tenauswahlleitungen Y1a-Yna im Speicherfeldblock 891a über die
zweite Spaltenauswahlschaltung 7b elektrisch mit den Spaltenaus
wahlleitungen Y1b-Ynb im Speicherfeldblock 891b verbunden. Als
Ergebnis sind die Ausgangssignalleitungen Y1-Yn des Spaltendeco
ders 6 durch die ersten und zweiten Spaltenreparaturschaltungen 7a
und 7b elektrisch mit den Spaltenauswahlleitungen Y1a-Yna sowie
Y1b-Ynb in den Speicherfeldblöcken 891a und 891b verbunden.
Folglich kann eine normale Spaltenauswahl im Lese- und Schreibbe
trieb durchgeführt werden. Es wird darauf hingewiesen, daß in die
sem Fall die Spaltenauswahlleitung Y(n + 1)a im Speicherfeldblock
891a und die Spaltenauswahlleitung Y(n + 1)b sowie Y(n + 2)b im
Speicherfeldblock 891b nicht ausgewählt, d. h. nicht aktiviert
sind.
Anschließend wird der Betrieb für den Fall beschrieben, daß zwei
fehlerhafte Spalten vorliegen. Es wird angenommen, daß eine feh
lerhafte Speicherzelle in der zweiten Spalte im ersten Speicher
feldblock 891a auftritt, und daß eine fehlerhafte Speicherzelle in
der (n + 1)-ten Spalte bei der folgenden Beschreibung im zweiten
Speicherfeldblock 891b auftritt. In diesem Fall werden die Siche
rung 32 in der Schaltung 7a und die Sicherung 4(n + 1) in der
Schaltung 7b durch eine Sicherungsschmelzeinrichtung unterbrochen.
Folglich sind, wie in Fig. 5 gezeigt, für das erste Schalterpaar
das Schaltelement oder die Schaltung 5 1 auf der oberen Seite ein
geschaltet und das Schaltelement oder die Schaltung 6 1 ausgeschal
tet. Andererseits sind für die anderen Schalterpaare die Schaltele
mente oder Schaltungen 5 2-5n auf der oberen Seite ausgeschaltet
und Schaltelemente oder Schaltungen 6 2-6n auf der unteren Seite
eingeschaltet. Daher wird die Ausgabesignalleitung Y1a des Spalten
decoders 6 durch das Schaltelement oder die Schaltung 5 1 elek
trisch mit der Spaltenauswahlleitung Ya verbunden. Die Ausgangssi
gnalleitungen Y2-Yn sind jeweils elektrisch mit den Spaltenaus
wahlleitungen Y3a bis Y(n + 1)a verbunden. Folglich wird die Spalten
auswahlleitung Y2a im ersten Speicherfeldblock 891a nicht ausge
wiesen, d. h. nicht aktiviert.
In der zweiten Spaltenreparaturschaltung 7b sind die ersten bis n-
ten Schalterpaare mit ihren Schaltelementen oder Schaltungen 7 1-7n
auf der oberen Seite eingeschaltet. Andererseits ist das (n + 1)te
Schalterpaar mit seinem Schaltelement oder seiner Schaltung
7(n + 1) auf der oberen Seite ausgeschaltet und das Schaltelement
oder die Schaltung 8(n + 1) auf der unteren Seite ist eingeschal
tet. Folglich ist die Spaltenauswahlleitung Y(n + 1)b im Speicher
feldblock 891b nicht ausgewählt, d. h. nicht aktiviert. Obwohl die
Spaltenauswahlleitung Y2a im ersten Speicherfeldblock 891a nicht
aktiviert ist und die Spaltenauswahlleitung Y2b im zweiten Spei
cherfeldblock 891b ebenfalls nicht aktiviert ist, sind als ganzes n
Spaltenauswahlleitungen (außer Y2b und Y(n + 1)b) im zweiten Spei
cherfeldblock 891b aktiviert.
Eine weitere Ausführungsform wird in Fig. 10 dargestellt. Entspre
chend dem in Fig. 10 dargestellten Beispiel können maximal 4 feh
lerhafte Spalten repariert werden. Wie in Fig. 10 gezeigt, umfaßt
eine erste Spaltenreparaturschaltung 7c die in Fig. 5 gezeigten
Reparaturschaltungen 7a und 7b. Genauer gesagt sind die Ausgangs
signalleitungen der Reparaturschaltung 7a einer vorhergehenden
Stufe direkt mit der Reparaturschaltung 7b in einer darauffolgen
den Stufe verbunden. Die Schaltung 7a der vorhergehenden Stufe ist
mit Ausgangssignalleitungen Y1-Yn im Spaltendecoder 6 verbunden.
Ein erster Speicherfeldblock 891c umfaßt (n + 2) Spalten. Die
Schaltung 7b in der nachfolgenden Stufe ist mit Spaltenauswahllei
tungen Y1c-Y(n + 2)c im ersten Speicherfeldblock 891c verbunden.
Die zweite Spaltenreparaturschaltung 7d umfaßt eine Schaltung 7a′
in einer vorhergehenden Stufe und einer Schaltung 7b′ in einer
darauffolgenden Stufe. Die Zahl von Schalterpaaren in der Schal
tung 7a′ in der vorhergehenden Stufe ist um eins größer gewählt
als die der Schaltung 7b der darauffolgenden Stufe im ersten Spal
tenreparaturkreis 7c. Andererseits ist die Zahl von Schalterpaaren
in der Schaltung 7b′ der nachfolgenden Stufe um eins größer ge
wählt als in der Schaltung 7a′ der vorhergehenden Stufe. Folglich
ist die Schaltung 7a′ der vorhergehenden Stufe mit Spaltenauswahl
leitungen Y1c-Y(n + 2)c im Speicherfeldblock 891c verbunden. Die
Schaltung 7b′ in der darauffolgenden Stufe ist mit den Spaltenaus
wahlleitungen Y1d-Y(n + 4)d im zweiten Speicherfeldblock 891d
verbunden.
Nachfolgend wird der Betrieb für den Fall beschrieben, daß vier
defekte Spalten in den Speicherfeldblöcken 891c und 891d exi
stieren. Zuerst wird angenommen, daß defekte Speicherzellen je
weils in der zweiten und der (n + 1)ten Spalte im Speicherfeld
block 891c, sowie in der zweiten und (n + 1)-ten Spalte im Spei
cherfeldblock 891d existieren. Entsprechende Sicherungen in den
vier Sicherungsverbindungen sind wie in Fig. 10 gezeigt, unterbro
chen, so daß die Spaltenauswahlleitungen Y2c, Y(n + 1)c, Y2d sowie
Y(n + 1)d nicht aktiviert sind. Daher ist es möglich, selbst wenn
4 defekte Spalten oder Speicherzellen in einem DRAM vorliegen, den
DRAM zu reparieren.
Entsprechend den in den Fig. 5 und 10 gezeigten Ausführungsformen
ist die j-te Spaltenauswahlleitung mit der Leitung Yj in der in
Fig. 2 gezeigten Schaltung verbunden. Es ist ebenfalls möglich,
die Spaltenauswahlleitung mit den in den Fig. 6 und 7 gezeigten
Schaltungen als weitere Beispiele der in Fig. 2 gezeigten Schal
tung zu verbinden.
Die in Fig. 6 gezeigte Schaltung umfaßt zwei Datenleitungspaare
RD, , sowie WD, zum Lesen und Schreiben. Die Lesedatenleitun
gen RD und sind jeweils mit Bitleitungen BLj und verbunden.
Die Schaltdatenleitungen WD und sind jeweils mit Bitleitungen
BLj und verbunden. Es wird darauf hingewiesen, daß die Verbin
dungen zwischen den Datenleitungen RD, , WD und sowie den
Bitleitungen BLj, durch ein Signal auf der Spaltenauswahllei
tung Yj gesteuert werden.
Die in Fig. 7 gezeigte Schaltung umfaßt Transistoren für eine
Blockauswahl zusätzlich zu der in Fig. 6 gezeigten Schaltung. Die
zusätzlichen Transistoren werden als Reaktion auf Blockauswahlsi
gnale RA9 und gesteuert.
Während das in Fig. 4 gezeigte Transmissionsgatter 51 für jedes
Schaltelement oder jede Schaltung in den in den Fig. 5 und 10 ge
zeigten Ausführungsformen benutzt wird, können die Schaltkreise
51′ und 51′′, die in den Fig. 8 und 9 gezeigt sind, ebenfalls be
nutzt werden. Die in den Fig. 8 oder 9 gezeigten Schaltkreise 51′
oder 51′′ können als Schaltkreis, der in Fig. 5 oder 10 gezeigt
ist, eingesetzt werden. Während die in den Fig. 5 und 10 gezeigten
Ausführungsformen Reparaturschaltungen für fehlerhafte Spalten in
einem DRAM umfassen, ist die vorliegende Erfindung ebenfalls an
wendbar auf Reparaturschaltungen für fehlerhafte Zeilen in einem
DRAM. Die Fig. 11 ist ein Schaltbild von Zeilenreparaturschaltun
gen in einem DRAM. Wie in Fig. 11 gezeigt, besitzen die Zeilenre
paraturschaltungen 4a und 4b dieselbe Schaltungskonfiguration wie
die der Spaltenreparaturschaltungen 7a und 7b nach Fig. 5. Zeilen
reparaturschaltungen 4a und 4b sind allerdings mit Wortleitungen
X1a-X(m + 1)a sowie X1b-X(m + 2)b von Speicherfeldblöcken
891e, bzw. 891f verbunden. Wenn daher fehlerhafte Speicherzellen
in der zweiten Zeile im Speicherfeldblock 891e und der (m + 1)-ten
Zeile im Speicherfeldblock 891f existieren, ist es möglich, die
Wortleitungen X2a und X(m + 1)b nicht zu aktivieren, indem ent
sprechende Sicherungen in zwei Sicherungsverbindungen unterbrochen
werden, wie in Fig. 11 gezeigt. Folglich wird es möglich, ein DRAM
mit zwei fehlerhaften Zeilen durch die Zeilenreparaturschaltungen
4a und 4b zu reparieren.
Während bei den in den Fig. 5, 10 und 11 gezeigten Ausführungsfor
men die vorliegende Erfindung auf Reparaturschaltungen für einen
DRAM angewendet wurde, wird darauf hingewiesen, daß die Anwendung
der vorliegenden Erfindung nicht auf DRAMs beschränkt ist und
breit auf andere Halbleiterspeicher, wie SRAMs, anwendbar ist.
Wie oben beschrieben, wird es möglich gemacht, einen Halbleiter
speicher mit zwei oder mehr fehlerhaften Spalten oder Zeilen zu re
parieren, indem die Reparaturschaltungen nach den Fig. 5, 10 und
11 in einem DRAM oder einem anderen Halbleiterspeicher vorgesehen
werden. Die in Fig. 5 gezeigten Reparaturschaltungen 7a und 7b
werden voneinander entfernt auf einem Halbleitersubstrat gebildet,
so daß es außerdem möglich ist, eine zu hohe Konzentration von Sicherungs
elementen zu verhindern. Zusätzlich kann ebenfalls eine Häufung
von Schalterelementen oder Schaltungen verhindert werden, so daß die Er
zeugung von unvorteilhaftem Rauschen verhindert wird.
Obwohl Sicherungen und Schalterelemente oder Schaltungen bei den
in der Fig. 10 gezeigten Reparaturschaltungen 7c und 7d konzen
triert sind, ist es möglich, einen Halbleiterspeicher mit vier
fehlerhaften Spalten oder Zeilen zu reparieren, wenn der Grad der
Konzentration in der Praxis nicht kritisch ist. Es wird darauf
hingewiesen, daß ein Halbleiterspeicher mit einer noch größeren
Anzahl von fehlerhaften Spalten oder Zeilen repariert werden kann,
indem die Anzahl von Stufen in den Reparaturschaltungen nach Fig.
5 oder Fig. 10 wie benötigt erhöht wird.
Claims (8)
1. Halbleiterspeichervorrichtung
- - mit einer Mehrzahl von Speicherzellenfeldern (891a, 891b; 891c, 891d; 891e, 891f), die jeweils eine Mehrzahl von in Zeilen und Spalten angeordneten Speicherzellen aufweisen;
- - mit einer Decodiereinrichtung (6, 3) mit n bzw. m Ausgangssignalleitungen
(Y1-Yn; X1-Xm) zum selektiven Aktivieren
einer der n bzw. m Ausgangssignalleitungen als Reaktion auf
ein extern angelegtes Adreßsignal (CA, RA);
wobei ein voranstehendes Speicherzellenfeld (891a, 891c, 891e) mindestens n+1 bzw. m+1 erste Auswahlleitungen (Y1a- Y(n+1)a; X1a-X(m+1)a) zum Auswählen der an einer ersten Auswahlleitung angeordneten Speicherzellen aufweist; - - mit einer ersten Schaltungseinrichtung (7a; 4a; 3 1-3n,
5 1-5n, 6 1-6n) zum Bestimmen von n bzw. m Auswahlleitungen
aus den ersten mindestens n+1 bzw. m+1 Auswahlleitungen
in dem voranstehenden Speicherzellenfeld und Verbinden der n
bzw. m Ausgangssignalleitungen der Decodiereinrichtung (6, 3)
mit den n bzw. m bestimmten Auswahlleitungen im voranstehenden
Speicherzellenfeld;
wobei ein nachfolgendes Speicherzellenfeld (891b, 891d, 891f) eine Anzahl von zweiten Auswahlleitungen (Y1b- Y(n+2)b; X1b-X(m+2)b), die um mindestens 1 größer als die Anzahl der ersten Auswahlleitungen ist, zum Auswählen der an einer zweiten Auswahlleitung angeordneten Speicherzellen aufweist; und - - mit einer zweiten Schaltungseinrichtung (7b; 4b; 4 1- 4(n+1), 7 1-7(n+1), 8 1-8(n+1)) zum Bestimmen von n bzw. m Auswahlleitungen aus den zweiten Auswahlleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld und Verbinden der n bzw. m bestimmten Auswahlleitungen des vorangehenden Speicherzellenfeldes mit den n bzw. m bestimmten Auswahlleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld.
2. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Schaltungseinrichtung eine erste Definierungseinrichtung (3 1-3n, 5) mit einer Mehrzahl von ersten schmelzbaren Elementen (3 1-3n), die in Reihe zwischen ersten und zweiten Potentialquellen verbunden sind, und
eine erste Verbindungseinrichtung (5 1-5n, 6 1-6n), die nach Maßgabe von Ausgangsspannungen arbeitet, die über Verbindungsknoten (N1a-Nna) der ersten schmelzbaren Elemente (3 1-3n) bereitgestellt werden, aufweist und
die zweite Schaltungseinrichtung eine zweite Definierungseinrichtung (4 1-4n) mit einer Mehrzahl von zweiten schmelzbaren Elementen (4 1-4(n+1)), die in Reihe zwischen ersten und zweiten Potentialquellen verbunden sind, und
eine zweite Verbindungseinrichtung (7 1-7n, 8 1-8n) die nach Maßgabe von Ausgangsspannungen arbeitet, die über Verbindungsknoten (N1b-N(n+1)b) der zweiten schmelzbaren Elemente (4 1-4(n+1)) bereitgestellt werden.
die erste Schaltungseinrichtung eine erste Definierungseinrichtung (3 1-3n, 5) mit einer Mehrzahl von ersten schmelzbaren Elementen (3 1-3n), die in Reihe zwischen ersten und zweiten Potentialquellen verbunden sind, und
eine erste Verbindungseinrichtung (5 1-5n, 6 1-6n), die nach Maßgabe von Ausgangsspannungen arbeitet, die über Verbindungsknoten (N1a-Nna) der ersten schmelzbaren Elemente (3 1-3n) bereitgestellt werden, aufweist und
die zweite Schaltungseinrichtung eine zweite Definierungseinrichtung (4 1-4n) mit einer Mehrzahl von zweiten schmelzbaren Elementen (4 1-4(n+1)), die in Reihe zwischen ersten und zweiten Potentialquellen verbunden sind, und
eine zweite Verbindungseinrichtung (7 1-7n, 8 1-8n) die nach Maßgabe von Ausgangsspannungen arbeitet, die über Verbindungsknoten (N1b-N(n+1)b) der zweiten schmelzbaren Elemente (4 1-4(n+1)) bereitgestellt werden.
3. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Verbindungseinrichtung n bzw. m erste Schalteinrichtungen (5 1-5n, 6 1-6n) aufweist, die jeweils mit entsprechenden Ausgangssignalleitungen der Decodereinrichtung (6, 13) verbunden sind und die in der Lage sind, selektiv mit einer von zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld (891a, 891c, 891e) verbunden zu werden,
wobei die erste Definierungseinrichtung im Falle eines fehler haften Bit die n bzw. m ersten Schalteinrichtungen in mindestens eine erste und eine zweite Gruppe teilt, bezogen auf eine Ausgangssignalleitung der Decodereinrichtung (6, 13), die der Auswahlleitung mit dem fehlerhaften Bit entspricht, und wobei die erste Definierungseinrichtung den Verbindungszustand der n bzw. m ersten Schalteinrichtungen so bestimmt, daß der Verbindungs zustand der zur ersten Gruppe gehörenden Schalteinrichtungen umgekehrt zu dem Verbindungszustand der zur zweiten Gruppe gehörenden Schalteinrichtungen ist,
die zweite Verbindungseinrichtung mindestens n+1 bzw. m+1 zweite Schalteinrichtungen (7 1-7(n+1), 8 1-8(n+1)) aufweist, die jeweils mit einer entsprechenden Auswahlleitung im voranstehenden Speicherzellenfeld (891a, 891c, 891e) verbunden sind und die in der Lage sind, selektiv mit einer von zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld (891b, 891d, 891f) verbunden zu werden,
wobei die zweite Definierungseinrichtung im Falle eines fehlerhaften Bit die mindestens n+1 bzw. m+1 zweiten Schalteinrichtungen in mindestens eine erste und eine zweite Gruppe teilt, bezogen auf eine Auswahlleitung im voranstehenden Speicherzellenfeld, die der Auswahlleitung mit dem fehlerhaften Bit entspricht,
und wobei die zweite Definierungseinrichtung den Verbindungszustand der mindestens n+1 bzw. m+1 zweiten Schalteinrichtungen so bestimmt, daß der Verbindungszustand der zur ersten Gruppe gehörenden Schalteinrichtungen umgekehrt zu dem Verbindungszustand der zur zweiten Gruppe gehörenden Schalteinrichtungen ist.
die erste Verbindungseinrichtung n bzw. m erste Schalteinrichtungen (5 1-5n, 6 1-6n) aufweist, die jeweils mit entsprechenden Ausgangssignalleitungen der Decodereinrichtung (6, 13) verbunden sind und die in der Lage sind, selektiv mit einer von zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld (891a, 891c, 891e) verbunden zu werden,
wobei die erste Definierungseinrichtung im Falle eines fehler haften Bit die n bzw. m ersten Schalteinrichtungen in mindestens eine erste und eine zweite Gruppe teilt, bezogen auf eine Ausgangssignalleitung der Decodereinrichtung (6, 13), die der Auswahlleitung mit dem fehlerhaften Bit entspricht, und wobei die erste Definierungseinrichtung den Verbindungszustand der n bzw. m ersten Schalteinrichtungen so bestimmt, daß der Verbindungs zustand der zur ersten Gruppe gehörenden Schalteinrichtungen umgekehrt zu dem Verbindungszustand der zur zweiten Gruppe gehörenden Schalteinrichtungen ist,
die zweite Verbindungseinrichtung mindestens n+1 bzw. m+1 zweite Schalteinrichtungen (7 1-7(n+1), 8 1-8(n+1)) aufweist, die jeweils mit einer entsprechenden Auswahlleitung im voranstehenden Speicherzellenfeld (891a, 891c, 891e) verbunden sind und die in der Lage sind, selektiv mit einer von zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld (891b, 891d, 891f) verbunden zu werden,
wobei die zweite Definierungseinrichtung im Falle eines fehlerhaften Bit die mindestens n+1 bzw. m+1 zweiten Schalteinrichtungen in mindestens eine erste und eine zweite Gruppe teilt, bezogen auf eine Auswahlleitung im voranstehenden Speicherzellenfeld, die der Auswahlleitung mit dem fehlerhaften Bit entspricht,
und wobei die zweite Definierungseinrichtung den Verbindungszustand der mindestens n+1 bzw. m+1 zweiten Schalteinrichtungen so bestimmt, daß der Verbindungszustand der zur ersten Gruppe gehörenden Schalteinrichtungen umgekehrt zu dem Verbindungszustand der zur zweiten Gruppe gehörenden Schalteinrichtungen ist.
4. Halbleiterspeichervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis
3,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Decodiereinrichtung ein Spaltendecoder ist,
das voranstehende Speicherzellenfeld mindestens (n+1) erste Bitleitungen als erste Auswahlleitungen umfaßt, die jeweils entlang einer entsprechenden Spalte vorgesehen sind und mit in der Spalte angeordneten Speicherzellen verbunden sind,erste Datenübertragungsleitungen (IO, ) umfaßt, zum Übertragen eines Datensignals, und
mindestens (n+1) dritte Schalteinrichtungen (Q8a, Q9a) umfaßt, die jeweils zwischen einer entsprechenden ersten Bitleitung und der ersten Datenübertragungsleitung verbunden sind und als Reaktion auf ein Signal auf einer entsprechenden Auswahlleitung betrieben werden,
und daß das nachfolgende Speicherzellenfeld mindestens (n+2) zweite Bitleitungen als zweite Auswahlleitungen umfaßt, die jeweils entlang einer entsprechenden Spalte vorgesehen sind und mit in der Spalte angeordneten Speicherzellen verbunden sind,zweite Datenübertragungsleitungen (IO, ) umfaßt, zum Übertragen eines Datensignals, und
mindestens (n+2) vierte Schalteinrichtungen (Q8b, Q9b) umfaßt, die jeweils zwischen einer entsprechenden zweiten Bitleitung und der zweiten Datenübertragungsleitung verbunden sind und als Reaktion auf ein Signal auf einer entsprechenden Auswahlleitung betrieben werden.
die Decodiereinrichtung ein Spaltendecoder ist,
das voranstehende Speicherzellenfeld mindestens (n+1) erste Bitleitungen als erste Auswahlleitungen umfaßt, die jeweils entlang einer entsprechenden Spalte vorgesehen sind und mit in der Spalte angeordneten Speicherzellen verbunden sind,erste Datenübertragungsleitungen (IO, ) umfaßt, zum Übertragen eines Datensignals, und
mindestens (n+1) dritte Schalteinrichtungen (Q8a, Q9a) umfaßt, die jeweils zwischen einer entsprechenden ersten Bitleitung und der ersten Datenübertragungsleitung verbunden sind und als Reaktion auf ein Signal auf einer entsprechenden Auswahlleitung betrieben werden,
und daß das nachfolgende Speicherzellenfeld mindestens (n+2) zweite Bitleitungen als zweite Auswahlleitungen umfaßt, die jeweils entlang einer entsprechenden Spalte vorgesehen sind und mit in der Spalte angeordneten Speicherzellen verbunden sind,zweite Datenübertragungsleitungen (IO, ) umfaßt, zum Übertragen eines Datensignals, und
mindestens (n+2) vierte Schalteinrichtungen (Q8b, Q9b) umfaßt, die jeweils zwischen einer entsprechenden zweiten Bitleitung und der zweiten Datenübertragungsleitung verbunden sind und als Reaktion auf ein Signal auf einer entsprechenden Auswahlleitung betrieben werden.
5. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 3 oder 4,
dadurch gekennzeichnet, daß
jede der ersten Schalteinrichtungen erste und zweite Schaltelemente (51, 61) umfaßt, deren jeweilige Eingangsanschlüsse mit einer entsprechenden (Y1) der Ausgangssignalleitungen des Spaltendecoders verbunden sind und die auf komplementäre Weise nach Maßgabe der ersten Definierungseinrichtung eingeschaltet werden,
das erste Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit einer (Y1a) von zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden ist,
das zweite Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit der anderen (Y2a) der zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen dritte und vierte Schalt elemente (71, 81) aufweist, deren jeweilige Eingangsanschlüsse mit einer entsprechenden (Y1a) der Auswahlleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden sind und die auf komple mentäre Weise nach Maßgabe der zweiten Definierungseinrichtung eingeschaltet werden,
das dritte Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit einer (Y1b) von zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld verbunden ist und das vierte Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit der anderen (Y2b) der zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld verbunden ist.
jede der ersten Schalteinrichtungen erste und zweite Schaltelemente (51, 61) umfaßt, deren jeweilige Eingangsanschlüsse mit einer entsprechenden (Y1) der Ausgangssignalleitungen des Spaltendecoders verbunden sind und die auf komplementäre Weise nach Maßgabe der ersten Definierungseinrichtung eingeschaltet werden,
das erste Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit einer (Y1a) von zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden ist,
das zweite Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit der anderen (Y2a) der zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen dritte und vierte Schalt elemente (71, 81) aufweist, deren jeweilige Eingangsanschlüsse mit einer entsprechenden (Y1a) der Auswahlleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden sind und die auf komple mentäre Weise nach Maßgabe der zweiten Definierungseinrichtung eingeschaltet werden,
das dritte Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit einer (Y1b) von zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld verbunden ist und das vierte Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit der anderen (Y2b) der zwei entsprechenden benachbarten Auswahlleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld verbunden ist.
6. Halbleiterspeichervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis
5,
dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterspeichervorrichtung
einen dynamischen Speicher mit wahlfreiem Zugriff (DRAM) umfaßt.
7. Halbleiterspeichervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis
3,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Decodiereinrichtung ein Zeilendecoder ist,
das voranstehende Speicherzellenfeld mindestens (m+1) erste Wortleitungen als erste Auswahlleitungen umfaßt, die jeweils entlang einer entsprechenden Zeile vorgesehen sind und mit in der Zeile angeordneten Speicherzellen verbunden sind,
und daß das nachfolgende Speicherzellenfeld mindestens (n+2) zweite Wortleitungen als zweite Auswahlleitungen umfaßt, die jeweils entlang einer entsprechenden Zeile vorgesehen sind und mit in der Zeile angeordneten Speicherzellen verbunden sind.
die Decodiereinrichtung ein Zeilendecoder ist,
das voranstehende Speicherzellenfeld mindestens (m+1) erste Wortleitungen als erste Auswahlleitungen umfaßt, die jeweils entlang einer entsprechenden Zeile vorgesehen sind und mit in der Zeile angeordneten Speicherzellen verbunden sind,
und daß das nachfolgende Speicherzellenfeld mindestens (n+2) zweite Wortleitungen als zweite Auswahlleitungen umfaßt, die jeweils entlang einer entsprechenden Zeile vorgesehen sind und mit in der Zeile angeordneten Speicherzellen verbunden sind.
8. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß jede der ersten Schalteinrichtungen
erste und zweite Schaltelemente umfaßt, deren jeweilige Eingangsanschlüsse
mit einer entsprechenden (X1) Wortleitung des
Zeilendecoders verbunden sind und die auf komplementäre Weise
nach Maßgabe der ersten Definierungseinrichtung eingeschaltet
werden,
das erste Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit einer (X1a) von zwei entsprechenden benachbarten Wortleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden ist,
das zweite Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit der anderen (X2a) der zwei entsprechenden benachbarten Wortleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen dritte und vierte Schaltelemente (71, 81) aufweist, deren jeweilige Eingangsanschlüsse mit einer entsprechenden (X1a) der Wortleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden sind und die auf komplementäre Weise nach Maßgabe der zweiten Definierungseinrichtung eingeschaltet werden,
das dritte Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit einer (X1b) von zwei entsprechenden benachbarten Wortleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld ist und
das vierte Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit der anderen (X2b) der zwei entsprechenden benachbarten Wortleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld verbunden ist.
das erste Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit einer (X1a) von zwei entsprechenden benachbarten Wortleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden ist,
das zweite Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit der anderen (X2a) der zwei entsprechenden benachbarten Wortleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen dritte und vierte Schaltelemente (71, 81) aufweist, deren jeweilige Eingangsanschlüsse mit einer entsprechenden (X1a) der Wortleitungen im voranstehenden Speicherzellenfeld verbunden sind und die auf komplementäre Weise nach Maßgabe der zweiten Definierungseinrichtung eingeschaltet werden,
das dritte Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit einer (X1b) von zwei entsprechenden benachbarten Wortleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld ist und
das vierte Schaltelement mit seinem Ausgangsanschluß mit der anderen (X2b) der zwei entsprechenden benachbarten Wortleitungen im nachfolgenden Speicherzellenfeld verbunden ist.
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