NL1000138C2 - Inrichtingen voor het bewerken van een substraat alsmede werkwijze geschikt voor toepassing bij dergelijke inrichtingen. - Google Patents

Inrichtingen voor het bewerken van een substraat alsmede werkwijze geschikt voor toepassing bij dergelijke inrichtingen.

Info

Publication number
NL1000138C2
NL1000138C2 NL1000138A NL1000138A NL1000138C2 NL 1000138 C2 NL1000138 C2 NL 1000138C2 NL 1000138 A NL1000138 A NL 1000138A NL 1000138 A NL1000138 A NL 1000138A NL 1000138 C2 NL1000138 C2 NL 1000138C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
devices
well
substrate processing
methods suitable
processing devices
Prior art date
Application number
NL1000138A
Other languages
English (en)
Inventor
Ronaldus Joannes Cornelis Kok
Jeroen Franciscus Landsbergen
Jan Visser
Original Assignee
Od & Me Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Od & Me Bv filed Critical Od & Me Bv
Priority to NL1000138A priority Critical patent/NL1000138C2/nl
Priority to DE69616131T priority patent/DE69616131T2/de
Priority to EP96200963A priority patent/EP0737758B1/en
Priority to US08/631,212 priority patent/US6113749A/en
Priority to JP8092524A priority patent/JPH08283939A/ja
Application granted granted Critical
Publication of NL1000138C2 publication Critical patent/NL1000138C2/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
NL1000138A 1995-04-13 1995-04-13 Inrichtingen voor het bewerken van een substraat alsmede werkwijze geschikt voor toepassing bij dergelijke inrichtingen. NL1000138C2 (nl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1000138A NL1000138C2 (nl) 1995-04-13 1995-04-13 Inrichtingen voor het bewerken van een substraat alsmede werkwijze geschikt voor toepassing bij dergelijke inrichtingen.
DE69616131T DE69616131T2 (de) 1995-04-13 1996-04-04 Verfahren zur Beschichtung eines Substrats durch Sputtern
EP96200963A EP0737758B1 (en) 1995-04-13 1996-04-04 Method of coating a substrate by sputtering
US08/631,212 US6113749A (en) 1995-04-13 1996-04-12 Sputtering method in multi-chambered device
JP8092524A JPH08283939A (ja) 1995-04-13 1996-04-15 基板を処理する装置および該装置で用いられる方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1000138A NL1000138C2 (nl) 1995-04-13 1995-04-13 Inrichtingen voor het bewerken van een substraat alsmede werkwijze geschikt voor toepassing bij dergelijke inrichtingen.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1000138C2 true NL1000138C2 (nl) 1996-10-15

Family

ID=19760878

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1000138A NL1000138C2 (nl) 1995-04-13 1995-04-13 Inrichtingen voor het bewerken van een substraat alsmede werkwijze geschikt voor toepassing bij dergelijke inrichtingen.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6113749A (nl)
EP (1) EP0737758B1 (nl)
JP (1) JPH08283939A (nl)
DE (1) DE69616131T2 (nl)
NL (1) NL1000138C2 (nl)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH693508A5 (de) * 1997-09-12 2003-09-15 Unaxis Balzers Ag Sputterstation.
US8728285B2 (en) 2003-05-23 2014-05-20 Demaray, Llc Transparent conductive oxides
US7780821B2 (en) * 2004-08-02 2010-08-24 Seagate Technology Llc Multi-chamber processing with simultaneous workpiece transport and gas delivery
KR101127370B1 (ko) 2004-12-08 2012-03-29 인피니트 파워 솔루션스, 인크. ＬｉＣｏＯ２의 증착
US7838133B2 (en) * 2005-09-02 2010-11-23 Springworks, Llc Deposition of perovskite and other compound ceramic films for dielectric applications
US8202407B1 (en) 2009-01-06 2012-06-19 Arthur Don Harmala Apparatus and method for manufacturing polycarbonate solar cells
US20100170566A1 (en) * 2009-01-06 2010-07-08 Arthur Don Harmala Apparatus and method for manufacturing polymer solar cells
US11486503B2 (en) * 2018-08-17 2022-11-01 Vat Holding Ag Assembly having at least two chambers and at least one transfer valve

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4420385A (en) * 1983-04-15 1983-12-13 Gryphon Products Apparatus and process for sputter deposition of reacted thin films
EP0136562A2 (en) * 1983-09-02 1985-04-10 Hitachi, Ltd. Continuous sputtering apparatus
JPH0192367A (ja) * 1987-10-05 1989-04-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> スパッタ装置
EP0312694A1 (de) * 1987-10-17 1989-04-26 Leybold Aktiengesellschaft Vorrichtung nach dem Karussell-Prinzip zum Beschichten von Substraten
EP0463392A1 (en) * 1990-05-31 1992-01-02 Shibaura Engineering Works Co., Ltd. An apparatus having a vacuum chamber

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH573985A5 (nl) * 1973-11-22 1976-03-31 Balzers Patent Beteilig Ag
US4125446A (en) * 1977-08-15 1978-11-14 Airco, Inc. Controlled reflectance of sputtered aluminum layers
DE3912295C2 (de) * 1989-04-14 1997-05-28 Leybold Ag Katodenzerstäubungsanlage
DE4117969C2 (de) * 1991-05-31 2000-11-09 Balzers Ag Liechtenstein Vakuumkammer

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4420385A (en) * 1983-04-15 1983-12-13 Gryphon Products Apparatus and process for sputter deposition of reacted thin films
EP0136562A2 (en) * 1983-09-02 1985-04-10 Hitachi, Ltd. Continuous sputtering apparatus
JPH0192367A (ja) * 1987-10-05 1989-04-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> スパッタ装置
EP0312694A1 (de) * 1987-10-17 1989-04-26 Leybold Aktiengesellschaft Vorrichtung nach dem Karussell-Prinzip zum Beschichten von Substraten
EP0463392A1 (en) * 1990-05-31 1992-01-02 Shibaura Engineering Works Co., Ltd. An apparatus having a vacuum chamber

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Section Ch Week 8920, Derwent World Patents Index; Class L03, AN 89-148381 *
DATABASE WPI Section Ch Week 9224, Derwent World Patents Index; Class L03, AN 92-197679, ANONYMOUS: "Differential pumping of gas mixt. having different conductances, etc. - by supplying to vacuum chamber under viscous flow conditions and pumping under mol. flow conditions so differing speeds affect partial pressure ratio" *
RESEARCH DISCLOSURE, vol. 337, no. 089, 10 May 1992 (1992-05-10), EMSWORTH, GB *

Also Published As

Publication number Publication date
DE69616131T2 (de) 2002-07-11
EP0737758B1 (en) 2001-10-24
US6113749A (en) 2000-09-05
EP0737758A1 (en) 1996-10-16
DE69616131D1 (de) 2001-11-29
JPH08283939A (ja) 1996-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1002372A1 (nl) Halfgeleider licht-emitterende inrichting en werkwijze voor het produceren van deze.
NL194087B (nl) Plasma-werkwijze voor het bekleden van vlakke substraten.
NL1007616A1 (nl) Behandelingsmethode voor formaties met gebruikmaking van vervormbare deeltjes.
NL1010594A1 (nl) Inrichting voor het overdragen van voorwerpen.
NL1001134A1 (nl) Werkwijze voor het verharden van CaCO3.
NL1004953A1 (nl) Inrichting voor het geleiden van planten.
NL1000396C2 (nl) Werkwijze voor het terugwinnen of recirculeren van stabiele nitroxideradicalen.
NL1000138C2 (nl) Inrichtingen voor het bewerken van een substraat alsmede werkwijze geschikt voor toepassing bij dergelijke inrichtingen.
NL1013390A1 (nl) Inrichting, samenstel en werkwijze voor het centrifugeren van producten.
NL193052B (nl) Werkwijze voor het verwerken van mosselen.
NL1000624C2 (nl) Inrichting voor het opnemen van vocht, en werkwijze voor de vervaardiging daarvan.
NL194117B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van muurelementen.
NL1006052A1 (nl) Werkwijze voor het identificeren van het geslacht van spinazie met DNA-markers.
NL1002474A1 (nl) Werkwijze voor het uitvoeren van wedstrijdvluchten met duiven.
NL192662B (nl) Inrichting voor het immobiliseren van gereedschap.
NL194986B (nl) Werkwijze voor het verwerken van champignonvoetjes.
NL194471B (nl) Werkwijze voor het oxideren van koolhydraten.
NL1013584A1 (nl) Werkwijze voor het confectioneren van doekranden, inrichting daarvoor en geconfectioneerd doek vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL1010332A1 (nl) Werkwijze voor het saneren van dijken.
NL1000270A1 (nl) Sorteerinrichting voor het sorteren van champignons, een samenstel van dergelijke sorteerinrichtingen, en werkwijze voor het sorteren van champignons.
NL1002160A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het doorsnijden van langwerpige elementen.
NL1011800A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het cryptografisch bewerken van data.
NL194119B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van vezelversterkte, rotatiesymmetrische wikkellichamen.
NL1003507A1 (nl) Inrichting voor het verzamelen van stoffen.
NL1011552A1 (nl) Inrichting voor het verdelen van voorwerpen.

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
SD Assignments of patents

Owner name: OTB GROUP B.V.

VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20031101