DE2353992C2 - Wäßriger Eintwickler für Flachdruckplatten und dessen Verwendung - Google Patents
Wäßriger Eintwickler für Flachdruckplatten und dessen VerwendungInfo
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Description
35
Die Erfindung betrifft wäßrige Entwickler für Flachdruckplatten, die In ihrer lichtempfindlichen Schicht als
Sensibilisator eine Dlazoverblndung enthalten.
Die DE-AS 11 93 366 beschreibt wäßrige Entwickler,
die eine alkalische Verbindung und eine Verbindung von to Beryllium, Quecksilber, Calcium, Strontium, Barium,
Wismut oder Lanthan enthalten. Aus der DE-OS 24 672 sind wäßrige Entwickler bekannt, die eine freie
Sulfonsäure oder ein Natriumsalz einer Sulfonsäurc enthalten. *">
Freie Sulfonsäure enthaltende Entwickler sind relativ
stark korrodierend und neigen dazu, das Lager der Entwicklungsapparatur, Leitungen und andere Metallteile zu
zerstören. Außerdem zersetzen sich Sulfonsäuren und fällen dabei Benetzungsmittel aus, die häufig In Entwlck- w
lern enthalten sind, was zu unerwünschter Schaumbildung führt. Natriumsalze von Sulfonsäuren ergeben
einen schmutzigen Hintergrund auf der Platte, und außerdem ergeben Sulfonsäuren und deren Natriumsalze
eine unerwünschte Verschärfung der Halbtonpunkte.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe bestand
nun darin, verbesserte wäßrige Entwickler für Flachdruckplatten mit einer Dlazoverblndung t.i Ihrer lichtempfindlichen Schicht zu bekommen, die weniger korrodierend wirken und nicht die genannten unerwünschten
Wirkungen von Sulfonsäuren und deren Nätrlumsalzen
haben.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst,
daß der Entwickler In Lösung ein wasserlösliches Llthlumsalz einer organischen Verbindung mit 1 bis 36 Koh-
lenstoffatomen enthält.
Die Entwickler nach der Erfindung können auch Benetzungsmittel und andere Komponenten enthalten.
um die Zeit, die für die Entwicklung der Flachdruckplatte erforderlich 1st, herabzusetzen oder um andere
Eigenschaften der Entwickler zu modifizieren.
Mit den erfindungsgemäßen Entwicklern können Flachdruckplatten mit negativ wirkenden oder positiv
wirkenden Diazoniumverbindungen entwickelt werden. Die üblichsten negativ wirkenden Diazoverbindungen
sind Paradlazodlphenylamin und Derivate desselben,
besonders selche, die mit organischen Carbonylverblndungen umgesetzt wurden, wie beispielsweise mit
Aldehyden und Acetalen, besonders mit Formaldehyd und Paraformaldehyd. (Siehe z.B. die US-PS 29 22 715
und 29 46 683.)
Beispiele positiv wirkender Diazoverbindungen sind in
der US-PS 35 44 317 beschrieben.
Beispiele wasserlöslicher Lithiumsalze, die In den Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können,
sind die Lithiumsalze organischer Vermeidungen mit Carbonsäuregruppen, Sulfonsäuregruppen, Schwefelsäuregruppen oder phenolischen Hydroxylgruppen. Speziellere Beispiele der Lithiumsalze sind jene, die durch die
folgenden allgemeinen Formeln wiedergegeben werden können:
Il
I. M(CHj),,(CH=CHyCHSq,Ll)fC — O — Li
II. M(CHj)0(CH=CH)4(CH3SOjLlVC-O-SO3-Li
III. Dlmere von Verbindungen der Formel I oder II oder
der Formel I und II, die über eine Diels-Alder-Reaktion hergestellt werden können.
Die Lithiumsalze besitzen idealisierte Formeln, wie
folgende:
Il
I I
M(CHA-CH CH-(CHi)7COLi
C =CH
In den Formeln I, II und III bedeutet M: —H, -OH,
-COOH,
O
' Il
-COLi
-C—O—SOj—Ll oder CH3; a: eine ganze Zahl von O bis
17; b: eine ganze Zahl von O bis 3; c: eine ganze Zahl von
O bis 3; die Summe von b und c: eine ganze Zahl von O
bis 3; und die Summe von a, b unc c kann maximal 17
sein, wenn M H oder OH bedeutet, und maximal 16 sein,
wenn M eine der anderen Gruppen Ist.
° .„ OLi
iv. Il Vi
/\ Il
( V-C-OLi
I J—C-OLi
I J—C-OLi
\/ Il
C-OLi
VII.
SO3Li y
OLi
χ υ
In den Formeln IV bis X kann X oder Y oder Z unabhängig von den anderen —H, —OLi, —SO3Ll oder
O
Il
— C-OLi
—OH, -NO2, -Ci, —Br, -COOH odsr -(CH2^CH3
sein, worin rf eine ganze Zahl von O bis 17 Ist, wobei aber
die Gesamtzahl der Kohlenstoffatome dieser Verbindungen die Zahl 36 nicht Oberschreitet.
Außer den In den obigen Formeln angegebenen funktlonellen Gruppen können die Llthlumsalze in Ihren
organischen Resten auch andere funktionell Gruppen enthalten, die Ihre Leistung In den Entwicklern nach der
Erfindung nicht nachteilig beeinflussen, wie beispielsweise Hydroxylgruppen, Methoxygruppen, Äthoxygruppen, Nitrogruppen ode Kalogenatome.
Beispiele spezieller wasserlöslicher Llthlumsalze, die In
den neuen Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind Llthlumformlai, Llthlumchloracetat, Lllhlumdlchloracetat, Llthlumtrichlo.acetat, Llthlumbenzoat, Llthlumnaphthenate, Llthlumdodecanoat,
Llthlumrlclnoleat, Llthlumlaurylsulfonat, Llthlumacetylsallcylat, Llthiumlaurylsulfat, Llthlumphenolat, Llthlum-1-phenanthrolat, Llthlum-O-nltrophenolat, Dlllthlumcatecholat, LlthlumJ^.o-trinltrobenzoat, Llthlumphenolsulfonat, Llthlumplcrat, Llthlumtoluolsulfonat, Llthlumxylolsulfonat, Llthlumrescorclnate, Llthiumxylolenolate,
Lithlumcaprylate, die Mono- und Dlllthlumsalze von Dicarbonsäuren, wie Zitronensäure, Maleinsäure und
Apfelsäure, Llthlumstearat, Llthlumoleat, Llthlum-p-nltrotoluolorthosulfonate, Llthlumtoluolsulfonat, Llthlum-1-butansulfonat, Lithlumbenzolsulfonat, Llthlumdodecylbenzolsulfonat, Llthlum^^-dlchlorbenzolsulfonat,
Llthlum-2,4-dlnltro-l-naphthol-7-sulfonat oder Llthlumsalz von sulfonlertem Rizinusöl.
Vorzugswelse enthalten die organischen Verbindungen
2 bis 36, besonders 4 bis 36 und am meisten bevorzugt 7 bis 18 Kohlenstoffatome. Die am meisten bevorzugten
Llthlumsalze sind Llthlumbenzoat, Llthlumphenolsulfonat, Llthlumlaurylsulfat und Llthlumdodecanoat. Zweckmäßig enthalten die Entwickler nach der Erfindung
zusätzlich ein amphoteres oberflächenaktives Mittel.
Amphoter«; oberflächenaktive Mittel werden so bezeichnet, da sie sowohl anionische als auch kanonische Gruppen enthalten. Sie benehmen sich wie kationische oberflächenaktive Mittel In sauren Medien und wie anlonlsche oberflächenaktive Mittel In alkalischen Lösungen.
Eine charakteristische Eigenschaft amphoterer oberflächenaktiver Mittel Ist die Tatsache, daß sie einen Isoelektrischen Punkt besitzen, bei dem das Produkt Innerlich
neutralisiert Ist und ein Zwitterion bildet. An diesem
Punkt besitzen amphotere Stoffe häufig eine minimale
Löslichkeit, Schaum-, Benetzungs- und Oberflächenspannungsvermlnderung. In neutralen oder leicht alkalischen
Lösungen besitzen sie starke Schäumungs- und. Reinigungsmitteleigenschaften anlonlscher oberflächenaktiver
Stoffe, während sie Substantlvität gegenüber Fasern,
Metallen und dergleichen haben, die gewöhnlich mit kationischen Mitteln verbunden Ist.
Der kationische Charakter von ampholeren Stoffen Ist
auf basischen Stickstoff zurückzuführen, der als prlmä
rer, sekundärer, tertiärer oder quaternärer Stickstoff vor
liegen kann. Der anionische Teil kann sich von einem Carboxyl-, Sulfat-, Sulfonat- oder Phosphatrest herleiten.
Die amphoteren oberflächenaktiven Mittel sollten eine
Alkylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen enthalten.
is Be'splele der amphoteren oberflächenaktiven Mittel,
die In den Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind jene, die auf substituierten ImIdazollnen basieren. Diese können durch Umsetzung langkettlger Imidazoline mit halogenlerten oder organischen
Zwischenprodukten mit Carboxyl-, Phosphorsäure- oder Sulfonsäuregruppen hergestellt werden. Bevorzugte oberflächenaktive Mitte! auf Irnidazoünbasis, die verwendet
werden können, sind beispielsweise folgende:
R-C=N-CH2
\ I
N-CH2
C2H4SO3H
,N-CH2
R-C
\n-
CH2
und Ihre Natriumsalze, worin R die nachfolgende Bedeutung hat.
Eine andere Klasse amphoterer oberflächenaktiver Stoffe, die verwendet werden können, sind ß-Alanlnderlvate der folgenden Formeln RNHCh2CH2COOX und
RN(CH2Ch2COOX)2. In diesen Formeln bedeutet R eine
aliphatisch^ Kohlenwasserstoffkette mit etwa 6 bis 20
Kohlenstoffatomen, wie einen Octyl-, Nonyl-, Decyl-,
Undecyl-, Dodecyl-. Trldecyl-, Tetradecyl-, Pentadecyl-, Hexadecyl-, Heptadecyl- oder Octadecylrest, X bedeutet
ein Wasserstoffatom oder ein Kation, wie ein Alkallkation, z. B. Natrium, Kalium, Lithium, ein Ammoniumkation oder ein organisches Amlnkation, wie das
Kation von Diäthanolamin, Trläthylamln, Triäthanolamln, Morpholln oder Piperidin. Diese Verbindungen
werden durch Umsetzung eines primären Amins mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen mit Chlorproplonsäure
oder Brompropionsäure In Gegenwart von Alkall, wie
Natriumhydroxid oder Kaliumcarbonat, hergestellt. Sie können auch gemäß der In der US-PS 24 68 012 beschrle
benen Methode hergestellt werden.
Die aus Kokosnuß, Sojabohnen oder Talg erhaltenen
Amingemische können dabei mit Erfolg verwendet werden.
Andere brauchbare amphotere Verbindungen sind bel
spielsweise folgende:
CnHnNH · CK2CH2COONa
Natrlum-N-dodecyl-ß-amlnoproplonat
C10H21NH CH2CH2COOH
N-Decyl-ß-amlnoproplonsäure
N-Decyl-ß-amlnoproplonsäure
C14H24NH · CH2CH2COOK
Kallum-N-tetradecyl-ß-arnlnopropiüP.a!
Kallum-N-tetradecyl-ß-arnlnopropiüP.a!
C16H33NH · CH2CH2COONa
Natrium-N-hexadecyl-ß-anilnopropionat
C18H37NH - CH2CH2COONa
Natrlum-N-octadecyl-ß-amlnoproplonat
Natrlum-N-octadecyl-ß-amlnoproplonat
C,,H,5N ■ CH2CH2COONa
CH2CH2COOH
Mononatriumsalz von N-Dodecyl-ß-amlnodlproplonpt
CH2CH2COONa
C18H37N
C18H37N
CH2CH2COONa
Dinalrium-N-octadecy.'.-ß-aminodlpropIonat
Dinalrium-N-octadecy.'.-ß-aminodlpropIonat
Eine weitere Klasse brauchbarer arr:photerer oberflächenaktiver
Stoffe umfaßt die Betainderlvate der allgemeinen
Formel
R1 N-CH2-COO
CH3 CH3
worin R1 einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit
etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen bedeutet. Diese Betainverbindungen
gewinnt man durch Umsetzung eines tertiären Höheralkylamlns, wie Dodecyldlmethylamln, Tetradecyldimethylamln
oder Hexadecyldiäthylamin, mit
Chloressigsäure oder durch Kondensation des tertiären Amins mit einem halogenierten Carbonsäureester und
Verseifung des Esters gemäß der US-PS 20 82 275.
Die amphoteren oberflächenaktiven Mittel können entweder
JIeIn oder In Verbindung mit anderen oberflächenaktiven Mitteln oder Benetzungsmitteln verwendet
werden, wie mit den Taurlnen, Saponln oder Polyoxyäthylenderivaten
langkettlger Fettsäuren und Alkohole.
Die Wirtschaftlichkeit und die Löslichkeit des Llthlumsalzes
Im wäßrigen Entwickler bilden eine praktische Obergtenze für die Konzentration des Lithiumsalzes,
während die Entwicklungszelt hautpsächllch die Untergrenze
bestimmt. Beispielswelse bei Konzentrationen von etwa 1% liegt die Entwicklungszelt in der Größenordnung
von etwa 5 oti^r mehr Minuten, was vom Standpunkt
eines beschäftigten Lithographen übermäßig lang ist Im Vergleich mit den etwa 1,5 bis 2 Minuten, die
erwünscht sind. Dieser erwünschte Bereich der Entwicklungszelt kann mit den vorliegenden Entwicklersystemen
bei Lösungskonzentrationen von etwa 5 bis 25 Gew.-%
llthlumorganlscher Verbindung In der Lösung erhalten
werden. Der bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei etwa 10 bis 20%, was eine gute Entwicklungszelt In der
Größenordnung von etwa 1 Minute und außerdem ausreichend Wasser für die Auflösung und Entfernung des
unbelichteten Überzugs ohne das Erfordernis übermäßigen SpUlens ergibt.
Die gleichen Überlegungen gelten für die Konzentrationen
des amphoteren oberflächenaktiven Mittels. Beispielswelse bei Konzentrationen von etwa 1% lieg! die
Entwicklungszelt In der Größenordnung von etwa 5 cder
mehr Minuten, was. <om Standpunkt eines beschäftigten
Lithegrsprum ^u lang Ist. Der erwünschte Bereich der
Entwicklungszeit "on .1,5 bis 5 Minuten kann Lei
Lflsungskonzefltratiivi vur. otw 5 bis jj Gew.-* des
amphoteren oberflächenaktiven Mütels iw uer L".sung
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liegt bei etwa 10 bis 20*, was Entwicklungszelten In der
Größenordnung von etwa 1 Minute ergibt ur/i auch ausreichend
Wasser zur Auflösung und Entfernung des unbelichteten Überzugs ohne Erfordernis übermäßigen
Spülens liefert.
Der Entwickler nach der Erfindung kann 'n einer Konzentration bereitet werden, die direkt zur Entwicklung
von Flachdruckplatten geeignet ist, oder er kann als ein Konzentrat bereitet werden, das vorteilhaft für den
Transport und die Lagerung Ist. Vor der Verwendung wird das Konzentrat mit Wasser auf die erwünschte
Arbeltskonzentration verdünnt. Das Konzentrat kann bis
zu etwa dreimal so konzentriert wie die Arbeitslösung
sein. In dem Konzentrat können die amphoteren oberflächenaktlven Mittel und die Lithiumsalze jeder für sich In
einer Menge von etwa 15 bis 50°< vorliegen.
Es kann erwünscht sein. In die Entwicklerlösungen
auch noch andere Bestandteile einzuarbeiten, um die Entwicklung zu erleichtern. Solche Bestandteile sind belspielsweise
Lösungsmittel, Benetzungsmittel, oberflächenaktive Stoffe oder Metallrelniger. Beispielsweise,
doch nicht notwendigerweise, unterstützen bis zu etwa 30 Gew.-96 eines mit dem Wasser mischbaren Lösungsmittels
die Entfernung der Nichtbildbereiche und ir.sbesondere unterstützen sie die Auflösung von organischem
Harz, das entweder mit der Dlazoverblndung in dem Überzug auf der Platte vermischt Ist oder als Überzug
über der Dlazoverbindung vorliegt. Vorzugswelse werden bis zu 25%, besonders bevorzugt bis zu 20% und am meisten
bevorzugt etwa 5 bis 15% Lösungsmittel verwendet,
wie Cyclohexanon, Benzylalkohol, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxld, Normalpropylalkohol, Isopropanol,
Dloxan und Methylglykol. Oberflächenaktive Mittel oder Benetzungsmittel, um den Kontakt zwischen dem wäßrlgen
Entwickler und dem lichtempfindlichen Überzug zu fördern, können In Mengen bis zu 5 oder 10 Gew.-% verwendet
werden.
Die Benetzungsmittel, die In den neuen Entwicklern
nach der Erfindung verwendet werden können, können nicht-Ionische, anlonlsche oder kaiionische Verbindung
sein.
Beispiele der Netzmittel, die verwendet werden können,
sind folgende:
Anlonlsche Netzmittel
Ammonium- und Alkallsaize langkettiger Alkoholsulfate,
wie beispielsweise Natrlumlaurylsulfat, Natrlumoctylsulfat, Ammonlumlaurylsulfat, Natrlum-N-methyloUaural,
Dloctylnatrlumsulfosucclnat, Natrlumdodecylbenzolsulfat,
Natrlum-dl-(2-äthylhexyl)-phosphat, Natrlumalkylsulfatp..
Alkylalkylolamlnsulfpie und Natrlumlauryläthersulfat.
Nlcht-Ionlsche Netzmittel
Flüssiger Fjlyainylenglykolather eines linearen Alkohols
mit einem HLB*) von 8,0, flüssiger Nonylphenylpolyäthylenglykoläther
mit einem HLB·) von 13,6, pastei.."örmlger Nonylph^nylpolyätrulenglykoläther mit
einem HLB*> von 15,r, Dläthanolamln-Laurlnsäurekondensat,
G., -^,nmonostearat oder Polyorväthylenglykolmonostejrat
*) hydrophil·Iipophll-Cileichgewichi
Kationische Netzmittel
Quaternare Ammoniumderivate oder äthanollerter
Alkylguanldlnamlnkomplex.
Die am meisten bevorzugten Netzmittel sind die anlonlschen,
sodann folgen die nlcht-lonlschen und
schließlich die kationischen. Von den anlonlschen Netzmitteln
sind die Alkylalkylolamlnsulfate und Natrlumlauryläthersulfate
bevorzugt. Von den nlcht-lonlschen sind die ersten drei der oben aufgeführten bevorzugt.
Es Ist bevorzugt, daß die Netzmittel, besonders die
nlcht-lonlschen, ein hydrophll-llpophll-Glelchgewlcht (HLB) von wenigstens 8 besitzen.
Die Entwickler nach der Erfindung können auch die
aromatischen oder aliphatischen Verbindungen mit einer Sulfonsäuregruppe (—SO,—) enthalten, die In den Entwicklern
gemäß der US-PS 36 69 660 verwendet werden.
Beispiele solcher Verbindungen sind Benzolsulfonsäure,
Toluolsulfonsäure, Naphthallnsulfonsäure, 2,5-nimethylhRr>7nkiilfnn.säure.
Benzol natrlumsulfonat.
Naphthalln-2-sulfonsäure. l-Naphthol-2- (oder -4-)-sulfonsäure,
2,4-Dlnltro-l-naphlhol-7-sulfonsäure, 2-Hydrnxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure,
m-(p'-Anlllnlphen >lazo)-benzolnatrlumsulfonat, Allzarln-
natrlumsulfonat, o-Toluldln-m-sulfonsäure und Äthansulfonsäure.
Bestimmte Rezepturen der Entwickler nach der Erfindung zeigen deutlich synergistische Effekte. Beispielsweise
schwächt das amphotere oberflächenaktive MIttel die Wirkung von Lösungsmitteln ab. Ein Entwickler mit
einem Gehalt von 5% eines amphoteren oberflächenaktiven Mittels und 23% Lösungsmittel Ist wirksam zur Entfernung
von Nlchlblldberelchen aus der lichtempfindlichen Schicht, beeinträchtigt aber die Blldberelche nicht.
Wenn jedoch der Prozentsatz an amphoterem oberflächenaktivem Mittel in der Rezeptur halbiert wird, greift
der Entwickler den Blldberelch des Überzuges an. Das amphotere ob rtlächenaktlve Mittel beschleunigt die
Wirkung anderer Komponenten von Entwicklerrezepturen, wie beispielsweise von Sulfonsäuren und von deren
oben erwähnten Natrium- oder Lithiumsalzen.
Bis zu etwa 5 Gew.-% Phosphorsäure oder Oxalsäure
können ebenfalls in dem Entwickler verwendet werden, um das Aluminiumsubstrat zu reinigen, nachdem der
desensibllisierte Überzug entfernt wurde.
Die pH-Werte der Entwickler nach der Erfindung liegen Im allgemeinen Im Bereich von etwa 5 bis 10, und
sogar bis 12 oder noch höher. Dieser weite pH-Bereich ergibt eine große Breite für die Entwicklungsrezepturen
ohne nachteilige Wirkung auf die Aktivität oder Wirksamkeit des Entwicklers. Es Ist überraschend, daß die
Entwickler nach der Frflndung mit einem pH-Wert von etwa 11 oder 12 erfolgreich für eine zuverlässige Entwicklung
sind, da sonst Diazoverbindungen unter alkalischen Bedingungen bekanntermaßen kuppeln und unlöslich
werden. Zur Entwicklung positiv wirkender Systeme ist es bevorzugt, daß der Entwickler auf der alkalischen
Seite liegt, vorzugsweise bei einem pH-Wert von wenigstens etwa 12. Die gleichen Entwickler können für negativ
und für positiv arbeitende Systeme verwendet werden, was besonders günstig und zeltsparend ist, wenn
eine Entwicklermaschine verwendet wird. Die Verwendung
eines einzigen Entwicklers bedeutet, daß es nicht erforderlich Ist, beispielsweise einen Negatlvsystementwlckler
abzulassen, die Maschine zu spülen und dann mit einem Positivsystementwickler zu füllen, um die
unterschiedlichen Systemarten zu entwickeln. In den folgenden Beispielen sind alle Teile und Prozentsätze
Gewichtsteile und Gewichtsprozentsätze.
Eine Aluminlumplatte wurde durch Bürsten gekrönt,
anodlslert und chemisch mit Kaliumzlrkonfluorld behan-•
delt. um einen Überzug als Zwischenschicht zu bilden. Die Platte wurde dann mit Hilfe eines Wirbiers mit
einem lichtempfindlichen Überzug aus vier Teilen Sensibilisator (Additionsprodukt von 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure
und para-Diazodlphenyl-
Mi amln-Formaldehyd-Kondensat) und einem Teil eines
Glycldylätherpolyepoxlds versehen, so daß der Überzug ein Gewicht von 1076 mg je m2 besaß. Nach dem Belichten
der Platte mit Ultraviolettlicht durch ein NcpaiK-transparent
wurden die unbelichteten Bereiche leicht mit
ι'> den folgenden Entwicklern entfernt und ergaben eine
gewerblich brauchbare Flachdruckplatte:
a) 5% Llthlumbcnzoai
95% Wasser
95% Wasser
90% Wasser
Das Verfahren des Beispiels I wurde wiederholt, doch :>
wurde die Alumlnlumplatte chemlch geätzt an Stelle der Bürstenkörnung. Die Entwicklungsersehnisse waren ähnlich.
in Das Verfahren des Beispiels I wurde wiederholt, doch
bestand der Überzug aus einem Teil Sensibilisator und zwei Teilen Polyvenylacetalharz an Stelle des Polyepoxlds.
Die Eir.wlcklungsergebenlsse waren ähnlich.
Die Verfahren tier Beispiele I ·;... i warden wiederholt,
um drei unterschiedliche Platten zu bekommen, die dann
mit Entwickler entwickelt wurden, der 5% Lithlumbenzoat, 5% Alkyalkylolamlnsulfat und 90% Wasser enthielt.
4Ii Die entwickelten Platten waren geeignet für gewerbliche
Verwendung In der Lithographie.
Die Verfahren des Beispiels 4 wurden wiederholt, doch
M enthielt der Entwickle- 5% Polyäthyk^glykoläthers eines
linearen Alkohols anstelle des Alkylalkylolaminsuifais. Die entwickelten Platten waren geeignet für gewerbliche
Verwendung in der Lithographie.
Die Verfahren der Beispiele 4 und 5 wurden wlerVrholt,
doch war der Sensibilisator das Additionsprodukt von Benzolsulfonsäure statt 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure.
Die entwickelten Platten waren geeignet für gewerbliche Verwendung in der Lithographie.
Die Verfahren des Beispiels 5 wurden wiederholt, doch wurden 4% eines äthanollerten Alkylguanldinamlnkomplexes
anstelle des Polyäthylenglykoläthers verwendet. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.
Die Verfahren der Beispiele 1 bis 3 wurden wiederholt,
doch wurden 20% Llthiumnaphthenat anstelle des Lithiumbenzoats verwendet. Der Rest der Zusammensetzung
bestand aus Wasser.
Alle entwickelten Platten erwiesen sich als geeignet für
gewerbliche Verwertung in der Lithographie.
Die Verfahren der Beispiele I bis 3 wurden In den Beispielen 9 bis 13 wiederholt, doch mit den folgenden Llthlumsalzen, die dem Wasser zur Bildung der Entwickler
zugesetzt wurden:
Beispiel | Prozent | Salz |
9 | 15 | l.lthlumrlclnoleat |
IO | 12 | I Ithlumtoluolsulfonat |
I! | 15 | Llthlumxylolsulfonat |
12 | 5 | Llthlumlaurylsulfat |
13 | 10 | Llthlumdodecanoat |
Alle entwickelten Platten erwiesen sich als geeignet für
ge« rbllche Vorwendung In der Lithographie.
Das Verfahren des Beispiels 10 wurde wiederholt, doch
bestand der Überzug aus einem Gemisch von einem Teil des Sensibilisator. 6 Teilen eines Glycldyläiherpolyepoxlds und 4 Teilen Polyvinylacetalharz. Der Entwickler
bestand aus 12% Lithlumtoluolsulfonat und 5%lger wäßriger Cyclohexanonlösung. Die entwickelten Platten
erwiesen sich alle als geeignet iür gewerbliche lithographische Verwendung.
Beispiel 15
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch enthielten die Entwickler auch 5% n-Propylalkohol und
3% Benzylalkohol. Die entwickelte Platte war brauchbar für die Verwendung In gewerblicher Lithographie.
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch wurde die Alumlniumplatte mit einer Natrlumslllkatzwlschenschiciit statt derjenigen aus Kallumzlrkonfluorld
versehen. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch wurden als Entwickler 10% Llthlumchloracetat verwendet. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.
Das Verfahren des Beispiels 1 wurde einmal mit 10%
Llthlumformlat und einmal mit 10% Lithiumeitrat als Entwickler statt der In Beispiel 1 beschriebenen Entwickler wiederholt. Die Ergebnisse waren nicht ganz so gut
wie jene des Beispiels 1.
Eine
Warenzeichen Enco Nr.
7>EMnickplatte mit dem
2 wurde mit Ultraviolettlicht
durch ein Negativtransparent 2 Minuten belichtet.
Sodann wurde sie mit 15% Llthlumbenzoat In Wasser
entwickelt. Die Platte Heß sich leicht entwickeln und
ergab eine gewerblich verwertbare lithographische Platte.
Ein Farbprüfsatz gemäß der technischen Lehre der
GB-PS 11 91 659 aus gelb, cyan, magenta und schwarz vorsenslblllslerten Transparentbereichen auf einer Polyestergrundlage wurde belichtet, und zwar jeder Transparentbereich mit einem entsprechenden Farbentrennegatlv. Jeder belichtete Transparentbereich wurde seinerseits mit einer 10%lgen wäßrigen Lösung von Llthlumbenzoat entwickelt. Nach dem Trocknen und bei geeigneter Registrierung ergab der Satz belichteter und entwickelter Transparentbereiche einen sehr guten fertigen
Vierfarbendruck.
Eine positiv wirkende vorsenslblllslerte Flachdruckplatte mit der Typenbezeichnung PA 200 der Azoplate
Corporation wurde mit Ultravlolettllcht durch ein positives photographisches Transparent belichtet. Die belichtete Platte wurde mit einer 12%lgen Lösung von Llthlumbenzoat entwickelt, wobei deren pH-Wert durch
Zugabe von 3%lger Natronlauge auf 12 eingestellt worden
war.
L)Ie folgende Tabelle I gibt Vergleichswerte der Druckpressenleistung von Platten, die mit verschiedenen Entwicklern entwickelt werden. Die ersten beiden Spalten In
der Tabelle zeigen die Entwicklerzusammensetzung und die Zusammensetzungen des Plattenüberzugs In
Gewichtstellen. Der Sensibilisator Ist der gleiche wie Im
Beispiel 1. Das Überzugsgewicht Ist In Milligramm je m2
angegeben. Die Substrate für die beiden ersten beschriebenen Platten wurden gemäß dem Beispiel 1 hergestellt.
Die dritte und vierte Platte In der Tabelle besaß Substrate, die gemäß dem Beispiel 2 hergestellt wurden. Die
Entwicklung erfolgte durch Aufbringung des Entwicklers von Hand mit einem Wischer. Die Bildbereiche und die
Nlchtblldberelche sind beschrieben. Die verwendete
Grauskala 1st eine kontinuierliche 21-stufige Grautonfolge. Der Preßversuch wurde In der Welse durchgeführt,
daß die Platte 0,15 mm höher als normal unterleg war, wobei bewirkt wurde, daß die Platte mit einem größeren
Druck In Kontakt kam, als er normalerweise verwendet würde. Diese Versuchsanordnung verursacht eine übermäßige Abnutzung der Platte Im Vergleich mit einer normal eingestellten Presse. Die Spüllösung enthielt 35%
Isopropanol. Üblicherwelse enthalten Spüllösungen nicht
mehr als 25% Alkohol. Je mehr Alkohol In der Spüllösung 1st, desto größer ist der nachteilige Effekt auf die
Bildfläche der Platte, der erwartet werden kann. Das verwendete Papier war weißes Offsetpapier von 32 kg, das
maximal dreimal wiederverwendet wurde. 5000 Kopien
wurden gedruckt, und die Qualltat der Drucke war so,
wie In der Spalte mit der Bezeichnung »Presseversuch«
In der Tabelle angegeben Ist.
Vergleichswerte bei der Plattenenlwickliing mit unterschiedlichen
Belichtungsrahmen (Kohlenbogen)
bei 2-mlnütlger Belichtung In einem
Ent | Zusammen | Über | Substrat | Enlwlcklungs- | Blldberekhe | Nlchlblld- | ϊ Hilfe e les 'Kuibrin&.iisthers | Pressenversuch |
wickler | setzung des | zugs- | methode | be reiche | ||||
PlatienUberzugs | gewicht | |||||||
(Gew. -Teile) | (mg/m1) | |||||||
10% Lithlum- | 7 Sensibili | 592 | Durch Bürsten | Von Hand | Grauskala - | Kein Überzug | 5000 Kopien. | |
benzoat | sator | gekörntes | unter | zusammen | blieb auf der | annehmbare | ||
90% Wasser | 1 Glycidyl- | anodlslertes | Verwendung | hängend 5, | Platte In den | Reproduktion | ||
äther- | Aluminium. | einer | auseinander | unbelichteten | ||||
polyepoxld | Knllumzlrkon- | Standard - | gezogen 8, | Bereichen | ||||
fluorld- | aufbring | Halbton | ||||||
/Wlschen- | vorrichtung | reproduktion | ||||||
schicht | ähnlich dem | |||||||
Negatlv- | ||||||||
Iransparent | ||||||||
10% Benzol- | 7 Sensibili | 592 | Durch Bürsten | Von Hand | Grauskala - | Überzug | 5WKl Kopien. | |
sulfonsäure | sator | gekörntes | unter | zusammen | blieb auf der | die Nlchihlld | ||
90% Wasser | 1 Glycldyl- | anodlsiertes | Verwendung | hängend 9. | Platte In | hereiche | ||
(Vergleich) | äther- | Aluminium | einer | auseinander | unbelichteten | zeigten | ||
polyepoxld | Kaliumzlrkon- | Standard - | gezogen 8. | lic reiche η | Schaum | |||
fluorld- | aufbring | Halbton | bildung | |||||
zwlschen- | vorrichtung | reproduktion | ||||||
schlcht | zeigt, daß | |||||||
restliches | ||||||||
unbelichtetes | ||||||||
Polymer auf | ||||||||
der Platten | ||||||||
oberfläche | ||||||||
blieb | ||||||||
15% Lithium | 4 Sensibili | 1184 | Durch | Entwicklung | Grauskala - | Kein Überzug | 5000 Kopien. | |
phenol- | sator | Bürsten | von Hand | zusammen | blieb auf der | annehmbare | ||
sulfonat | i Cjlycidyl- | gekörntes. | hängend 6. | Platte in den | Reproduktion | |||
Si IMj* | älher- | chemisch | ausehiander- | unbelichteten | ||||
ΑΛ, ,cn- | polyepoxld | geätztes | gezogen 8. | Bereichen | ||||
glykol- | anodlsiertes | Blldrepro- | ||||||
üther | Aluminium. | duktion | ||||||
eines linearen | Natrium- | ähnlich | ||||||
Alkohols | slllkat- | dem Negativ- | ||||||
80% Wasser | zw Ischen- | transparent | ||||||
schicht | ||||||||
15% 2-Hy- | 4 Sensibili | 1184 | Durch | Entwicklung | Grauskala - | Überzug | 5000 Kuplen. | |
droxy-4- | sator | Bürsten | von Hand | zusammen | blieb auf der | die Nichtbild | ||
methoxy- | 1 Glycidyl- | gekörntes. | hängend 8. | Platte In | bereiche | |||
5-sulfon- | äther- | chemisch | auseinander | unbelichteten | zeigten auf | |||
säure | polyepoxid | geätztes | gezogen 14. | Bereichen | der Kopie | |||
5% PoIy- | anvisiertes | Lichthöfe | Schaumbildung | |||||
äthylen- | Aluminium. | in Tönungs- | ||||||
glykolülher | Natrlum- | berelchen | ||||||
wie oben | slllkai- | infolge | ||||||
10% Wasser | zwischen- | ungenügender | ||||||
(Vergleich) | schicht | Entwicklung | ||||||
Beispiel | 23 | tiiode bestand n\ "'ner Aufnrlngung des | Entwicklers von | |||||
t-o Hand mi | oder rvazr'·.·-?'·' |
Die folgende Tabelle Ii enthält Vergleichsweise hinsichtlich
der Pressenleistung von Platten, die mit unterschiedlichen Entwicklern entwickelt wurden. Die erste
Spalte in der Tabelle zeigt die Entwicklerzusammensetzungen. Die Plattenüberzüge enthielten die in der zweiten
Spalte aufgeführten Bestandteile. Der SensibUisaior
ist der gleiche wie der Im Beispiel 1. Das Übenagsgewicht
Ist in mg/m2 angegeben. Die Entwlcklungsme-
wie angegeben. Die Bildbereiche und NichtbÜdberelche
sind beschrieben. Die verwendete Grauskala Ist eine 21-stufige Grautonskala. Eine allgemeine Diskussion der
Brauchbarkeit der Grauskalen findet sich In »The Sensitivity
Guide«. Research Bulletin No. 215, The Litographic
*I~ ti.»Ii η I/··» 1 ΓΛίιηΗιΙίηπ Ι·-ι/^ T~V<i*- Ϊ7λ·>τ··ι··1· « I — —-ι — t_
1 ,viiiiiwui » uuiiuduuii, luv. U^i τ ci3UtII WUIUC WlC III
Beispiel 22 durchgeführt.
fabille 11
/erglekhswerle bei der Plaltenentwlcklung mit unterschiedlichen Entwicklern bei 2-mlnütlger Bellch:ung In einem
kllchtu.-igsrahmen (Kohlenbogen)
:nt- | Zusammen | Über- | Substrat | Entwickiiiiigs | Bildbereiche | Nlchtbüd- | Pressenversuch |
vlckler | setzung des | ZUgS- | methode | be reche | |||
Platten- | gcwlcli! | ||||||
übcr/ugs | (mg/m1) | ||||||
(Gew.-Teile) | |||||||
15% Ll- | 2 Sensibili | 807 | Glattes, | Automatische | Grauskala - | Kein Überzug | 5000 Kopien, |
thlumbenzoat | sator | chemisch | Maschine | zusammen | blieb auf der | crinehmbare | |
5%. Hexy- | i Glyddyl- | geatztes | hängend 7, | Platten- | Reproduktion | ||
lenglykol | äther- | anodislertes | auselnander- | Oberfläche | |||
80% VVisser | polyepoxld | Aluminium. | gezogen 10, | In den | |||
' , Polyvi- | Natrium - | Halbton- | unbelichteten | ||||
nylace- | sillkat- | reproduktlon | Bereichen | ||||
talharz | zwlschen- | ähnlich dem | |||||
schlcht | Negativ | ||||||
transparent | |||||||
15% To- | 2 Sensibili | 807 | Glattes | Automatische | Grauskala - | Kein Über | 5000 Kopien, |
luolsulfon- | sator | chemisch | Maschine | zusammen | zug blieb | langsame | |
säurc- | 1 Glycldyl- | geätztes | hängend 2, | auf der | Druckfarben | ||
Natriumsalz | äther- | anodlslertes | auseinander | Platten- | aufnahme, | ||
5% Hexy- | polyepoxld | Aluminium, | gezogen 4, | oberfläche | vorzeitiger | ||
lyenglykol | 'Λ Polyvl- | Natrlum- | Halbton- | in den | Zusammen | ||
80% Wasser | nylace- | slllkat- | reproduktlon - | - unbelichteten | bruch | ||
(Vergleich) | talharz | zwlschen- | Verschärfung | Bereichen | der Raster- | ||
schlcht | der Raster | tönungs- | |||||
tönungen | blldberelche | ||||||
20% Li- | 2 Sensibili | 1076 | Durch | Hand | Grauskala - | Kein Überzug | 5000 Kopien, |
thiumdo- | sator | Bürsten | entwicklung | zusammen | blieb auf der | annehmbare | |
decanoat | 1 Glycldyl- | gekörntes. | hängend 6, | Platte In den | Reproduktion | ||
5% Al- | äther- | chemisch | auseinander | unbelichteten | |||
kylalky- | polyepoxid | geätztes | gezogen 8, | Bereichen | |||
lolamln- | 1 Polyvlnyl- | anodlslertes | Blldrepro- | ||||
sulfat | acetalharz | Aluminium. | duktlon | ||||
75% Wasser | Natrlum- | ähnlich dem | |||||
sllikat- | Negativ | ||||||
zwlschen- | transparent | ||||||
schicht | |||||||
25% Nor- | 2 Sensibili | 1076 | Durch | Hand | Grauskala - | Überzug | 5000 Kopien, |
malpro- | sator | Bürsten | entwicklung | zusammen | blieb auf der | Nli-'ublld- | |
pylalkohol | 1 Glycldyl- | gekörntes. | hängend 2. | Platte in den | bereiche | ||
5% Al- | äther- | chemisch | auseinander | unbelichteten | zeigten | ||
kylal- | polyepoxid | geätztes | gezogen 4, | Bereichen | Schaumbil | ||
kylol- | 1 Polyvlnyl- | anodisiertes | Verschärfung | dung, | |||
amin- | acetalharz | Aluminium, | der Halbton | vorzeitiger | |||
sulfat | Natrium- | raster In den | Zusammen | ||||
(Vergleich) | silikat- | belichtet:' | bruch der | ||||
7wl5c!\er:- | Bildbereichen | Bildbereiche |
schicht
Die erste Platte in der folgenden Tabelle III wurde folgendermaßen
hergestellt:
Eine Oberfläche e!r«*.r Aluminlumphtt; wurde durch
Bürsten gekörnt, anodisiert und chemisch mit Kaliumzirkonfluorid
behandelt, um einen Überzug zu bilden, der in der fertigen Platte die Zwischenschicht ist. Die behandelte
Plattenoberfläche v*ui*is dsnn mit einem lichtempfindlichen
Überzug versehen, der aus vier T.-Mlen Sensibilisator
(Additionsprodukt von 2-Hydroxy-4-methoxyben-60 zophenon-5-sulfonsäura und para-Diazodiphenylamln-Formaldehyd-Kondensat)
und einem Teil Glycidylätherpolyepoxid bestand. Der Überzug sxf de· Platte besaßt
rir. Gewicht von etwa 538 .vig/m2. Nach dem Belichten
der Platte (die etwa 3 Monate gealtert worden war) mit 65 Ultraviolettlicht während 2 Minuten äurch esa Negaiivtransparer.t
wurden die -..nb^UcHeten Bereiche der Platte
leicht mit dem angegebener: ErAwickier entfernt, wobei
mar. gcwerb.:.ch verwertbi··« Fl-xhdruckp'aiten erhieit.
15
16
a) 10% Natriumsalz von 2-Capryl-l-(äthylen-ß-oxypropansäure)-imIdazolln
b) 5% Llthlumbenzoat
c) 20% Normalpropylalkohol
d) 40% Benzylalkohol
e) 259b Wasser
Belichtung 2 Minuten mit Kohlenbogen Be- Alte- Trans- Linien- Punkt- Grau
zeich- rung parent raster qualltät skala
nung Punkt- Hin- Pressenerhalterleistung
lung grund
4 Sensibilisator
1 Glycidyiätherpolyepoxld
handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte
handelsübliche Fiachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte
handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte
handelsübliche Flachdruckplatte
3 Mo-Negativ 133 gut
nate 5 bis 90%
gut
gut
gut
gut
gut
gut
gut
gut
gut
zusammen- gut rein 5000 Kopien
A ? | Negativ | 133 |
5 bis 90% | ||
B ? | Negativ | 133 |
S bis 90% | ||
C ? | Negativ | 133 |
5 bis 90% | ||
D ? | Negativ | 133 |
5 bis 90% | ||
E ? | Negativ | 133 |
5 bis 90% | ||
F ? | Negativ | 133 |
5 bis 90% | ||
G ? | Positiv | 133 |
5 bis 90% | ||
H ? | Positiv | 133 |
5 bis 90% | ||
I ? | Negativ | 133 |
5 bis 90% |
hängend 4, auseinandergezogen zus. 8 aus. 9 zus. 7 aus. 8 zus. 9
aus. 10 zus. 10 aus. 12 zus. 9 aus. 11 zus. 9 aus. 11
zus. 10 aus. 4 zus. 9 aus. 5 zus. 6 aus. 9
gute
Reproduktion
gut gut gut gut gut gut gut gut
rein
rein
rein
rein
rein
rein
rein
rein
gut rein
Die obige Tabelle III zeigt die Werte bezüglich der
Pressenleistung von Platten, die mit dem betreffenden Entwickler entwickelt wurden. Die Entwicklermethode
war eine Aufbringung des Entwicklers von Hand mit einem Aufbringwischer. Die Blldflächen und die Nlchtblldfiachen sind beschrieben. Die verwendete Grauskala
ist eine kontinuierliche 21-stufige Grautonskala. Der
a) 20% Natriumsalz von 2-Capryl-Mäthyl-ß-oxypropansäure)-lmldazolln
b) 5% Llthlumbenzoat
c) 75% Wasser
Die folgende Tabelle IV gibt die Werte bezüglich dei
Pressenleistung von Platten, die mit einem anderen Ent
wickler entwickelt wurden, wieder.
Alterung | 2-mlnuliges | Belichten mit | Kohlenbogen | Punkt- Hinter | Pressen - | |
Platte | Trans- Linien- | Entwick | Grauskala | er h a H Ii π κ grund | leistung | |
parent rasier | lung*· | |||||
quaiität | ||||||
Gleich wie die
erste in Tabelle III
3 Monate Negativ 133 gut
5 bis 90%
zusammenhängend 4 aiiselnandergezogen 8
gut
gut
5000 gut
230 248/1H
Claims (7)
1. Wäßriger Entwickler Tür Flachdruckplauen, die
In Ihrer lichtempfindlichen Schicht als Sensibilisator
eine Dlazoverblndung enthalten, dadurch gekennzeichnet, daß der Entwickler !n Lösung ein wasserlösliches Lithiumsalz einer Oi^a.iischen Verbindung
mit 1 bis 36 Kohlenstoffatomen enthält.
2. Entwickler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, da3 er 1 bis 25 Gew.-% des Llihumsalzes,
bezogen auf die Wassermenge, enthält.
3. Entwickler nach Anspruch 1 und 2. dadurch gekennzeichnet, daß er zusätzlich ein amphoteres
oberflächenaktives Mittel enthält.
4. Entwickler nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu 50 Gew.-% des amphoteren
oberflächenaktiven Mittels, bezogen auf die Wassermenge, enthält.
5. Entwickler nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu 30 Gew.-% eines mit
Wasser mischbaren Lösungsmittels für die lichtempfindliche Schicht der Flachdruckplatte enthält.
6. Entwickler nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß er zusätzlich bis zu 10 Gew.-% 2s
eines nichtionischen, anionischen oder kationischen oberflächenaktiven Benetzungsmittels enthält.
7. Verwendung eines Entwicklers nach Anspruch 1 bis 6 für Flachdruckplatten, die in ihrer lichtempfindlichen Schicht als Senslbllsator ein Reakttonsprodukt jo
eines Kondensats aus Aldehyden und Diazoarylamlnen mit einer Hydroxylgruppen oder Sulfonsäuregruppen aufweisenden Verbindung enthalten.
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---|---|---|---|
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AU6203273A (en) | 1975-05-01 |
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