DE2638091C3 - Elektrooptische Zelle - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine elektrooptische Zelle mit durch Feldeffekt gesteuerter Flüssigkristallanzeige mit
einem nematischen Flüssigkristall positiver dielektrischer Anisotropie, die ein Elektrodenbasisplattenpaar
aufweist bestehend aus transparenten Platten, an deren einander zugewandten Oberflächen je eine Elektrodenschicht
und darauf eine Orientierungsschicht zur homogenen Orientierung der Flüssigkristallmoleküle
haftet, bei der die Elektrodenbasisplatten mittels einer anorganischen Abdichtsubstanz in den Randbereichen
miteinander verbunden sind und bei der die Orientierungsrichtungen auf den beiden Platten einen von Null
verschiedenen Winkel miteinander einschließen.
Eine solche Zelle ist aus der DE-OS 24 44 483 bekannt
Derartige Zellen enthalten also eine nematische Flüssigkristallsubstanz, die eine positive dielektrische
Anisotropie hat, welche zwischen ein paar ausgerichteter, transparenter Elektrodenbasisplatten eingefügt ist.
Die Elektrodenbasisplatten bestehen aus einer transparenten Grundplatte mit einer darauf befindlichen
Elektrodenschich*, wobei die Ränder der Platten in einer geeigneten Weise dichtschließend miteinander
verbunden sind.
In einer nematischen Flüssigkristallzelle sind die Moleküle der Flüssigkristallsubstanz anfänglich parallel
zu der Elektrodenbasisplatte ausgerichtet, was auf den Einfluß des Elektrodenbasisplattenpaares zurückzuführen
ist, deren Oberflächen eine bestimmte Richtung haben, wodurch eine optische Rotationskraft auf die
Flüssigkristallsubstanz ausgeübt wird. Diese Ausrichtung wird gesteuert oder erneut bewirkt, wenn ein
geeignetes elektrisches Feld angelegt wird, wodurch die optische Rotation in Flüssigkristall verändert wird. Mit
Hilfe dieser Veränderung der optischen Rotation werden elektrisch« Signale in optische Informationen
umgesetzt Damit kann die nematische Flüssigkristallzelle als Anzeigevorrichtung verwendet werden.
Wegen dieses optischen Prinzips ist die Gleichmäßigkeit
der anfänglichen Ausrichtung des Flüssigkristalls (d. h. der Ausrichtung, wenn kein elektrisches Feld
anliegt) oder die Gleichmäßigkeit der Ausrichtung der Elektrodenbasisplatten, die für die Gleichmäßigkeit der
anfänglichen Ausrichtung des Flüssigkristalls maßgebend ist, von primärer Bedeutung, damit die Anzeige der
Flüssigkristailzelle zufriedenstellend ist Außerdem muß die Abdichtung der Zelle vollkommen dicht sein, damit
diese Ausrichtung erhalten bleibt und damit die Flüssigkristallsubstanz nicht infolge Eindringens von
Fremdstoffen verdirbt. Ganz allgemein ist die Flüssigkristallsubstanz
i.ydrolysierbar oder leidet unter der Einwirkung von Feuchtigkeit, selbst wenn sie dadurch
nicht hydrolysiert wird, und gleichzeitig ist notwendigerweise durch den Einfluß von Feuchtigkeit die
Orientierung selbst beeinflußt
Flüssigkristallsubstanz auf Schifi-Cyano-Basis, die in
den vergangenen Jahren vielfach als Flüssigkristallsubstanz zur Anwendung kam, hat eine positive dielektrische
Anisotropie und ist zur Verwendung in Flüssigkristallanzeigezellen geeignet, jedoch in starkem Maße
hydrolysierbar. Mit fortschreitender Hydrolyse steigt der Verbrauch an elektrischer Energie stark an, und
gleichzeitig sinkt die nemaiiseh-isotrüpe Übergangstemperatur(NI-.)
der Flüssigkristallsubstanz, bis die Flüssigkristallphase nicht mehr erreicht wird. Es gibt
auch andere Flüssigkristallsubstanzen wie etwa Bivinyl-Flüssigkristallsubstanzen,
die nicht hydrolysierbar sind und die auch, wenn sie hohen Temperaturen ausgesetzt
werden, nur eine geringfügige Absenkung des NI-Punktes haben. Werden diese Substanzen jedoch mit
Feuchtigkeit in Berührung gebracht, dann steigt ihr elektrischer Energieverbrauch an, und die Ausrichtung
der Flüssigkristallsubstanz ist folglich gestört
Um also eine ausgezeichnete elektrooptische Zelle mit Flüssigkristallanzeige zu erhalten, muß deshalb
dafür gesorgt werden, daß die Gleichmäßigkeit der anfänglichen Ausrichtung des Flüssigkristalls und die
absolute Dichtigkeit der Zelle als wesentliche Faktoren erhalten bleiben.
Als bekannte Maßnahme, um die Gleichmäßigkeit der anfänglichen Ausrichtung des Flüssigkristalls zu erzielen
(d. h. eine Maßnahme zur Ausrichtung der Elektrodenbasisplatten), ist ein Verfahren bekannt,
wonach die Elektrodenbasisplatten in einer bestimmten Richtung mit einem Material wie Stoff gerieben werden,
doch ist die sich bei diesem Verfahren einstellende Ausrichtung der Flüssigkristallmoleküle örtlich unterschiedlich,
so daß die Gleichmäßigkeit der Orientierung nicht ausreicht. Außerdem geht diese Orientierung
binnen kurzer Zeit verloren.
Ein weiteres Verfahren, mit dem dieser Schwierigkeit begegnet werden soll, benutzt zusätzlich einen oberflächenaktiven
Stoff von bestimmter Art, und die Elektrodenbasisplatten werden in einer bestimmten
Richtung gerieben. Dieses Verfahren ist im IBM Technical Disclosure Bulletin Vol. 13, Nr. 11, April 1971,
S. 3237, beschrieben. Die Gleichmäßigkeit der Orientierung ist zwar damit bis zu einem bestimmten Maß
verbessert, doch hat die Zusatzsubstanz nicht ausreichende Wärmefestigkeit und wirkt sich außerdem
zerstörend auf die Flüssigkristallsubstanz aus. Wenn dann ein elektrisches Feld angelegt wird, verfällt die
Zusatzsubstanz und verdirbt daraufhin den Flüssigkristall, so daß dessen Orientierung zerstört ist.
Es sind andererseits zwei Arten des Aufbaus der Abdichtung bekannt. Im einen Fall wird ein organisches
Dichtmittel verwendet, während im anderen Fall ein anorganisches Dichtmittel Einsatz findet. Das organische
Dichtmittel zeigt Mi.igel hinsichtlich der Wasserdichtigkeit
und der Luftdichtigkeit, so daß damit keine elektrooptische Zelle von hoher Zuverlässigkeit gebildet
werden kann. Aus dieser Sicht ist das anorganische Abdichtmittel vorzuziehen. Dieses anorganische Abdichtmittel,
das bei elektronischen Bauelementen weitgehend eingesetzt wird, ist eine niedrigschmelzende
Glasmasse, deren Schmelz- und Verarbeitungstemperatur oberhalb von 3500C liegt Wenn eine solche
Abdichtsubstanz für das Verschließen der Zelle
ίο verwendet wird, ist eine Orientierung nötig, die derart
hohen Temperaturen standhalten kann, und ist weiterhin nötig, den Elektrodenfilm zu schützen, ohne daß die
Dichteigenschaften der abgedichteten Teile zerstört werden. Glasschmelzen, die bei einer Temperatur
unterhalb 3500C schmelzbar sind, haben schlechte
Klebfestigkeit, und Teile, die mit solchen Substanzen miteinander verbunden sind, können durch einen
Wärmeschock zerstört werden.
Um also eine elektrooptische Zelle für Flüssigkristallanzeige
zu schaffen, in der hohe Zuverlässigkeit mit ausgezeichneter Dichtzeit Klebefestip1,: sit und Widerstandsfähigkeit
gegen Wärmeschocks gepaart sind, ist
eine Behandlung nötig, die zu einer Ausrichtung führt, die Temperaturen von wenigstens 3500C und vorzugsweise
mehr als 400° C zu ertragen vermag. Die Ausrichtb-ihandlung einfach durch Reiben der Elektrodenbasisplatte
oder durch Verwendung einer zusätzlichen Oberflächensubstanz hat keine ausreichende,
Wärmeeinflüssen standhaltende Orientierung.
Als Verfahren zur Ausrichtung der Flüssigkristalle, das gegen starke Erwärmung ausreichend widerstandsfähig
sein soll, so daß anorganische Abdichtmittel verwendet werden können, ist ein Ausrichtverfahren
bekannt (Applied Physics Letters, 173-174, 21.4, 1972) sowie DE-OS 24 44 483, bei dem die Elektrodenbasisplatten
gegenüber einer Bedampfungsquelle eines anorganischen Materials, etwa Siliziummonoxid, geneigt
angeordnet sind und das Material durch Bedampfen auf den Platten niedergeschlagen wird,
womit die gewünschte Orientierung erzielt wird. Damit wird zwar eine gewisse Verbesserung der Hitzebeständigkeit
der Orientierung erreicht, jedoch ist diese Hitzebeständigkeit nicht voll befriedigend, und außerdem
ist die Orientierungskraft vergleichsweise niedrig, so daß die Moleküle des Flüssigkristalls nicht exakt
horizontal zur Elektrodenbasisplatte ausgerichtet sind. Damit aber ist auch ein mit einer derartigen Zelle
ausgerüste'es Gerät bezüglich Kontrast und Ablesewinkel nicht voll zufriedenstellend. Darüber hinaus hat sich
gezeigt daß dann, wenn während eines längeren Zeitraums ein elektrisches Feld anliegt, die Orientierung
zumindest teilweise aufgehoben wird. Selbst dann aber, wenn kein elektrisches Feld angelegt ist, weisen die eine
Elektrodenschicht tragenden Oberflächenbereiche der Basisplatten gewisse Unterschiede der Orientierungsrichtung gegenüber denjenigen Oberflächenbereich-jn
auf, welche keine Elektrodenschicht tragen.
Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, eine elektrooptische Zelle der eingangs erwähnten Art derart zu
verbessern, daß d;<i. Orientierungsschicht bezüglich
Gleichmäßigkeit und Richtung ihrer Orientierungswirkung durch Hitzeeinwirkung möglichst wenig beeinflußbar
ist, das Verschließen der Zelle somit ohne Schädigung der Orientierung bei vergleichsweise hoher
bj Temperatur erfolgen kann.
Diese Aufgabe wirr1 nach der Erfindung durch die im
Kennzeichen des Anspruchs Ί angegebenen Merkmale gelöst.
26 38
Die gemäß der Erfindung aufgebaute Zelle weist folgende Vorteile auf:
(1) Durch das Anbringen der orientierten Polyimidharzfilme, die eine gleichförmige Anfangsausrichtung
ergeben, hat die elektrooptische Zelle ausgezeichnete optische Eigenschaften, wie einen
großen Sichtbarkeitswinkel, guten Kontrast und eine hohe Empfindlichkeit.
(2) Da der orientierte Polyimidharzfilm sowohl von κ der Natur des Materials her als auch bezüglich
seiner Orientierung hitzebeständig ist, kann ein Einsiegelungsverfahren mit einem anorganischen
Abdichtungsmittel eingesetzt werden, das sehr zuverlässig ist, wodurch die eingeschlossenen ι
Bereiche in hervorragendem Maße luftdicht und wasserdicht und unempfindlich gegen Hitzeschock
sind, was zu einer Langzeitstabilität der erfindungs- ·λ η _ _ -7 _ 11 - tr. U ...
gCMIdUCII £>ll!U IUtII k.
(3) Die Anwendung der anorganischen Elektroden- :'
schutzschicht führt dazu, daß der Elektrodenfilm auch bei Anwendung eines Einsiegelungsverfahrens
unter hoher Temperatur, wie es mit einem anorganischen Dichtmittel nötig ist, nicht beschädigt
wird. Da außerdem das Material der -ϊ Schutzschicht und das des Abdichtmittels vom
Grundaufbau her gleich sind, wird eine ausgezeichnete t.nd integrierte Abdichtung erzielt.
Die Erfindung soll nun anhand der Zeichnung an m
Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Es zeigt
Fig. 1 einen schematischen Längsschnitt durch ein
erstes Ausführungsbeispiel der elektrooptischen Zelle nach der Erfindung, und
F i g. 2 eine weitere Längsschnittdarstellung durch ein zweites Ausführungsbeispiel.
Die in der F i g. 1 gezeigte elektrooptische Zelle besteht zur Hauptsache aus einem Paar Elektrodenbasisplatten
(2 + 3), welche sich aus einer transparenten Basisplatte 2 und einem Elektrodenfilm 3 zusammensetzen,
der auf der transparenten Basisplatte 2 haftet, wobei die Elektrodenbasisplatten mit ihren Elektrodenfilm
tragenden Flächen einander zugewandt und mit einem anorganischen Abdichtmittel 6 miteinander
verbunden sind, das auf die Randzonen der Basisplatten aufgebracht ist, so daß eine Zelle gebildet wird, die eine
Flüssigkristallsubstanz mit positiver dielektrischer Anisotropie 7 enthält. Eine anorganische Elektrodenschutzschicht
4 überdeckt die gesamten Elektrodenfilme 3, und das Elektrodenbasisplattenpaar wird bei diesen Elektro- ;o
denschutzschk!;ten mit dem anorganischen Abdichtmittel
verbunden. Ein Paar Polyamidharzfilme 5 ist auf die Elektrodenschutzschichten 4 aufgebracht innerhalb des
Bereichs, der durch die Umrahmung der anorganischen Abdichtung vorgegeben ist, so daß der Harzfilm 5 sich
innerhalb der Zelle befindet Die Polyimidharzfilme sind mit einer bestimmten Orientierung ausgestattet und so
auf den Elektrodenschutzschichten aufgebracht, daß in Richtung des Lichtwegs gesehen ihre Orientierungsrichtungen
einander schneiden. Die Flüssigkristallsubstanz 7 to
ist also in einem Schichtaufbau zwischen die Polyimidharzfilme 5 eingeschlossen und berührt diese und wird,
wenn kein elektrisches Feld angelegt ist, infolge der Orientierung der Polyimidharzfilme ausgerichtet
Ein weiteres Ausführungsbeispiel der erfindungsge- bs
mäßen Zelle ist in der F i g. 2 gezeigt Hierbei sind die Elektrodenschutzschichten 4 lediglich an den Abdichtstellen
vorgesehen, und die ausgerichteten Polyimidharzfilme 5 sind unmittelbar auf die Oberflächen der
Elektrodenbasisplatten mit ihren Elektrodenfilmen 3 aufgebracht.
Es ist notwendig, daß die beiden Elektrodenbasisplatten 2 elektrisch isolierende Eigenschaften haben,
transparent sind und während des Verschließvorgangs hohen Temperaturen standhalten können. Üblicherweise
is! für diese Zwecke Glas das geeignete Material.
Auf der Innenseite dieser beiden Glasplatten wird mit gewöhnlichem herkömmlichem Verfahren <;in transparenter
Elektrodenfilm 3 gehildet. Ein transparenter, elektrisch leitf^iger Film kann aus Zinnoxyd, Indiumoxyd
oder dergleichen durch Aufsprühen oder Vakuumbedampfen gebildet werden. Um ein bestimmtes Muster
zu erzeugen, kann die Photoätztechnik eingesetzt werden, so daß Ziffern, Buchstaben oder Bildzeichen
gebildet werden. Als nächstes ist es erforderlich, die anorganische Elektrodenschutzschicht auf der gesamten
Fläche iw^nn "^m'AiK Fio I verfahren wirdi oder
wenigstens im Bereich der spateren Abdichtung (gemäß Fig. 2) aufzubringen, damit die Elektrodenfilmschicht
den hohen Temperaturen während des Einschließvorgangs standhält, wobei die Schutzschicht die Eigenschaft
hat, mit dem Glas der Elektrodenplatte eine gut haftende Verbindung einzugehen, und aus einem
isolierenden, anorganischen glasartigen Material besteht, in das die Glasbestandteile der für die Abdichtung
verv. '.'ndeten Glasschmelze hineindiffundieren können.
Das Material ist gewöhnlich transparent, kann jedoch, wenn die Schutzschicht nur im Bereich der Abdichtung
angebracht wird, auch nicht vo!1ständig transparent sein.
Beispiele anorganischer Substanzen, die obigen Erfordernissen genügen, sind glasähnliche Materialien wie
Siliziumdioxyd (SiOj) Siliziummonoxyd (SiO) Magnesiumfluorid (MgF2) Alutr.l.iiumoxyd (Al2O3) Lithium-Siliziummischoxyd
(LiO-SiO) und Gemische dieser Substanzen.
Die Elektrodenschutzschicht kann auf vielerlei Weise hergestellt werden. Zum Beispiel kann eine Schicht
einer isolierenden Metallverbindung »-ie SiO2, SiO oder
MgF2 in einem Vakuumbedampfungr.verfahren hergestellt
werden, oder es kann ein Verfahren angewendet werden, bei dem eine verglasbare anorganische
filmbildende Mischung die etwa eine kolloidale Auflösung von Lithium-Kieselerde in einer Schicht aufgetragen
und erhitzt wird, oder es kann ein organisches Material wie Glasharz verwendet werden, das durch
Heißschmelzen in ein anorganisches umgewandelt werden kann. Ein bevorzugtes Beispiel einer Überzugszusammensetzung,
um die Elektrodenschutzschicht aus einem gasförmigen Material zu bilden, !st eine
siliziumhaltige Mischung, die eine Lösung einer Siliziumverbindung enthält, eine verglasbare Verbindung
und vorzugsweise eine organische filmbildende Substanz. Die Siliziumverbindung ist z. B. Siliziumtetrahydroxyd
oder zum Teil dehydrierte Oxyde davon oder eine Mischung daraus. Sie werden durch Reagieren
eines Silanhalogenids mit einer Karboxylsäure und weiter durch Reaktion des sich daraus ergebenden
Stoffes mit einem Alkohol hergestellt
Beispiele für das Silanhalogenid sind Tetrachlorsilan,
Monomethyltrichlorsilan, Dimethyldichlorsilan, Monoäthyltrichlorsilan,
Diäthyldichlorsilan, Monophenyltrichlorsilan und Mischungen daraus. Beispiele für die
Karboxylsäure sind Azetylsäure, Azetylanhydrid, Propionsäure,
Butyrsäure und Mischungen daraus. Beispiele für den Alkohol sind Methylalkohol, Äthylalkohol,
Propylalkohol und Butylalkohol. Beispiele für die
26 38
verglasbare Substanz sind Phosphorpentoxyd, Boranhydrid, Orthoarsensäure, Antimontrichlorid, Zinkazetat
und Ammoniumazetat, die in den oben aufgeführten Siliziumverbindurgslösungen lösbar sind, sowie Mischungen
daraus.
Als organische filmbildende Substanz kann eine organische, hochpolymere Verbindung verwendet werden,
di- lösbar in der oben aufgeführten Siliziumverbindungslöiung
ist und leicht durch Hitze zerlegt und verdampft werden kann, wie etwa Polyvinylazetal,
Polyvinylbutyral, Polyvinyläther und Äthyb-Ilulose.
Für die siliziumhaltige Zusammensetzung wird angestrebt, daß die Siliziumverbindung eine Konzentration
von 5 bis 20 Gew.-%, die filmbildende Substanz eine Konzentration von 5 bis 10 Gew.-% der Gesamtmischung
und die filmbildende Verbindung eine Konzentration von 1 bis 10 Gew.-% der Siliziumverbindung
haben. Diese Gemischsubstanz wird wenigstens an den Stellen als Schicht aufgebracht, an denen die abdichtenden
Teile sitzen, einschließlich der Stellen des Elektrodenfilms auf der Eiekirödenbasispiatte, was mit
üblichen Methoden geschehen kann wie Aufpinseln, Eintauchen, Besprühen oder dergleichen, und nach dem
Trocknen wird die Beschichtung dann bei einer Temperatur zwischen 250 und 700°C erhitzt, wobei sich
die Elektrodenschutzschicht ausbildet
Die Elektrodenschutzschicht dient dazu, den Elektrodenfilm während des Aufklebens des anorganischen
Abdichtmittels auf die Elektrodenplatte gegen Beschädigung und Brechen zu schützen. Das heißt, um eine so
feste -ind dichte Abdichtung bei dem Verschließvorgang
zu erzielen, muß das anorganische Abdichtmittel ausreichend in das zu verklebende Material hineindiffundieren.
Dafür wird eine hohe Temperatur von nicht weniger als 350° C üblicherweise für das Schmelzen und
Verkleben benutzt Dabei dringt das Abdichtmittel in den Elektrodenfilm ein, erhöht dabei seinen Widerstand
und macht ihn schließlich elektrisch nicht leitend. Aus diesem Grunde ist die Elektrodenschutzschicht wesentlich,
um einerseits eine ausgezeichnete Abdichtung zu erzielen und andererseits die Unterbrechung des
Elektrodenfilms zu vermeiden. Obgleich die Elektrodenschutzschicht eigentlich nur an den Abdichtbereichen
der Elektrodenbasisplatte benötigt wird, zieht man es vor, diese Schicht über die gesamte Oberfläche der
Elektrodenbasisplatte auszubreiten, die mit dem Flüssigkristall Kontakt hat, um auch die Injektion von
elektrischer Ladung aus dem Elektrodenfilm zu vermeiden und damit eine Verschlechterung des
orientierten Harzes und des Flüssigkristalls zu unterbinden.
Die Dicke der Elektrodenschutzschicht wird gesteuert, so daß sie 0,005 bis 10 μ erreicht und
vorzugsweise innerhalb der Grenzen 0,05 bis 3 μ liegt Eine Schichtdicke unter 0,005 μ hat sich als nicht
ausreichend erwiesen, die Unterbrechung des Elektrodenfilms während des Abdichtens zu vermeiden,
während eine Schichtdicke von mehr als 10 μ zu einer nur wenig festen Klebeverbindung sowie einer schlechten
elektrischen Ansprechfähigkeit führt
Als nächstes wird ein Polyimidharzfilm praktisch über
die gesamte, von den Abdichtteilen umgebene Innenfläche der Elektrodenbasisplatte ausgebreitet über den
Elektrodenfilm, wobei die Elektrodenschutzschicht zwischen der mit dem Elektrodenfilm bedeckten
Oberfläche der Elekirodenbasisplaite und dem Harzfiim
liegen kann oder nicht, was davon abhängt, ob sich die
Elektrodenschutzschicht nur im Abdichtbereich befindet. Im Anschluß an diesen Vorgang wird der
Polyimidharzfilm einem Orientierungsprozeß ausgesetzt.
Der Ausdruck »Polyimidharz« bedeutet im vorliegen-ϊ
den Fall, daß jedes Polymer gemeint ist das in seiner Hauptkette wiederkehrende Imidbindungen aufweist
und Polyimid enthaltende wiederkehrende Imidbindungen hat sowie Polyamid-Imide, die wiederkehrende
Amidbindungen und Imidbindungen haben, und PoIyesterimide, die wiederkehrende Esterbindungen und
Imidbindungen haben. Polyimidharze nach dieser Definition werden durch Polymere gebildet, die
Imidbindungen haben und im allgemeinen unlöslich für Lösungsmittel sind. Für die Bildung des Polyimidharzfilms
auf der Elektrodenbasisplatte wird aus diesem Grunde auf das Verfahren des Zerlegens von Polysäureamid
zurückgegriffen, die eine Vorstufe aller der die genannten Polyimidharze bildenden Polymere ist, wobei
das Lösungsmittel nachfolgend noch beschrieben wird
2n und die dabei erzielte Lösung als Schicht auf die Elektrodenbasisplatte aufgebracht und anschließend
der Film wärmebehandelt wird, wodurch eine Dehydrierung und Ringbildung des Polysäureamids (polyamideacid)
erfolgt, und es im Film zu den Imidbindungen
2") kommt
Zum Beispiel kann ein Polysäureamid auf der Elektrodenbasisplatte durch Lösen in einem Lösungsmittel
wie Dimethylformamid, Dimethylacetamid, Dimethylsulfoxid und N-Methylpyrroliden aufgetragen
werden in Form einer 0,01 bis 40%igen Lösung, wobei das Auftragen durch Aufpinseln, Tauchen, Besprühen
oder dergleichen, geschehen kann. Nach dem Beschichten wird der Filmüberzug dann bei einer Temperatur
zwischen 100 und 350° C, vorzugsweise 200 bis 300° C, erhitzt und getrocknet, wodurch der Polyimidharzfilm
auf der Elektrodenbasisplatte hergestellt ist Bei einer bereits mit einer anorganischen Elektrodenschutzschicht
überzogenen Elektrodenbasisplatte erfolgt die Beschichtung mit einem Polyimidharzfilm in der
gleichen Weise.
Die Orientierungsbehandlung des Polyimidharzfilms kann in einem Verfahren hergestellt werden, wie
beispielsweise Reiben in einer konstanten Richtung mit Hilfe eines Stoffes oder einer Bürste.
Die Dicke des Polyimidharzfilmes wird zwischen 0,01 und 10 μ und vorzugsweise zwischen 0,1 und 2 μ
gehalten. Bei einer Dicke von weniger als 0,01 μ erhält man eine zu geringe Orientierungskraft und damit
schlechten Kontrast, während eine Filmdicke von mehr
so als 10 μ zu Schwierigkeiten bei der Herstellung einer gleichmäßigen Schicht und in den Farbeigenschaften
de; Polyimidharzes führt
Polysäurenamide als Vorstufe der oben aufgeführten Polyimidharze werden durch folgende Vorgänge
erhalten.
Ein Polysäureamid als Vorstufe der genannten Polyamide im engeren Sinne ist aufgebaut durch
Polyaddition eines Karboxylsäuredianhydrids und eines Diamins.
Ein Polysäureamid als Vorläufer des obengenannten Polyamidimids wird synthetisiert durch Polyaddition
eines Carbonsäureanhydrids und eines Diamins mit einer Amidbindung, das beispielsweise aus einem
Diamin im Oberschuß und einem Tricarbonsäureanhydrid,
wie zum Beispiel Trimellithsäureanhydrid, erhalten wird.
Ein Polysäureamid als Vorläufer des obengenannten Polyesterimide wird synthetisiert durch Polyaddition
26 38
ίο
eines eine Estergruppe aufweisenden Carbonsäuredianhydrids und eines Diamins. Das obengenannte eine
Estergruppe aufweisende Carbonsäuredianhydrid wird beispielsweise aus einer Tricarbonsäure, wie zum
Beispiel Trimellithsäure, und einem aus einer Anzahl
verschiedener Diole erhalten.
Diese Polyadditionsreaktionen werden unter normalen Bedingutigen durchgeführt, d. h. unter wasserfreien
Bedingungen bei Temperaturen von 50°C oder darunter.
Beispiele für die obengenannten Diamine sind
m-Phenylendiamin, p-Phenylendiamin,
m-Xylendiamin, p-Xylendiamin,
4,4'-Diaminodiphenyläther,
4,4'-Diaminodiphenylme than,
3,3'-Dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethan,
3,3'-5,5'-Tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethan,
V IJf r ι
4,4'-methylendianilin,
Benzidin,
Benzidin,
4,4'-Diaminodiphenylsulfid,
4,4'-Diaminodiphenylsulfon,
1,5-Diaminonaphthalin,3,3'-Dimethylbenzidin,
3,3'-Dimethoxybenzidin,
2,4-Bis-(/J-amino-tert.-butyl)-toluol,
Bis-(4-/?-amino-tert.-butyI-phenyi)-äther sowie
1,4- Bis-(2-methyl-4-aminopentyl)-benzol.
4,4'-Diaminodiphenylsulfon,
1,5-Diaminonaphthalin,3,3'-Dimethylbenzidin,
3,3'-Dimethoxybenzidin,
2,4-Bis-(/J-amino-tert.-butyl)-toluol,
Bis-(4-/?-amino-tert.-butyI-phenyi)-äther sowie
1,4- Bis-(2-methyl-4-aminopentyl)-benzol.
Beispiele für das obengenannte Diel sind
Hydrochinon, Bisphenol A, Dichlorbisphenol A,
Tetrachlorbisphenol A.Tetrabrombisphenol A,
Bisphenol F, Bisphenol ACP, Bisphenol L,
Bisphenol V, Bisphenol S, sowie
4,4'-Dihydroxydiphenyläther.
Tetrachlorbisphenol A.Tetrabrombisphenol A,
Bisphenol F, Bisphenol ACP, Bisphenol L,
Bisphenol V, Bisphenol S, sowie
4,4'-Dihydroxydiphenyläther.
Beispiele für das obengenannte Carbonsäuredianhydrid sind
Pyromellithsäureanhydrid,
2,3,6,7-Naphthalintp.tracarbonsäureanhydrid,
S^'^'-Diphenyltetracarbonsäureanhydrid.
1,2,5,6-Naphthalintetracarbonsäureanhydrid,
2,2'3,3'-Diphenyltetracarbonsäureanhydrid,
Thiophen^^^^-tetracarbonsäureanhydrid,
2,2-Bis-(3,4-biscarboxyphenyl)-propananhydrid,
Perylen-S^.ii.lO-tetracarbonsäureanhydrid,
Bis-(3,4-dicarboxyphenyl)-ätheranhydridund
S^'^^'-Benzophenontetracarbonsäureanhydrid.
Für die obengenannten Diamine, Diole und Carbonsäuredianhydride werden in allen Fällen aromatische
Verbindungen wegen ihrer Wärmebeständigkeit vorgezogen.
Die anorganische Abdichtsubstanz wird auf dem abzudichtenden Bereich auf den Elektrodenschutzschichten
der Elektrodenbasisplatte ausgebildet
Die anorganische Abdichtsubstanz ist ein glasartiges Material, wenn es in den Aufbau der elektrooptischen
Zelle eingefügt wird. Die anorganischen Abdichtsubstanzen, die bei der Erfindung verwendet werden, sind
glasbildende Stoffe, vorzugsweise Glasschmelzen mit niedrigem Schmelzpunkt, die amorph oder kristallin
sein können. Die bevorzugten Glasschmelzen mit niedrigem Schmelzpunkt sind solche, die bei Temperaturen
von höchstens 500° C und insbesondere 350 bis 470° C heiß versiegelt werden können. Wird eine
kristalline Glasschmelze verwendet, dann wird möglichst dafür gesorgt, daß der Wärmeausdehnungskoeffizient
der Schmelze und des abzudichtenden Körpers gleich sind.
Gewöhnlich wird die oben erwähnte Glasschmelze auf die Stellen der Elektrodenschutzschicht, bei der die
Abdichtung angebracht werden soll, von einer Dispersion der Glasschmelze in einem gewöhnlichen organischen
Bindemittel durch Siebdruckverfahren aufge-
in bracht. Das organische Bindemittel kann z. B. durch
Auflösen von Äthylzellulose oder Nitrozellulose in einem Lösungsmittel wie Butylkarbitol und Amylazetat
hergestellt werden. Das organische Bindemittel wird in einer Menge von 0,1 bis 10 Gewichtsteilen, bezogen auf
10 Gewichtsteile der Schmelze verwendet.
Obgleich das verwendete organische Bindemitfel
gleichzeitig mit dem Einsiegelungsprozeß verflüchtigt werden kann, in welchem die beiden Elektrodenbasisnlatten
mit ihren einander zugewandten Innenflächen unter Einsatz von hoher Temperatur versiegelt und fest
miteinander verbunden werden, bevorzugt man, das Bindemittel durch Erhitzen der abdichtenden Substanz
zuvor zu beseitigen, wobei die Temperatur von den Eigenschaften des Abdichtmittels vor dem eigentlichen
Versiegelungsprozeß abhängt.
In der oben beschriebenen Weise sind die Elektrodenbasisplatten,
die auf ihrer einen Seite die anorganische Elektrodenschutzschicht, die mit einer Orientierung
versehene Polyimidharzfilmschicht und das anorgani-
in sehe Abdichtmittel tragen, so zueinander angeordnet,
daß die Polyimidharzfilmschichten auf der Innenseite liegen und die Orientierungsrichtungen der einander
gegenüberstehenden Harzfilmschichten in einem Winkel zueinander stehen.
Die sich so ergebende Schichtstruktur wird auf eine Temperatur von 350 bis 500° C und vorzugsweise 400 bis
470°C erhitzt, um die Stellen, an denen die Abdichtung erfolgen soll, miteinander zu verschmelzen. Beim
Heizen wird das anorganische Abdichtmittel geschmolzen, und beim Wiederabkühlen ist das Paar von
Elektrodenplatten miteinander versiegelt und in den Abdichtbereichen zwischen den Elektrodenschutzschichten
mit Hilfe des anorganischen Dichtmittels fest verbunden. Man strebt an, den Winkel zwischen den
Orientierungsrichtungen der orientierten Polyimidharzfilmschichten wegen des Kontrastes, der Ansprechfähigkeit
und des Sichtbarkeitswinkels nahe 90° zu machen.
Auf diese Weise ist ein Behältnis für einen Flüssigkristall hergestellt.
Auf diese Weise ist ein Behältnis für einen Flüssigkristall hergestellt.
Die Reihenfolge, wie bei dem Herstellungsprozeß des Behältnisses für den Flüssigkristall die einzelnen
Schritte vorgenommen werden, ist nicht entscheidend, wenn nur die Elektrodenbasisplatten zuerst vorhanden
sind. Durch Wahl einer besseren Reihenfolge bei der Kombination der einzelnen Schichten ist es möglich, die
elektrooptische Zelle noch besser zu erzeugen.
Bei einem möglichen Ablauf während des Herstellungsprozesses des Behältnisses für den Flüssigkristall
wird die anorganische Elektrodenschutzschicht zumindest an den Teilen angebracht an denen auf der
Oberfläche der Elektrodenbasisplatte der Elektrodenfilm sitzt und die abgedichtet werden sollen, und der
Polyimidharzfilm wird dann auf der Fläche ausgebildet
f.5 die mit dem Flüssigkristall in Berührung ist und nicht mit
den Teilen, die abgedichtet werden. Nachdem der Polyimidharzfilm dann der Orientierungsbehandlung
ausgesetzt ist wird die anorganische Abdichtsubstanz
26 38
auf du·, zu verschließenden Stellen aufgebracht. Daraufhin
werden zwei zusammengehörige Elektrodenbasisplatten so zueinander angeordnet, daß sich ihre
Polyimidharzfilme auf den Innenseiten befinden und einander gegenüberstehen, worauf die Elektrodenplatten
dann versiegelt und fest miteinander verbunden werden. Es wurde bereits gesagt, daß das Abdichtmittel
in diesem Fall auch auf der einen der beiden Elektrodenplatten weggelassen werden kann.
Ein weiteres Beispiel des Herstellungsverfahrens, bei dem die anorganische Schicht zum Schutz der Elektrode
nur auf den Abdichtstellen selbst ausgebildet ist, sieht vor, daß zuerst die Polyimidharzfilmschicht — in
Bereichen, die nicht zu den Abdichtbereichen gehören — hergestellt wird, und danach die anorganische
Elektrodenschutzschicht gebildet wird. Ein wiederum anderes Beispiel des Aufbauverfahrens für den Fall, wo
das organische Bindemittel, das für das Aufbringen des anorganischen Abdichtmittels benötigt wird, durch
ι \/ u: ι..
bindung oder ein Gemisch sein. Es wird ein Stoff mi' positiver dielektrischer Anisotropie gewählt, was
bedeutet, daß die dielektrische Konstante in der Ric^'un»· der Hauptar! j,c dtr Moleküle größer als die
dielcki. ische Konstante in Richtung senkrecht zu dieser
Hauptachse ist Für eine nematische Flüssigkristal'substanzmischung
wird ein Gemisch aus nematischen Flüssigkristallverbindungen gewählt, die eine positive
dielektrische Anisotropie haben (nachfolgend mit
to Np-Flüssigkristallverbindungen bezeichnet), oder eine
Mischung mit wenigstens einem Stoff aus der Gruppe der Np-Flüssigkristallverbindungen und mit wenigstens
einer nematischen Flüssigkristallverbindung, die negative dielektrische Anisotropie hat (nachfolgend als
ii Nn-Flü3sigkristallverbindung bezeichnet), wobei das
Gesamtgemisch nach außen positive dielektrische Anisotropie zeigt. Eine Flüssigkristallsubstanz ils
Gemisch mit zwei oder mehr Bestandteilen hat einen großen Arbeitstemperaturbereich als Anzeigeelement
ΐΐΓΐυ JSl uCSllUlLS JWIII gUllltlg
der Elektrodenplatten ausgetrieben wird, sieht vor, daß der Polyimiciiiarzfilm auch nach dem Austreiben des
organischen Bindemittels, z. B. unmittelbar vor dem Abdicht- und Verbindungfverfahrensschritt, hergestellt
wird. In diesem Fall kann die Abdichtsubstanz auch an einer der beiden Elektrodenbasisplatten fehlen.
In allen Beispielen der vorstehend beschriebenen Verfahrensschrittkombinationen kann die für den unter
Erhitzung und Druck ablaufenden Abdicht- und Verbindungsprozeß des Elektrxlenbasisplattenpaares 3η
benötigte Zeit verkürzt werden, wenn das anorganische Abdichtmittel durch vorheriges Erhitzen vor dem
eigentlichen Versiegelungsvorgang fest durch Diffusion in die Elektrodenschutzschicht mit den Elektrodenbasisplatten
in Verbindung gebracht ist Dies ist von Vorteil im Hinblick auf den Schutz der Orientierungskraft des
Polyiniidharzfilms.
Es wurde bereits gesagt, daß vor dem Versiegeln und miteinander Verbinden der Elektrodenplatten die
Abdichtsubstanz auf nur einer der beiden Platten oder auf beiden Platten des Elektrodenbasisplattenpaares
aufgebracht sein kann. Im letzteren Fall kann auch folgender Verfahrensschritt durchgeführt werden. Die
Abdichtsubstanz wird auf einen Teil der zu versiegelnden Bereiche einer Platte aufgebracht, während auf der
anderen Platte die Abdichtsubstanz in den Bereichen aufgebracht wird, in denen sie spiegelbildlich auf der
anderen Platte nicht vorhanden ist.
Das Flüssigkristallbehältnis, das in der beschriebenen Weise zusammengefügt ist, weist eine Eingußöffnung
für die Flüssigkristallsubstanz an irgendeiner Stelle der Elektrodenbasisplatten oder der Abdichtbereiche auf,
die während eines beliebigen Arbeitsschrittes bei der Herstellung vorgesehen wird.
Darauf wird die Flüssigkristallsubstanz, die eine positive dielektrische Anisotropie hat, in das Behältnis
durch die Eingußöffnung hineingegossen. Die Eingußöffnung wird anschließend mit einem niedrig schmelzenden
Abdichtmittel verschlossen, wozu auch niedrig schmelzende Metalle ode anorganische Substanzen, eo
vorzugsweise verglasbare Verbindungen, oder organische Materialien wie ein Epoxydharz, Polyamidharz,
Polyurethanharz, Acrylsäureharz, a-Poiyolefinharz,
eines der verschiedenen Wachse oder ein Polyesterharz gehören können, worauf die elektrooptische Zelle dann
fertig ist Das Abdichtmittel sollte vorzugsweise eine Schmelztemperatur unier 250" C haben.
Der verwendete Flüssigkrisiaa kenn chi; F.;nze!vcr-Die
folgenden Verbindungen sind als Beispiele für Np flüssig-kristalline Verbindungen genannt, die für den
oben angegebenen Zweck geeignet sind:
Anilc:
p-Alkuxybcnzyliden-p'-cyananilin der allgemeinen
Formel
Formel
RO—< O
(R = n-C„,H2m + 1. m = 1 bis 8):
p-Alkylcarboxyben7ylidcn-p'-cyananilin der allgemeinen Formel
O
RCO —χχC y—CH = N-(R
= n-C„H2m_,. hi= I bis 6):
CN
p-Alkylbenzyliden-p'-cyananilin der allgemeinen
Formel
Formel
(R =n-CmH,m.,. m = 3 bis 6):
p-Cyanbenzyliden-p'-alkoxyanilin der allgemeinen
Formel
Formel
NC -\O V-CH = N -<O V- OR
(R =n-CmH2m.,. m= 1 bis 8):
(R =n-CmH2m.,. m= 1 bis 8):
p-Cyanbenzyliden-p'-alkylanilin der allgemeinen
Formel
Formel
sowie
p-Alkoxybenzyliden-p'-alkylanilin der allgemeinen
Formel
(R1 =CMK,m + I. m= 1 bis 6.
H2 = C3-H,,..+ 1. m' = 3 bis 7):
H2 = C3-H,,..+ 1. m' = 3 bis 7):
13
Biphenyle:
p-Alkyk p-Alkoxy-, p-(p-Alkylphenyl)-, p-(p-Alkoxyphenyl)-
oder p-Benzoxy-p'-cyanbiphenyl der allgemeinen Formel
OC1nH21n + 1,
O VOCH111 + 1,
m = 5 bis 15, m' = 2 bis 24):
Azoxybenzole:
p-Alkyl-p'-alkylazoxybenzol der allgemeinen Formel
O V-N=N
(R1R2 = n-C„H2m + I, m = 2bis7);
Benzoate:
p-Cyanophenyl-p'-n-alkylbenzoat der allgemeinen
Formel
CN
= 3bis8);
p-Cyanphenyl-p'-alkoxybenzoat der allgemeinen
Formel
RO--<^o\-C00-^oV-CN
(R = CHl + I- "i = 4 bis 7);
p-Alkoxyphenyl-p'-cyanbenzoat der allgemeinen
Formel
NC-(OV-COO-(OV-OR
(R = C,Hi„„, »ι =4 bis 7)
sowie
p-Alkylphenyl-p'-cyanbenzoat der allgemeinen Formel
p-Alkylphenyl-p'-cyanbenzoat der allgemeinen Formel
'O\-R
(R = CnH2m + |. "i = 4 bis 8|:
Azo-Verbindung:
p-Cyan-p'-iilkoxya/obcn/ol der allgemeinen Formel
NC- (O/N — N - C
>■ OR (R -CJIl.,. w = 4 bis 71.
Beispiele für Nn flüssig-kristalline Verbindungen sind p-Methoxybenzyliden-p'-nbutylanilin und p-Äthoxybenzyliden-p'-n-butylanilin.
Diese Verbindungen werden in einer flüssig-kristallinen Masse verwendet, die als
Ganzes positive dielektrische Anisotropie aufweist, durch Hinzufügung von zumindest einer Np flüssig-kristalJinen
Verbindung von hoher positiver dielektrischer Anisotropie.
Die Gleichmäßigkeit der anfänglichen Ausrichtung dieses nematischen nüssig-kristallinen Materials mit
positiver dielektrischer Anisotropie kann weiter verbesseit werden durch Hinzufügung einer optisch aktiven
Verbindung, wie z. B. einer Cholesterylverbindung, oder eines einen optisch aktiven Substituenten aufweisenden
Biphenylderivats, Phenylbenzoatderivats, Benzylidenanilinderivats oder Azoxybenzolderivats in einer Menge
is von 0,01 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das nematische
flüssig-kristalline Material.
Die elektrooptische Zelle nach der Erfindung kann sehr wirkungsvoll in Verbindung mit einem Polarisator
verwendet werden, etwa einer linear polarisierenden Platte oder einer zirkulär polarisierenden Platte, einer
reflektierenden Platte und dergleichen, um damit eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung zu erstellen der Feldeffekt-Twist-Type,
die mit Vorteil in Verbindung mit verschiedensten Anzeigeapparaturen verwendet werden
kann wie elektronischen Tischrechnern, verschiedensten Uhren und Zähltafelanzeigen.
Um Eigenart und Anwendungsbereich der Erfindung noch deutlicher zu erläutern, werden nachfolgend
praktische Beispiele aufgeführt in Verbindung mit Vergleichsbeispielen. Die Angabe der »Teile« erfolgt in
den Beispielen stets als Gewichtsteile.
Als Elektrodenbasisplatten werden Glasplatten mit einem elektrisch leitenden Film aus Zinnoxid auf einer
Fläche bedampft, die zuvor mit dem gewünschten Muster geätzt und dann nach gewöhnlichem Verfahren
gewaschen wurde, womit ein Elektrodenbasisplattenpaar hergestellt ist. Ein Siliziummonoxidfilm von 0,2 μ
Dicke wird durch Bedampfen auf die Oberfläche aufgebracht, die die Leiterfilmschicht trägt, womit eine
anorganische Schicht als Schutz des Elektrodenfilms gebildet ist. Anschließend wird eine l%ige Lösung in
N-Methylpyrrolidon eines Polysäureamids, das eine Vorstufe eines Polyimids ist und das aus Polyaddition
von pyromellitischem Anhydrid und 4,4'-Diaminodiphenyläther gewonnen wird, als Schicht auf die Elektrodenschutzschicht
außer in den für die Versiegelung vorgesehenen Bereichen im Wirbelbeschichtungsverfahren
aufgebracht Nach dieser Beschichtung werden die Elektrodenplatten bei 25O0C während 30 Minuter
erhitzt, was zu einer Dehydrierung und zum Schließer der Ringverbindungen führt, wodurch auf den Elektro·
denbasisplatten ein Polyimidfilm hergestellt ist
Anschließend erhält der Polyimidfilm auf der Basisplatten durch Reiben mit einem Stoff in einei
Richtung seine Orientierung. Danach werden zehn Teilt einer Glasschmelze mit einem Erweichungspunkt be
380°C und drei Teile einer 3%igen Lösung voi
Mi Äthylzellulose in Butylcarbitol miteinander vermischt
so daß sie eine Art Farbgemisch geben, und diese Farbgemisch wird dann auf den Siegelungsstellen de
Elektrodenbasisplatten im Siebdruckverfahren aufge druckt. Bei 200°C werden die Elektrodenbasisplattei
fc-, dann 10 Minuten lang getrocknet.
Jeweils ein Paar dieser so behandelten Platten win dann mit der, beschichteten Flächenseiten, wo di
Polyimidfilme auf den Innenseiten einander zugcwand
sind, die Orientierungsrichtungen haben, welche im
rechten Winkel zueinander stehen, unter Hitze und Druck bei 450°C 10 Minuten lang aufeinandergepreßt
und so verklebt
Anschließend wird dann in den Zwischenraum zwischen den beiden Platten durch die offengelassene
Eingußöffnung die Flüssigkristallmischung A eingegossen, die aus
50 Teilen p-Methoxybenzyliden-p'-Butylanilin,
50 Teilen p-Äthoxybenzyliden-p'-n-Butylanilin,
60 Teilen p-n-Propoxybenzyliden-p'-Cyanoanilin
50 Teilen p-Äthoxybenzyliden-p'-n-Butylanilin,
60 Teilen p-n-Propoxybenzyliden-p'-Cyanoanilin
und
5 Teilen p-n-Amylbenzyliden-p'-Cyanoanilin
5 Teilen p-n-Amylbenzyliden-p'-Cyanoanilin
besteht sowie eine Flüssigkristallmischung des Materials (B), die durch Hinzufügen von 0,02 g von ( + )
p-Isoamyloxy-p'-Cyanobiphenyl zu 10 g der Mischung (A) gewonnen wird, woraufhin die Eingußöffnung
zwischen den Platten mit einem Epoxyharz verschlossen wird. Auf diese Weise werden elektrooptische
Zellen (1) und (2) hergestellt Auf den gegenüberliegenden Rächen dieser beiden elektrooptischen Zellen
werden linear polarisierende Platten angebracht deren Polarisationsrichtung parallel zur Orientierungsrichtung
der an sie angrenzenden Elektrodenbasisplatten verlaufen, womit die gesamte Anzeigeanordnung
fertiggestellt ist
In einer solchen Anzeigeanordnung sorgt die elektrooptische Zelle nach der Erfindung für gleichmäßigen
Kontrast und einen weiten Sichtbarkeitswinkel. Nachdem die Vorrichtung 1000 Stunden lang bei einer
Temperatur von 50° und einer hohen relativen Feuchtigkeit von 90% belassen war, zeigte sich keinerlei
Verringerung der Orientierung, noch konnte eine Änderung im Temperaturbereich einer Flüssigkristallphase
beobachtet werden. Dies zeigt die außerordentlich gute Zuverlässigkeit und Haltbarkeit der erfindungsgemäßen
Vorrichtung. Es wurden außerdem Anzeigevorrichtungen der reflektierenden Art in der
Weise erstellt daß eine Reflektorplatte an der Außenseite einer polarisierenden Platte der beiden
genannten Anzeigevorrichtungen angeordnet wurde. Die so erhaltenen beiden Anzeigevorrichtungen zeigen
ebenfalls ausgezeichnete Werte und Eigenschaften.
Glasplatten für Elektrodenbasisplatten mit elektrisch leitenden Filmen aus Indiumoxid wurden durch
Bedampfen ihrer Oberflächen auf einer Seite, die mit dem speziellen Muster geätzt und dann gewaschen
waren, im bekannten Verfahren hergestellt, womit zwei Paare Elektrodenbasisplatten vorlagen. Ein 04 μ dicker
Magnesiumrloridfilm wurde durch Aufdampfen über die elektrisch leitenden Filme auf die Elektrodenbasisplatten
ils Elektrodenschutzschicht aufgebracht Anschließend wurden die elektrooptischen Zellen nach den
bereits im Beispiel 1 erläuterten Verfahrensschritten fertig gestellt und zu Anzeigevorrichtungen gemäß
Beispiel I zusammengefügt. Diese Anzeigevorrichtungen hatten ähnlich gute Eigenschaften wie die des
Beispiels 1.
Glasplatten für Elektrodenbasisplatten werden mit einem elektrisch leitenden Film aus Indiumoxyd durch
Bedampfen auf einer I lache beschichtet und in dem gewünschten Muster geätzt und gewaschen, was mit
eewöhnlichen Vcrfahrcnsschrittcn erfolgt, so daß dann
ein Elektrodenbasisplattenpaar vorliegt Eine zweiprozentige
wäßrige Lösung von Kieselsäureanhydrid/Lithiumoxyd
(in einem Molverhältnis von 4) wird auf die Oberflächen, die den elektrisch leitenden Film tragen,
durch Wirbelbeschichtung aufgebracht und während einer 24stündigen Erhitzung bei 100° getrocknet,
wodurch eine Elektrodenschutzschicht entsteht Anschließend werden zehn Teile einer Glasschmelze mit
einem Erweichungspunkt von 370° C und zwei Teile
ίο einer 3%igen Lösung von Äthylzellulose in Butylcarbitol
zusammengemischt und im Siebdruckverfahren auf die Stellen der Elektrodenschutzschicht aufgedruckt, die
die Abdichtstellen bilden sollen. Daraufhin werden die Elektrodenbasisplatten bei einer Temperatur von 300
bis 500° C während einer Stunde erhitzt um die organischen Bestandteile aus der aufgedruckten Substanz
zu vertreiben.
Nun wird eine 0,5%ige Lösung eines Polysäureamid in Dimethylazeton, die eine Vorstufe eines Polyimid ist
:o und die aus einer Polyaddition von pyromellitischem
Anhydrid und 4,4'-Diaminodiphenylmethan gewonnen wurde, auf die Elektrodenschutzschichten aufgebracht
außer an den Stellen, an denen die Abdichtung erfolgen soll, und zwar mit Wirbelbeschichtung. Nach dieser
α Beschichtung werden die Elektrodenbasisplatten mit
250° 30 Minuten lang wärmebehandelt so daß die Dehydridierung erfolgt und die Bindungsringe sich
schließen und damit ein Polyimidfilm entsteht, der die Elektrodenschutzschichten bedeckt außer an den
Abdichtbereichen.
Nun folgt das Orientieren der Polyimidfilme auf den Elektrodenbasisplatten durch Reiben mit einem Stoffstück
in einer Richtung. Darauf wird das Plattenpaar mit den mit Polyimidfilm beschichteten Seiten einander
zugewandt derart daß die Orientierungsrichtungen einen rechten Winkel miteinander einschließen, und die
Platten dann durch Verkleben unter Hitze und Druck bei 460° C während zehn Minuten fest miteinander
verbunden.
In den Zwischenraum zwischen den Platten wird durch eine offengelassene Eingußöffnung ein Mischflüssigkristall
eingegossen, das aus
40 Teilen p-Methoxy-Benzyliden-p'-n-Butylanilin,
60 Teilen p-Ethoxybenzyliden-p'-n-Butylanilin,
4' 20 Teilen n-Butoxyphenyl-p'-Cyanobenzoat,
60 Teilen p-Ethoxybenzyliden-p'-n-Butylanilin,
4' 20 Teilen n-Butoxyphenyl-p'-Cyanobenzoat,
10 Teilen p-n-Amyloxyphenyl-p'-Cyanobenzoat
und
5 Teilen n-Propylbenzyliden-p'-Cyanoanilin
5 Teilen n-Propylbenzyliden-p'-Cyanoanilin
besteht, eingefüllt und die Eingußöffnung dann mit einem Epoxydharz verschlossen. Damit ist die elektrooptische
Zelle gemliß Erfindung hergestellt
Gleich wie in Beispiel 1 wird nun eine Anzeigevorrichtung mit dieser optischen Zelle aufgebaut, die gleich
hervorragende Ergebnisse zeigte wie beim Beispiel 1.
Glasplatten für Elektrodenbasisplatten, die im Bedampfungsverfahren
einen Indiumoxyd-Leiterftlm er-Mi
halten haben, werden auf der bedampften Fläche geätzt, so daß sie das gewünschte Muster haben, und dann wie
gewöhnlich gewaschen, so daß ein Elektrodenbasisplattenpaar
vorliegt. Eine 5%igc Lösung eines Glasharzes in Äthylalkohol wird nur in den für die Abdichtung
vorgesehenen Zonen auf die Elektrodenbasisplatten als Schicht aufgebracht. D'ise Beschichtung wird dann
durch Erwärmen auf 100" während 24 Stunden gehärtet und so eine Elektrodenschutzschicht gebildet. Danach
wird wie beim Beispiel 3 die elektrooptische Zelle
fertiggestellt In gleicher Weise wie beim Beispiel 1 wird dann mit der elektrooptischen Zelle eine Anzeigevorrichtung
aufgebaut, und es zeigte sich, daß mit dieser Zelle die gleich hervorragenden Eigenschaften wie beim
Beispiel 1 erzielt wurden.
Zur Bildung einer Elektrodenschutzschicht wird auf die mit der elektrisch leitfähigen Filmschicht versehenen
Oberfläche eines Elektrodenbasisplattenpaares Magnesiumfluorid (MgF) aufgedampft Nachher wird
Glasschmelzmasse mit einem Erweichungspunkt von 3700C mit einem organischen Bindemittel gemischt, das
aus einer 2T5%igen Lösung von Äthylzellulose in
Butylcarbitol besteht, und diese Mischung im Seidensiebdruckverfahren
auf die Abdichtbereiche der Elektrodenschutzschicht aufgedruckt Die Elektrodenbasisplatten
werden im Anschluß daran auf eine Temperatur von 300 bis 5000C erhitzt, womit das organische
Bindemitiei aus der Giasschmeizsubstanz ausgetrieben und die Glasschmelze an den Abdichtstellen der
Elektrodenschutzschicht aufgebacken wird.
Eine 3%ige Lösung in Dimethylacetamid eines Polysäureamids, das eine Vorstufe eines Polyimids ist
und aus der Polyaddition fines pyromellitischen Anhydrids und 3,3'-Diamino-Benzanilid entstanden ist,
wird auf die Eiektrodenschutzschichten im Wirbelschichtverfahren aufgebracht mit Ausnahme an den
Abdichtstellen. Nach dieser Beschichtung erfolgt eine Heißbehandlu'2 bei 200° C während einer Stunde, und
dabei erfolgt die Dehydridierur«? und die vollständige
Ringbildung, so daß ein Polyimidfilm auf den Elektrodenbasisplatten entsteht
Die Orientierung des Polyimidiilms geschieht durch
Reiben mit einem Stoffstück in einer Richtung. Die so behandelten Platten werden mit ihren beschichteten
Flächen, die innen den Polyimidfilm tragen, zueinander gerichtet, so daß ihre Orientierungsrichtungen einen
rechten Winkel miteinander einnehmen, und dann bei einer Temperatur von 4100C während fünf Minuten im
Heißpreßverfahren miteinander verklebt
Durch eine zuvor offengelassene Eingußöffnung wird dann in den Zwischenraum zwischen die Platten eine
Flüssigkristallmischung eingegossen, die aus
10 Teilen p-n-Hexylbenzyliden-p'-Cyanoanilin und
40 Teilen p-n-Propylbenzyliden-p'-Cyanoanilin
besteht. Darauf wird die Eingußöffnung mit einem Silikonharz abgedichtet Die elektrooptische Zelle ist dann fertig. Diese Zelle wurde tausend Stunden lang bei 500C und der hohen relativen Feuchtigkeit von 90% geprüft und zeigte am Ende keinen Abfall der Orientierung, keine Verringerung im NI-Punkt und keine Steigerung im elektrischen Energieverbrauch. Daraus können die hervorragenden Eigenschaften der Zelle gezeigt werden.
besteht. Darauf wird die Eingußöffnung mit einem Silikonharz abgedichtet Die elektrooptische Zelle ist dann fertig. Diese Zelle wurde tausend Stunden lang bei 500C und der hohen relativen Feuchtigkeit von 90% geprüft und zeigte am Ende keinen Abfall der Orientierung, keine Verringerung im NI-Punkt und keine Steigerung im elektrischen Energieverbrauch. Daraus können die hervorragenden Eigenschaften der Zelle gezeigt werden.
Im selben Verfahren wie im Beispiel 5 wurde eine elektrooptische Zelle hergestellt, außer daß statt des
Polyamidlmidfilms eine Lösung eines Polysäureamid verwendet wurde, die eine Vorstufe eines Polyesterimid
ist und die durch Polyaddition von 4,4'-Diaminodiphenyläther und eines aromatischen Karboxylsäuredianhydrid
gewonnen wurde, welches aus Hydrochinon und ttimellitischem Anhydrid erhalten wurde; diese Substanz
wurde auf die Elektrodenbasisplatten aufgetragen und zusammen mit den Basisplalten erhitzt, damit die
Dehydrierung und die Ringbildung eintritt und der Polyesterimidfilm gebildet wird.
Die so erhaltene Zelle zeigte ausgezeichnete Eigenschaften ähnlich denen des Beispiels 5.
Zwei elektrooptische Zellen wurden nach dem Verfahren wie beim Beispiel 1 hergestellt, außer daß
eine Elektrodenschutzschicht aus Siliziumdioxyd mit
ίο einer Dicke von 0,5 μ statt der Siliziummonoxydfilmschicht
auf der gesamten Oberfläche ausgebreitet wurde, die mit den Elektrodenfilmen der Elektrodenbasisplatten
versehen ist, wobei die Siliziumdioxydelektrodenschutzschicht
dadurch erzeugt wird, daß eine
li, flüssige Substanz aus Polyvinylbutyral und Phosphorpentoxyd
in einer Reaktionslösung von Eisessigsäure, Tetrachlorosilan und Äthylalkohol auf die Elektrodenbasisplatten
im Wirbelschichtverfahren aufgebracht wird und nach dem Trocknen die Platten auf 3500C
erhitzt werden.
Dann wurden wie beim Beispiel 1 Anzeigevorrichtungen
mit diesen elektrooptischen Zellen hergestellt, worauf sich zeigte, daß diese Zellen ausgezeichnete
Eigenschaften und hohe Zuverlässigkeit haben, wie es beim Beispiel 1 bereits der Fall war.
Wenn statt der obengenannten Substanz eine flüssige Substanz aus Polyvinylacetal und Phosphorpentoxyd in
einer Reaktionslösung von Propionsäure, Monomethyltrichlorsilan und Methylalkohol verwendet wird, haben
die damit hergestellten elektrooptischen Zellen gleichermaßen hervorragende Eigenschaften.
Vergleichsbeispiel 1
Ein Elektrodenbasisplattenpaar, deren Platten aus einer Glasplatte und einer elektrisch leitenden Filmschicht
aus Indiumoxyd auf der einen Seite hergestellt sind, wird mit einem besonderen Muster geätzt und
dann in gewöhnlicher Weise gev/pschen, so daß ein Elektrodenbasisplattenpaar entsteht. Diese Platten
werden durch Eintauchen in eine 0,5%ige wäßrige Lösung von Polyoxyäthylen-Nonylphenyläther als
Orientierungsmittel getaucht und durch Erhitzen in Vakuum anschließend getrocknet. Die Oberfläche
dieser beschichteten Platte wird mit einem Stück Stoff in einer Richtung gerieben, so daß sie eine Orientierung
hat Die Orientierung dieses Films konnte einer Temperatur von 2500C nicht standhalten, so daß es
nicht möglich war, diese Elektrodenbasisplatten mit einem anorganischen Abdichtmittel zu verschließen,
ohne daß die Orientierung verloren ging. Es wurde deshalb ein Nylonfilm mit einer Dicke von 20 μ
zwischen das Elektrodenbasisplattenpaar eingelegt, und diese Platten wurden dann unter gegenseitiger Ausrichtung
ihrer Orientierungen senkrecht zueinander durch Heißverpressen bei 1100C miteinander verklebt.
In die dabei belassene Eingußöffnung wurde ein Mischflüssigkristall eingegossen, das zu 50 Teilen aus
p-Äthoxybenzyliden-p'-n-Butylanilin und 5 Teilen
p-n-Propylbenzyliden-p'-Cyanoanilin besteht, eingegossen
und die Eingußöffnung dann mit einem Epoxydharz verschlossen. Damit erhielt man eine elektrooptische
Zelle. Des weiteren wurde damit eine Anzeigevorrichtung wie im Beispiel 1 hergestellt.
,,-, Nachdem diese Anzeigevorrichtung 24 Stunden lang
bei einer Temperatur von 5O0C und der hohen relativen Feuchtigkeit von 90° gelassen worden war, war die
Orientierung vollständig verschwunden, während der
Energieverbrauch an elektrischer Leistung auf den vierfachen Wen angestiegen war.
Vergleichsbeispiel 2
In gleicher Weise wie im Beispiel 5 wurde ein Eiektrodenbasisplattenpaar zubereitet Es wurde dann
dieselbe Drucksubstanzzusammensetzung wie beim Beispiel 5 direkt auf die abzudichtenden Bereiche der
Elektrodenbasisplatten ohne eine Elektrodenschutzschicht im Siebdruckverfahren aufgedruckt Anschließend
wurden die Elektrodenbasisplatten auf eine Temperatur von 300 bis 5000C aufgeheizt, um die
organischen Substanzen aus der aufgedruckten Zusammensetzung auszutreiben und damit die Glasschmelze
auf den Abdichtbereichen der Elektrodenbasisplatten festzubacken. Hierbei wurden die Elektroden vom
Abdichtmittel zerstört, so daß es nicht mehr möglich war, dem Flüssigkristall das elektrische Feld zuzuführen.
Vergleichsbeispiel 3
Glasplatten als Elektrodenbasisplatten mit elektrisch leitenden Filmen aus Indiumoxyd, die auf einer Seite der
Plattenoberflächen aufgedampft waren, wurden in speziellen Mustern geätzt und in üblicher Weise gespült,
so daß ein Paar Elektrodenbasisplatten entstand.
Darauf wurde eine 5% ige Lösung eines Polysäureamid in Dimethylacetamid, einer Vorstufe eines
Polyimid, die durch eine Polyaddition von pyromellitischem Anhydrid und 4,4'-Diaminodiphenyläther gewonnen
wurde, im Wirbelbeschichtungsverfahren auf die Elektrodenbasisplatten aufgebracht Nach dieser Beschichtung
wurden die Elektrodenbasisplatten 30 Minuten lang bei 250° heißbehandelt, damit die
Dehydrierung und die Ringbildung vor sich ging und ein Polyimidfilm auf den Elektrodenbasisplatten gebildet
wurde. Anschließend wurde dieselbe Drucksubstanz wie im Beispiel 5 unmittelbar auf die Abdichtbereiche der
Elektrodenbasisplatten im Seidensiebdruckverfahren
ίο aufgedruckt, ohne daß zum Schutz der Elektrode eine
Schicht eines anorganischen Materials zwischengefügt worden war. Durch Erhitzen auf eine Temperatur von
150° C während 10 Minuten sind die Elektrodenbasisplatten dann getrocknet worden.
Durch Reiben in einer Richtung mit einem Stück Stoff wurden die Elektrodenbasisplatten dann mit bestimmter
Orientierung versehen. Ein Paar derartiger Platten wurde mit den Polyimidfilmen nach innen und in
rechtwinkliger Ausrichtung der Orientierung der beiden Platten zueinander verklebt, in dem während 10
Minuten bei einer Temperatur von 4«aiJC ein Druck
darauf ausgeübt wurde. Die weitere Herstellung der elektrooptischen Zelle erfolgt dann wie beim Beispiel 5.
Die so gebildete elektrooptische Zelle hatte zvar
einen guten Sichtbarkeitswinkel und guten Kontrast, wegen dej Fehlens der Elektrodenschutzschicht war
jedoch ihre Wärmewiderstandsfähigkeit und Stärke weniger gut Ein Wärmeschocktest bei einer Temperatur
von 0 bis 80° C ließ in den Abdichtbereichen Risse entstehen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (12)
1. Elektrooptische Zelle mit durch Feldeffekt gesteuerter Flüssigkristallanzeige mit einem nernatischen
Flüssigkristall positiver dielektrischer Anisotropie, die ein Elektrodenbasisplattenpaar aufweist,
bestehend aus transparenten Platten, an deren einander zugewandten Oberflächen je eine Elektrodenschicht
und darauf eine Orientierungsschicht zur homogenen Orientierung der Flüssigkristallmoleküle
haftet, bei der die Elektrodenbasisplatten mittels einer anorganischen Abdichtsubstanz in den Randbereichen
miteinander verbunden sind und bei der die Orientierungsrichtungen auf den beiden Platten
einen von Null verschiedenen Winkel miteinander einschließen, dadurch gekennzeichnet,
daß die mit den Elektroden (3) bedeckten Plattenoberflächen wenigstens in den Randzonen dieser
Oberflächen mit anorganischen Elektrodenschutzschichter. (4) bedeckt sind, auf die dann die
Abdichtsubstanz (6) aufgebracht ist, und daß die an den Flüssigkristall (7) angrenzenden Oberflächen
Polyimidharzschichten (5) tragen, die in jeweils einer bestimmten Richtung orientiert sind.
2. Zelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die anorganischen Ek-ktrodenschutzschichten
(4) sich über die gesamte Oberfläche der Elektrodenschichten (3) auf den Elektrodenbasisplatten (2)
erstrecken und daß die Polyimidharzschichten (5) auf den anorganischen Elektrodenschutzschichten (4)
angeordnet sind.
3. Zelle nach Ansprui.i 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß de anorganischen Elektrodenschutzschichten
(4) aus einen Glaswerkstoff bestehen, nämlich Siliziumdioxid, Siliziummonoxid, Magnesiumflorid,
Aluminiumoxid, Lithium-Siliziummischoxid und/oder einem Mischoxid daraus.
4. Zelle nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die anorganischen Elektrodenschutzschichten
(4) aus einem glasartigen Werkstoff bestehen, der durch Trocknen und Erhitzen einer
siliziumhaltigen Substanz gebildet ist, die c/ne
Lösung einer Siliziumverbindung, einer glasbildenden Verbindung und einer organischen, filmbildenden
Verbindung ist
5. Zelle nach einem der Ansprüche 1 bis 4, gekennzeichnet durch eine Dicke der Elektrodenschutzschichten
(4) zwischen 0,005 und 10 μ.
6. Zelle nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die anorganische Abdichtsubstanz
(6) eine bei einer Temperatur bis zu 5000C abdichtende Glasschmelze ist.
7. Zelle nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Polyimidharzschichten
(5) zwischen 0,01 und 10 μ beträgt
8. Zelle nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie eine Eingießöffnung für die
Flüssigkristallsubstanz hat, die sich im Bereich der Elektrodenbasisplatten (2) und der anorganischen
Abdichtsubstanz (6) befindet und mit einem bei niedriger Temperatur schmelzenden Abdichtmittel
verschlossen ist
9. Zelle nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das bei niedriger Temperatur schmelzende
Abdichtmittel ein Metall mit niedrigem Schmelzpunkt, eine anorganische Verbindung mit niedrigem
Schmelzpunkt und/oder eine organische Substanz
wie Epoxydharz, Polyimidharz, Polyurethanharz,
Acrylharz, Polyolefinharz, Polyesterharz oder ein Wachs ist
10. Verfahren zur Herstellung einer elektrooptischen Zelle- nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß auf die anorganische Elektrodenschutzschicht zumindest einer der beiden
Elektrodenbasisplatlen im Randbereich die anorganische Abdichtsubstanz aufgetragen wiri und daß
dann die beiden Elektrodenbasisplatten mit dem dazwischen befuidlichen anorganischen Abdichtmittel
aufeinander gelegt und daraufhin Hitze sowie Druck ausgesetzt werden.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrodenbasisplatten mit
einer verglasbaren Beschichtungssubstanz beschichtet und die Beschichtung dann getrocknet und
erhitzt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß auf die Elektrodenbasisplatten
eine glasartige anorganische Substanz aufgedampft wird.
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH623660A5 (de) * | 1977-12-16 | 1981-06-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
JPS5495264A (en) * | 1978-01-11 | 1979-07-27 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display element |
CH629002A5 (en) * | 1979-05-04 | 1982-03-31 | Ebauches Electroniques Sa | Passive electrooptic display cell and method for manufacture thereof |
DE3010449A1 (de) * | 1980-03-19 | 1981-09-24 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Feldeffekt-fluessigkristall-anzeigevorrichtung |
US4402999A (en) * | 1980-05-22 | 1983-09-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of preparation of substrates for liquid crystal display devices |
DE3107519A1 (de) * | 1981-02-27 | 1982-09-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | "verfahren zur herstellung von orietierungsschichten fuer fluessigkristalldisplays sowie orientierungsschichten aufweisende fluessigkeitskristalle" |
DE3107520A1 (de) * | 1981-02-27 | 1982-09-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | "verfahren zur herstellung von orientierungsschichten fuer fluessigkristalldisplays sowie orientierungsschichten aufweisende fluessigkristalldisplays" |
DE3107633A1 (de) * | 1981-02-27 | 1982-09-16 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung duenner polyimidschichten" |
US4456638A (en) * | 1981-04-06 | 1984-06-26 | Polytronix, Inc. | Polymer packaging material for liquid crystal cell |
JPS588779A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-18 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
DE3128393C2 (de) * | 1981-07-17 | 1983-05-19 | Hitachi, Ltd., Tokyo | Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen und ihre Herstellung |
JPS5838927A (ja) * | 1981-09-01 | 1983-03-07 | Alps Electric Co Ltd | 液晶セルの製造方法 |
JPS5860729A (ja) * | 1981-10-07 | 1983-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
US4556288A (en) * | 1981-10-27 | 1985-12-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device with anti-reflection function in dielectric layer |
US4560240A (en) * | 1981-10-30 | 1985-12-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device with anti-reflection function in electrode |
US4500171A (en) * | 1982-06-02 | 1985-02-19 | Texas Instruments Incorporated | Process for plastic LCD fill hole sealing |
JPS5974928U (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-21 | 豊田工機株式会社 | 部品収納装置 |
US4709991A (en) * | 1983-04-26 | 1987-12-01 | Seiko Epson Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display with barrier layer to reduce permeability |
US5682884A (en) * | 1983-05-05 | 1997-11-04 | Medisense, Inc. | Strip electrode with screen printing |
US5509410A (en) * | 1983-06-06 | 1996-04-23 | Medisense, Inc. | Strip electrode including screen printing of a single layer |
US4561726A (en) * | 1983-07-29 | 1985-12-31 | At&T Bell Laboratories | Alignment of ferroelectric LCDs |
JPH0718995B2 (ja) * | 1985-02-19 | 1995-03-06 | キヤノン株式会社 | 液晶素子 |
US4702563A (en) * | 1985-04-15 | 1987-10-27 | Robert Parker | Battery tester including textile substrate |
US4904056A (en) * | 1985-07-19 | 1990-02-27 | General Electric Company | Light blocking and cell spacing for liquid crystal matrix displays |
JP2640097B2 (ja) * | 1986-03-20 | 1997-08-13 | セイコー電子工業株式会社 | 多色表示装置 |
JPH06100755B2 (ja) * | 1986-06-18 | 1994-12-12 | 日産化学工業株式会社 | 液晶セル用配向処理剤 |
US4879059A (en) * | 1986-09-02 | 1989-11-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device |
US4816381A (en) * | 1987-07-17 | 1989-03-28 | Eastman Kodak Company | Method for fabricating PLZT light valve device |
US4998805A (en) * | 1988-02-19 | 1991-03-12 | Eastman Kodak Company | Elimination of field-induced instabilities in electrooptic modulators |
JPH0731326B2 (ja) * | 1988-06-01 | 1995-04-10 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
JP2767836B2 (ja) * | 1988-11-07 | 1998-06-18 | 日産化学工業株式会社 | 強誘電性液晶素子 |
DE3837826A1 (de) * | 1988-11-08 | 1990-05-10 | Nokia Unterhaltungselektronik | Verfahren zum beschichten einer substratplatte fuer eine fluessigkristallzelle |
JP2758693B2 (ja) * | 1990-04-18 | 1998-05-28 | 信越化学工業株式会社 | 光アイソレータおよびその製造方法 |
US6288764B1 (en) * | 1996-06-25 | 2001-09-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device or electronic device having liquid crystal display panel |
EP1009782A1 (de) * | 1997-01-21 | 2000-06-21 | Case Western Reserve University | Verfahren zur flüssigkristallorientierung, ohne schwabbelung, mit polyionomerbeschichtung |
JP3939140B2 (ja) * | 2001-12-03 | 2007-07-04 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
JP3729262B2 (ja) * | 2002-08-29 | 2005-12-21 | セイコーエプソン株式会社 | エレクトロルミネセンス装置及び電子機器 |
JP3997888B2 (ja) * | 2002-10-25 | 2007-10-24 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 |
US8199286B2 (en) * | 2004-07-29 | 2012-06-12 | Kent State University | Polymer stabilized electrically controlled birefringence transflective LCD |
EP1879209B1 (de) * | 2006-03-31 | 2011-03-16 | Panasonic Corporation | Plasmaanzeigetafel |
US20080083449A1 (en) * | 2006-10-06 | 2008-04-10 | Solyndra, Inc., A Delaware Corporation | Sealed photovoltaic apparatus |
KR20090028334A (ko) * | 2007-09-14 | 2009-03-18 | 삼성전자주식회사 | 나노와이어 그리드 편광자 및 그 제조 방법 |
JP5915535B2 (ja) * | 2011-09-20 | 2016-05-11 | 日本電気硝子株式会社 | 液晶素子及び液晶素子用セル |
CN103353692B (zh) * | 2013-06-28 | 2016-06-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制备方法和显示装置 |
DE102017119280A1 (de) | 2017-08-23 | 2019-02-28 | Heraeus Noblelight Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Polyimidschicht auf einem Substrat |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2238429B2 (de) * | 1971-08-11 | 1976-01-08 | Ing. C. Olivetti & C., S.P.A., Ivrea, Turin (Italien) | Multiplex-Steuerungsschaltung |
US3700306A (en) * | 1971-09-22 | 1972-10-24 | Ncr Co | Electro-optic shutter having a thin glass or silicon oxide layer between the electrodes and the liquid crystal |
US3836231A (en) * | 1971-09-30 | 1974-09-17 | Gen Electric | Uniform liquid crystal cells and method for making the same |
GB1401404A (en) * | 1972-07-21 | 1975-07-16 | Citizen Watch Co Ltd | Liquid crystal displaying cell and method of manufacturing thereof |
US3885860A (en) * | 1973-09-27 | 1975-05-27 | Rca Corp | Fabrication of liquid crystal devices |
US3912366A (en) * | 1973-12-06 | 1975-10-14 | Ibm | Liquid crystal display assembly having polyimide layers |
JPS5419300B2 (de) * | 1974-08-29 | 1979-07-13 | ||
US3966305A (en) * | 1974-10-10 | 1976-06-29 | American Micro-Systems, Inc. | Liquid crystal cell with improved alignment |
JPS5510180B2 (de) * | 1974-12-04 | 1980-03-14 |
-
1975
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CH610667A5 (de) | 1979-04-30 |
DE2638091A1 (de) | 1977-03-10 |
HK51880A (en) | 1980-09-26 |
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