DE19900169A1 - Vertikaler Siliciumcarbid-Feldeffekttransistor und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents
Vertikaler Siliciumcarbid-Feldeffekttransistor und Verfahren zu seiner HerstellungInfo
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Description
Claims (18)
Aufbringen einer Siliciumcarbid umfassenden Driftschicht (41b) eines ersten Leitungs typs auf einem Silicumcarbid-Substrat (41a) des ersten Leitungstyps,
Ausbilden einer Gatezone (44) eines zweiten Leitungstyps und einer Sourcezone (43) des ersten Leitungstyps in von einander beabstandeten ausgewählten Teilen einer Oberflächen schicht der Driftschicht (41b),
Ausbilden einer eingebetteten Zone (42) des zweiten Leitungstyps in einem ausgewähl ten Teil unterhalb der Gatezone (44) und der Sourcezone (43),
Ausbilden einer Gateelektrode (46) in Kontakt mit der Oberfläche der Gatezone (44),
Ausbilden einer Sourceelektrode (47) in Kontakt mit Oberflächen sowohl der Source zone (43) als auch der eingebetteten Zone (42), und
Ausbilden einer Drainelektrode (48) an einer Rückfläche des Siliciumcarbid-Substrats (41a),
wobei die Sourcezone (43), die Gatezone (44) und die eingebettete Zone (42) jeweils unter Verwendung einer ersten Maske (M1) mit einem ersten Teil (M1b) und einem zweiten Teil (M1a) derart ausgebildet werden, daß das eine Ende der Sourcezone (43) von einem der entgegengesetzten Enden des ersten Teils (M1b) der ersten Maske (M1) definiert wird und die Gatezone (44) von dem anderen Ende des ersten Teils (M1b) und dem zweiten Teil (M1a) der ersten Maske definiert wird, während ein Ende der eingebetteten Zone (42) von dem zweiten Teil (M1a) der ersten Maske definiert wird.
Ausbilden eines Siliciumcarbid-Substrats durch Epitaxialwachstum einer Siliciumcarbid umfassenden Driftschicht (41b) eines ersten Leitungstyps auf einem Siliciumcarbid-Substrat (41a) des ersten Leitungstyps,
Ausbilden einer ersten Maske (M1) auf einer Oberfläche der Driftschicht (41b),
Ausbilden einer zweiten Maske (M2) aus einem anderen Material als die erste Maske derart, daß die zweite Maske die erste Maske überlappt,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Sourcezone (43) des ersten Leitungs typs in einem ausgewählten Teil einer Oberflächenschicht der Driftschicht (41b) unter Verwen dung der ersten Maske (M1) und der zweiten Maske (M2),
Entfernen der zweiten Maske (M2),
Ausbilden einer dritten Maske (M3) aus einem anderen Material als die erste Maske (M1) derart, daß die dritte Maske die erste Maske überlappt,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Gatezone (44) eines zweiten Leitungs typs in einem ausgewählten Teil einer Oberflächenschicht der Driftschicht (41b) unter Verwen dung der ersten Maske und der dritten Maske,
Entfernen eines ersten Teils (M1b) der ersten Maske (M1) sowie der dritten Maske (M3) unter Zurücklassen eines zweiten Teils (M1a) der ersten Maske,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer eingebetteten Zone (42) des zweiten Leitungstyps in einem ausgewählten Teil der Oberflächenschicht der Driftschicht (41b) unter Verwendung des zweiten Teils der ersten Maske,
Entfernen des zweiten Teils der ersten Maske,
Einbringen von Störstellen des ersten Leitungstyps über die gesamte Fläche der Oberflä chenschicht der Driftschicht (41b) zur Steuerung der Störstellenkonzentration einer Kanalzone (50) in der Oberflächenschicht der Driftschicht (41b),
Durchführen einer Wärmebehandlung zur Aktivierung der eingebrachten Störstellen,
Ausbilden einer vierten Maske (M4) auf einer Oberfläche des Siliciumcarbid-Substrats,
Ausbilden eines Ausnehmungsabschnitts (47a), der sich von der Oberfläche der Source zone (43) zur eingebetteten Zone (42) erstreckt, und zwar unter Verwendung der vierten Maske (M4),
Ausbilden einer fünften Maske aus einem Isoliermaterial, und
Dampfabscheiden eines metallischen Films zur Ausbildung einer Gateelektrode (46), einer Sourceelektrode (47) und einer Drainelektrode (48).
Ausbilden eines Siliciumcarbid-Substrats durch epitaxiales Aufwachsen einer Silicium carbid umfassenden Driftschicht eines ersten Leitungstyps auf einem Siliciumcarbid-Substrat des ersten Leitungstyps,
Ausbilden einer ersten Maske auf einer Oberfläche der Driftschicht,
Ausbilden einer zweiten Maske aus einem anderen Material als die erste Maske derart, daß die zweite Maske die erste Maske überlappt,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Sourcezone (53) des ersten Leitungs typs in einem ausgewählten Teil einer Oberflächenschicht der Driftschicht unter Verwendung der ersten Maske und der zweiten Maske,
Entfernen der zweiten Maske,
Ausbilden einer dritten Maske eines anderen Materials als die erste Maske derart, daß die dritte Maske die erste Maske überlappt,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Gatezone (54) eines zweiten Leitungs typs in einem ausgewählten Teil der Oberflächenschicht der Driftschicht unter Verwendung der ersten Maske und der dritten Maske,
Entfernen eines ersten Teils der ersten Maske und der dritten Maske unter Zurücklassen eines zweiten Teils der ersten Maske,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer eingebetteten Zone (52) des zweiten Leitungstyps in einem ausgewählten Teil der Oberflächenschicht der Driftschicht unter Verwen dung des zweiten Teils der ersten Maske,
Ausbilden einer vierten Maske auf einer Oberfläche des Siliciumcarbid-Substrats,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Kontaktzone (52a) des zweiten Lei tungstyps, die bis zur eingebetteten Zone (52) reicht, und zwar unter Verwendung der vierten Maske,
Entfernen des zweiten Teils der ersten Maske sowie der vierten Maske,
Einbringen von Störstellen des ersten Leitungstyps über die gesamte Fläche der Oberflä chenschicht der Driftschicht zur Steuerung der Störstellenkonzentration einer Kanalzone (60) in der Oberflächenschicht der Driftschicht,
Durchführen einer Wärmebehandlung zur Aktivierung der eingebrachten Störstellen,
Ausbilden einer fünften Maske aus einem isolierenden Material, und
Dampfabscheiden eines metallischen Films zur Ausbildung einer Gateelektrode, einer Sourceelektrode (57) und einer Drainelektrode.
Aufbringen einer Siliciumcarbid umfassenden Driftschicht (71b) eines ersten Leitungs typs auf einem Siliciumcarbid-Substrat (71a) des ersten Leitungstyps,
Ausbilden einer Sourcezone (73) des ersten Leitungstyps in einem ausgewählten Teil einer Oberflächenschicht der Driftschicht (71b),
Ausbilden einer eingebetteten Zone (72) eines zweiten Leitungstyps in einem ausge wählten Teil unter der Sourcezone (73),
Ausbilden einer Gateelektrodenschicht (76) auf einem Gateisolierfilm (75) auf der Ober fläche der Driftschicht (71b),
Ausbilden einer Sourceelektrode (77) in Kontakt mit den Oberflächen sowohl der Sourcezone (73) als auch der eingebetteten Zone (72), und
Ausbilden einer Drainelektrode (78) auf einer Rückfläche des Siliciumcarbid-Substrats (71a),
wobei die Sourcezone (73) und die eingebettete Zone (72) jeweils unter Verwendung einer ersten Maske (M1) mit einem ersten Teil (M1b) und einem zweiten Teil (M1a) so ausgebil det werden, daß ein Ende der Sourcezone von dem ersten Teil (M1b) der ersten Maske (M1) definiert wird und die eingebettete Zone von dem zweiten Teil (M1a) der ersten Maske definiert wird.
Herstellen eines Siliciumcarbid-Substrats durch Epitaxialwachstum einer Siliciumcarbid umfassenden Driftschicht (71b) eines ersten Leitungstyps auf einem Siliciumcarbid-Substrat (71a) des ersten Leitungstyps,
Ausbilden einer ersten Maske (M1) auf der Oberfläche der Driftschicht (71b),
Ausbilden einer zweiten Maske (M2) aus einem anderen Material als die erste Maske derart, daß die zweite Maske die erste Maske überlappt,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Sourcezone (73) des ersten Leitungs typs in einem ausgewählten Teil einer Oberflächenschicht der Driftschicht (71b) unter Verwen dung der ersten Maske und der zweiten Maske,
Entfernen eines ersten Teils (M1b) der ersten Maske (M1) sowie der zweiten Maske (M2) unter Zurücklassen eines zweiten Teils (M1a) der ersten Maske,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer eingebetteten Zone (72) eines zweiten Leitungstyps in einem ausgewählten Teil der Oberflächenschicht der Driftschicht (71b),
Entfernen des zweiten Teils der ersten Maske,
Einbringen von Störstellen des ersten Leitungstyps über die gesamte Fläche der Oberflä chenschicht der Driftschicht (71b) zur Steuerung der Störstellenkonzentration einer Kanalzone (80) in der Oberflächenschicht der Driftschicht,
Durchführen einer Wärmebehandlung zur Aktivierung der eingebrachten Störstellen,
Ausbilden eines Gateoxidfilms (75) auf der Oberfläche des Siliciumcarbid-Substrats durch thermische Oxidation,
Abscheiden einer Polysiliciumschicht (1) auf dem Gateoxidfilm (75) und Ausbilden der Polysiliciumschicht in einem bestimmten Muster,
Ausbilden einer dritten Maske nach Überziehen der Polysiliciumschicht und des Gate oxidfilms mit einem Isolierfilm (79),
Ausbilden eines Ausnehmungsabschnitts (77a), der sich von der Oberfläche der Source zone (73) bis zur eingebetteten Zone (72) erstreckt, und zwar unter Verwendung der dritten Maske,
Ausbilden von Kontaktlöchern durch den Isolierfilm, und
Dampfabscheiden metallischer Filme zur Ausbildung einer Gateelektrode, die die Polysili ciumschicht berührt, einer Sourceelektrode (77), die die Sourcezone (73) und die eingebettete Zone (72) kontaktiert, und einer Drainelektrode, die mit dem Siliciumcarbid-Substrat in Kontakt steht.
Herstellen eines Siliciumcarbid-Substrats durch epitaxiales Wachsen einer Siliciumcarbid umfassenden Driftschicht eines ersten Leitungstyps auf einem Siliciumcarbid-Substrat des ersten Leitungstyps,
Ausbilden einer ersten Maske auf der Oberfläche der Driftschicht,
Ausbilden einer zweiten Maske aus einem anderen Material als die erste Maske derart, daß die zweite Maske die erste Maske überlappt,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Sourcezone des ersten Leitungstyps in einem ausgewählten Teil einer Oberflächenschicht der Driftschicht unter Verwendung der ersten Maske und der zweiten Maske,
Entfernen eines ersten Teils der ersten Maske sowie der zweiten Maske unter Zurück lassen eines zweiten Teils der ersten Maske,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer eingebetteten Zone eines zweiten Lei tungstyps in einem ausgewählten Teil der Oberflächenschicht der Driftschicht,
Ausbilden einer dritten Maske auf der Oberfläche des Siliciumcarbid-Substrats,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Kontaktzone des zweiten Leitungstyps, die bis zur eingebetteten Zone reicht, und zwar unter Verwendung der dritten Maske,
Entfernen des zweiten Teils der ersten Maske sowie der dritten Maske,
Einbringen von Störstellen des ersten Leitungstyps über die gesamte Fläche der Oberflä chenschicht der Driftschicht zur Steuerung der Störstellenkonzentration einer Kanalzone in der Oberflächenschicht der Driftschicht,
Durchführen einer Wärmebehandlung zur Aktivierung der eingebrachten Störstellen,
Ausbilden eines Gateoxidfilms auf der Oberfläche des Siliciumcarbid-Substrats durch thermische Oxidation,
Abscheiden einer Polysiliciumschicht auf dem Gateoxidfilm und Ausbilden der Polysili ciumschicht in einem bestimmten Muster,
Überziehen der Polysiliciumschicht und des Gateoxidfilm mit einem Isolierfilm,
Ausbilden von Kontaktlöchern durch den Isolierfilm, und
Dampfabscheiden metallischer Filme zur Ausbildung einer Gateelektrode, die die Polysili ciumschicht kontaktiert, einer Sourceelektrode, die die Sourcezone und die Kontaktzone kontak tiert, und einer Drainelektrode, die das Siliciumcarbid-Substrat kontaktiert.
Aufbringen einer Siliciumcarbid umfassenden Driftschicht (81b) eines ersten Leitungs typs auf einem Siliciumcarbid-Substrat (81a) des ersten Leitungstyps,
Ausbilden einer Sourcezone (83) des ersten Leitungstyps in einem ausgewählten Teil einer Oberflächenschicht der Driftschicht (81b),
Ausbilden einer Basiszone (82) eines zweiten Leitungstyps in einem ausgewählten Teil unterhalb der Sourcezone (83),
Ausbilden einer Gateelektrodenschicht (86) auf einem Gateisolierfilm (85), der auf der Oberfläche der Driftschicht (81b) ausgebildet ist,
Ausbilden einer Sourceelektrode (87) in Kontakt mit Oberflächen sowohl der Sourcezone (83) als auch der Basiszone (82), und
Ausbilden einer Drainelektrode (88) auf einer Rückfläche des Siliciumcarbid-Substrats (81a),
wobei die Sourcezone (83) und die Basiszone (82) jeweils unter Verwendung einer ersten Maske (M1) ausgebildet werden, die einen sich verjüngenden Endabschnitt (8) mit einem ersten Ende einer ersten Dicke und einem zweiten Ende einer zweiten Dicke, die größer ist als die erste Dicke, aufweist derart, daß ein Ende der Sourcezone durch das erste Ende des verjüngten Endabschnitts (8) der ersten Maske (M1) definiert wird und ein Ende der Basiszone durch das zweite Ende des verjüngten Endabschnitts der ersten Maske definiert wird.
Herstellen eines Siliciumcarbid-Substrats durch Epitaxialwachstum einer Siliciumcarbid umfassenden Driftschicht (81b) eines ersten Leitungstyps auf einem Siliciumcarbid-Substrat (81a) des ersten Leitungstyps,
Ausbilden einer ersten Maske (M1) auf der Oberfläche der Driftschicht (81b), wobei die erste Maske einen sich verjüngenden Endabschnitt (8) mit einem ersten Ende einer ersten Dicke und einem zweiten Ende einer zweiten Dicke, die größer ist als die erste Dicke, aufweist,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Basiszone (82) eines zweiten Leitungs typs in einem ausgewählten Teil einer Oberflächenschicht der Driftschicht (81b) unter Verwen dung der ersten Maske derart, daß die Basiszone durch das zweite Ende des sich verjüngenden Endabschnitts (8) der ersten Maske (M1) definiert wird,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Sourcezone des ersten Leitungstyps in einem ausgewählten Teil der Oberflächenschicht der Driftschicht (81b) unter Verwendung der ersten Maske derart, daß die Sourcezone durch das erste Ende des sich verjüngenden Endab schnitts der ersten Maske definiert wird,
Ausbilden einer dritten Maske auf einer Oberfläche des Siliciumcarbid-Substrats,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Kontaktzone (82a), die bis zur Basis zone (82) reicht, und zwar unter Verwendung der dritten Maske,
Entfernen der ersten Maske und der dritten Maske,
Einbringen von Störstellen des ersten Leitungstyps über die gesamte Fläche der Oberflä chenschicht der Driftschicht (81b) zur Steuerung der Störstellenkonzentration einer Kanalzone (90) in der Oberflächenschicht der Driftschicht,
Ausführen einer Wärmebehandlung zur Aktivierung der eingebrachten Störstellen,
Ausbilden eines Gateoxidfilms (85) auf der Oberfläche des Siliciumcarbid-Substrats durch thermische Oxidation,
Abscheiden einer Polysiliciumschicht (86) auf dem Gateoxidfilm und Ausbilden der Poly siliciumschicht in einem bestimmten Muster,
Bedecken der Polysiliciumschicht und des Gateoxidfilms mit einem Isolierfilm,
Ausbilden von Kontaktlöchern durch den Isolierfilm, und
Dampfabscheiden metallischer Filme zur Ausbildung einer Gateelektrode, die die Polysili ciumschicht (86) kontaktiert, einer Sourceelektrode (87), die die Sourcezone (83) und die Kontaktzone (82a) kontaktiert, und einer Drainelektrode (88), die das Siliciumcarbid-Substrat kontaktiert.
Herstellen eines Siliciumcarbid-Substrats durch Epitaxialwachstum einer Siliciumcarbid umfassenden Driftschicht eines ersten Leitungstyps auf einem Siliciumcarbid-Substrat des ersten Leitungstyps,
Ausbilden einer ersten Maske auf der Oberfläche der Driftschicht, wobei die erste Maske einen sich verjüngenden Endabschnitt mit einem ersten Ende einer ersten Dicke und einem zweiten Ende einer zweiten Dicke, die größer ist als die erste Dicke, aufweist,
Einbringen von Störstellen zum Ausbilden einer Sourcezone des ersten Leitungstyps in einem ausgewählten Abschnitt einer Oberflächenschicht der Driftschicht unter Verwendung der ersten Maske derart, daß die Sourcezone durch das erste Ende des sich verjüngenden Endab schnitts der ersten Maske definiert wird,
Einbringen von Störstellen zur Ausbildung einer Basiszone eines zweiten Leitungstyps in einem ausgewählten Teil der Oberflächenschicht der Driftschicht unter Verwendung der ersten Maske derart, daß die Basiszone von dem zweiten Ende des sich verjüngenden Endabschnitts der ersten Maske definiert wird,
Ausbilden einer dritten Maske auf der Oberfläche des Siliciumcarbid-Substrats,
Einbringen von Störstellen zum Ausbilden einer Kontaktzone des zweiten Leitungstyps, die bis zur Basiszone reicht, und zwar unter Verwendung der dritten Maske,
Entfernen der ersten Maske sowie der dritten Maske,
Einbringen von Störstellen des ersten Leitungstyps über die gesamte Fläche der Oberflä chenschicht der Driftschicht zur Steuerung der Störstellenkonzentration einer Kanalzone in der Oberflächenschicht der Driftschicht,
Durchführen einer Wärmebehandlung zur Aktivierung der eingebrachten Störstellen,
Ausbilden eines Gateoxidfilms auf der Oberfläche des Siliciumcarbid-Substrats durch thermische Oxidation,
Abscheiden einer Polysiliciumschicht (1, 86) auf dem Gateoxidfilm und Ausbilden der Polysiliciumschicht in einem bestimmten Muster,
Ausbilden einer vierten Maske nach Überziehen der Polysiliciumschicht und des Gate oxidfilms mit einem Isolierfilm (89),
Ausbilden eines Ausnehmungsabschnitts (87a), der sich von der Oberfläche der Source zone (83) bis zur Kontaktzone (82a) erstreckt, und zwar unter Verwendung der vierten Maske,
Ausbilden von Kontaktlöchern durch den Isolierfilm (89), und
Dampfabscheiden metallischer Filme zur Ausbildung einer Gateelektrode, die die Polysili ciumschicht (1, 86) kontaktiert, einer Sourceelektrode (87), die die Sourcezone (83) sowie die Kontaktzone (82a) kontaktiert, und einer Drainelektrode, die das Siliciumcarbid-Substrat kontak tiert.
ein Siliciumcarbid-Substrat eines ersten Leitungstyps,
eine Siliciumcarbid umfassende Driftschicht des ersten Leitungstyps, die auf das Sili ciumcarbid-Substrat geschichtet ist,
eine in einem ausgewählten Teil einer Oberflächenschicht der Driftschicht ausgebildete Basiszone eines zweiten Leitungstyps, von der wenigstens ein Teil in die Driftschicht eingebettet ist,
eine Sourcezone des ersten Leitungstyps, die mit einem Teil der Oberseite der Basiszone im Kontakt steht,
eine Gateelektrode, die auf einem Gateisolierfilm ausgebildet ist, welcher sich auf einer Kanalzone befindet, die durch einen Teil der Driftschicht, der sich über der Basiszone befindet, geschaffen wird,
eine Sourceelektrode, die mit den Oberflächen sowohl der Sourcezone als auch der Basiszone in Kontakt steht, und
eine Drainelektrode, die sich an einer Rückfläche des Siliciumcarbid-Substrats befindet,
wobei die Basiszone einen Endteil enthält, dessen Sperrschicht-Tiefe mit zunehmendem Abstand von der Sourcezone im wesentlichen linear abnimmt.
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