DE3883929T2 - Nichtflüchtiger Speicher. - Google Patents

Nichtflüchtiger Speicher.

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DE3883929T2 DE88119501T DE3883929T DE3883929T2 DE 3883929 T2 DE3883929 T2 DE 3883929T2 DE 88119501 T DE88119501 T DE 88119501T DE 3883929 T DE3883929 T DE 3883929T DE 3883929 T2 DE3883929 T2 DE 3883929T2
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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Datenschreibschaltung, die mit einem nichtflüchtigen Speicherzellentransistorarray verbunden ist, welche die Möglichkeit verhindern kann, daß Daten irrtümlich in eine Speicherzelle geschrieben werden.
  • Eine Datenschreibschaltung 20, wie in Fig. 1 gezeigt ist, wird üblicherweise für einen nichtflüchtigen Speicher verwendet, wie z.B. ein EPROM. Das heißt, eine Vielzahl von Speicherzellentransistoren des freischwebenden Gatetyps MC besitzt Drains, die mit Bitleitungen BL für ein Speicherzellenarray MA verbunden sind. Die Datenschreibschaltung 20 und die Datenausleseschaltung 20 sind durch einen Bitleitungsauswähltransistor TBL mit den Bitleitungen BL verbunden. Die Datenschreibschaltung 20 besitzt einen MOS-Transistor 22, wie z.B. einen N-Kanal-Transistor, der von einem Schreibspannungsanschluß Vpp zu einer Bitleitung BL über den Bitleitungsauswähltransistor TBL verbunden ist, der eine Schreibsignalleitung WE besitzt, die mit dem Gate des Transistors 22 verbunden ist.
  • Die Arbeitsweise des nichtflüchtigen Speicherzellentransistorarrays ist wie folgt.
  • Es sei angenommen, daß eine Schreiboperation zu einem Zeitpunkt durchgeführt wird, wenn das Datum "0" ist. Wenn eine hohe Spannung Vpp an die Schreibsignalleitung WE zu einem Schreibzeitpunkt angelegt ist, ist der Schreibtransistor 22 EIN-geschaltet. Mit dem Transistor 22 in einem "EIN"-Zustand erhält eine Spannung auf der Bitleitung BL für eine spezifische Reihe, die mit dem Bitleitungsauswähltransistor verbunden ist, der durch das Ausgangssignal des Spaltendecodierers ausgewählt wird, den Pegel Vpp. Zu diesem Zeitpunkt ist eine Spannung Vpp an die Wortleitung WL auf einer spezifischen Spalte angelegt, die durch das Ausgangssignal des Reihendecodierers ausgewählt ist, und daher ist die Spannung Vpp an dieselbe Spalte angelegt, die mit der Wortleitung WL auf den Steuerungsgates der Speicherzellentransistoren MC verbunden ist. Folglich wird eine Spannung Vpp über das Drain D und das Steuergate CG eines ausgewählten spezifischen Speicherzellentransistors MC, wie in Fig. 2 gezeigt ist, angelegt, wodurch verursacht wird, daß ein großer Strom über das Drain und das Source S (geerdet) desselben Transistors fließt. Heiße Elektronen werden über den Kanalabschnitt und in ein freischwebendes Gate FG durch die Spannung Vpp, die an das Steuerungsgate CG angelegt ist, gezogen. Folglich wird ein Datum "1" in die ausgewählte Speicherzelle geschrieben.
  • Wenn das "1"-Datum in die ausgewählte Speicherzelle geschrieben ist, ist die Spannung Vpp nicht an die Schreibsignalleitung WE angelegt, und der Schreibtransistor 22 ist AUS-geschaltet.
  • Mit dem Schreibtransistor 22, der in einem nichtaktiven (AUS)-Zustand plaziert ist, wird nachteiligerweise infolge einiger Effekte auf jenes Vpp-Spannungssystem ein Rauschen erzeugt, und es tritt, falls zu diesem Zeitpunkt der Rauschpegel den Pegel Vpp überschreitet, ein Durchgriff bzw. "punch-through" im Transistor 22 infolge der Anwendung einer hohen Spannung über eine Stehspannung hinaus auf jenen Transistor auf. Folglich wird eine hohe Spannung fehlerhafterweise an jede Bitleitung angelegt, welche als eine Last des Schreibtransistors 22 verbunden ist. Es sei angenommen, daß eine Spannung Vpp an eine ausgewählte Spalte in dem Speicherarray MA einer Speicherzellenarraymatrix angelegt ist. Selbst in diesem Fall können die Speicherzellentransistoren, deren Gates mit den "nicht ausgewählten" Spalten verbunden sind, heiße Elektronen in ihren freischwebenden Gates erzeugen, wenn eine hohe Spannung auf der Bitleitung an die Drains der Speicherzellentransistoren angelegt wird. Ein derartiges Ereignis erzeugt, wenn es nahezu einmal auftritt, kein Risiko der Dateninvertierung. Wenn jedoch ein derartiges Ereignis einige Male wiederholt auftritt, kann die Dateninvertierung in der Form eines "Schreib"-Fehlers auftreten.
  • In dem Fall, wo in dem zuvor erwähnten EPROM der Speicherzellentransistor verwendet wird, z.B. als ein Typ eines Flags, tritt ein "Schreib-Fehler", der sich aus dem Rauschen der Vpp-Spannung ergibt, teilweise infolge einer kleinen Transistorlast auf, insbesondere des Schreibtransistors 22.
  • Es ist dementsprechend die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen nichtflüchtigen Speicher bereitzustellen, der, auch wenn Rauschen in einem Schreibspannungssystem auftritt, verhindern kann, daß eine hohe Spannung nachteiligerweise in das Drain eines Speicherzellentransistors über eine Datenschreibschaltung eingespeist wird, und daher verhindern kann, daß ein Schreibfehler bezogen auf den Speicherzellentransistor auftritt.
  • Um diese Aufgabe zu lösen, stellt die vorliegende Erfindung einen nichtflüchtigen Speicher bereit, wie er in Anspruch 1 spezifiziert ist.
  • Ein nichtflüchtiger Halbleiterspeicher der vorliegenden Erfindung umfaßt Bitleitungen, die mit den Drains der Speicherzellentransistoren verbunden sind, eine Datenschreibschaltung, die zwischen der Bitleitung und einer Schreibschaltung verbunden ist und mindestens zwei Schreib-MOS-Transistoren, die in einer seriellen Weise verbunden sind, besitzt, und eine Schreibfreigabe-Signalleitung, die gemeinschaftlich mit den Gates der mindestens zwei Schreib-MOS-Transistoren verbunden ist.
  • Falls Rauschen in dem Schreib-Spannungssystem erzeugt wird, tritt ein Durchgriffseffekt in den jeweiligen zugeordneten Transistoren mit geringerer Wahrscheinlichkeit auf, da die zwei Transistoren in einer seriellen Art verbunden sind. Auch wenn der Durchgriff in den jeweils zugeordneten Transistoren auftritt, wird eine an die Bitleitung anzulegende Spannung verringert, um so die Wahrscheinlichkeit zu verringern, daß ein "Schreib- Fehler" in den Speicherzellentransistoren auftritt.
  • Diese Erfindung kann aus der folgenden ausführlichen Beschreibung in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen besser verstanden werden, in welchen:
  • Fig. 1 eine Schaltungsanordnung zeigt, in welcher eine konventionelle Datenschreibschaltung mit einem nichtflüchtigen Halbleiterspeicherzellentransistorarray verbunden ist;
  • Fig. 2 ein Modell des Speichertransistors, wie in Fig. 1 gezeigt ist, zeigt; und
  • Fig. 3 eine Schaltungsanordnung zeigt, in welcher eine Datenschreibschaltung der vorliegenden Erfindung mit einem nichtflüchtigen Speicherzellentransistorarray verbunden ist.
  • Ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird unten mit Bezug auf die beiliegenden Zeichnungen erklärt.
  • Fig. 3 ist eine Schaltungsanordnung, in welcher eine Datenschreibschaltung der vorliegenden Erfindung mit einem nichtflüchtigen Speicherzellentransistorarray verbunden ist. MA zeigt ein Speicherzellentransistorarray, das Speicherzellentransistoren vom freischwebenden Gatetyp besitzt, die in einer Matrixform angeordnet sind. WL zeigt Wortleitungen für das Speicherzellentransistorarray, welche jeweils mit den jeweiligen Gates der Speicherzellentransistoren in derselben Spalte verbunden sind. TB zeigt Bitleitungsauswähltransistoren (MOS- Transistoren), von denen jeder in Reihe mit den jeweiligen Bitleitungen verbunden ist. 10 und 21 sind eine Datenschreibschaltung bzw. eine Datenausleseschaltung, welche jeweils mit der entsprechenden Bitleitung über einen entsprechenden Bitleitungsauswähltransistor verbunden sind. WE zeigt eine Schreibfreigabe-Signalleitung.
  • In der vorliegenden Erfindung beinhaltet die Datenschreibschaltung 10 mindestens zwei Schreibtransistoren 11 und 12, z.B. N-Kanal-MOS-Transistoren, die in einer seriellen Art mit den Gates der Schreibtransistoren verbunden sind, die gemeinsam mit der Schreibfreigabe-Signalleitung WE verbunden sind. Ein MOS-Transistor 13, z.B. ein N-Kanal-MOS-Transistor, der zum Kurzschlußschalten verwendet wird, ist zwischen einem Knoten der erwähnten Schreibtransistoren und einem Masseanschluß verbunden. Ein Signal auf der Schreibfreigabe-Leitung WE wird als ein invertiertes Signal dem Gate des Transistors 13 über eine Invertierungsschaltung 14 zugeführt.
  • In der zuvor erwähnten Schaltung wird mit einem Schreibdatum als "0" eine Schreibspannung Vpp an die Schreibfreigabe-Signalleitung WE angelegt, und die Schreibtransistoren 11 und 12 sind EIN-geschaltet. Zu diesem Zeitpunkt ist der Transistor 13 zum Kurzschlußschalten durch das Ausgangssignal ("0"-Pegel) der Invertierungsschaltung 14 AUS-geschaltet, und daher wird die Spannung Vpp der Bitleitungsseite über die Schreibtransistoren 11 und 12 zugeführt. Zu diesem Zeitpunkt ist die Spannung Vpp an eine spezifische Bitleitung über den Auswähltransistor TBL, der durch das Ausgangssignal des Spaltendecodierers ausgewählt ist, und an die Wortleitung für die spezifische Spalte durch ein Ausgangssignal des Reihendecodierers angelegt. Folglich ist ein spezifischer Speicherzellentransistor ausgewählt und eine Spannung Vpp ist an das Drain und das Gate des ausgewählten Speicherzellentransistors angelegt, um es zu ermöglichen, daß ein "0" -Datum darin eingeschrieben wird.
  • Mit dem Schreibdatum als "1" wird ein Pegel eines Signals auf der Schreibfreigabe-Signalleitung WE "0" und die Schreibtransistoren 11 und 12 sind AUS-geschaltet. Zu diesem Zeitpunkt ist der Transistor 13 zum Kurz schlußschalten durch das Ausgangssignal der Invertierungsschaltung 14 EIN-geschaltet.
  • Angenommen, daß, wenn die Datenschreibschaltung 10 sich in einem nichtaktiven Zustand befindet, eine Rauschspannung auf dem Vpp-Spannungssystem wegen diesem oder anderen Effekten erzeugt wird, und daß sich zu diesem Zeitpunkt der Schreibtransistor 11 auf der Vpp-Spannungsanschlußseite einem "Durchgriff" auf den Empfang einer hohen Spannung unterzieht. Da in diesem Fall der Transistor 13 EIN-geschaltet ist, wird eine Ladung auf dem Knoten der Transistoren 11 und 12 zu einem Masseanschluß entladen. Daher erfährt der andere Transistor 12 auf der Bitleitungsseite keinen Durchgriff, wobei auf diese Weise verhindert wird, daß eine hohe Spannung unnötigerweise der Bitleitungsseite zugeführt wird. Folglich wird es möglich, einen "Schreibfehler" vom Auftreten bezüglich der Speicherzelle zu verhindern.
  • Obwohl in dem zuvor erwähnten Ausführungsbeispiel der Transistor 13 zum Kurzschlußschalten zwischen dem Knoten der Schreibtransistorgruppe und einem Masseanschluß verbunden ist, um es zu ermöglichen, daß der "Durchgriff", falls er erzeugt wird, durch einen Masseanschlußkurzschlußpfad gelangt, müssen mindestens zwei Schreibtransistoren in einer seriellen Weise anstelle der Verwendung des Transistors 13 verbunden werden, so daß eine Bitleitungsspannung zum Zeitpunkt eines "Durchgriffs" verringert werden kann, d.h., daß der "Schreibfehler" des Speicherzellentransistors verhindert werden kann.

Claims (3)

1. Nichtflüchtiger Speicher mit einer Vielzahl von Speicherzellentransistoren (MC) eines Bitleitungs (BL)- mal-Wortleitungs (WL)-Matrixarrays, in welchem ein Schreibsignal über eine entsprechende Bitleitung (BL) zu-einem Speicherzellentransistor zugeführt wird, welcher aus einer Vielzahl von Speicherzellentransistoren ausgewählt wird, wobei der nichtflüchtige Speicher gekennzeichnet ist durch:
eine Datenschreibschaltung (10) mit mindestens zwei schreib-MOS-Transistoren (11, 12), die in Serie zwischen den Bitleitungen (BL) und einem Schreibfreigabe-Spannungsanschluß (Vpp) verbunden sind, und
eine Schreibfreigabe-Signalleitung (WE) die gemeinschaftlich mit den Gates der Schreib-MOS-Transistoren (11, 12) verbunden ist.
2. Nichtflüchtiger Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schreibschaltung (10) einen MOS-Transistor (13) besitzt, der zwischen einem Knoten der zwei serienverbundenen MOS-Transistoren (11, 12) und einem Masseanschluß zum Zuspeisen eines Stroms zum Masseanschluß verbunden ist, und daß der MOS-Transistor auf schaltende und komplementäre Weise entsprechend einem Potential auf der Schreibfreigabe-Signalleitung (WE) gesteuert wird.
3. Nichtflüchtiger Speicher nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein Signal auf der Schreibfreigabe-Signalleitung als eine invertierte Nachbildung über einen Invertierer (14) einem Gate des MOS-Transistors (13) zugeführt wird, der mit dem Masseanschluß verbunden ist.
DE88119501T 1987-11-24 1988-11-23 Nichtflüchtiger Speicher. Expired - Lifetime DE3883929T2 (de)

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