DE2454544C3 - Vakuumbeschichtungsanlage - Google Patents
VakuumbeschichtungsanlageInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vakuumbeschichtungsanlage mit einer in einer evakuierbaren
Kammer angeordneten drehbaren Transporteinrichtung für das zu beschichtende Gut, welche mehrere
Arbeitspositionen aufweist. Die verschiedenen Arbeitspositionen dienen der Durchführung der im Zuge der
Beschichtung erforderlichen Operationen, wie Ein- so schleusen des Beschichtungsgutes, Beglimmen (ζ. Β.
zwecks Erhitzung und/oder Reinigung der zu beschichtenden Flächen), Aufbringen der einzelnen Schichten
(z. B. durch Vakuumbedampfung oder Kathodenzerstäubung), Abkühlen, Ausschleusen und etwaiger sonsti- ss
ger bei der Herstellung einer Beschichtung erforderlichen Arbeitsgänge.
Es sind Vakuumbeschichtungsanlagen bekannt, bei denen das Beschichtungsgut mittels einer Transporteinrichtung
fortlaufend in eine Vakuumkammer eingeschleust, bedampft und wieder ausgebracht wird, z. B.
werden Bänder aus Kunststoffolien und Scheinwerfer in solchen Durchlaufanlagen metallisiert.
Der Nachteil der bekannten Anlagen liegt in einer aufwendigen Bauweise und oft auch darin, daß sie nur es
für ganz bestimmtes Beschichtungsgut verwendbar sind z. B. an bestimmte Formen desselben gebunden sind.
Das Aus- und Einschleusen des Beschichtungsgutes ergab oft schwierige Dichtungsprobleme, die durch
aufwendige Schleusenkonstruktionen gelöst wurden.
Der vorliegenden Erfindung liegt nun die Aufgabe zu Grunde, eine betriebssichere Vakuumbeschichtungsanlage
anzugeben, die mit geringerem Aufwand als bisherige Anlagen gebaut werden kann und es
ermöglicht, die verschiedenen Behandlungen des Gutes in gegeneinander absperrbaren Vakuumkammern
durchzuführen.
Diese Aufgabe wird durch die in Anspruch 1
angegebenen Merkmale gelöst Vorteilhafte Weiterbildungen sind aus den Unteransprüchen ersichtlich.
Wie die nachfolgende Beschreibung eines Ausführungsbeispiels zeigt, können mit der Erfindung vor allem
teure Hub- und Schwenkventile, wie sie sonst besonders bei Anlagen mit mehreren gegeneinander absperrbaren
Vakuumkammern notwendig sind, vermieden und dadurch die Kosten der Anlage wesentlich gesenkt
werden.
In der Zeichnung bedeutet 1 den Bodenteil der evakuierbaren Hauptkammer, die durch den oberen
haubenförmig ausgebildeten Teil 2 abgeschlossen wird.
In dieser Hauptkammer befindet sich die drehbare Transporteinrichtung 3 für das Beschichtungsgut,
welche nuttels der vakuumdicht durch den Boden dsr
Hauptkammer hindurchgeführten Welle 4 angetrieben wird. Die Transporteinrichtung weist im Beispielsfalle
— s. Fig.2 — vier verschiedene Arbeitspositionen auf
und ist mit vier ringförmigen Aufnahmevorrichtungen 5 bis 8 für die Träger 9 des Beschichtungsgutes
ausgerüstet Sie besitzen an der Innenseite eine Schulter
10 zur Aufnahme der hier als Kalotten ausgebildeten Träger 9 des Beschichtungsgutes und sind an der
Transporteinrichtung federnd gehaltert Dazu sind sie an ihrer Außenseite mit mehreren radialen Fortsätzen
11 versehen, mittels deren sie durch Stifte 12, die durch
Bohrungen des Tellers 3 hindurchragen, von diesem getragen werden. Die beiden Druckfedern 13 und 14 an
jedem Stift ermöglichen, wie die Zeichnung erkennen läßt, eine gewisse Verschiebung arx genannten Ringe,
vor allem in axialer Richtung.
Durch Drehen der Welle 4 können die einzelnen Aufnahmeringe nacheinander in die verschiedenen
Arbeitspositionen gebracht werden. Den einzelnen Arbeitspositionen sind getrennt evakuierbare und
gegenüber der Hauptkammer absperrbare Arbeitskammern zugeordnet, von denen die Zeichnung zwei,
nämlich 15 und 16 zeigt
Die Kammer 15 dient denn Ein- und Ausschleusen der Träger 9. Sie wird gebildet wenn sich ein Aufnahmering
— in der F i g. 1 der Ring 7 — gerade in der betreffenden
Position befindet und besteht dann aus diesem Ring, und aus dem mit dem Teil 2 der Hauptkammer verbundenen
l'eil 17, einem Deckel 18 und einer Bodenplatte 19. Letztere ist mit einer vakuumdicht durch Kammerteil 1
hindurchgeführten Hubstange verbunden. Zwischen den einzelnen Teilen der Arbeitskammer sind Ringdichtungen
vorgesehen. Beim Anheben der Platte 19 wird diese wie ein Plattenventil an den Aufnahmering 7 und
letzterer an den Kammerteil 17 angedrückt und ergibt eine gegenüber der Hauptkammer vakuumdichte
Absperrung. Die Kammer 1.1S kann dann bei geschlossenem
Deckel 18 über die Leitung 20 getrennt von der Hauptkammer evakuiert bzw. belüftet werden. Man
kann sie öffnen, während die Hauptkammer unter Vakuum steht und die zu behandelnden Gegenstände in
die Aufnahmevorrichtung einbringen z. B. eine mit Linsen zur Beschichtung beladene Trägerkalotte 9.
Natürlich kann der Träger für die zu beschichtenden Gegenstände auch anders ausgebildet sein z. B, als
ebene Platte mit öffnungen, in welche die Linsen eingesetzt sind oder an deren Unterseite sie irgendwie
befestigt sind 9 könnte auch einen als ganzes zu behandelnden Gegenstand z. B. einen zu beschichtenden
Spiegelkörper darstellen. Die vielfachen Möglichkeiten der Ausgestaltung von Trägern für zu behandelnde
Gegenstände sind bekannt und brauchen hier nicht näher beschrieben zu werden.
Nach Schließen der Schleusenkammer 15 und Wiederevakuierung kann der mit dem Gut beladene
Ring bei abgehobener Ventilplatte in eine folgende Arbeitsposition weitergedreht werden. Eine solche
weitere Arbeitsposition kann z. B. für das Aufdampfen
eingerichtet sein, wie die Kammer 16 in Fig. 1. Diese
besitzt einen eigenen Evakuierungsanschluß 21 und weist eine oder mehrere Verdampfungsquellen 22
bekannter Art auf. Sobald sich ein mit Beschichtungsgut beladener Aufnahmering — in F i g. 1 der Ring 5 — in
Bedampfungsposition befindet, kann nach vorheriger Evakuierung des Raumes, in dem die Aufdampfung
stattfindet, diese in an sich bekannter Weife durchgeführt werden.
Falls die Aufdampfkammer während der Bedampfung gegenüber der Hauptkammer bzw. etwaigen weiteren
Arbeitskammern abgesperrt werden muß — dies hängt im Einzelfalle von den in diesen weiteren Arbeitspositionen
durchzuführenden Prozessen ab, die möglicherweise eine andere Atmosphäre oder einen anderen
Gasdruck benötigen — kann auf gleiche Weise wie die Schleusenkammer 15 gebildet wurde, auch eine von der
Hauptkammer vakuumdicht absperrbare Aufdampfkammer erhalten werden, wenn das Plattenventil 23 mit
Hubstange 24 vorgesehen wird. Beim Anpressen der Ventilplatte an den in Aufdampfposition befindlichen
Aufnahmering 5 wird durch diesen zusammen mit dem Kammerteil 25, der einen abnehmbaren Boden 26
besitzt, und bei Vorsehen entsprechender Dichtungen ähnlich wie für die Schleusenkammer 15 beschrieben
wurde, ein·? vakuumdichte Kammer 16 gebildet Nach Durchführung der Bedampfung kann die Platte 23 vom
Ring 5 wieder angehoben und dieser für den Weitertransport freigegeben werden.
Entsprechend können auch bei weiteren Arbeitspositionen absperrbare eigene Arbeitskammern gebildet
werden. In diesen können z. B. weitere Einrichtungen
zum Aufbringen einer Beschichtung durch Aufdampfen oder Kathodenzerstäubung angebracht werden oder
Einrichtungen zum Heizen oder Kühlen der zu beschichtenden Substrate bzw. der Schichten, Einrichtungen
zum Beschüß der zu beschichtenden Oberflächen mit Ionen der Elektronen u.a. mehr. Für das
Ausbringen der fertigbehandelten Gegenstände aus der Anlage kann eine der Arbeitspositionen als Ausschleuskammer
ausgebildet werden; zweckmäSigerweise wird jedoch dieselbe Kammer, die zum Einschleusen dient,
auch zum Ausschleusen benutzt
Die Zahl der erforderlichen Arbeitspositionen bzw. Arbeitskammern und die Verteilung der im Zuge einer
Beschichtung durchzuführenden Arbeitsschritte auf die einzelnen Arbeitspositionen hängt außer von der Art
ίο der bei jedem Schritt durchzuführenden Prozesse auch
noch von den hierfür benötigten Zeiten ab. Mit Vorteil wird die Einteilung so getroffen, daß für jede
Arbeitsposition ungefähr dieselbe Zeit benötigt wird,
denn die längste dieser Zeiten bestimmt die sogenannte Taktzeit mit welcher bei kontinuierlicher Fertigung der
Weitertransport des Beschichtungsgutes von einer Arbeitsposition in die nächste erfolgen kann.
Die Evakuierung der Hauptkammer erfolgt entweder über einen eigenen Evakuierungsanschluß oder über
eine der Arbeitskammern mit Evakuierungsanschluß, wenn letzteres im Rahmen der vorgesehenen Arbeitstakte
möglich ist
Das erfindungsgemäße System hat den besonderen Vorteil, daß es sehr flexibel ist Je nach Bedarf können an
die Hauptkammer die verschiedensten Arbeitsksinmern angeflanscht werden, wenn entsprechende Trennflansche
vorgesehen sind; es ist zweckmäßig, wenn möglich die ganze Einrichtung einer Arbeitskammer auf einer
Flanschplatte (wie 26 in F i g. 1) aufzubauen, so daß nur diese allein ausgewechselt werden muß.
Die Aufnahmevorrichtungen müssen natürlich nicht unbedingt ringförmig sein wie im Ausführungsbeispiel,
sondern können z.B. auch einen rechteckigen Querschnitt aufweisen. In der Zeichnung wurde eine
federnde Halterung der Aufnahmevorrichtungen gezeigt: statt dessen könnte der Drehteller selbst für eine
Hubbewegung in axialer Richtung ausgebildet werden, z. B. indem die vakuumdichte Durchführung der Welle 4
in bekannter Weise für eine Dreh- und Schiebebewegung eingerichtet wird, so daß die Aufnahmevorrichtungen,
die in Arbeitsposition einen Teil der Wandung der Arbeitskammern bilden, zur Erzielung einer vakuumdichten
Absperrung an die feststehenden Teile der Arbeitskammern in axialer Richtung angepreßt werden
können. Die federnde Aufhängung der Aufnahmevorrichtungen an der Transporteinrichtung ergibt aber die
vorteilhafte Möglichkeit, sowohl an der Oberseite als auch an der Unterseite der Hauptkammer Arbeitskammern
anzuordnen, die entsprechend den in diesen Kammern durchzuführenden Prozessen nach Belieben
gegeneinander abgesperrt und unabhängig voneinander evakuiert werden können.
Claims (4)
- Patentansprüche:!, Vakuumbeschichtungsanlage zum Aufdampfen dünner Schichten auf Substrate, mit einer Eintrittskammer, weiteren Kammern zur Behandlung bzw. s Beschichtung der Substrate und mit einer Austrittskammer, sowie mit einer in einer evakuierbaren Hauptkammer angeordneten Fördereinrichtung zum Transport der Substrate durch die Kammern, wobei Abdichteinrichtungen zur zeitweisen Abdichtung zwischen den genannten Kammern und der Hauptkammer vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Fördereinrichtung (3) um eine gemeinsame Achse (4) herum angeordnete und um diese schwenkbare Rahmen (S bis 8) für die Aufnahme des zu beschichtenden Gutes (9) aufweist, wobei in wenigstens einer Behandlungsposition ein solcher Rahmen (5) selbst Teil der Wand einer Behandlungskammer bzw. Aufdampfkammer (16) bildet und daß eine bewegliche Ventilplatte (23) zum Absperren einer Stirnseite des einen Teil der Behandlungskammer (16) bildenden Rahmens (5) vorgesehen ist
- 2. Vakuumbeschichtungsanlage nach Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß beide Seiten der rahmenfönmigen Aufnahmevorrichtungen (5 bis8) mit Dichtungsflächen versehen sind, die mit Gegendichtungsflächen eines feststehenden Teiles (17,25) der Arbeitskammer und der Ventilplatte (19, 23) zusammenwirken.
- 3. Vakuumbeschichtungsanlage nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufnahmevorrichtungen (5 bis 8) an der Fördereinrichtung (3) in axialer Richtung verschiebbar gehaltert sind.
- 4. Vakuumbeschichtungsanlage nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine Schleusenkammer (15) und auf der anderen Seite der Bewegungsebene der Fördereinrichtung (3) eine weitere Arbeitskammer (16) vorgesehen ist40
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH1660273A CH573985A5 (de) | 1973-11-22 | 1973-11-22 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2454544A1 DE2454544A1 (de) | 1975-07-31 |
DE2454544B2 DE2454544B2 (de) | 1978-07-13 |
DE2454544C3 true DE2454544C3 (de) | 1979-03-29 |
DE2454544C4 DE2454544C4 (de) | 1992-07-16 |
Family
ID=4418700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19742454544 Expired - Lifetime DE2454544C4 (de) | 1973-11-22 | 1974-11-18 | Vakuumbeschichtungsanlage |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3915117A (de) |
CH (1) | CH573985A5 (de) |
DE (1) | DE2454544C4 (de) |
FR (1) | FR2252419B1 (de) |
GB (1) | GB1466790A (de) |
NL (1) | NL165224C (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3047441A1 (de) * | 1979-12-21 | 1981-08-27 | Varian Associates, Inc., Palo Alto, Calif. | Vorrichtung zum beschichten von mikroplaettchen |
DE4235677A1 (de) * | 1992-10-22 | 1994-04-28 | Balzers Hochvakuum | Kammer, mindestens für den Transport von Werkstücken, Kammerkombination, Vakuumbehandlungsanlage sowie Transportverfahren |
DE4235676A1 (de) * | 1992-10-22 | 1994-06-09 | Balzers Hochvakuum | Kammer und Kammerkombination für eine Vakuumanlage und Verfahren zum Durchreichen mindestens eines Werkstückes |
DE19642852A1 (de) * | 1996-10-17 | 1998-04-23 | Leybold Systems Gmbh | Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf dreidimensionale, schalenförmige oder prismatische Substrate |
DE4235674C2 (de) * | 1992-10-22 | 2000-12-28 | Balzers Ag Liechtenstein | Kammer für den Transport von Werkstücken in Vakuumatmosphäre, Kammerkombination und Verfahren zum Transportieren eines Werkstückes |
DE3448599B4 (de) * | 1983-11-28 | 2004-04-08 | Hitachi, Ltd. | Verfahren zur Durchführung einer Behandlung unter Vakuum |
WO2013045110A1 (de) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Manz Ag | Transporteinrichtung zum transportieren mehrerer substrate in den bereich einer substrat-behandlungseinrichtung |
Families Citing this family (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2740129A1 (de) * | 1976-09-18 | 1978-03-23 | Claude John Lancelot Hunt | Verfahren und vorrichtung zur metallbedampfung |
US4226208A (en) * | 1977-08-04 | 1980-10-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Vapor deposition apparatus |
DE2847632A1 (de) * | 1977-11-19 | 1979-05-23 | Claude John Lancelot Hunt | Vakuummetallisierungsvorrichtung |
US4313815A (en) * | 1978-04-07 | 1982-02-02 | Varian Associates, Inc. | Sputter-coating system, and vaccuum valve, transport, and sputter source array arrangements therefor |
DE2940064A1 (de) * | 1979-10-03 | 1981-04-16 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Vakuumaufdampfanlage mir einer ventilkammer, einer bedampfungskammer und einer verdampferkammer |
US5024747A (en) * | 1979-12-21 | 1991-06-18 | Varian Associates, Inc. | Wafer coating system |
JPS58197262A (ja) * | 1982-05-13 | 1983-11-16 | Canon Inc | 量産型真空成膜装置及び真空成膜法 |
US4500407A (en) * | 1983-07-19 | 1985-02-19 | Varian Associates, Inc. | Disk or wafer handling and coating system |
JPS60184678A (ja) * | 1984-03-02 | 1985-09-20 | Canon Inc | 真空処理装置 |
US4534314A (en) * | 1984-05-10 | 1985-08-13 | Varian Associates, Inc. | Load lock pumping mechanism |
JPS61291032A (ja) * | 1985-06-17 | 1986-12-20 | Fujitsu Ltd | 真空装置 |
CA1287594C (en) * | 1986-04-04 | 1991-08-13 | Miroslav Eror | Method and apparatus for handling and processing wafer like materials |
US4676884A (en) * | 1986-07-23 | 1987-06-30 | The Boc Group, Inc. | Wafer processing machine with evacuated wafer transporting and storage system |
DE3716498C2 (de) * | 1987-05-16 | 1994-08-04 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen von Werkstücken in eine Beschichtungskammer |
DE3735284A1 (de) * | 1987-10-17 | 1989-04-27 | Leybold Ag | Vorrichtung nach dem karussell-prinzip zum beschichten von substraten |
US4951603A (en) * | 1988-09-12 | 1990-08-28 | Daidousanso Co., Ltd. | Apparatus for producing semiconductors |
EP0389820B1 (de) * | 1989-03-30 | 1993-06-16 | Leybold Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen eines Werkstücks in eine Vakuumkammer |
DE4009603A1 (de) * | 1989-03-30 | 1990-10-04 | Leybold Ag | Vorrichtung zum ein- und ausschleusen eines werkstuecks in eine vakuumkammer |
US5259942A (en) * | 1989-03-30 | 1993-11-09 | Leybold Aktiengesellschaft | Device for transferring a workpiece into and out from a vacuum chamber |
IT1232241B (it) * | 1989-09-11 | 1992-01-28 | Cetev Cent Tecnolog Vuoto | Dispositivo per il caricamento veloce di substrati in impianti da vuoto |
JP3466607B2 (ja) * | 1989-09-13 | 2003-11-17 | ソニー株式会社 | スパッタリング装置 |
US5002010A (en) * | 1989-10-18 | 1991-03-26 | Varian Associates, Inc. | Vacuum vessel |
EP0448782B1 (de) * | 1990-03-26 | 1993-06-16 | Leybold Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Ein- und Ausschleusen eines Werkstücks in eine Vakuumkammer |
DE69108079T2 (de) * | 1990-03-30 | 1995-11-02 | Sony Corp | Sputteranlage. |
JP2913745B2 (ja) * | 1990-04-10 | 1999-06-28 | 松下電器産業株式会社 | 真空蒸着装置 |
DE4117969C2 (de) * | 1991-05-31 | 2000-11-09 | Balzers Ag Liechtenstein | Vakuumkammer |
CH691377A5 (de) * | 1992-10-06 | 2001-07-13 | Unaxis Balzers Ag | Kammeranordnung für den Transport von Werkstücken und deren Verwendung. |
EP0591706B1 (de) * | 1992-10-06 | 2002-04-24 | Unaxis Balzers Aktiengesellschaft | Kammer für den Transport von Werkstücken |
DE4302851A1 (de) * | 1993-02-02 | 1994-08-04 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Anbringen und/oder Entfernen einer Maske an einem Substrat |
DE4341635C2 (de) * | 1993-12-07 | 2002-07-18 | Unaxis Deutschland Holding | Vakuumbeschichtungsanlage |
NL1000138C2 (nl) * | 1995-04-13 | 1996-10-15 | Od & Me Bv | Inrichtingen voor het bewerken van een substraat alsmede werkwijze geschikt voor toepassing bij dergelijke inrichtingen. |
US5773088A (en) * | 1995-12-05 | 1998-06-30 | Materials Research Group, Inc. | Treatment system including vacuum isolated sources and method |
DE19624609B4 (de) * | 1996-06-20 | 2009-04-16 | Leybold Optics Gmbh | Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate, beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren |
DE19626861B4 (de) * | 1996-07-04 | 2009-04-16 | Leybold Optics Gmbh | Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate, beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren |
DE19742923A1 (de) | 1997-09-29 | 1999-04-01 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung zum Beschichten eines im wesentlichen flachen, scheibenförmigen Substrats |
EP0943699B1 (de) | 1998-02-19 | 2003-12-17 | Applied Films GmbH & Co. KG | Schleuseneinrichtung zum Ein- und/oder Ausbringen von Substraten in und/oder aus einer Behandlungskammer |
DE19807031A1 (de) * | 1998-02-19 | 1999-08-26 | Leybold Systems Gmbh | Schleuseneinrichtung zum Ein- und/oder Ausbringen von Substraten in und/oder aus einer Behandlungskammer |
US6184132B1 (en) * | 1999-08-03 | 2001-02-06 | International Business Machines Corporation | Integrated cobalt silicide process for semiconductor devices |
US6193804B1 (en) * | 1999-10-02 | 2001-02-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd | Apparatus and method for sealing a vacuum chamber |
WO2001072094A1 (en) * | 2000-03-20 | 2001-09-27 | Tokyo Electron Limited | High speed photoresist stripping chamber |
US6413381B1 (en) | 2000-04-12 | 2002-07-02 | Steag Hamatech Ag | Horizontal sputtering system |
US6264804B1 (en) | 2000-04-12 | 2001-07-24 | Ske Technology Corp. | System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system |
US6620252B2 (en) * | 2001-10-29 | 2003-09-16 | Thomson Licensing S.A. | Metallization module for cathode-ray tube (CRT) applications |
JP2008192642A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-21 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
DE102009018700B4 (de) * | 2008-09-01 | 2020-02-13 | Singulus Technologies Ag | Beschichtungsanlage und Verfahren zum Beschichten |
PL2409317T3 (pl) * | 2009-03-18 | 2014-06-30 | Oerlikon Advanced Tech Ag | Urządzenie do obróbki próżniowej |
US10689753B1 (en) * | 2009-04-21 | 2020-06-23 | Goodrich Corporation | System having a cooling element for densifying a substrate |
DE102009037290A1 (de) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Singulus Technologies Ag | Transporteinrichtung mit einem auslenkbaren Dichtrahmen |
DE102009060649A1 (de) * | 2009-12-22 | 2011-06-30 | EISENMANN Anlagenbau GmbH & Co. KG, 71032 | Anlage zur Oberflächenbehandlung von Gegenständen |
EP2641665A1 (de) * | 2012-03-19 | 2013-09-25 | Deceuninck NV | Verfahren in mehreren Schritten für durchgefärbte Bauelemente |
CN110218976A (zh) * | 2019-07-17 | 2019-09-10 | 南通职业大学 | 一种零部件自动镀膜装置 |
CN112206947B (zh) * | 2020-10-16 | 2021-09-28 | 泰安市力华液压设备有限公司 | 一种柱塞液压油缸喷漆加工工序用挂具及其使用方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1118869A (en) * | 1914-11-24 | Carl Kugel | Annealing furnace. | |
US1073235A (en) * | 1912-06-19 | 1913-09-16 | Hermann Hillebrand Jr | Annealing apparatus. |
US1617056A (en) * | 1926-04-10 | 1927-02-08 | Charles F Kenworthy Inc | Furnace |
CH311812A (de) * | 1951-11-05 | 1955-12-15 | Zeiss Carl Fa | Aufdampfeinrichtung. |
US2799600A (en) * | 1954-08-17 | 1957-07-16 | Noel W Scott | Method of producing electrically conducting transparent coatings on optical surfaces |
US3473954A (en) * | 1965-12-08 | 1969-10-21 | Ethyl Corp | Method and apparatus for tunnel plating |
US3568632A (en) * | 1969-03-24 | 1971-03-09 | Gary F Cawthon | Lens coating apparatus |
US3649339A (en) * | 1969-09-05 | 1972-03-14 | Eugene C Smith | Apparatus and method for securing a high vacuum for particle coating process |
US3749383A (en) * | 1971-04-29 | 1973-07-31 | Rca Corp | Apparatus for processing semiconductor devices |
US3856654A (en) * | 1971-08-26 | 1974-12-24 | Western Electric Co | Apparatus for feeding and coating masses of workpieces in a controlled atmosphere |
-
1973
- 1973-11-22 CH CH1660273A patent/CH573985A5/xx not_active IP Right Cessation
-
1974
- 1974-01-22 NL NL7400848.A patent/NL165224C/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-11-12 GB GB4882374A patent/GB1466790A/en not_active Expired
- 1974-11-18 DE DE19742454544 patent/DE2454544C4/de not_active Expired - Lifetime
- 1974-11-18 US US524865A patent/US3915117A/en not_active Expired - Lifetime
-
1975
- 1975-01-31 FR FR7503019A patent/FR2252419B1/fr not_active Expired
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3047441A1 (de) * | 1979-12-21 | 1981-08-27 | Varian Associates, Inc., Palo Alto, Calif. | Vorrichtung zum beschichten von mikroplaettchen |
DE3448599B4 (de) * | 1983-11-28 | 2004-04-08 | Hitachi, Ltd. | Verfahren zur Durchführung einer Behandlung unter Vakuum |
DE4235677A1 (de) * | 1992-10-22 | 1994-04-28 | Balzers Hochvakuum | Kammer, mindestens für den Transport von Werkstücken, Kammerkombination, Vakuumbehandlungsanlage sowie Transportverfahren |
DE4235676A1 (de) * | 1992-10-22 | 1994-06-09 | Balzers Hochvakuum | Kammer und Kammerkombination für eine Vakuumanlage und Verfahren zum Durchreichen mindestens eines Werkstückes |
DE4235674C2 (de) * | 1992-10-22 | 2000-12-28 | Balzers Ag Liechtenstein | Kammer für den Transport von Werkstücken in Vakuumatmosphäre, Kammerkombination und Verfahren zum Transportieren eines Werkstückes |
DE19642852A1 (de) * | 1996-10-17 | 1998-04-23 | Leybold Systems Gmbh | Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf dreidimensionale, schalenförmige oder prismatische Substrate |
WO2013045110A1 (de) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Manz Ag | Transporteinrichtung zum transportieren mehrerer substrate in den bereich einer substrat-behandlungseinrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2454544B2 (de) | 1978-07-13 |
NL165224C (nl) | 1981-03-16 |
CH573985A5 (de) | 1976-03-31 |
DE2454544C4 (de) | 1992-07-16 |
GB1466790A (en) | 1977-03-09 |
NL165224B (nl) | 1980-10-15 |
US3915117A (en) | 1975-10-28 |
FR2252419B1 (de) | 1980-06-06 |
FR2252419A1 (de) | 1975-06-20 |
NL7400848A (nl) | 1975-05-26 |
DE2454544A1 (de) | 1975-07-31 |
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