DE2353992A1 - Verfahren zur entwicklung belichteter lichtempfindlicher schichten und entwickler zur durchfuehrung dieses verfahrens - Google Patents
Verfahren zur entwicklung belichteter lichtempfindlicher schichten und entwickler zur durchfuehrung dieses verfahrensInfo
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Description
Dr.Häns-HdMdiWiilmth D - «* wiesbaöen 24. ökt.
Dr. Dieter Weber vmi&m
Pftys. Klaus Seififert **vtt$W*
Pbckit 72-002
1353992
Poiychrotnä eorpöration t ont the Hudson ^
HeW York 10 702,
Vsrfähxori izur Entwicklung belichteter
lichtempf ihdliöher Schichten Und
wickler zur Durchführung dieies
Verfahrens
Prioritäten; Serial No, 302
303 072 und 303 071 Vom 2iNöVesibet 1972
irt USA
Die Erfindung betrifft ein Entwicklersystern für lichtäanpfindliehe
Schichten oder Oberzüge auf Substraten, speziell biazo-sensibilisierter
lichtempfindlicher ÜberisÜge auf Substraten^ wie Üthögraphiseher
Druckplatten, ürid speziell Entwickier für da* Eiitwikkeln
einer belichteten lithographischen Plätte, um di· Nichtbildbereiche
zu entfernen und die Platte für die Preise zu bekommen.
Po(fidi«k: Frinkhitt/Mtln i76J-«Ä Btnk. Dnsdntr Bähfc AG. Wlesbiden. Konto-Nr. Ϊ74807
LithographieGhes Drucken macht sich die Unmisefibärkeit zwischen
oleophilan Druckfarben uiid einer wäßrigen Benetzuhgsfltiesigkeit
auf einer im wesentlichen ebeften DSruekplättenoberf lache zunutze.
Eine oleophile Bildfläche, die einem zu drückenden Bild entspricht,
wird auf einer Platte gebildet, und der Rest der Plattenoberflache,
die Nichtbildflache 1st von hydrophilem Charakter
oder bekömmt hydrophilen Charakter. Die Bildfläche nimmt fettartige
Druckfarbe an und überträgt die Druckfarbe während des Drückens. Die Nichtbildfläche wird mit Wasser oder einer wäßrigen
Benetzungsflüssigkeit feucht gehalten und weist die Druckfarbe
derart ab, daß auf dieser Fläche kein Drucken erfolgt. Um
eine solch« Druckplatte zu bekommen, wird eine ebene Basisfläch· mit einer sehr dünnen Schicht eines lichtempfindlichen Materials
überzögen und durch einen transparenten Film mit opaken
Bereichin belichtet. Ein Negätivtransparent des zu reproduzierenden
erwünschten Bildes wird verwendet, um eine sogenannte negativ wirkend· Platte zu belichten,und ein Positivtransparent wird
verwendet, um eine sogenannte positiv wirkende Platte zu belichten.
Licht geht durch die klaren Bereiche des Negätivtransparente»
hindurch, die dem Bild entsprechen und verursacht eine Reaktion
in dem lichtempfindlichen überzug auf der darunterliegenden
Platte, und diese Reaktion "härtet" den Überzug in dem Bildbereich.
Durch die opaken Bereiche des Transparentes geht jedoch
kein Licht hindurch, so daß der lichtempfindliche überzug
auf der darunterliegenden Platte solche Bereiche unverändert
läßt. Sodann wird die Plätte entwickelt, indem der überzug von
der Platte in den belichteten Bereichen entfernt wird, die hy-
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drophil sind oder anschließend hydrophil gemacht werden. Die positiv
wirkende Platte unterscheidet sich von der negativ wirkenden
'Platte derart, daß in der ersteren das Licht durch die klaren
Bereiche des positiven Transparentes hindurchgeht und bewirkt, daß der lichtempfindliche überzug auf der darunterliegenden Platte sich etwas zersetzt, wodurch man einen Löslichkeitsunterschied
zwischen den Bildflächen und den Nichtbildflächen bekommt.
Die belichteten Bereiche der positiv wirkenden Platte werden ent·*-
fernt.
In der Vergangenheit wurden negativ arbeitende Diazo-senslbilisierte
lithographische Platte allgemein mit Lösungsmitteln entwickelt.
Einige der verwendeten Lösungsmittel waren Isopropy!alkohol;
Normalpropylalkohol, CelIosolve (Handelsbezeichnung
-Äthylenglycolmonoäthyläther), Butylalkohol, Benzylalkohol usw.
Einige Entwickler bestehen im wesentlichen aus organischen Lösungsmitteln,
während andere Wasser 'zusätzlich zu den organischen Lösungsmitteln enthalten. Sowohl In den Entwicklern vom
Typ organischer Lösungsmittel als auch In solchen vom wäßrigen
Typ wurden aromatische Sulfonsäuren oder deren Natriumsalze verwendet.
Diese Entwickler litten jedoch unter einem oder mehreren
Nachteilen, wenn sie verwendet wurden? um negativ arbeitende
Diazo-rsensibilisierte lithographisch© Platten zu entwickeln.
Beispielsweise besitzt einGemisch von 20 % Normalpropylalkohol
und 80 % Wasser bei der Verwendung zur Entwicklung lithographischer
Platte eine Neigung, die Platten tiberzuentwickeln, und
zwar wegen geringer Löslichkeitsunterschiede zwischen den BiIdflachen
und den Nichtbildflächen.
• ■■- 40 9 8 20 /1OSS
Sulfonsäuren wurden in Entwicklern verwendet, doch haben sie
einige Nachteile. Sie sind stärker korrodierend als die Lithiumsalze nach der Erfindung, und bei Verwendung in einer Entwicklungsmaschine
neigen sie dazu, deren Lager, Leitungen und andere Metallteile zu korrodieren. Vielleicht wegen dieser korrodierenden
Natur und ihrer Wirkung auf Bildflächen drucken mit sulfonsäurehaltigen
Entwicklern entwickelte Platten nicht so viele Kopien wie jene, die mit den Entwicklern nach der vorliegenden
Erfindung entwickelt wurden. Benetzungsmittel vom oberflächenaktiven Typ sind in vielen Rezepturen bevorzugt. Sulfonsäuren,
wie beispielsweise 2-Hydr©xy~4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure,
neigen dazu, sich zu zersetzen und Benetzungsmittel vom oberflächenaktiven
Typ in Entwicklerzusammensetzungen auszufällen. Jene gleichen Benetzungsmitfcel führen zu einer unerwünschten Schaumbildung,
wenn sie in Entwicklungsmaschinen verwendet werden. Die oben erwähnte Sulfonsäure ist ein Ultraviolettlichtabsorber, und
während sie absorbiert, verfärbt sie sich* Folglich muß als Material
für sie enthaltende Flaschen ein strahlenabsorbierendes Material verwendet werden.
Entwickler, die Natriumsalze von Sulfonsäuren sowie Lösungsmittel,
wie Glycale <, anstelle oberflächenaktiver Benetzungsmittel
enthalten, hinterlassen einen schmutzigen Hintergrund, wenn sie bei der maschinellen Entwicklung von Platten verwendet werden.
Um den Hintergrund zu reinigen, war es erforderlich, die Konzentration
des Natriumsalzes der Sulfonsäure zu erhöhen, doch führte dies zu-einer um etwa zwei Stufen verminderten Gräuskala, d.h.
die Punkte in dem Halbton auf der Platte waren kleiner als in dem
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für ihre Belichtung verwendeten Transparent. Im Gegensatz dazu
arbeiten die Entwickler nach der Erfindung sehr gut ohne Zusatz
von Benetzungsmitteln oder Lösungsmitteln, hinterlassen einen klaren Hintergrund auf der Platte und vermindern nicht die Grauskala.
'-.,-
Es wurde gefunden,, daß Halbtonpunkte auf einer belichteten Platte am meisten durch Lösungsmittel und sodann durch Sulfonsäuren
in - .
und deren Natriumsalze/der angegebenen abnehmenden Größenordnung
angegriffen und geschärft werden. Die Verwendung von Entwicklern
nach der Erfindung führt? wenn überhaupt, zu einem geringen An<griff
auf die bzw. geringerVerschärfung der Halbtonpunkte.
Die oben erwähnten Nachteile des Standes der Technik werden
durch die Entwickler nach der. vorliegenden Erfindung ausgeschaltet
oder auf ein Minimum herabgesetzt.
Es ist daher ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein verbessertes
Entwicklersystem für lithographische Druckplatten zu erhalten.
Ein spezielleres Ziel der Erfindung ist es, eine verbesserte Entwicklerzusammensetzung zur Entfernung von Nichtbildflächen
von lithographischen Druckplatten zu erhalten, auf denen das
lichtempfindliche Mittel in dem überzug darauf eine im wesentlichen
wasserunlösliche Diazoniumverbindung ist.
Die obigen und andere Ziele, die aus der folgenden Besehreibung
erkennbar sind, erreicht man durch Verwendung einer erfindungsgemäßen
wäßrigen Entwicklerzusammensetzung, die a) ein amjrfphoteres
pberflächenaktives Mittel, b) ein im wesentlichen wasserlösliches
lithiumorganisches Salz oder c) .ein amjrfphoteres ober·?
flächenaktives Mittel und ein im wesentlichen wasserlösliches
409820/ V&Sß.
lithiumorganisches Salz verwendet, das leicht von den belichteten lithographischen Platten die Nichtbildflächen des lichtempfindlichen
Überzuges entfernt r in welchem die lichtempfindliche
Komponente eine Diazoniumverbindung oder ein Photopolymer, besonders eine im.wesentlichen wasserunlösliche Diazoniumverbindung
oder ein solches Photopolymer ist. Allgemein umfaßt die Entwicklerzusammensetzung Wasser und a), b) oder c), wie sie
nachfolgend angegeben sind. In einigen Entwicklern nach der Erfindung können Benetzungsmittel und andere Komponenten benutzt
werden, um die Zeit/ die für die Entwicklung der lithographischen Platte, erforderlich ist, herabzusetzen oder um andere Eigenschaften
der Entwickler zu modifizieren.
Eine der wichtigen Typen bekannter negativ wirkender Diazokomponente^ die in lithographischen Platten benutzt werden, umfaßt
Reaktionsprodukte einer lichtempfindlichen diazohaltigen Verbindung
und eines Kupplungsmittels, wobei diese Reaktionsprodukte ihre Lichtempfindlichkeit behalten. Die Reaktionsprodukte haben
jedoch allgemein geringere Wasserlöslichkeit als jede ihrer Ausgangskomponenten,
und allgemein neigen sie dazu, im Wasser im wesentlichen unlöslich zu sein. Obwohl solche Reaktionsprodukte
bequem aus einem Lösungsmittel und selbst aus verdünnten wäßrigen Lösungen als überzug auf Substraten aufgebracht werden können,
um Platten herzustellen, ist ihre Entwicklung mit Hilfe wäßriger Entwickler wegen der relativ geringen Löslichkeit in Wasser
oder wegen des Fehlens ausreichend selektiver Löslichkeit zwischen den belichteten und unbelichteten Flächen, d.h. wegen
des Fehlens eines ausreichenden sogenannten Löslichkeitsunter-
schiedes, in Lösungsmitteln schwierig.
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Die lichtempfindlichen di'azohaltigen Komponenten der Reaktionsprodukte sind die in der lithographischen Technik bekannten und
allgemein verwendeten negativ wirkenden Diazoniumverbindungen.
und Breit gesprochen sind sie" Diazoaromaten/spezieller Diazoarylamine,
die am aromatischen Kern oder am Aminostickstoff substituiert sein können. Die unter solchen Diazoverbindungen am üblichsten verwendete Verbindung ist Paradiazodiphenylamin und Derivate
desselben, besonders solche, die mit organischen Kondensationsmitteln
mit reaktiven Carbony!gruppen umgesetzt1 wurden/wie
beispielsweise mit Aldehyden und Acetalen, besonders mit Verbindungen,
wie. Formaldehyd und Paraformaldehyd. Die Herstellung
einiger solcher äußerst geeigneter Kondensationsprodukte ist in den USA-Patentschriften 2 922 715 und 2 94β 683 beschrieben.
Zur Herstellung der lichtempfindlichen,, im wesentlichen wasserunlöslichen
Diazonium-überzugskomponenten werden die oben erwähnten
diäzoaromatischen Verbindungen vorzugsweise mit aromatischen oder aliphatischen Verbindungen mit einsr oder mehreren phenol!-
sehen Hydroxylgruppen oder SuIfonsäuregruppen (-SOg) oder beident
umgesetzte Beispiele von Reaktionspartnern mit phenolischen Hydroxylgruppen
sind Hydroxybenzophenone, diphenolische Säuren,
wie 4,4-Bis-(4'-hydroxyphenyl)-pentansäure, Resorcin und Diresorcin,
die auch substituiert sein können» Hydroxybenzophenole sind'
beispielsweise 2 ^-Dihydroxy-, 2-JHydroxy-4-methosy=, 2,2S-Dihydroxy-4?4'-dimethoxy-
und 2,2! ,4,-4'-Tetrahydroxybenzophenon«. Bevorzugte
Sulfonsäuren sind jene der aromatischen Reihen, besonders von Benzol, Toluol, Xylol, naphthalin, Phenol,· Naphthol
die-.
Benzophenon., und deren; lösliehe Salse, wie; Ammonium- und. Älka-
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lisalze. Die Sulfonsäuregruppen enthaltenden Verbindungen können allgemein durch niedermolekulare Alkylgruppen, Nitrogruppen
und Halogenatome sowie zusätzliche Sulfonsäuregruppen substituiert
sein. Beispiele solcher Verbindungen sind Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure,
Benzolnatriumsulfonat, Naphthalin-2-sulfonsäure,
l-Näphthol-2-(oder 4-)-sulfonsäure, 2,4-Dinitro-l-naphthol-7-sulfonsäure,
2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure,
m-ip'-Anilinophenylazo)-benzolnatriumsulfonat, Alizarinnatriumsulfonat,
o-Toluidin-m-sulfonsäure und Äthansulfonsäure.
Die Diazöverbindung und das Kupplungsmittel werden, vorzugsweise
in wäßriger Lösung bei einem pH-Wert unterhalb etwa 7,5, in etwa äquimolaren Mengen miteinander umgesetzt. Das Reaktionsprodukt
wird gewöhnlich als Niederschlag isoliert und kann nach üblichen Methoden auf geeigneten lithographischen Basisbögen als überzug
aufgebracht werden, um sensibilisierte Platten zu bilden, wie beispielsweise in der USA-Patentschrift 3 3OO 3Ο9 beschrieben
ist.
Beispiele positiv wirkender Diazo-sensibilisierter lichtempfindlicher
überzüge auf Substraten sind jene, die in der USA-Patentschrift 3 544 317 beschrieben sind.
Beispiele lithiumorganischer Salze, die in den Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind die Lithiumsalze organischer
Verbindungen mit einem sauren Wasserstoff und mit einem Gehalt von 1 bis etwa 36 Kohlenstoffatomen. Beispiele organischer
Verbindungen mit saurem Wasserstoff sind jene, die Carbonsäuregruppen, Sulfonsäuregruppen/ Schwefelsäuregruppen und
409820/1056 .
phenolisiche Hydroxylgruppen uswv enthalten. Speziellere Beispiele
der Lithiumsalze sind jene, die durch die folgenden allgemeinen
Formeln wiedergegeben werden können:-
I. MiCH2) a (CH=CH) h 30
II» r MiCH2) a (CH=CH) b (CH3SO3Li)^C-O-SO3-Li
III. Dimere von Verbindungen der Formel I oder II oder der Formeln
ϊ und II können Über eine Diels-Alder-Reaktion hergestellt werden» ■-'_'.
Die Lithiumsalze besitzen idealisierte Formeln, wie folgende1
M(CH2)s-CH-CH-dH=CH<CH2)^COLl . .
M(CH9)--CH CH-(CHo)^COLi
C =CH Ö "
Die diitierlsierten Fettsäurevörläuf er werden von der Firma Emery
Industries, Inc* in den Handel gebracht.
In den FormelJi I, ti und III bedeutet M:-H, -OH^ -COQH^-COLi,
-C-O-S3-Ll oder CH3; a: eine ganzse Zahl von O bis 17; bi eine
ganze Zahl von O bis 3; c: eine ganze Zahl von O bis 3j die Summe
von b und c: eine ganze Zahl von O bis 3; und die Summe von
a, h und c kann einen Maximaiwert von 17 haben, wenn M H oder
OH bedeutet, oder einen Maximalwert von 16, wenn H eine der anderen
Gruppen ist.
IV.
-C-OLi -C-OLi
it
VIII.
0 :
C-OLi
VI.
Z
OLi
OLi
VII.
Z '
Sö-.Li
ι -5
IX.
X.
0 η
0 9 8 2 0/1058
In den Formeln IV bis X kann X oder Y oder Z unabhängig von den
0
anderen -Hr -OLi, -SO3Li oder _£_0Li/ "0H/ "N02' ~C1" ~Br' -COOH oder -(CIT2)^CH3 sein, worin d eine ganze Zahl von0 bis 17 ist. .
anderen -Hr -OLi, -SO3Li oder _£_0Li/ "0H/ "N02' ~C1" ~Br' -COOH oder -(CIT2)^CH3 sein, worin d eine ganze Zahl von0 bis 17 ist. .
Außer den in den obigen Formeln angegebenen funktionelien Gruppen
können die Lithiumsalze in ihren organischen Resten auch andere funktionelle Gruppen enthalten, die ihre Leistung in den
Entwicklern nach der Erfindung nicht nachteilig beeinflussen, wie beispielsweise Hydroxylgruppen, Methoxygruppen, Xthoxygruppen,
Nitrogruppen, Halogenatome usw.
Beispiele spezieller wasserlöslicher Lithiumsalze, die in den neuen Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können,
sind Lithiumformlat, Lithiumchloracetat, Lithiumdichloracetat,
Lithiumtrichloracetat, LIthiumbenzoat, Lithiumnaphthenate, Lithiumdodecanoat,
Lithlumricinoleat, Lithiumlaurylsulfonat, Lithiumacetylsalicylat,
LIthiumlaury!sulfat, Lithiumphenolat, Lithium-
1-phenanthrolat, LIthium-0-nitrophenolat, Dilithlumcatecholat,
Lithium^f^ö-trinitrobenzoat, Lithiumphenolsulfonat, Lithiumpicrat,
Lithiumtoluolsuifohat, Lithiumxylolsulfonat, LIthiumresorcinate,
Lithiumxylenolate, Lithiumcaprylate, die Mono- und
Dilithiumsalze von Dicarbonsäuren, wie Zitronensäure, Maleinsäure
und Apfelsäure, Lithiumstearat, Lithiumoleat, Lithiura-p-nitrotoluol-orthosulfonate,
Lithiumtoluolsuifonat, Lithium-1-butansulfonat, Lithiumbenzolsulfonat, Lithiumdodecylbenzolsulfonat,
Lithium-2,5-dIchlorbenzolsulfonat, Lithium-2,4-dinItro-l-naphthol-7-sulfonat,
Lithlumsalz von sulfoniertem CastorÖl (Napco
Oil 1408) und dergleichen.
409 8 20/1.OSS-: n -
Vorzugsweise enthalten die organischen Verbindungen etwa 2 bis
36 Kohlenstoffatome, vorzugsweise etwa 4 bis 36 Kohlenstoffatome
und am meisten bevorzugt etwa 7 bis 18 Kohlenstoffatome.
Die am meisten bevorzugten Lithiumsalze sind Lithiumbenzoat,
Lithiumphenolsulfonat , Lithlumlaurylsulfat und Llthiumdodecanoat.
Ein Bestandteil, der in den Entwicklern nach der Erfindung verwendet
werden kann, ist ein amphoteres oberflächenaktives Mittel.
Amphotere oberflächenaktive Mittel werden so bezeichnet, da sie sowohl anionische als auch kationische Gruppen enthalten. Sie benehmen
sich wie kationische oberflächenaktive Mittel in sauren Medien und wie anionische oberflächenaktive Mittel in alkalischen
Lösungen.
Eine charakteristische Eigenschaft amphoterer oberflächenaktiver
Mittel 1st die Tatsache, daß sie einen isoelektrischen Punkt besitzen , wo das Produkt innerlich neutralisiert ist und ein Zwitterion
bildet» An diesem Punkt besitzen amphotere Stoffe häufig eine-minimale Löslichkeit, Schaum-,, Benetzungs- und Oberflächenspannragsverminderung.
In neutralen oder leicht alkalischen Lösnagen besitzen sie starke schäumungs- und Relnigungsmitteleigenschaf.ten
anionischem oberflächenaktiver Stoffe, während sie Substantiv!
tat gegenüber Fasern, Metallen und dergleichen haben,
die gewöhnlich mit kationischen Mitteln verbunden ist.
Der kationische Charakter von amphoteren Stoffen beruht auf
einem basischen Stickstoff, der als primäre, sekundäre, tertiäre oder quaternäjire Stickstoff gruppe vorliegen kann. Der anionische
Teil kaan sich von einem Carboxyl-, Sulfat™, SuIfonat- oder Phos-
phatrest herleiten.
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■ ■ - — 13 - - " ■ _ * ■
Damit amphotere Materialien wirksam als oberflächenaktive Stoffe
fungieren, sollten sie eine Älky!gruppe mit etwa 6 bis 20
Kohlenstoffatomen enthalten.
Beispiele der amphoteren oberflächenaktiven Substanzen, die in
den Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind jene, die auf substituierten Imidazolinen basieren, wie Monaterics (Handelsname) der Mona Industries, Inc., Paterson. New
Jersey. Die oberflächenaktiven Imidazolinderivate können durch
Umsetzung langkettiger Imidazoline mit halogenierten oder organischen
Zwischenprodukten mit Carboxyl-, Phosphorsäure- oder
SuIfonsäuregruppen hergestellt werden. Andere oberflächenaktive
Mittel auf Imidazolinbasis, die verwendet werden können, sind
beispielsweise folgende;
R- C=N - CH0 ^N - CH2
C2H4SO3H · ■" ,
^N- CH2
R - C^ I
^N- CH- r__^
C2H4N = HC -(/ y - SO3H
und ihre Natrlumsalze, worin R die nachfolgende Bedeutung hat.
Diese Gruppe amphoterer oberflächenaktiver Mittel ist in den.
Entwicklern nach der Erfindung bevorzugt.
Eine andere Klasse amphoterer oberflächenaktiver Stoffe, die verwendet
werden können, sind ß-Alaninderivate der folgenden Formeln
RNHCH2Ch2COOX und RN(CH2CH2COOX)2,
In diesen Formeln bedeutet R eine aliphatische Kohlenwasserstoffkette
mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen, wie einen Octyl-,
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Nonyl-, Decyl-, Undecyl-, Dodecyl-, Tridecyl-, Tetradecyl-, Pentadecyl-,
Hexadecyl-, Heptadecyl- oder Octadecylrest, X bedeutet ein Wasserstoffatom oder ein Kation, wie ein Alkalikation, z.B.
Natrium, Kalium, Lithium, ein Ammoniumkation oder ein organisches Aminkation, wie das Kation von Diethanolamin, Triäthylamin,
Triäthanolamin, Morpholin oder Piperidin. Diese Verbindungen
werden durch Umsetzung eines primären Amins mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen mit Chlorpropionsäure oder Brompropionsäure in
Gegenwart von Alkali, wie Natriumhydroxid oder Kaliumcarbonat,
hergestellt.
Die Verbindungen können auch gemäß der in der USA-Patentschrift 2 468 012 beschriebenen Methode hergestellt werden, indem man
bei 25 bis 30° G ein primäres Amin mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen mit Methylacrylat unter Bildung des ß-Alkylaminopropionats
kondensiert. Der Methylester wird zu einer Säure hydrolysiert oder nach einer herkömmlichen Verseifungsmethode in die Alkalioder
organischen Aminsalze umgewandelt. Das sekundäre Amin erhält man bei Verwendung polarer Mengenverhältnisse, während das
tertiäre Amin durch Verwendung von wenigstens zwei Moläquivalenten der Säurederivate erhalten wird«,
Bei der Auswahl der Amine ist es gewöhnlich wirtschaftlicher, jene mit einer geraden Zahl von Kohlenstoffatomen auszuwählen,
da sie im Handel erhältlich sind. Die aus Kokosnuß s Sojabohnen
oder Talg erhaltenen Amingemische können mit gleichem Erfolg
verwendet werden. Andere Verbindungen, die benutzt werden können,
sind beispielsweise folgende:
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Cl2H23NH*CH2CH2COONa
Natriüm-N-dodeeyl-ß-aminopropionat
N-Decyl-ß-aminopropionsäure
C χ 4,H2 glSH. CH2CH „ COOK
Kalium-N-tetradecyl-ß-aminopropionat
C16H33NH.CH2CH2COONa
Natrium-N-hexadecyl-ß-aminopropionat
C18H37NHoCH2CH2COONa
Natrium-N-octadeeyl-ß-aminopropionat
C12H25N0CH2CH2COONa
CH2CH2COpH
Mononatriumsals iron N-Dodeeyl°ß»aminodlpropiönat
CH5CH-COONa
Dinatrium-N-octadecyl-ß-aminodipropionat
Eine andere Klasse amphoterer oberflächenaktiver Stoffe? dl©
verwendet werden können, umfaßt die Betainderivate-, die -eia@
lange Kohlenstoff kette enthalten.» Diese Betainderivat© werdtes
durch die folgende allgemeine Formel gekennzeichnets " .
R1 - N - CHg-COO·=
CH3 CH3 - '
worin R1 einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit etwa I
bis 20 Kohlenstoffatomen bedeutete Diese Betainverbindungefi"
gewinnt man dureh Umsetzung eines tertiären ,Höheralkylamins^
409820/1058 ^-
Dodecyldimethylamin, Tetradecyldimethylamin oder Hexadecyldiäthylamin,
mit Chloressigsäure. Diese Verbindungen können auch durch Kondensation des tertiären Amins mit einem halogenierten
Carbonsäureester und Verseifung des Esters gemäß der USA-Patentschrift
2 082 275 hergestellt werden.
Die amphoteren oberflächenaktiven Mittel nach der Erfindung können
entweder allein oder in Verbindung mit anderen oberflächenaktiven
Mitteln oder Benetzungsmitteln verwendet werden, wie mit den Taurinen, Saponin oder Polyoxyäthylenderivaten langkettiger
Fettsäuren und Alkohole.
Es scheint: keine Begrenzung hinsichtlich der Menge der lithiumorganischen
Verbindungen in den Entwickellösungen außer solche aufgrund praktischer Erwägungen zu geben. Beispielsweise bilden
die Wirtschaftlichkeit und die Löslichkeit der Verbindung in Wasser oder im wäßrigen Entwicklersystem eine praktische Obergrenze
der Konzentration, während die Entwicklungszeit hauptsächlich
die Untergrenze bestimmt. Beispielsweise bei Konzentrationen von etwa 1 % liegt die Entwicklungszeit in der Größenordnung
von etwa 5 oder mehr Minuten, was vom Standpunkt eines beschäftigten Lithographen übermäßig lang-ist im Vergleich mit
den etwa 1 1/1 bis 2 Minuten, die er erwünscht findet. Dieser erwünschte Bereich der Entwicklungszeit kann mit den vorliegenden
Entwicklersystemen bei Lösungskonzentrationen von etwa 5 bis etwa 25 Gewichts-% lithiumorganischer Verbindung in der Lösung
erhalten werden. Der bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei etwa 10 bis 20 %, was eine gute Entwicklungszeit in der Größenordnung
von etwa 1 Minute und außerdem ausreichend Wasser für
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die Auflösung und Entfernung des unbelichteten Überzugs ohne
das Erfordernis übermäßigen Spülens ergibt.
Es gibt offenbar auch keine Begrenzung der Menge des amphöteren
oberflächenaktiven Mittels in den Entwicklerlösungen mit Ausnahme
jener, die durch praktische Gesichtspunkte bestimmt werden . Beispielsweise bestimmt die ,Wirtschaftlichkeit und die Löslichkeit
der Verbindung in Wasser oder dem wäßrigen Entwicklersystem eine praktische obere Grenze der Konzentration', während
die Entwicklungszeit grundsätzlich die Untergrenze bestimmt·. Beispielsweise bei Konzentrationen von etwa 1 % liegt die Entwicklungszeit
in der Größenordnung vpn etwa 5 oder mehr Minuten, was vom Standpunkt eines beschäftigten Lithographen übermäßig
lang ist im Vergleich mit den 1 1/2 bis etwa 2 Minuten, die er
erwünscht findet. Dieser erwünschte Bereich der Entwicklungszeit
kann mit den vorliegenden Entwieklersystemen bei Lösungskonzentrationen
von etwa 5 bis 30 Gewichts-% des amphöteren
oberflächenaktiven Mittels in der Lösung erhalten werden. Der
bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei etwa 10 bis 20 %, die
gute Entwicklungszeiten in der Größenordnung von etwa X Minute .
ergeben und auch ausreichend Wasser zur Auflösung.und Entfernung
des unbelichteten Überzugs ohne Erfordernis Übermäßigen Spülens liefern.
Der Entwickler nach der Erfindung kann in einer Konzentration
in Wasser bereitet werden, die direkt zur Entwicklung lithographischer
Platten geeignet ist, oder er kann anfangs als ein Konzentrat
bereitet werden, d.h. als eine wäßrige Lösung, in der
die aktiven Bestandteile in einer höheren Konzentration, als für
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die Verwendung als Entwickler erforderlich, vorhanden sind. Dies
ist vorteilhaft für den Transport und die Lagerung. Vor der Verwendung
sollte das Konzentrat mit Wasser auf die bevorzugte Arbeitskonzentration
verdünnt werden. Das Konzentrat kann bis zu etwa dreimal mehr konzentriert als die Arbeitslösung sein. In
dem Konzentrat können die amphoteren oberflächenaktiven Stoffe
und die lithiumorganischen Salze jeder für sich in einer Menge von etwa 15 bis 5O % vorliegen.
Es kann erwünscht sein, in die Entwicklerlösungen auch noch andere
Bestandteile einzuarbeiten, um die Entwicklung zu erleichtern und die Platte zu behandeln. Solche Bestandteile sind belT
spielsweise Lösungsmittel, Benetzungsmittel oder oberflächenaktive
Stoffe, Metallreiniger und dergleichen. Beispielsweise, doch nicht notwendigerweise, unterstützen bis zu etwa 3O Gewichts-%
eines mit dem Wasser mischbaren Lösungsmittels die Entfernung der Nichtbildbereiche der Diazonlumverbindung, und insbesondere
unterstützen sie die Auflösung von organischem Harz, das entweder mit der Diazoniumverbindung in dem überzug auf der
Platte vermischt ist oder als Überzug über der Diazoniumverbindung
vorliegt. Das Lösungsmittel ist auch hilfreich als Elndringungsmittel, besonders anstelle aller herkömlichen oberflächenaktiven
Netzmittel oder eines Teiles derselben, wenn der Entwickler in einer Entwicklungsmaschine verwendet werden soll, worin
das herkömmliche Benetzungsmittel unerwünschte Schaumtendenz hätte. Vorzugsweise werden bis zu etw;a 25 %, besonders bevorzugt
bis zu etwa 20 % und am meisten bevorzugt etwa 5 bis 15 % Lösungsmittel
verwendet, wie Cyclohexanon, Benzylalkohol, Dimethyl-
4098 20/1056
^ 19 -
formamid, Dimethylsulfoxid, Normalpropylalkohol, Isopropanol,
Dioxan und" Methylcellosolve (Handelsname) usw. Oberflächenaktive
Mittel oder Benetzungsmittel, um den Kontakt zwischen dem
wäßrigen Entwickler und dem lichtempfindlichen Oberzug zu for*
dern, können in Mengen bis zu etwa 5 oder 10 Gewichts-% verwen^ det werden.
Die Benetzungsmittel, die in den neuen Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, können nicht ionische, anionische oder kationische Verbindungen sein.
Beispiele der Netzmittel, die verwendet werden können, sind
folgende;
Solche Mittel sind Ammonium=· und Alkalisalz©' langkettiger Aiko-*
holsulfate* wie beispielsweise Na-tri.uin-laurylsu.Xfst, NatriuBioc-.
tylsulfat, Amraoniumläury!sulfat, Natrium-N-m©thyl©l.@yllaurafcy -.
Dioctylnatriumsulf osuccinat, Natrlumdodecylbensolsulf at e - _
Natrium-d-(2-athylhexyl)-phosphat (Tergitol P-28 det Union Garbide) , ■ ■
die Duponol-Reihe (du Pont), allgemein Natriumalky!sulfat©,
Duponol Sp, ein. flüssiges AlkylalkyloLaminsulfat (au Pont),
Ävirol 116 (Henkel, 'Inc,), Natriumlauryläthersulfatnadeiti,."-Avirol
111 LC (Henkel, Ine»), flüssiges Natriumalky!sulfat'usw.'
Tergitol 15-S-3 (Union Carbide) , ein flüssiger' .Polyöthylenglyco
lather eines linearen Alkohols Ami|^^ .einem HLB .^οώ 8»0f _: . -.
409820/1056
Tergitol NPX (Union Carbide), ein flüssiger NonylphenylpolyäthylengIycoläther
mit einem HLB von 13f6,
Tergitol NP-35 (Union Carbide), ein pastenförmiger Nonylphenyl-
polyäthylenglycoläther mit einem HLB von 15,0,
Gaftex Texol 237 (GAP Corporation), ein Diäthanolamin-Laurinsäu-
rekondensat,
Glycerlnxnonostearat oder Polyoxyäthylenglycolmonostearat
+) Hydrophil-lipophil-Gleichgewicht
Gafstats (GAF), quaternäre Ammoniumderivate,
Aerosol C 61 (American Cyanamid Co.) , ein äthanolierter Alkyl-
guanidinaminkomplex, usw.
Die am meisten bevorzugten Netzmittel sind die anionischen, sodann folgen die nicht-ionischen und schließlich die kationischen.
Von den anionischen Netzmitteln sind die Älkylalkylolaminsulfate
und NatriumlaurylMthersulfate bevorzugt. Von den nichtionischen sind die ersten drei der oben aufgeführten bevorzugt.
Es 1st bevorzugt, daß die Netzmittel, besonders die nlcht-ionischen,
ein Hydrophil-lipoph'il-Gleichgewicht (HLB) von wenigstens
etwa 8 besitzen.
Die Entwickler nach der Erfindung können auch die aromatischen
oder aliphatischen Verbindungen mit einer Sulfonsäuregruppe (-SO3-) enthalten, die in den Entwicklern gemäß der USA-Patentschrift
3 669 660 verwendet werden.
Solche Verbindungen sind im allgemeinen die gleichen wie jene, die oben als geeignet zusammen mit der Dlazoverbindung, dem
409820/1056
lichtempfindlichen Reaktionsprodukt, das in dem
ten überzug auf der Platte beschrieben wurde, Beispiele solcher
Verbindungen sind Benzolsulfonsäuren Toluolsulfonsäure, Naphthalinsulf
onsäiire, 2 rS-DimethylbenzQlsulfOnsäure* Benzolnätriumsulfonat,
Naphthalin-Z^sulfonsäure, 1-Naphthole» (oder -4-)— sulfonsäure
t Z,4^Din±trQ-l^naphthQl^7-sulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxy^
benzophenon^S^sulfonsäure r. mr- (p' -ÄnilinophenyIstzo) -benzolnatriumsulfonati
Ältzarinnatriuinsulfon.at« o-BTQluidin"i!ti--sulfonsäure und
Äthansulfonsäure *» Die Sulfongäuregruppe 'enthaltendenVerbindungen
werden in Wasser unter Bildung der Entwickleriösungen gelöst.
Bestimmte Rezepturen der Entwickler nach der Erfindung zeigen
deutlich einzigartige synergistisqhe Effekte. Beispielsweise moderiert
das amphotere oberflächenaktive Mittel die Wirkung von
Lösungsmitteln. Ein Entwickler mit einem Gehalt von 5 % eines
■ iv ■ : - ;
amphoteren pberflächenakten Mittels und 23 % Lösungsmittel ist
wirksam zur Entfernung von Nichtbildbereichen aus dem piazosensibilisierten
tiberzugr beeintraphtigt aber die Bildbereiche
nicht. Wenn jedoch der Prozentsatz an amphqterem oherflächeivaktivem
Mittel in der Rezeptur halbiert wirdrfreift der Entwickler
den Biidbereich des Überzuges an. Das amphotere oberflächenaktive
Mittel beschleunigt die .Wirkung anderer Komponenten von
Entwicklerrezepturen, wie beispielsweise von Sulfonsäuren und von deren oben erwähnten Natrium- oder Lithiumsalzen,
Bis zu etwa 5 Qewichts^% Phosphorsäure oder Oxalsäure können
ebenfalls in dem Entwicklernach der^Erfindung verwendet werden,
um den Äluminiumbasisbogen zu reinigen, nachdem der desensibili"
sierte Überzug entfernt wurde« Andere ähnliche bekannte Mittel._...,
können allgemesin a»ch benutzt werden,;-wenn- dies erwünscht ist.
Die pH-Werte der Entwickler nach der Erfindung liegen im allgemeinen
im Bereich von etwa neutralem pH, d.h. einem pH-Wert von
etwa 5 bis etwa 10, und irgendeinem Bereich so hoch wie 11 oder
12 oder noch höher. Dieser weite pH-Bereich ergibt eine große Breite für die Entwicklerrezepturen ohne nachteilige Wirkung
auf die Aktivität oder Wirksamkeit des Entwicklers, Es ist bekannt,
daß bei steigend alkalischen pH-Werten Diazoverbindungen eine Neigung besitzen, irreversibel zu kuppeln und relativ unlöslich
zu werden. Wenn ein alkalischer Entwickler ohne unterschied sowohl die Bildbereiehe als auch die Nichtbildbereiche
einer lithographischen Diazoplatte härten würde, würde er nicht als wirksamer Entwickler angesehen. Es ist überraschend, daß die
Entwickler nach der Erfindung, deren Alkalitätsbereich bis zu einem pH-Wert von etwa 11 oder 12 reicht, erfolgreich für eine
zuverlässige Entwicklung lithographischer Platten sind. Im Hinblick auf die Neigung von Diazoverbindungen, unter alkalischen
Bedingungen zu kuppeln, enthielten viele der bekannten Entwickler,
die beispielsweise Natriumsalze oder aromatische Sulfonsäuren
verwendeten, einen Überschuß an Phosphorsäure, Oxalsäure, Zitronensäure oder Sulfonsäure oder irgendeiner anderen Säure,
die verwendet wurden, um einen niedrigen pH-Wert zu erhalten.
Die Entwickler nach der Erfindung können auf belichtete lichtempfindliche
überzüge, besonders Diazo-sensibilisierte überzüge,
entweder manuell oder maschinell aufgebracht werden. Der erfahrene
Fachmann wird natürlich die Entwicklerrezeptur gemäß der Lehre der vorliegenden Erfindung so einstellen, daß der spezielle
belichtete überzug entwickelt wird, unabhängig davon, ob es
409820/1056
sich um eine lithographische Druckplatte (entweder vorseiisibill-r
siert öder vom Aufwischtyp) oder um irgendeine andere Oberfläche,
wie Papier oder einen klaren Kunststoffilm, wie in einem Prüfsystem
zur Prüfung der Farbetrennungstransparenie, handelt. Die Entwickler nach der Erfindung sind universell, da sie zur Entwicklung
positiv wirkender Systeme geeignet und besonders geeignet und wirksam bei der Entwicklung negativ Wirkender Systeme
sind. Zur Entwicklung positiv wirkender Systeme ist es bevorzugt, daß der Entwickler auf der alkalischen Seite liegt, vorzugsweise
bei einem pH-Wert von wenigstens etwa 12, doch können auch niedrige pH-Werte verwendet werden. Im Hinblick auf die Universalität
einiger der Entwickler nach der Erfindung, wie beispielsweise
jener, die ein amphoteres oberflächenaktives Mittel und das
wasserlösliche lithiumorganische Salz oder eine Verbindung mit einer SuIfonsäuregruppe, wie sie in der USA-Patentschrift
3 669 660 beschrieben ist, enthalten, ist es für den Lithographen möglich, einen Entwickler für negativ als auch'für positiv arbeitende Systeme zu verwenden. Die Verwendung eines einsigen Entwicklers
für beide Systeme ist besonders günstig und seitsparend,
wenn eine Entwicklermaschine verwendet wird» Die Verwendung .eines einzigen Entwicklers bedeutet, daß es nicht erforderlich
ist, beispielsweise einen Negativsystement\^ickler abzulassen,
die Maschine zu spülen und dann mit einem Positivsystementwickler zu füllen, um die unterschiedlichen Systemarten zu entwikkein.
Die Universalität erstreckt sich auch auf mehr Plattenarten , besonders.jene mit.überzügen, die organische Harze enthalt
ten, wenn die Entwickler auch Lösungsmittel enthalten„
409820/105 6 -^-
Die folgenden Beispiele, dienen der weiteren Erläuterung der Erfindung,
doch können vom Fachmann selbstverständlich innerhalb
des Erfindungsgedankens Modifikationen der Bestandteile, Mengenverhältnisse und Verfahrensbedingungen vorgenommen werden, ohne
den Erfindungsgedanken damit zu verlassen. In den folgenden Beispielen sind alle Teile und Prozentsätze Gewichtsteile und Gewichtsprozentsätze.
Eine Aluminiumplatte wurde durch Bürsten gekörnt, anodisiert und
chemisch mit Kaliumzirkonfluorid behandelt, um einen Überzug zu
bilden, der alseine Zwischenschicht in der fertigen Platte fungiert.
Die behandelte Platte wurde dann mit Hilfe eines Wirbiers mit einem lichtempfindlichen Überzug aus vier Teilen Sensibilisator
(Additionsprodukt von 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure
und para-Diazodiphenylamin^Formaldehyd-Kondensat) und
einem Teil eines Glycidylätherpolyepoxids versehen, so daß der Überzug ein Gewicht von IOO mg je 929 cm {Quadratfuß) besaß.
Nach dem Belichten der Platte mit Ultraviolettlicht durch ein
Negativtransparent wurden die unbelichteten Bereiche leicht mit den folgenden Entwicklern entfernt und ergaben eine gewerblich
verwertbare lithographische Plätte:
a) 5 % Lithiumbenzoat 95 % Wasser ·
b) 10 % Lithiumbenzoat 90 % Wasser
4 09820/1056
Beispiel 2 - ." .
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch wurde die
Aluminiumplätte chemisch geätzt anstelle der Bürstenkörnung. Die
Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.
Das Verfahren des Beispiels l wurde wiederholt, doch bestand der
Überzug aus, einem Teil Sensibilisator und zwei Teilen Formvar
12/85 (Handelsname *- ein Polyvinylacetalharz der Monsanto
Company) anstelle des Polyeppxiäs. Die Entwicklungsergebnisse
waren ähnlich, : '
Beispiel 4 ■ ~ -
Die Verfahren der Beispiele 1 bis 3 wurden wiederholt, um drei
unterschiedliche Platten zu bekommen, die dann mit Entwickler
entwickelt wurden, der 5 % Lithiumbenzoat, 5 % Alkylalkylolaminsülfat
(Duponol EP - Handelsbezeichnung der duPont Company) und
90 % Wasser enthielt. Die entwickelten Platten waren geeignet für gewerbliche Verwendung in der Lithographie.
Die Verfahren des Beispiels 4 wurden wiederholt, doch enthielt
der Entwickler 5 % eines Polyäthylenglycoläthers eines linearen
Alkohols (Tergitol 15-S-3 - Handelsbezeichnung der Union Carbide
Corporation) anstelle von Duponöl EP. Die entwickelten Platten
waren geeignet für gewerbliche Verwendung in der Lithographie.
Die Verfahren der Beispiele4 und 5 wurden wiederholt, doch war
der Sensibilisator das Additionsprodukt von Benzolsulfonsäure statt 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure. Die entwikkelten
Platten waren geeignet für gewerbliche Verwendung in der
Lithographie. '
Die Verfahren des Beispiels 5 wurden wiederholt, doch wurden 4 %
eines äthanolierten Alkylguanidinaminkomplexes (Aerosol G 6 Γ der
American Cyanamid Company) anstelle des Tergitol 15-S-3 verwendet.
Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.
Die Verfahren der Beispiele 1 bis 3 wurden wiederholt, doch wurden
2O % Lithiumnaphthenat anstelle der Mengen an Lithiumbenzoat
verwendet. Der Rest der Zusammensetzung bestand aus Wasser. Alle entwickelten Platten erwiesen sich als geeignet für gewerbliche
Verwertung in der Lithographie. .
Die Verfahren der Beispiele 1 bis 3 wurden in den Beispielen 9
bis 13 wiederholt, doch mit den folgenden Lithiumsalzen, die dem
Wasser zur Bildung der Entwickler zugesetzt wurden:
Beispiel | Prozent | Salz |
9 | 15 | Lithlumricinoleat |
10 | 12 | Lithiumtoluolsulfonat |
11 | 15 | Lithiumxylolsulfonat |
12 | 5 | Lithlumlaurylsulfat |
13 | 10 | Lithiümdodecanoat |
409820/1056
■- 27 -
Alle entwickelten Platten erwiesen sich als geeignet für gewerbliche
Verwendung in der Lithographieν
Beispiel 14 ,
Das Verfahren des Beispiels 10 wurde wiederholt, doch bestand
der Oberzug aus einem Gemisch von einem Teil des Sensibilisators,
6 Teilen eines Glycidylätherpoiyepöxids und 4 Teilen Formvar 12/85. Der Entwickler bestand aus 12 % Lithiumtoluolsulfonat
und 5 % Cyclohexanon in Wasser. Die entwickelten Platten
erwiesen sich alle als geeignet für gewerbliche lithographische
Verwendung.
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch enthielten die Entwickler auch 5 % Nomalpropylalkohol und 3 % Benzylalkohol.
Die entwickelte Platte war brauchbar für die Verwendung in gewerblicher Lithographie. - ~
Beispiel 16 · . . ·
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt-, doch wurde' di©
Äluminiumplatte mit einer Natriumsilikatswischenschicht statt
derjenigen a s Kaliumzirkonfluorid behandelt. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch wurden als
Entwickler 10 % Lithiumchloracetat verwendet. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.
. . 4D98-2071058
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde einmal mit IO % Lithiumformiat
und einmal mit 10 % Lithiumeitrat als Entwickler statt der in Beispiel 1 beschriebenen Entwickler wiederholt. Die Ergebnisse
waren nicht ganz so gut wie jene des Beispiels 1.
Eine vorsensibilisierte lithographische Platte Encov-/N-2 der
Azoplate Corporation wurde mit Ultraviolettlicht durch ein Negativtransparent 2 Minuten belichtet. Sodannn wurde sie mit
15 % Lifchiumbenzoat in Wasser entwickelt. Die Platte ließ sich
leicht entwickeln und ergab eine gewerblich verwertbare lithographische Platte.
Das Verfahren des Beispiels 19 wurde wiederholt, doch wurde eine lfR"-vorsensibilisierte lithographische Platte der 3 M Company
anstelle der Enco-Platte verwendet. Die Ergebnisse waren ,
ähnlich.
Ein Farbprüfsatss, hergestellt gemäß der technischen Lehre der
britischen Patentschrift 1 191 659 und bestehend aus gelb, cyan, magenta und schwarz vorsensibilisierten Transparentbereichen
auf einer Polyestergrundlage wurde belichtet, und zwar jeder Transparentbereich mit einem entsprechenden Farbentrennnegativ.
Jeder belichtete Transparentbereich würde seinerseits mit eier 10 %-igen wäßrigen Lösung von Lithiumbenzoat entwickelt.
4098 2 0/1056
-.29 ■■- 2353S02
Nach dein Trocknen und bei geeigneter Registrierung ergab der
Satz belichteter und entwickelter Trahsparentbereiehe.eine sehr
gute Nä6%ung oder Prüfung des fertigen Vlerfarbendruckes.
Beispiel 22 '
Eine positiv wirkende vörsenslbillsierte lithographische Platte
PA 200 der Azoplate Corporation wurde mit Ultraviolettlicht
durch ein positives photögraphisches Transparent belichtet* Die
belichtete Platte wurde «lit einer 12 %-igen Lösung von liithiumbenzoat
entwickelt/ wobei deren pH-Wert durch Zugabe von 3 %-iger
Natronlauge auf 12 eingestellt worden war,
Die folgende Tabelle I gibt Vergleichswerte der Druckpressenleistung
von Platten, die mit verschiedenen Entwicklern entwikkelt
wurden. Die ersten beiden Spalten in der Tabelle zeigen die Entwicklerzusammensetzungeh und die Zusammensetzungen des
Plattenüberzugs in Gewichtsteilen. Der Sensibilisator ist der
gleiche wie der Sensibilisator in dem obigen Beispiel 1* Das tfberzugsgewicht
ist in Milligramm je 929 cm angegeben:. Die Substrate für die beiden ersten beschriebenen Platten wurden ge<mäß
dem Verfahren des obigen Beispiels 1 hergestellt» Die dritte
nand vierte Platte in der Tabelle besaß Substrate, die gem3ß dem
Verfahren des obigen Beispiels 2 hergestellt wurden. Die Entwick-Ibuhg
erfolgte durch ÄuOaringung des Entwicklers von Hand mit
einem Äüfbrindischer. Die MMbereiche und diö
ehe sind beschrieben., ©ie verwendete Grauskala ist eine
ierliche 21-stuflge ^Grautonifölge, die bei der Stoufiör Graphic
Arts Equipment Company (South Bend, Indiana) erhältlich 1st.
Der PreBversuch wurde in der Weise durchgeführt,- daß die Platte
auf einer lithographischen Presse Chief 22, die 0,15 nun "überpackt"
war, womit gemeint ist, daß die Platte 0,15 mm höher als
normal unterlegt war, befestigt wurde, wobei bewirkt wurde, daß die Platte mit einem größeren Druck in Kontakt kam, als er normalerweise
verwendet würde, tiberpacken verursacht eine übermäßige Abnutzung der Platte im Vergleich mit-einer normal eingestellten
Presse. Die Spüllösung enthielt 35 % Isopropanol. üblicherweise
enthalten Sptillösungen nicht mehr als 25 % Alkohol. Je mehr Alkohol in der SpüllösAing ist, desto größer ist der nachteilige
Effekt auf die Bildfläche der Platte, der erwartet werden
kann. Die verwendete Druckfarbe war Chromatone Nr. 4559 (ein Produkt der Chromatone Printing Ink Company, einer Tocher der
Polychrome Corporation). Das verwendete Papier war weißes Offsetpapier
von 32 kg (70 Pfund), das maximal dreimal wiederverwendet wurde. 5OOO Kopien wurden gedruckt, und die Qualität der
Drucke war so, wie in der Spalte mit der Bezeichnung "Pressenversuch" in der Tabelle angegeben ist.
409820/1056
Vergleichsweise bei der Plattenentwicklung mit unterschiedlichen Entwicklern bei 2-minütiger
Belichtung in einem Belichtungsrahmen Nu Arc (Kohlenbogen)
Entwiek-
10 % Lithiumben-
Zusammen-· Setzung
des Platten-Überzugs (Gew.-Teile)
Überzugsgewicht (mg/929 cm*)
Entwicklungs-Substrat methode
NichtbiId-Bildbereiche
bareiche
Pressenversuch
90 % Was·
ser
7 Sensibilisator
1 Glycidylätherpo*· lyeposiid
Durch Bürsten geköm·" tes anodisier~
tes Aluminium, Kalium^ zirkonfluosridzwischen·
schicht
Von Hand unter >Verwendung einer
Standardaufbringvor richtung
10 % Ben- 7 Sensibilizoläulsator fonsäure 1 Glycidyl-
90 % Was- äthexpolyepoKid
Grauskala zusammenhän gend 5, auselnandergezo gen B, Halbtonreproduk
tion ähnlich derr Negativtranspareni.
Grauskala zusammemhängend 9,' auseinandergezo
gen 8, Halbtonreproduk tion zeigt Verstopfung (restliches
unbelichtetes Polymer blieb auf der Plattenobarfläche)
Kein überzug blieb auf der
Platte in den, unbelichteten Bereichen
5000 Kopien auf der überpackten Presse, annehmt
bare ^«produktion
überzug blieb auf der Platte
in unbelichte ten Bereichen
5000 Kopien auf der überpackten Presse, die Nichtbildbereiche
zeigten S chaumb i1dung
CJ 4Π CO CO (O
Fortsetzung der Tabelle I
Zusammensetzung Uberzugs-.des.
Platten- gewicht
Entwick- Oberzuges (mg/929
ler (Gew. -Teile) cm2)
Entwick- Oberzuges (mg/929
ler (Gew. -Teile) cm2)
.Entwicklungs-Substrat methode.
Nichtbild-Bildbereiche bereiche
Pressenversuch
15% Lithium-
phenolsulfonat
% Tergitol
NP-3 5
80% Wasser
phenolsulfonat
% Tergitol
NP-3 5
80% Wasser
Sensibilisator
Glycidylätherpolyepoxid
2-Hy 4 Sensibili-
<n droxy-4- sator
methoxy- 1 Glycidyl-5-sulfonätherposäure lyepoxid
5% Tergitol NP-35
10% Wasser
<n droxy-4- sator
methoxy- 1 Glycidyl-5-sulfonätherposäure lyepoxid
5% Tergitol NP-35
10% Wasser
Durch Entwicklung Bürsten von Hand gekörntes ,chemisch
geätztes analysiertes Aluminium , Natriumsilikat- zwischenschicht
geätztes analysiertes Aluminium , Natriumsilikat- zwischenschicht
Durch Entwicklung Bürsten von Hand gekörntes , chemisch
geätztes analysiertes Aluminium , Natriumsilikatzwischenschicht Grauskala zusammenhän
gend 6, auseinandergezo
gen 8, Bildreproduktion
ähnlich dem
Negativtransparent
geätztes analysiertes Aluminium , Natriumsilikatzwischenschicht Grauskala zusammenhän
gend 6, auseinandergezo
gen 8, Bildreproduktion
ähnlich dem
Negativtransparent
Kein Überzug blieb auf der Platte in den unbelichteten Bereichen
50OO Kopien auf der überpackten Presse, annehmbare
Reproduktion
Grauskala zusammenhän
gend 8f auseinandergezo
gen 14,Licht
höfe in TÖ-nungsbereichen infolge
ungenügender
Entwicklung
gend 8f auseinandergezo
gen 14,Licht
höfe in TÖ-nungsbereichen infolge
ungenügender
Entwicklung
Oberzug blieb auf der Platte in unbelichte ten Bereichen
5000 Kopien auf der überpackten Presse, die Nichtbildbereiche
zeigten auf der Kopie Schäumbildung
cn co co co
Die folgende Tabelle II enthält Vergleichswerte hinsichtlich
der Pressenleistung von Platten, die mit unterschiedlichen !Entwicklern
entwickelt wurden* Die erste Spalte in der Tabelle zeigt die Entwicklerzusammensetzlingen. Die Plattenüberzüge enthielten
die in der zweiten Spalte aufgeführten Bestandteile. Der Sensibilisator ist der gleiche wie der im obigen Beispiel 1. Das Überzugsgewicht
ist in mg/929 cm (Quadratfuß) angegeben. Die Entwicklungsmethode bestand in einer Aufbringung des Entwicklers von
Hand mit Hilfe eines Aufbringwischers oder maschinell, wie angegeben.
Die Bildbereiche und Nichtbildbereiche sind beschrieben. Die verwendete Grauskala ist eine 21-stufige Grautonskala, die
von Stoüffer Graphic Arts Equipment Company (South Bend, Indiana)
erhältlich ist. Eine allgemeine Diskussion der Brauchbarkeit der
Grauskalen findet sich .in "The Sensitivity Guide", Research Bulletin
No. 215, The Lithographie Technical Foundation, Inc. Der Versuch
wurde wie in Beispiel 23 durchgeführt*
9 it Q/ 10fr
Entwickler
Zusammensetzung überzugsdea Platten- gewicht
Überzugs (mg/929 (Gew.-Teile) cm2)
Entwicklungs-Substrat methode
Nichtbild-Bildbereiche bereiche Pressenversuch
15 % Li- 2 Sensiblli
thiumbenzoat
5 % Hexylenglycol
80 % Wasser
sator 1 Glycidyl-
ätherpo-
lyepokid 1/2 Formvar
12/85
75 Glattes, Automatische chemisch Maschine geätztes anodisiertes
Aluminium,Natriumsilikatzwischen- schicht
15 % ToIuolsulfonsäure-Natriumsalz 5 % Hexy-IyengIycol
80 % Wasser
Grauskala zusammenhän gend 7,auseinandergezogen
IO, Halbtonreproduktion ähnlich Negativtransparent
Grauskala zusammenhän gend 2, auseinanderge zogen 4,
Halbtonreprpduktion Verschärfung der Rastertönungen
Kein über- 5000 Kopien zug blieb auf der überauf
der packten Presse, Platten- " annehmbare Reoberfläche produktion in den unbelichte
ten Bereichen
Kein Überzug blieb auf der Plattenoberfläche in den unbelichte
ten Bereichen
5000 Kopien auf der überpackten Presse, langsame Druckf arbenaufnähme,
vorzeitiger Zusammenbruch der Rastertönungsbeildbereiche
CO CD CO /Ό
Entwiok-
20 5,Lithiumdo-■$ecanoat 5 % Duponol
C-20 75 % Wasser
Zusammensetzung Überzugs· des Platten- gewicht
Überzugs (mg/929 (Gew.-TeIIe) cm-2)
cn 25 ί Noro>
malpropyialko-
5 % Öupo-,nol
Cr 20 7ö % was-
Entwicklungs-Substrat methode
Nichtbild-BiIdbereiche
bereiche
Pressenversuch
2 Sensibilisator
1 Glycidylätherpolyepoxid
1 .Pormvar 12/85
100
Durch Handentwick- | Grauskala- | Kein Über | 5000 Kopien auf |
Bürsteh lung | zusammenhän- | zug blieb | der überpackten |
gekörn | gend 6,aus- ■ | auf der | Presse, annehm |
tes ,che | einandergezo- | Platte in | bare Reproduk |
misch | gen 8, Bild | den unbe | tion |
geätztes, | reproduktion | lichteten | |
anödi- | ähnlich dem1 | Bereichen | |
siertes | Negativ | ||
Alumini- | transparent | ||
umr Na- | |||
triumsi=· k | |||
likatzwi- | |||
sehen- | |||
Schicht |
Grauskala zusammenhän
gend 2, auseinandergezo
gen 4, Verschärfung
der Halbtonraster in
den belichteten Bildbereichen
gend 2, auseinandergezo
gen 4, Verschärfung
der Halbtonraster in
den belichteten Bildbereichen
Überzug blieb auf der Platte in den unbelichte
ten Bereichen
5OOO Kopien auf der Überpackten Presse, Nichtbildbereiohe
zeigten Schaumbildung, vorzeitiger Zusammenbruch der Bildbereiche
cn co co
Jeweils eine Oberfläche von zwei Alximiniumplatten wurde durch
Bürsten gekörnt, anodisiert und chemisch mit Kaliumzirkonfluorid
behandelt, um einen Oberzug zu bilden, der als eine Zwischenschicht
In den fertigen Platten fungiert. Die behandelten Plattenoberflächen
wurden dann mit Hilfe eines Wirbiers mit einem
lichtempfindlichen überzug beschichtet, der aus vier Teilen
Sensibilisator (Additionsprodukt von 2-Hydroxy-4-methoxy-benzopherion-5-sulfonsäure
und para-Diazodiphenylamin-Formaldehyd-Kondensat)
und einem Teil Glycidylätherpolyepoxid bestand. Der Oberzug auf einer Platte besaß ein Gewicht von etwa 100 mg/929
2
cm (Quadratfuß). Der Oberzug auf der anderen Platte besaß ein
cm (Quadratfuß). Der Oberzug auf der anderen Platte besaß ein
■ 2
Gewicht von etwa 50 mg/929 cm . Nach dem Belichten der Platten (die etwa 3 Monate gealtert worden waren) mit Ultraviolettlicht während 2 Minuten durch ein Negativtransparent wurden die unbelichteten Bereiche der Platten leicht mit den folgenden Entwicklern entfernt und ergaben gewerblich verwertbare lithographische Platten:
Gewicht von etwa 50 mg/929 cm . Nach dem Belichten der Platten (die etwa 3 Monate gealtert worden waren) mit Ultraviolettlicht während 2 Minuten durch ein Negativtransparent wurden die unbelichteten Bereiche der Platten leicht mit den folgenden Entwicklern entfernt und ergaben gewerblich verwertbare lithographische Platten:
a) 30 % Natriumsalz von 2-Capry1-1-(äthyl-ß-oxypropansäure)-
imidazolin
70 % Wasser
b) 50 % Natriumsalz von 2-Capryl-l-(äthyl-ß-oxypropansäure)-
imidazolin
50 % Wasser
Die Entwicklung war schneller mit dem Entwickler b). Einzelheiten über den Versuch sind in Tabelle III aufgeführt.
40983071056
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et
et
Die obige Tabelle III enthält Werte für die Pressenleistung
von Platten, die mit den verschiedenen Entwicklern entwickelt
wurden. Die Entwickiungsmethpde war eine Aufbringung des Entwicklers von Hand mit Hilfe»eines Aufbringwischers. Die Bildbereiche
und die Nichtbildbereiche sind beschrieben. Die verwendete Grauskala ist eine kontinuierliche 21-stufige Grautonskala,
die von Stpuffer Graphic Arts Equipment Company (South Bend,
Indiana) erhältlich ist. Der Pressenversuch erfolgte, wie in
Beispiel 23 beschrieben.
Das Verfahren des Beispiels 25 wurde wiederholt, um Platten mit
den angegebenen öberzjugsgewichten herzustellen, und diese Platten
wurden dann mit Entwicklern entwickelt, wie in Beispiel 25 beschrieben ist, doch besaßen diese Entwickler pH^-Werte, die mit
4 %-iger Phosphorsäure auf 4 eingestellt waren. Die entwickelten Platten wurden gemäß dem Verfahren des Beispiels 25 bewertet,
wobei man fand, daß sie ähnlich den entwickelten Platten des Beispiels
25 waren.
Die Verfahren des Beispiels 25 wurden wiederholt, doch war der
Entwickler wie in Tabelle IV angegeben zusammengesetzt. Die Ergebnisse
sind ebenfalls in der Tabelle IV zusammengestellt.
Vergleichswert® bei der Plattenentwicklung bei 2-minütiger Belichtung in einem Belichtungsrahmen Nu Arc (Kohlenbogen)
Entwickler+ ,
Zusammensetzung Überzugades Platten- gewicht Überzugs (mg/929
(Gew.-Teile) cm^)
Entwicklungs-Substrat methode
Nichtbild-Bildbereiche bereiche Pressenversuch
20 ampho- 4
teres
teres
Sensibilisator .
50
oberflä- 1 Glydicylchenakti- ätherpo-
ves Mi t-
lyepoxid
10 % Natriumsalz
von Xylol·-
sulfonsäu-
von Xylol·-
sulfonsäu-
re
70 % Wasser
Durch Bürsten
gekörntes anödisJLer.-;
tes' Aluminium, Kaliumzirkonfluoridswi
sehenschicht'
Von Hand unter Verwendung einer Standardaufbringein richtung
100
) pH 10,5 bis 11
) Natriumsalz von 2-Capryl~l-(äthyl-S-oxypropanaäur@)-imidazolin
Presse, gute Reproduktion
Grauskala - Kein über- 5000 Kopien auf
zusammenhän- zug blieb der überpackten gend 3, aus- auf der
einandergezo Platte in gen 7, Halb- den unbetonreproduk- lichteten
tion (133 Bereichen Linien je 2,5 cm Raster 5 bis 90 %)" ähnlichdem
Negativtransparent
Grauskala - " zusammenhängend 2, auseinander
ge zo gen 6, HaIbssonreproduktion (133 Linien/2,5 cm
Raster 5 bis 90 %) ähnlich dem Negativtransparent
N3
cn co co co
Das Verfahren des Beispiels 25 wurde wiederholt, doch enthielt der Entwickler IO % des amphoteren oberflächenaktiven Mittels,
20 % Normalpropylalkohol und 5 % Benzylalkohol und als Rest Wasser. Die entwickelte Platte war brauchbar für die Verwendung in
gewerblicher Lithographie.
Eineyorsensibilisierte lithographische Platte Encö^N-2 der
Azoplate Corporation wurde mit Ultraviolettlicht durch ein Negätivtransparent
während 2 Minuten belichtet. Sodann wurde die Platte mit dem Entwickler des Beispiels 28 entwickelt. Die Platte
ließ sich leicht entwickeln und ergab eine gewerblich verwertbare lithographische Platte.
Das Verfahren des Beispiels 29 wurde wiederholt, doch wurde anstelle
der Enco-Platte eine vorsenslbillslerte lithographische Platte "R" der 3 M Company verwendet. Die Ergebnisse waren ähnlich.
Ein Parbprüfsatz, der gemäß der technischen Lehre der britischen
Patentschrift 1 191 659 hergestellt worden war und aus gelb, cyan
,magenta und schwarz vorsensibilierten Transparenten auf Polyesterbasis
bestand, wurde belichtet und zwar jedes Transparent mit seinem entsprechenden Parbetrennegativ. Jedes belichtete
Transparent wurde seinerseits mit dem Entwickler gemäß Beispiel
28 entwickelt. Nach dem Trocknen und bei geeigneter Registrierung
409820/1056
2353932
ergab der Satz der belichtetem und entwickelten Transparente
eine sehr gute Annäherung oder Prüfung des fertigen Vierfabdruckes * .
Eine positiv wirkende vorsensibilisierte lithographische Platte
PA 200 der Äzoplate Corporatioii wurde mit öltraviolettlicht
durch ein positives photog-raphisches Transparent belichtet* Die
belichtete Platte wurde mit dem Entwickler des Beispiels' 28
entwickelt« . . ■
Sie Verfahren des Beispiels 28 wurden wiederholtr doch wurde
eine Platte Lydel (Handelsname) der Firma düPont belichtet und
entwickelt* Die entwickelte Fla-tte erwies sich als; geeignet
für gewerbliche Verwendungin der Lithographie,
B^eis-piel 34
Die ers^te Platte in der f ©If en-deii Tabelle V w/urde f ©Igenderma-!
ß,en hergestellt5
Oberfläche ei?i?r Alumi;^iup^latte wurde durch Biiraten
atf anpdisiert uäd cjbieniisch r»it Ka:liüpzirkonfluoriel
deltr unt ein;en tlberzug zu bildenr der in der fertigen Platte
als; §w4scjhenschiGht fungiert,. IJIe behandeiite Plattenpbeff ISctie
wurde dann mit einem: lic|itejEnpf j|ndlic?hen, iiberzug; versiehepjf der
vier feile Sensibilisator f|^|^iönspro:d5ttfct ^on. %-l
^S^SfUlfo^tsiSure undi
γ und= eitt
umfaßte.. Der Überzug auf der Platte besaß ein Gewicht von etwa
50 mg/929 cm (Quadratfuß). Nach dem Belichten der Platte (die etwa 3 Monate gealtert worden war) mit ültraviolettlicht während
2 Minuten durch ein Negativtransparent wurden die unbelichteten Bereiche der Platte leicht mit dem angegebenen Entwickler entfernt,
wobei man gewerblich verwertbare lithographische Platten
erhielt.
409820/10-5$
Tabelle V
Amphoterer Univearsalentwickler
Amphoterer Univearsalentwickler
Entwicklerzusammensetzung; . · ■
a) 10 % Natriumsalz von 2-Capryl-.l-(äthyl-ß-oxypropansäure) -imidazolin
b) 5 % Lithiumbenzoat
c). 20 % Normalpropylalkohol
d) 40 % Benzylalkohol
e)' 25 % Wasser ■■ . . , . ■ ' '' ■ ,' ■ · '
Belichtung 2 Minuten mit Nu Arc
Platte
Be- Punktzeich- Alte- Trans- Linien- quali- Graunung
rung parent raster tat skala
4 Sensi | S | 3 Mon. | Negativ | 133 | gut | zusam | 4 | 8 | 9 | gut | |
5-90 % | menhän | ausein- | 9 | 10 | |||||||
O | bilisator | K | gend | .ander | 7 | 10 | |||||
co | 1 Glyci- | gezogen 7 |
8 | 12 | |||||||
KJU PO |
dylMther | T | züs. | 9 | |||||||
O, | polyep- | aus. | 11 | ||||||||
_» O |
okid | N-25 | 7 | Negativ | 133 | gut | zus. | 9 | gut | ||
(Xl | 3M | 5-90 % | aus. | 11 | |||||||
σ> | N-50 | : ·.? | Il | π | ' Il | ZUS . | 10 | 11 | |||
3M | aus. | 4 | |||||||||
' N-IOO | ? | η | ή | «» | zus. | 9 | It | ||||
3M | aus. | 5 | |||||||||
PA-200 | ? | ti | I! | η | zus. | 6 | ti | ||||
Eneo | aus. | 9 | |||||||||
PA-400 | 7 | ti , . | η | η | zus. | Ii. | |||||
Eaco | • | aus. | |||||||||
Lydel | • 7 | Il | ti ■ | η | zus. | H | |||||
Encö | aus. | ||||||||||
7 | Positiv | Il | ■ ιί | zus. | Il | ||||||
Enco | aus. | ||||||||||
7 | N | Il | η | zus. | η | ||||||
Enco | aus. | ||||||||||
7. | Negativ | ir | Il | Il | |||||||
duPont | |||||||||||
Punkterhaltung Hintergrund Presse
rein
5000·Kopien gute
Reproduktion
Reproduktion
rein
U) CD CD
Die obige Tabelle V zeigt die Werte bezüglich der Pressenleistung
von Platten, die mit dem betreffenden Entwickler entwikkelt
wurden. Die Entwickelmethode war eine Aufbringung des Entwicklers
von Hand mit einem Aufbringwischer. Die Bildflächen und die Nichtbildflächen sind beschrieben. Die verwendete Grauskala
ist eine kontinuierlich 21-stufige Grautonskala, die von
der Stouffer Graphic Arts Equipment Company (South Bend, Indiana)
erhältlich ist. Der Pressenversuch erfolgte/ wie in Beispiel 23 beschrieben ist.
Die folgende Tabelle VI gibt die Werte bezüglich der Pressenleistung
von Platten, die mit einem anderen Entwickler entwikkelt
wurden, wieder.
409820/10-5
Amphoteres oberflächenaktives Mittel und, Lithiumbenzoat
Entwicklerzusammensetzung:
a) 20 % Natriumsalz von 2-Gaprylwl^(äthyl^ß^oxypropansä,ure)'-;iinidazolin
b) 5," % Lithiumbenzoat
q) 75 % Wasser .
CD CO |
Platte | Alterung |
OO | ||
Gleich | 3 Monate | |
wie die | ||
*>> ■ | erste | |
""■* | in Ta | |
cn | belle V | |
o> |
2-minütiges Belichten mit Nu Arc
(Kohlenbpgen)
(Kohlenbpgen)
Linien- Entwicklungs- Grau-Transparent raster gualltät
skala
Negativ
133
5-90 %
5-90 %
gut
zusammenhan gend 4 ausein ander-Punkterhaltung
gut
Hinter
grund
grund
gut
Presse
5000
gut
gut
cn co CO
CO
Claims (26)
- Patentansprüche1/. Verfahren zur Entwicklung eines belichteten Diazo-sensibilisierten lichtempfindlichen Überzugs auf einem Substrat unter Entfernung der Nichtbildflächen hiervon, dadurch gekennzeichnet, daß man die belichtete Oberfläche der Platte mit einer wäßrigen Lösung eines wasserlöslichen Lithiumsalzes einer organischen Verbindung mit 1 bis etwa 36 Kohlenstoffatomen und wenigstens einem sauren Wasserstoffatom und/oder mit einem amphoteren oberflächenaktiven Mittel behandelt und die Lösung mit dem Sensibilisator von den Michtbildflachen der Platte entfernt.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, in der das lithiumorganische Salz 2 bis etwa 36, vorzugsweise 4 bis etwa 36, besonders etwa 7 bis 18 Kohlenstoff atome enthält.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, in der das lithiumorganische Salz Lithlumformiat, Lithiumchloracetat, Lithiumdichloracetat, Lithiumtrichloracetat, Lithiumbenζoat, Lithiumnaphthenat, Lithiumdodecanoat, Lithiumricinoleat, Lithiumlaurylsulfonat, Lithiumacetylsalicylat, Lithiumlaurylsulf at,, Lithiumphenolat, Lithium-1-phenanthrolat, Lithium-o-nitrophenolat, Lithiumcatecholatf Lithium-2,4,6-trinitrobenzoat, Lithiumphenolsulfonat, Lithiumpi-. crat, Lithiumtoluolsulfonat, Lithiumxyiolsulfonat, Lithiumresorcinatst Lithiumxylenolate, Lithiumcaprylate, die Mono- undDilithiumsalze von Zitronensäure, Maleinsäure oder Apfelsäure, Li-A09820/1056thiumstearat, Lithiumoleat, Lithium-p-hitrotoluol-ortho-sulfonate, Lithiumtoluolsulfonat, Lithium-1-butansulfonat, Lithiumbenzolsulfonat, Lithiumdodecylbenzolsulfonat, Lithium-2,5-dichlorbenzolsulfonat oder Lithium-2^-dinitro-l-napthol-V-sülfonat ist.
- 4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daßman eine Lösung verwendet, die etwa 1 bis 25 Gewichts-%, vorzugsweise etwa 5 bis 25 Gewichts-% des lithiumorganischen Salzes, bezogen auf die Wassermenge der Lösung?enthält=
- 5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, in der das amphotere oberflächenaktive Mittel 2-Alkyl-l-(äthyl-ß-oxypropansäure)-imidazolin ist, worin die Alkylgruppe etwa 6 bis 20, vorzugsweise etwa 6 bis 18, besonders etwa 7 bis 18 Kohlenstoffatome enthält.
- 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,.daß man eine Lösung verwendet, in der das amphotere oberflächenaktive Mittel das Natriumsalz von 2-Capryl-l-(äthyl-ß-oxypropansäure)-imidazolin oder das innere Salz von 2-Kokosnuß-l-(äthyl-ß-oxypropan-säure)-imidazolin ist.
- 7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß man eine konzentrierte Entwicklerlösung verwendet, die bis zu etwa 5O Gewichts-% des amphoteren oberflächenaktiven Mittels, bezogen auf die Wassermenge darin, enthält.
- 8. Verfahren nach "Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösungsverwendet, die etwa 1 bis 30, vorzugsweise etwa 5 bis 25 Gewichts-% des amphoteren oberflächenaktiven Mittels, bezogen auf die Wassermenge der Lösung enthält„409 82Ό/Ί0 56 , .
- 9. Verfahren nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, die bis zu etwa 30 Gewichts-%, vorzugsweise bis zu etwa 25 Gewichts-%, besonders bis zu etwa 10 Gewichts-% eines mit Wasser mischbaren Lösungsmittels für den lichtempfindlichen überzug, bis zu etwa 10 Gewichts-% eines oberflächenaktiven Mittels oder bis zu etwa 5 Gewichts-% Phosphorsäure oder Oxalsäure enthält.
- 10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, die Benzylalkohol, Normalpropylalkohol, Isopropanol, Cyclohexanon, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Dioxan und/oder Methylcellosolve enthält.
- 11. Verfahren nach Anspruch 1 bis IO, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, die bis zu etwa IO Gewichts-% eines anionischen oberflächenaktiven Mittels enthält.
- 12. Verfahren nach Anspruch 1 bis 11? dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, die bis zu etwa 5 Gewichts-% eines nichtionischen, anionischen oder kationischen oberflächenaktiven Mittels enthält.
- 13. Verfahren nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß man einen lichtempfindlichen überzug behandelt, der ein Reaktions-• produkt eines Diazo-aromatischen Polymers und einer hydroxylhaltigen Verbindung oder einer sulfonsäurehaltigen Verbindung ist.
- 14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß man einen überzug behandelt, in dem das Diazo-aromatische Polymer aus para-Diazodiphenylamin und reaktiven carbonylhaltigen Verbindungen erhalten worden ist.409820/1056 .2353892
- 15. Verfahren nach Anspruch-.-JL bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß man eine lithographische Platte oder ein Probedrycksystern feehandelt, die, negativ wirkend sind und deren lichtempfindlicher überzug im wesentlichen wasserunlöslich und lösungsmittelunlöslich ist oder die positiv wirkend sind, wobei man im letzteren Falle eine, wäßrige Lösung mit einem pH-Wert von wenigstens etwa 12
- 16, Entwickler zur purehftihrung des Verfahrens nach Anspruch 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß er aus einer wäßrigen Losung eines wasserlösliehen Xithiumorganischen Salzes einer organischen Verbindung mit. 1 bis etwa 36 Kohlenstoffatomen und mit nigstens einem sauren Wasserstoffatom und/oder eines amphoteren oberflächenaktiven Mittels besteht. ,
- 17,. Entwicklier nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß das li thiumorganische Salz 2 bis 36, vorzugsweise 4 bis 36, besonders 7 bis l§ Kohlenstoffatome enthält. ,
- 18. Entwickler nach Anspriich 16 und 17, dadurch gekennzeichnet, daß er als lithiumorganisches Salz Lithiumformiat* i tat, Iiithiumdichloracetat, Lithiumtrichloracetat, at, Lithiumnaphthenate, Iiithiumdodecanoat, Lithiumrdcinoleat, Iiithiumlaurylsulfonat, Lithiumaeetylsaiicylat, Iiithiumlaurylsulf at, Lithiumphenolat, %±thium-1 -"-phenanthrolat, hithium-onitrQphenolat, Dilithiumeateqholatr Iiithium-2,4,6-trinitrobenzoat ,· Lithiumphenolsulfonat, 'Lithiumpicrati Iiithiumtpl.uQls.ulfonat, Lithiuiracylplsulfonat, Lithiumresorcinate, Lithiumxylenolate, Lithiuracaprylate, die Wono«und Dilithiumsalze von ZÜtronensäure, Maleinsäure oder Apfelsäure, Lithiumstearat, Lithiumoleat,4Q982!0/1 OSSLithium-p-nitrQtoluQl-Qrtho-sulfonate, Lithiumtoluolsulfonat, Lithium-1-butansulfonat, Lithiumbenzolsulfonat, Lithiumdodecylbenzolsulfonat, Iiithium-Z^-dichlorbenzolsulfonat oder Lithium-2,,4-dinitro-l-naphthol-7-sulfonat oder ein Lithiumsalz von sulfonlertem Castoröl enthält.
- 19. Entwickler nach Anspruch 16 bis 18, dadurch gekennzeichnet« daß er etwa 1 bis 25, vorzugsweise etwa 5 bis 25 Gewichts-% des Iithiumorganischen Salzes, bezogen auf die enthaltene Wassermenge, enthält.
- 20. Entwickler nach Anspruch 16 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß er als amphoteres oberflächenaktives Mittel ein 2-Alkyl-l- · (äthyl-ß-oxypropansäure)-iniidazolin enthält, dessen Alky!gruppe 6 bis 20, vorzugsweise 6 bis 18, insbesondere 7 bis 18 Kohlenstoffatome umfaßt.
- 21. Entwickler nach Anspruch 2O, dadurch gekennzeichnet, daß er als amphoteres oberflächenaktives Mittel das Natriumsalz von 2-Capryl-1-(äthyl-ß-oxypropansäure)-imidazolin oder das innere Salz von 2-Kokosnuß-l-(äthyl-ß-oxypropansäure)-imidazolin enthält.
- 22. Entwickler nach Anspruch 16 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu etwa 50, vorzugsweise etwa 1 bis 3Or insbesondere etwa 5 bis 25 Gewichts-% des amphoteren oberflächenaktiven Mittels, bezogen auf die enthaltene Wassermenge enthält.
- 23. Entwickler nach Anspruch 16 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu etwa 30 Gewichts-% eines mit Waser mischbaren Lösungs-mittels für den lichtempfindlichen überzug, bis zu etwa 10 Gewicht8-% eines nichtionischen, anionischen oder kationischen4 0 9 8 20/1056oberflächenaktiven Mittels oder bis zu etwa 5 Gewichts-% Phosphorsäure oder Öxalsure enthält.
- 24. Entwickler nach Anspruch 16 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu etwa 25 Gewichts-%, vorzugsweise bis zu etwa 10 Gewichts-% eines Lösungsmittels für den lichtempfindlichen Oberzug enthält.
- 25. Entwickler nach Anspruch 23 und 24, dadurch gekennzeichnet, daß er Benzylalkohol, Normalpropylalkohol, Isopropanol, Cyclohexanon, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Dioxan und/oder Methylcellosolve enthält.
- 26. Entwickler nach Anspruch 16 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu etwa 5 Gewichts-% eines nichtionischen, anionischen oder kationischen oberflächenaktiven Mittels enthält.0/1056-;
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