DE1917040A1 - Elektroden fuer elektrochemische Verfahren - Google Patents

Elektroden fuer elektrochemische Verfahren

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DE1917040A1
DE1917040A1 DE19691917040 DE1917040A DE1917040A1 DE 1917040 A1 DE1917040 A1 DE 1917040A1 DE 19691917040 DE19691917040 DE 19691917040 DE 1917040 A DE1917040 A DE 1917040A DE 1917040 A1 DE1917040 A1 DE 1917040A1
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metal
film
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electrode material
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DE19691917040
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Denis Lee
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Imperial Chemical Industries Ltd
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Imperial Chemical Industries Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
    • C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
    • C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
    • C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
    • C25B11/093—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide

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Description

PRIORITÄT : 2. April I968 - Grossbritannien
Die Erfindung bezieht sich auf Elektroden für elektrochemische Prozesse, Sie bezieht sich Insbesondere auf Verbesserungen der Dauerhaftigkeit von Elektroden, die eine Schicht aus einem Arbeitselektrodenmaterial auf einem Träger aufweisen, der aus einem filmblldenden Metall, insbesondere Titan, hergestellt ist =
Es ist bekannt, als Anode In einer elektrochemischen Zelle, insbesondere in einer Zelle, in der eine wässrige Lösung eines Alkalimetallchlorids elektrolysiert wird, eine Elektrode zu verwenden, die aus einem filmbildenden Träger, insbesondere einem Titanträger, besteht, der auf mindestens einem Teil seiner Oberfläcne einen Belag aus einem Arbeitselektrodenmaterial aufweist» Der Titanträger ist gegenüber anodische Angriffe auch in den stark korrosiven ChlorIdelektrolyten wiederstandsfähig^ Das ArbeitselektrodeninttteriaL muß gegenüber einem anodischen Angriff beständig sein und muß auch bei der Übertragung von Elektronen zur
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OR
Elektrode aus den Ionen des Elektrolyts wirksam sein. De» Arbeltselektrodenaaterial besteht gewöhnlich aus eines oder mehreren Metallen der Platingruppe und/oder den Oxyden diese Metalle« es kann aber auch irgendein anderes elektrisch i®ltendes Material sein, welche« gegenüber eine* anodleehen Auflösung in der Zelle eine ausreichende Beständigkeit aufweist und welches sie Anode wirken kann.
Obwohl dia oben erwähnten Arbeitaelektrodeoaaterlailen Über einem elektrochemischen Angriff in einer Reihe von korrosiven Medien sehr beständig »ind, so nutzen ale aich aber trotzdem mit einer beträchtlichen Geschwindigkeit ab oder brechen sogar beim Gebrauch vom filmbildenden Metallträger ab. Die vorliegende Erfindung schafft ein Verfahren zur besseren Verankerung des Arbeltselelctrodenaateriala auf dem Träger in einer Elektrode der oben erwähnten Type, während gleichzeitig die Arbeitselektrodenoberfläche in einer Form bewahrt wird, die eine geringe überspannung für die Infreiheitsetzung von Chlor aufweist, wenn die Elektrode als Anode bei der Elektrolyse von Alkalimetallchloridlösungan verwendet wird.
Die verbesserten erfindungsgemäSen Elektroden werden dadurch hergestellt, das man zunächst durch ein an sich in der Technik: bekanntes Verfahren oder durch eine welter unten beschriebene einfache Variante desselben aine Elektrode solcher Art herstellt, die aus einem fUmbildenden Metallträger besteht, der einen Belag aus einem Arbeitselektrodenmaterial aufweist, worauf man Über dem Belag aus Arbeitselektrodenmaterial einen Belag einer thermisch !ersetzbaren organischen Verbindung eines filmbildenden Metalls aufbringt und dann die auf diese Welse beschichtete Elektrode erhitzt, um ate organische Verbindung des fUmbildenden Metalls In ein Qxga des fUmbildenden Metalls umzuwandeln.
So wird gemäß der Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für die Verwendung In elektrochemisches Prozessen vorgeschlagen, welches dadurch ausgeführt wird»
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BAD ORiGINAL
dafi man auf der Oberfläche eines Trägers aus einem filmbildenden Netall eine Schicht aus einem Arbeitselektrodenmaterlals herstellt, auf die genannte Schicht einen Belag aufbringt, der aus einer thermisch zersetzbaren organischen Verbindung eines filmbildenden Metall« in einem flüssigen Träger besteht, und den Belag erhitzt, un die organische Verbindung des filmbildenden Metalls in ein Oxyd des filmbildenden Netalls umzuwandeln.
Der fertige Belag hat ein glattes, glasiges Aussehen und eine vorzügliche Haftung auf dem Metall-des Trägers. Das zweistufige Beschichtungsverfahren der Erfindung ermöglicht es, diesen Belag, der ein filmbildendes Metalloxyd enthält, bei einer Temperatur unterhalb des Schmelzpunkts des fUmbildenden Metalloxyds herzustellen, und sogar bei Temperaturen unterhalb der Schmelzpunkte von Gläsern, die diese Oxyde der filmbildenden Metalle mit anderen Oxyden bilden. Dies 1st wichtig, da es hierdurch möglich wird, hohe Temperaturen, bei denen das Metall des Trägers beträchtlich mit dem Belag oder mit dem Sauerstoff der Atmosphäre reagieren würde, während des Beschlchtungsverfahrens zu vermeiden.
der Erfindung wird weiterhin eine Elektrode für die Verwendung in elektrochemischen Prozessen vorgeschlagen, welche aus einem Träger eines filmbildenden Netalls, das einen Belag mit einem glatten, glasigen Aussehen besitzt, besteht, wobei der Belag aus einer Schicht eines Arbeitselektrodenmaterials und aus einer darübergelegten Schicht eines Oxyds eines filmbildenden Metalls besteht.
Zwar werden*die erfindungsgemäßen Elektroden dadurch hergestellt, daß zwei gesonderte Belagechiohten auf dem fllrabildenden Metallträger angefertigt werden - eine erste Schicht aus einem Arbeltselektrodenmaterial und später eine zweite Schicht aus einem fUmbildenden Metalloxyd -■, aber von dem Bereich der Erfindung seien Elektroden nicht ausgeschlossen, in denen eine gewisse gegenseitige Durchdringung der beiden Belagschichten vorliegt. In der Tat erscheint es
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wahrscheinlich, daß bei den Temperaturen, die zur Herstellung des Belage aus de« fUmbildenden Metalloxyd duroh Zersetzung einer organischen Verbindung^ des Metalle verwendet werden» eine gewisse gegenseitige Diffusion der Schichten stattfindet; dies kann die Erklärung für die höbe mechanische Festigkeit der erfindungsgemäßen Elektroden sein·
In dieser Beschreibung bedeutet der Ausdruck "ein fllmblldendee Metall" eines der Metalle Titan« Zirkon, Kiöb, Tantal oder Wolfram oder eine Legierung, Al· hauptsächlich aus «Ina« dieser Metalle besteht und anodlsohe Poiarlaatloneeigenaohaften im Elektrolyt, in dem die Elektrode verwendet wird, aufweist, die denjenigen des reinen Metalls Ähnlich sind. Bs wird bevorzugt als Trägermetall bei der Elektrode Titan alleine oder eine Legierung auf der Basis von Titan, die "j
ähnliche anodlsohe Polarlsatlonaelgenschaften wie Titan selbst aufweist, zu verwenden. Beispiele für solche Legierungen sind Tltan/Zirkon-Leglerungen, die bis zu 14 % Zirkon enthalten, Legierungen von Titan alt bis zu 5 % «Ines Platinmetalls, wie z.B. Plation, Rhodium oder Iridium, und Legierungen aus Titan mit Niob oder Tantal, Al· bis au 10 % des Leglerungsbestandteiles enthalten;
Das Arbeltselektrodenaaterlal der Elektrode kann aus ein oder mehreren Metallen der Platingruppe, d.h. Platin, Rhodium, Iridium, Ruthenium, Osmium und Palladium, und/oder den Oxyden derselben oder einem anderen Metall oder einer Verbindung bestehen, welche gegenüber einer elektrochemischen Auflösung in der Zelle, in der sie verwendet werden sollen, beständig sind und als Elektroden wirken, wie z.B. Rhenium, Rheniumtrloxyd, Mangandioxyd, Magnetit, Titannitrid, und die Boride, Phosphide und Silicide der Metalle der Platingruppe. Die bevorzugten Arbeitselektrodenmaterialien sind die Oxyde der Metalle der Platingruppe, insbesondere Rutheniumdioxyd, sowie Gemische aus ein oder mehreren Metallen der Platingruppe mit den Oxyden derselben. Die Erfindung wird weiter unter Bezugnahme auf die Verwendung dieser bevorzugten Arbeitselektrodenmaterialien besehrieben;
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hierdurch ist jedoch keine Einschränkung beabsichtigt.
Das Verfahren,daszur Herstellung der Schicht aus einem Platinmetalloxyd oder aus einem Gemisch aus einem Platinmetall und den Oxyden desselben auf einem Träger eines fllmbildenden Metalls verwendet wird, kann in geeigneter Weise ein in der Technik an sich bekanntes Verfahren sein. OemäS der britischen Patentschrift 984 973 kann beispielsweise ein Belag aus einem Platinmetall auf einem Titanträger dadurch hergestellt werden, das'auf dem chemisch gereinigten Träger eine Reihe von Belägen au3 einem platinhaltigen Präparat aufgebracht wird, das eine Platinmetallverbindung in einem organischen Träger und ein Reduktionsmittel, beispielsweise ein absolutes öl (essential oil),enthält, und daß man jeden Belag in einer oxydierenden Atmosphäre, beispielsweise Luft, auf eine Temperatur zwischen 350 und 55O°C erhitzt, Die ilatlnmetallverblndungen können thermisch zersetzbare anorganische Verbindungen» Reslnate oder Sulforesinate der Platinmetalle sein» Es kann gezeigt werden, daß die in dieser Weise hergestellten Beläge mindestens einen Anteil Platinmetall in Form seiner Oxyde enthalten, und daß bei den leichter oxydierbaren Platinmetallen, wie , ζ,B Ruthenium,und bei einer Brenntemperatur In der oberen Hälfte des genannten Temperaturbereichs tier resultierende Belag weltgehend aus den Oxyden des Platinmetalle besteht.
Das Verfahren der obigen britischen Patentschrift eignet sich auch für die vorliegende Erfindung. Das Verfahren kann jedoch gegebenenfalls: variiert werden, indem jeder Belag des platinhaltigen Präparats zunächst auf eine niedrige Temperatur erhitzt wird, um die Platinmetallverbindungen zu reduzieren und eine Schicht herzustellen, die im wesentlichen aus dem Platinmetall besteht, und daß man dann In einer oxydierenden Atmosphäre auf eine höhere Temperatur» in geeigneter Weise mindestens 35O0C, erhitat, um das Platinmetall zumindestens teilweise in seine Oxyde umzuwandeln. Beispielswelse kann eine Rutheniumchloridbelagzusammensetzung, die ein Reduktionsmittel enthält, zuerst auf annähernd 3000C
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erhitzt werden, um das Chlorid im wesentlichen in Rutheniummetall zu reduzieren, worauf dann der Rutheniumbelag im wesentlichen vollständig durch Erhitzen in Luft auf annähernd 45O°C in Rutheniumdioxyd umgewandelt werden kann.
PUr die Zwecke der vorliegenden Erfindung kann ein Belag au* den Oxyden ein oder mehrerer Platinmetalle auf einem filmbildenden Metallträger auoh direkt aus thermisch !ersetzbaren Verbindungen der Platinmetalle hergestellt werden, d.h. ohne Zwischenreduktion zu den Metallen, indem der Träger mit einer Zusammensetzung beschichtet wird, die Verbindungen der Platinmetalle und einen organischen Träger enthält aber kein Reduktionsmittel aufweist, und in einer oxydierenden Atmosphäre auf eine Temperatur von mehr als. 3OO°C, vorzugsweise mindestens 35O0C, und insbesondere ungefähr 45O°C, erhitzt wird , Beispielsweise wird, wie es in der französischen Patentschrift 1 479 762 gelehrt wird, ein Belag aus Palladiumoxyd direkt auf einem filmbildenden Metallträger, wie z.B. Titan, gebildet, indem ein Belag, der aus einer angesäuerten Lösung von Palladiumchlorid in Isopropy!alkohol besteht, in einer oxydierende« Atmosphäre, wie z.B» Luft, auf 400 bis 5OOUC erhitzt wirdp Ein Belag der gemischten Oxyde von Palladium lind Iridium wird direkt auf einem Tantalträger aus einer ähnlichen Lösung der Chloride von Palladium und Iridium durch Erhitzen in Luft auf JOO bis 600°C erhalten.
PUr die Zwecke der vorliegenden Erfindung können die vorher hergestellten Oxyde der Platinmetalle ebenfalls verwendet werden, um die Schicht des Arbeitselektrodsnmaterlals herzustellen. Die vorher hergestellten Oxyde können auf den fUmbildenden Metallträger, beispielsweise durch jedes 9er verschiedenen Verfahren aufgebracht werden, die in der obigen französischen Patentschrift beschrieben sind, beispielsweise durch Aufbringen in geschmolzenem Zustand, durch Beschichten mit einer Dispersion des Oxyds in einem flüssigen Träger oder durch Elektrophorese auf dem filrabildenden Metallträger aus einer kolloidalen Lösimg des Oxyds, Gegebenenfalls kann zur Erhöhung der Anfangshaft
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der Platinmetalloxydbelag In den Träger gewalzt oder gepreßt werden.
Zwar werden Beläge, bei denen die Metalle der Platingruppe mindestens teilweise In Fon der Oxyde vorliegen, bevorzugt, und zwar Insbesondere für Elektroden, die als Anoden unter den angreifenden Bedingungen verwendet werden* die In Queoksllbericathodenzellen herrschen. In denen Alkalien· llohlorldlöaungen elelctrolyslert werden, aber für weniger angreifende Bedingungen kCnnen Beläge, die praktlsoh vollständig aus den Netallen der Platingruppe In unoxydlerten Zustand*»?-' stehen, verwendet werden. Solohe Beläge können durch thermische Zersetzung von Verbindungen der Metalle der Platingruppe unter durchgehenden reduzierenden Bedingungen hergestellt werden, beispielsweise daduroh, das auf das Tr&gerraetall eine Lösung eines Salzes eines Metalls der Platin- . gruppe In einem organischen Lösungsmittel, das ein Reduktionsmittel, beispielsweise Llnalool, enthält, aufgebracht wird und der Belag In einer Atmosphäre eines Gases mit einer alkalischen Reaktion, wie z.B. Ammoniak,und eines reduzierenden Gases, wie z.B. Methan, Kohlenmonoxyd, Wasserstoff oder Stadtgas, erhitzt wird, wie es In der britischen Patentschrift 964 913 angegeben 1st.
Es wird darauf hingewiesen, da8 bei allen den hler beschriebenen Belagherstellungeverfahren die Beschlohtungsstufen nach Bedarf wiederholt werden können, üb die gewünschte Dicke des Arbeltselektrodenmaterlals aufzubauen. Wenn weiterhin eine Enderhitzungestufe In einer oxydierenden Atmosphäre verwendet wird, um einen Belag eines Metalls der Platingruppe, Tier durch Zersetzung einer Verbindung eines Metalls der Platingruppe hergestellt worden ist, zu oxydleren, und wenn weiterhin die Schicht des Arbeitselektrodenmaterials durch Ubereinanderlegen mehrerer Beläge aufgebaut wird, dann kann die Oxydationsstufe in einer einzigen Stufe ausgeführt werden, nachdem, alle Beläge aufgebrach worden sind. Gegebenenfalls kann aber auch, insbesondere wenn verhältnismäßig dicke Schichten aufgebaut werden, die Oxydationsstufe
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mit jeden Belag ausgeführt werden, bevor der nächste Belag aufgebracht wird» Die Oxydationsstufe kann aber auch zu jeder Zeit nach der Aufbringung eines Teils der Gesamtzahl der Beläge ausgeführt werden, beispielsweise nach jedem zweiten oder dritten Belag.
Im allgemeinen wird das Arbelttfelektrodenmat@rial auf eine chemisch gereinigte Oberfläche des filiiblldenden NetalltrMeere aufgebracht. Der Träger wird nötigenfalls entfettet und flenn gebeitzt, beispielsweise in einer heißen oder in einer heißen oder kalten Salzsäure. Bs let auch möglich, das Arbeitselektrodennaterial auf einen aufzubringen, der nach der oben erwähnten P einer Oxydationsbehandlung unterzogen worden ist* um
. sehr dünne Schicht des Oxyds des flimblldenden Metalle herzustellen; diese Oxydschicht kann aueh In vortel!hefter Welse dazu dienen, daß das Arbeltseiektroätnmaterlal verankert wird, beispielsweise wenn dieses ein vorher stelltes Oxyd eines Metalls der Platingruppe in teilchenförmiger Form ist.
FUr die Verwendung in der zweiten Besohlchtungsstufe d®e erfindungsgernäßen Verfahrens muß die thermisch zersetzbare organische Verbindung eines fllrabildenden Netalls eine solche sein, die durch Wärme alleine, beispielsweise in einer oxydierten Atmosphäre, wie x.B. Luft, oder durch Erhitzen nach " einer teilweisen Hydrolyse beispielsweise durch Einwirkung von Feuchtigkeit in der Atmosphäre während
zereetzbar 1st des Beschichtungevorgangs/ um ein Oxyd des filmbildenden Metalls herzustellen. Besondere geeignete Verbindungen sind die Alkyltitanate, Alkylpolytitanate und Alkylhalogentitanate, in denen das Halogen Chlor, Brom oder Fluor ist, und die entsprechenden Verbindungen der anderen fumbildenden Metalle. Die Titanverbindungen werden bevorzugt, wenn das Trägermetall der Elektrode Titan oder eine Titanlegierung ist. Sehr geeignete Verbindungen sind diejenigen, in denen jede Alley !gruppe zwei bis 4 Kohlenstoffatorae aufweist ο
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Verfahren zur Herstellung von Alkyltitanaten und zur Herstellung von Alkylpolytltanaten (ale werden manchmal als kondensierte Alleyltltanate bezeichnet), duroh teilweise hydrolyse von Alkyltltanaten sind In einen Aufsatz von t. Boyd In Journal of Polymer Sclenoe, Band VII, Nr. 6 (1951) Selten 591 - 602 beschrieben. Ein Alleylchlorotltanat In Fora einer alkoholischen Lösung, die sich für die Verwendung beim erfindungsgemäßen Verfahren eignet» kann dadurch hergestellt werden» daß man Titantetrachlorid mit dem ausgewählten Alkohol erhitzt» ohne dafl man Irgendeine chemlsohe Mainahae zur Entfernung des bei der Reaktion gebildeten Chlorwasserstoffs anwendet»und einen AlkoholUbersohuß verwendet, und zwar In geeigneter Welse einen 2- bis 5-faohen Überschuß über die Menge, die theoretisch erforderlich, um alle Chloratome von Titantetrachlorid wegzunehmen. Alkylbromotltanate und Alkylfluorotitanate können in einer ähnlichen Welse hergestellt werden, wobei von Titantetrabromld bzw. Tttantetrafluorld ausgegangen wird.
Die thermisch zersetzbare Verbindung eines filmbildenden Metalls (sie werden in der Folge der Einfachheit halber als Alkyltltanate oder Alkylhalogentltanate bezeichnet) in einem flüssigen Trägermittel, In geeigneter Welse einem flüchtigen alkoholischen Lösungsmittel, kann duroh Tauchen, Streichen oder Bespritzen der Oberfläche der Schicht des Arbeitselektrodenmaterials, welches vorher auf dem fil«- bildenden Metallträger gebildet worden 1st, aufgebracht werden. Der Belag wird dann in geeigneter Welse duroh Erhitzen in einem Ofen auf mäßige Temperaturen, beispielsweise 100 bia 20O0C getrocknet, um das Lösungsmittel abzudampfen, worauf die tieschichtete Elektrode auf eine höhere Temperatur, beispielsweise 250 bis 800°C erhitzt wird, um die organische Verbindung des filmbildenden Metalls Im Belag im wesentlichen in ein Oxyd des Metalls zu überführen. Weitere Beläge können aufgebracht, getrocknet und dann durch stärkeres Erhitzen in der gleichen Weise zersetzt werden, sofern es erwünscht ist, eine gute Bedeckung des darunterliegenden Arbeitselektrodenmaterlals zu erzielen.
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Wenn Alky!titanate und Alkylhabgentitanat® in dünnen Belägen aufgebracht werden., dann scheint es» da© eine gewisse Kondensation durch Hydrolyse stattfindet, dl® durch die Feuchtigkeit in der Atmosphäre verursacht ifi^d» ¥®nn die Kondensierten Titanate stark erhitzt werden« dann versetzen sie β ich ρ<*ϊε <-> tisch vollständig« wobei TitaQdio^rdrllßkstände mit glasig«® Aussehen zurückbleiben» die dazu dienan, das Ärbeitsaletefero« denmeterial fest an die darunterliegend© Oberfläche des filmbildenden Metallträgers zu binden. Die ?,Qlt der Erhitzung, um das Titanet zu zersetzen« @©l!£e üb so kürzer sein, je höher die verwendet® Temperatur ist, um eine übermäßige Reaktion zwischen "dais filmfc&läesdtess Metallträger und dem Belag oder &®m Sauerstoff der .AtnosphSrs z\x vermeiden. Beispielsweise sollte bei einer feraperettui» ψοά 5006C di@ Zeit ungefähr 15 »sin nicht Überschreiten, und bei 8üO°G sollte sie nicht ungefähr 15 seo überschreiten. In dieser Hinsicht wird hervorgehoben, daß, wenn das Arbeltseiektreäleiimaterial ein Platinmetalloxyd enthält oder daraus die Enderhitzungsstufe zur Zersetzung des Titanate in oxydierenden Atmosphäre, wie ζ .B* Luft ausgeführt werden sollte.
Elektroden, die gemäß der Erfindung hergestellt worden &tn&» sind in elektrolytisohen Zellen, Elektrodlalysierzellen, Brennstoffzellen und in kathodisohen Schutzsystemen brauchbar. Spezielle AusfUhrungsfornen dieser Elektroden, bei denen der filmbildende Metallträger Titan 1st. und der B lag auf dem Titan ein oder mehrere Oxyde der Metalle der Platingruppe und Titandloxyd enthält, besitzen besondere Vorteile, wenn sie als Anoden bei der Elektrolyse eines» Alkalimetallchloridlusung verwendet werden.
Die Erfindung wird durch die folgenden Arbeitsbeispiele näher erläutert, in denen alle Teile in Gewicht ausgedruckt sind.
OHiGINAL IWSPEGTED 909843/1586 .
Beispiel 1
Ein Titanstrelfen wurde Über Nacht in heiße Oxalsäurelösung eingetaucht, um die Oberfläche des Metalls zu ätzen; er wurde hierauf gewaschen und getrocknet. Ein Qemisch, das 1 Teile Rutheniumchlorld, 4 Teile Ieopropylalkohol und 1,3 Teile Linalool enthielt, wurde auf das Titan aufgestrichen, der Belag wurde in Luft 10 min trocknen gelassen und dann in einem Ofen in Luft 10 min lang auf 30O0C erhitzt, um einen Belag herzustellen, der im wesentlichen aus Ruthenium bestände Zwei weitere Beläge des Anstrichs wurden in der gleichen Welse aufgebracht, getrocknet und erhitzt. Das mit Ruthenium beschichtete Titan wurde dann In Luft 1 Stunde lang auf 4500C erhitzt, um mindestens den äußersten Teil der Rutheniumschicht zu oxydieren, und wurde dann abkühlen gelassen. Eine Lösung von Äthylchlorotitanat in Äthylalkohol wurde durch Erhitzen von 1 Teil Titantetrachlorid mit 5 Teilen absolutem Äthylalkohol während eines Zeitraums von 15 min auf 700C hergestellt. 3 Beläge dieser Lösung wurden auf den präparierten Titanstreifen Über den Rutheniumoxydbeleg aufgebracht, wobei jeder Belag 10 min in einem Ofen von 1500C getrocknet und dann 15 min in einem Ofen von 45O°C in Luft erhitzt wurde, um eine Oberflächenschicht mit einem glatten, glasigen Aussehen herzustellen.
Beispiel 2
Ein Belag aus Ruthenium wurde auf ein·» Titanstreifen hergestellt, und der Belag wurde dann 1 Stunden In Luft bei C oxydiert, wie es in Beispiel 1 beschrieben ist. Das
.Gewicht des Belags betrug dann ungefähr 6 g/m Titanoberfläche, berechnet als Ruthenlummetalfe, 8 Beläge einer Lösung, die aus 5 Teilen Tetra-n-butyltltanat in 5 Teilen n-Pentanol bestand, wurden dann auf das beschichtete Titan aufgestrichen, wobei jeder Belag in einem Ofen von 2000C 10 min lang getrocknet und dann in Luft 15 min auf 45O°C erhitzt wurde. Das theoretische Gewicht des auf diese Weise auf der Elektrode gebildetenTitandloxyds betrug 25 g/m .
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§AÖ ORIGINAL
Beispiel 3 Ein Rutheniumbelag wurde auf einem Titanetreifen hergestellt,
und in Luft bei 45O°C oxydiert« wie es in Beispiel 1 beschrie· ben 1st, um einen Belag herzustellen« der ungefähr 6 g/m Titanoberfläche wog» berechnet als Rutheniuometall. Eine Lösung von Isopropylchlorotltanat In Isopropylallcohol wurde dadurch hergestellt« daß 1 Teil Titantetrachlorid alt 5 Teilen Isopropylallcohol 1 Stunde auf 70°C erhitzt wurd« 4 Belüge dieser Lösung wurden- dann auf das beschichtet· Titan aufgestrichen« wobei Jeder Belag in eines Ofen mit m 200°C 10 min lang getrocknet und dann in einem Ofen mit 45O°C 15 min lang erhitzt wurde. Das theoretische Gewicht des auf diese Weise auf der Elektrode gebildeten Titan- . dioxyds war ungefähr 8 g/m.
Beispiel 4
Ein Titanstrelfen wurde wie in Beispiel 1 geätzt« gewaschen und getrocknet und dann mit der gleichen RutheniumchlorIdanstrlchzusammensetzung wie in jenem Beispiel beschichtet« dch 1 Teil Rutheniumchlorid« 4 Teile Isopropylalkohol« 1,3 Teile Linalool. 3 Beläge dieser Anstrlchzueaemensetzung wurden aufgebracht (äquivalent einem Belaggewicht von 6 g/ar, gerechnet als Rutheniummetall)« aber dieseseal wurde nach dem 10 min dauernden Trocknen ein jeder Belag nur elnaal in Luft 1 Stunde lang auf 3500C erhitzt« ua einen Belag herzustellen« der weltgehend aus Rutheniumoxyd bestand. 4 Belüge einer Lösung aus Isopropylohlorotltanat wurden dann aufgebracht und in Titandloxyd umgewandelt« wie ea in Beispiel 3 beschrieben ist. x
Beispiel 5
Ein Titanstreifen wurde hergestellt« und auf diesen wurden 3 Beläge einer Rutheniumchloridanstrlchzusammensetzung« wie In Beispiel 4 beschrieben« aufgebracht« mit dem Unterschied« daß nach dem Trocknenlassen jeder Belag durch nur einmaliges Erhitzen in Luft auf 45O°C während 1 Stunde weitgehend
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in Ruthen!und1oxyd umgewandelt wurde. 8 Belüge einer Lösung von Tetra-n-butyltltanat in n-Pentanol wurden dann aufgebracht« wobei jeder Belag 10 min lang in einen Ofen P1IeZcSP0C getrocknet und dann 15 min lang in einem Ofen in Luft/erhitzt wurde. Das theoretisch« Gewicht des auf diese Weise auf der Elektrode gebildeten Titandloxyda war 35 β/«2.
Beispiel 6 *
Ein Titanetreifen wurde wie in Beispiel 1 geätzt, gewaschen und getrocknet und dann mit 3 Belägen einer Ruthenlunchlorldanstrichzusammensetzung beschichtet« die kein Reduktionsmittel enthielt (Zusammensetzung: 1 Teil Rutheniumtrichlorid, 4 Teile Isopropylalkohol). Jeder Belag wurde 10 min an Luft trocknen gelassen und dann 1 Stunde in der Luft auf 35O0C erhitzt, um einen Belag herzustellen» der im wesentlichen aus Rutheniumdioxyd bestand. 6 BelXge einer Lösung von Isopropylchlozotitanat in Isopropylalkohol wurden dann auf das beschichtete Titan aufgebracht, wobei Jeder Belag In Luft in einem Ofen mit 2000C getrocknet und dann in einem Ofen mit 45O°C 15 min lang in Luft erhitzt wurde. Das theoretische Gewicht des auf diese Weise auf der Elektrode
ο
gebildete Titandioxyd war 15 g/m .
Beispiel 7
Eine Suspension von Rutheniumdioxydteilchen, hauptsächlich mit einer Größe von weniger als 4 μ Durchmesser in n-Pentanol wurden auf einen Titanstreifen aufgestrichen, der wie in Beispiel 1 geätzt, gewaschen und getrocknet worden war, und das Lösungsmittel wurde vom Belag in einem Ofen mit 150 bis 2000C abgedampft= 2 weitere Beläge wurden in der gleichen Weise aufgebracht und getrocknet, so daß eine Gesamtmenge von 7 g Ruthendioxyd/m der beschichteten Titanoberfläche erzielt wurde» Eine Lösung von Tetra-n-butyltltanat in n-Propylalkohol wurde dann auf den Rutheniumdioxydbelag gespritzt, und der Titanatbelag wurde in Luft 10 min lang in einem Ofen mit 2000C getrocknet und dann in Luft 15 min
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lang In einem Ofen mit 45O°G erhitzt<, 7 weitere Belig© der Titananlösung wurden aufgebrächt, wobei Jeder ö©i 2G0°S ge= trocknet und jeder auf 45O°C erhitzt wurde, wie dies feel© ersten Belag der Pail war. Die theoretisch» M©ng® S@s auf diese Meise auf der Elektrode gebildeten 35
Elektroden, die nach eine® Jeden-der hergestellt worden war®n, wurden als
die 21^,5 Gew.«$ HaOl
65°c aufwfeie, in eto®
mit einer QueoksilbsrLsafcfeeä· g©iä@ofe©t. B©i Stromdichte vois 8 kA/m seigtea s£q CtoloÄ Bereich von 25 bis 7*6 raV* Jede Anoä® wurde &ueh iia Katriumamalgamkathode eingetaucht* nobel ©in© Si ungefähr 5 V zwischen der Anode und dem Es wurde gefunden, daß des» Kur-ssoiilulstresi klein WSiV9 und swar wenigei1- als 10 A, Anode der gleichen Größe vergleicht, di® auf welchem durch Brennen ein Belag Präparat gemäß dem Stande eier Teoteilte aufgebraotiife %izlz>s tiobei keine waittre Behandlung vorgenoessisn M?ir-a© - isÄ^©p den KurzschluBbedingungen floß- Mor oiß zeigt einen weiteren Vorteil #;·ε· #tf isi^issgesM la«fgest©lit«a Elektroden, weil nämlich ein® EleidTCäs in ύ®τ über KurzschluSatFtSaien einen Widerotaiid entwickelt seinen eigenen Schutz gegen Zerstörung durch gelegentliehc Kurzschlüsse beim Gebrauch erzeugt.
PATENTANSPRÜCHE
öArt ORIGINAL 909843/1586 · B

Claims (1)

  1. PATE NTAN SPRU CHE
    Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für die Verwendung in elektrochemischen Prozessen, dadurch gekennzeichnet, daß man auf der Oberflicht eines Trägere au« •Inen fIlab lidenden Metall« wie oben definiert» eine Schicht •Ines Arbeit se lelctrodtneat «rials aufbringt, auf dl· genannte-Schicht einen Belag» der eine thendtaoh zeraetzbare organische Verbindung eines filmbildenden Metalla in eines flüssigen Tragermittel enthält, aufbringt« und den Belag erhitzt« um die organische Verbindung de· filmbildenden Metalle in ein Oxyd des !'Umbildenden Metall· umzuwandeln.
    2. Verfahren nach Anspruch 1« dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht eines Arbeitselektrodenmaterials auf einer chemisch gereinigten Oberfläche des filmbildenden Metallträgere hergestellt wird.
    3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daB die Schicht eines Arbeitaelektrc^a «J-erlale auf einer Oberfläche des filmbildenden Metallträgers hergestellt wird, die ohemlsoh gereinigt worden 1st und die dann mit einer •ehr dünnen Oberflächenschicht de« fUmbildender. Metalloxyd versehen worden 1st, indem der gereinigt« Träger einer Oxydationsbehandlung unterworfen wurde.
    4. Verfahren nach einem der vorhergehenden AnaprUche, dadurch gekennzeichnet· daß der filmbildend· Träger Titan- ' oder eine Legierung auf der Basis von Titan 1st und die ano*> dische Polarlsatlonselgenschaften aufweist» die mit denen des Titans vergleichbar sind.
    5« Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche» dadurch gekennzeichnet» daß das Arbeitselektrodenmaterial aus einem Gemisch aus mindestens einem Metall der Platingruppe und Oxyden desselben besteht.
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    6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Arbeltselektrodenmaterial aas d@n Oxyden mindestens eines Metalls der Platingruppe besteht.
    7c Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Arbeitselektrodenmaterial Rutheniumdioxyd enthält.
    8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Arbeitselektrodenmaterial aus Rutheniumdioxyd besteht.
    9. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht aus mindestens einem vorher hergestellten Oxyd eines Metalls der Platingruppe auf dem filmbildenden Metallträger gebildet wird, indem dieser mit einer Dispersion des . Oxyds Jji einem flüssigen Träger oder mit dem geschmolzenen Oxyd/durch elektrophoretische Abscheidung aus einer kolloidalen Lösung hergestellt „wird.
    10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch^ gekennzeichnet, daß eine Schicht des Arbeitselektroden- * materials, welches mindestens teilweise aus Oxyden von !Metallen der Platingruppe besteht, gebildet wird« indem der filmbildende Metallträger mit einer Zusammensetzung beschichtet wird, die eine thermisch zersetzbare Verbindung näisi~ destens eines Metalls der Platingruppe, einen organischen Träger und ein Reduktionsmittel enthält, daß man den Belag trocknet und hierauf den Belag in einer oxydierenden Atmosphäre auf eine Temperatur von mindestens 3500C erhitzt«
    . 11. Abwendung des Verfahrens nach Anspruch 10, dadurch, gekennzeichnet, daß nach dem Trocknen des Belags die Verbindungen der Metalle der Platingruppe weitgehend in den
    : metallischen Zustand reduziert werden. Indem der Belag auf annähernd 3000C erhitzt wird, und daß hierauf die auf diese Weise gebildeten Metalle der Platingruppe zumindestens
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    teilweise in ihre Oxyde überführt werden, indem sie in einer oxydierenden Atmosphäre auf eine Temperatur von mindestens ~3 erhitzt werden.
    12. Abwandlung des Verfahrens nach Ansoruch 10« dadurch gekennzeichnet, daß die genannte Zusammensetzung kein Reduktionsmittel enthält,
    13. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die oxydierende Atmosphäre Luft let.
    14. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die thermisch zersetzbare Verbindung mindestens eines Netall der Platingruppe Rutheniumtrichlorld ist.
    15. Verfahren nach Anspruch 14, daduroh gekennzeichnet, daß die Erhitzungsstufe bei einer Temperatur von mindestens 350°C _in einer oxydierenden Atmosphäre bei annähernd 4500C ausgeführt wird»
    16. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die genannten Maßnahmen des Beschichtens des filmbildenden Metallträgers, des Trocknens und Erhitzens des Belags nach Bedarf mehrere Male wiederholt werden, um eine gewünschte Dicke eines Arbeitselektrodenmaterials aufzubauen, das mindestens teilweise aus Oxyden der Metalle der Platingruppe besteht.
    17» Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht des Arbeitselektrodenmaterials auf die gewünschte bicke dadurch aufgebaut wird, daß mehrere der genannten Beläge übereinandergelegt werden, wobei jeder
    Belag getrocknet und durch Erhitzen auf annähernd 3000C
    zum Metall
    praktisch vollständig/reduziert wird, bevor der nächste Belag aufgebracht wird, und wobei die auf diese Welse gebildeten Metalle der Platingruppe mindestens teilweise durch Erhitzung auf eine Temperatur von mindestens 3500C in einer
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    oxydiertenden Atmosphäre in ihr· Oxyd« Überführt »erden» d·« all· Beläge aufgebracht und reduziert «orden sind» oder jedesmal nachdem ein Teil der Gesamtzahl der Belüge« die gröier al· 1 l«t, aufgebracht und reduziert worden 1st.
    18. Verfahren nach Anspruch 17* dadurch gekennzeichnet» daß der genannte Teil der Oasamtzahl der Belage 2 oder 5 Belage betragt.
    19. Verfahren nach einem der vorherg@fcestd@n Ansprüche* dadurch gekennzelohnet» da S der ein· thermisch zersetzbare organische Verbindung eines f Umbildenden Materials in eines flüssigen Träger enthaltende Beleg, der über die Schloht des Arbeitselektrodenmaterials aufgebracht worden ist» durch Erhitzen auf 100 bis SOO0C getrocknet wird und dann auf 250 bis 800°C erhitzt wird» uo die organische Verbindung in ein Oxyd des filmbildenden Metalls umzuwandeln.
    20. Verfahren nach Anspruch 19» dadurch gekenniofjit das zumindest die letzte Erhitzungsstufe in einer Atmosphäre ausgeführt wird.
    21. Verfahren nach Anspruch 20» dadarets gekennzeichnet» dta die oxydierende Atmoaphäre Luft :','■,
    220 Verfahren naoh einem der Ansprüche 19 bis 21» dadurch gekennzeichnet» defl die letzte Erhitzungsstufe bei ungefähr 45O0C ausgeführt wird.
    23. Verfahren nach einen der Ansprüche I9 bis 22» dadurch gekennzeichnet» daS eine Reihe von Belagen» die eine thermisch zersetzbare organische Verbindung eines fllmblidenden Metalls in einem flüssigen Träger enthalten» über die Schicht des Arbeitselektrodenmaterials aufgebracht wird» wobei ein jeder Belag zwischendurch bei 100 bis 2000C getrocknet und auf 250 bis 80O0C erhitzt wird» um die gewünschte Belagdicke aufzubauen .
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    24. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die thermisch zersetzbare organische Verbindung eines filmbildenden Metalls ein AlleyItitanat, ein Allcylpolytitanat oder ein Alleylhalogentitanat ist, in welchem das Halogen Chlor, Brom oder Fluor ist.
    25· Verfahren nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daB die Alkylgruppe der Titanatverbindung 2 bis 4 Kohlenstoffatome enthält.
    26. Elektrode fUr die Verwendung in elektrochemischen Prozessen, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Träger aus einem filmbildenden Metall, wie oben definiert, besitzt, der einen Belag mit einem glatten, glasigen Aussehen aufweist, welcher Belag aus einer Schicht aus einem Arbeltselektrodenmaterlal und einer darUbergelegten Schicht eines Oxyds eines filmbildenden Metalls besteht.
    27. Elektrode nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet» daQ der Träger aus Titan oder einer !«gierung auf der Basis von Titan, die anodische Polarisation^ ^,,inschaften aufweist, welche mit denjenigen von Titan vergleichbar sind, besteht.
    23. Elektrode nach einem der Ansprüche 26 oder 27, dadurch gekennzeichnet, daß das Arbeitselektrodenmaterial aus einem Gemisch aus mindesten· einem Metall der Platingruppe und Oxyden desselben besteht.
    29ο Elektrode nach einem der Ansprüche 26 oder 27, dadurch gekennzeichnet, daß das Arbeitselektrodenmaterial aus den Oxyden mindestens eines Metalls der Platingruppe besteht.'
    3Oo Elektrode nach einem der Ansprüche 26 oder 27, dadurch gekennzeichnet, daß das Arbeitselektrodenmaterial im wesentlichen aus Rutheniumdioxyd besteht.
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    31. Elektrode nach einem der Ansprüche 26 oder 27* dadurch gekennzeichnet, daß die genannte Oxydachioht eines fUmbildenden Metalls aus Titandioxyd besteht.
    32« Verfahren zur Herstellung einer Elektrode nach einem der Ansprüche 26 bis 31, dadurch gekennzeichnet« daß man Über eine Schicht eines Arbeitselelctrodenroaterials, das sich auf einem Träger aus einem flimbildenden Metall befindet, einen Belag aufbringt, der eine thermisch zersetsbare organische Verbindung eines filmbildenden Metalls in einen flüssigen Träger enthält, und daß man den Belag so erhitzt, daß die organische Verbindung des filmbildenden Metalls In ein Oxyd des filmbildenden Metalle umgewandelt wird.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2331949A1 (de) * 1972-06-23 1974-01-10 Diamond Shamrock Corp Dimensionsstabile elektrode und verfahren zu deren herstellung
DE2620589A1 (de) * 1975-05-12 1976-11-25 Hodogaya Chemical Co Ltd Aktivierte kathode zur verwendung bei der elektrolyse waessriger loesungen
DE2818829A1 (de) * 1977-07-19 1979-02-01 Tdk Electronics Co Ltd Verfahren zur herstellung einer unloeslichen elektrode
DE2852136A1 (de) * 1977-12-02 1979-06-07 Tdk Electronics Co Ltd Verfahren zur herstellung einer unloeslichen elektrode
JPS559471B1 (de) * 1971-03-18 1980-03-10
EP0014896A1 (de) * 1979-02-27 1980-09-03 Asahi Glass Company Ltd. Gasdiffusionselektrode
EP0020940A1 (de) * 1979-05-04 1981-01-07 Asahi Glass Company Ltd. Verfahren zur Herstellung eines Alkalimetallhydroxids durch Elektrolyse einer wässerigen Lösung eines Alkalimetallchlorids

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3933616A (en) * 1967-02-10 1976-01-20 Chemnor Corporation Coating of protected electrocatalytic material on an electrode
US3926773A (en) * 1970-07-16 1975-12-16 Conradty Fa C Metal anode for electrochemical processes and method of making same
US3892990A (en) * 1972-07-31 1975-07-01 Kewanee Oil Co Bromine-quenched high temperature g-m tube with passivated cathode
US3862023A (en) * 1972-09-15 1975-01-21 Ppg Industries Inc Electrode having silicide surface
DE2300422C3 (de) * 1973-01-05 1981-10-15 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung einer Elektrode
US3793164A (en) * 1973-04-19 1974-02-19 Diamond Shamrock Corp High current density brine electrolysis
US3855084A (en) * 1973-07-18 1974-12-17 N Feige Method of producing a coated anode
US3953316A (en) * 1973-11-05 1976-04-27 Olin Corporation Metal anode assembly
US4078988A (en) * 1974-02-02 1978-03-14 Sigri Elektrographit Gmbh Electrode for electrochemical processes and method of producing the same
DE2405010C3 (de) * 1974-02-02 1982-08-05 Sigri Elektrographit Gmbh, 8901 Meitingen Sinter-Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zum Herstellen der Elektrode
DE2461800A1 (de) * 1974-12-30 1976-07-08 Basf Ag Anode fuer elektrochemische prozesse
US4005003A (en) * 1975-04-15 1977-01-25 Olin Corporation Multi-component metal electrode
IT1050048B (it) * 1975-12-10 1981-03-10 Oronzio De Nora Impianti Elettrodi rivestiti con biossido di manganese
US4028215A (en) * 1975-12-29 1977-06-07 Diamond Shamrock Corporation Manganese dioxide electrode
US4208450A (en) * 1975-12-29 1980-06-17 Diamond Shamrock Corporation Transition metal oxide electrodes
US4142005A (en) * 1976-02-27 1979-02-27 The Dow Chemical Company Process for preparing an electrode for electrolytic cell having a coating of a single metal spinel, Co3 O4
US4098669A (en) * 1976-03-31 1978-07-04 Diamond Shamrock Technologies S.A. Novel yttrium oxide electrodes and their uses
EP0004386B1 (de) * 1978-03-28 1982-11-24 Diamond Shamrock Technologies S.A. Elektroden für elektrolytische Verfahren, insbesondere für elektrolytische Metallgewinnung
BR8006373A (pt) * 1979-10-08 1981-04-14 Diamond Shamrock Corp Eletrodo para uso em processos eletroliticos, processo para sua fabricacao, e uso do eletrodo
CA1225066A (en) * 1980-08-18 1987-08-04 Jean M. Hinden Electrode with surface film of oxide of valve metal incorporating platinum group metal or oxide
US4831707A (en) * 1980-11-14 1989-05-23 Fiber Materials, Inc. Method of preparing metal matrix composite materials using metallo-organic solutions for fiber pre-treatment
JPS5861286A (ja) * 1981-10-08 1983-04-12 Tdk Corp 電解用電極およびその製造方法
US4406757A (en) * 1982-03-29 1983-09-27 Polychrome Corporation Anodization method
JPS6022074B2 (ja) * 1982-08-26 1985-05-30 ペルメレツク電極株式会社 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法
JPS6022075B2 (ja) * 1983-01-31 1985-05-30 ペルメレック電極株式会社 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法
US4717581A (en) * 1986-02-06 1988-01-05 Eic Laboratories, Inc. Iridium oxide coated electrodes for neural stimulation
DE3635369A1 (de) * 1986-10-17 1988-04-28 Degussa Verfahren zum beschichten von oberflaechen mit hartstoffen
US5156884A (en) * 1987-10-23 1992-10-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Method for forming a film of oxidized metal
US5139829A (en) * 1988-12-22 1992-08-18 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Method for producing oxygen detection element
US5114750A (en) * 1990-11-06 1992-05-19 The Dow Chemical Company Tungsten and tungsten nitride coatings for metals and ceramics
US5252362A (en) * 1991-07-19 1993-10-12 Khan Abdus S Method for protecting articles from hydrogen absorption by application of an alumina coating
US5271956A (en) * 1991-12-30 1993-12-21 Eastman Kodak Company Method of forming ternary metal fluoride films by the decomposition of metallo-organic compounds in the presence of a fluorinating agent
US5752282A (en) * 1995-03-30 1998-05-19 Bioquest Spa fitting
US5759384A (en) * 1995-03-30 1998-06-02 Bioquest Spa halogen generator and method of operating
US6007693A (en) * 1995-03-30 1999-12-28 Bioquest Spa halogen generator and method of operating
US5545310A (en) * 1995-03-30 1996-08-13 Silveri; Michael A. Method of inhibiting scale formation in spa halogen generator
US5676805A (en) * 1995-03-30 1997-10-14 Bioquest SPA purification system
US6270680B1 (en) 1997-11-07 2001-08-07 Bioquest Amperometric sensor probe for an automatic halogen control system
CA2544137C (en) * 2003-10-29 2013-04-23 Rheodyne, Llc Dosing engine and cartridge apparatus for liquid dispensing and method
CN110713233B (zh) * 2019-10-18 2022-01-28 重庆工商大学 Pd/MnO2-Ni电极及其制备方法和应用
RU2759381C1 (ru) * 2021-02-25 2021-11-12 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина Российской академии наук (ИФХЭ РАН) Композиционный малорастворимый рениевый электрод многофункционального назначения и способ его получения

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL106520C (de) * 1956-09-01 1900-01-01
NL250923A (de) * 1959-04-27
US3348971A (en) * 1963-05-28 1967-10-24 Otis F Boykin Method of making a thin film capacitor
NL128866C (de) * 1965-05-12

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS559471B1 (de) * 1971-03-18 1980-03-10
DE2331949A1 (de) * 1972-06-23 1974-01-10 Diamond Shamrock Corp Dimensionsstabile elektrode und verfahren zu deren herstellung
DE2620589A1 (de) * 1975-05-12 1976-11-25 Hodogaya Chemical Co Ltd Aktivierte kathode zur verwendung bei der elektrolyse waessriger loesungen
DE2818829A1 (de) * 1977-07-19 1979-02-01 Tdk Electronics Co Ltd Verfahren zur herstellung einer unloeslichen elektrode
DE2852136A1 (de) * 1977-12-02 1979-06-07 Tdk Electronics Co Ltd Verfahren zur herstellung einer unloeslichen elektrode
EP0014896A1 (de) * 1979-02-27 1980-09-03 Asahi Glass Company Ltd. Gasdiffusionselektrode
EP0020940A1 (de) * 1979-05-04 1981-01-07 Asahi Glass Company Ltd. Verfahren zur Herstellung eines Alkalimetallhydroxids durch Elektrolyse einer wässerigen Lösung eines Alkalimetallchlorids

Also Published As

Publication number Publication date
US3663280A (en) 1972-05-16
BE730629A (de) 1969-09-29
NL6905175A (de) 1969-10-06
JPS4629482B1 (de) 1971-08-27
GB1206863A (en) 1970-09-30
AT289720B (de) 1971-05-10
FR2005403A1 (de) 1969-12-12
NL159726B (nl) 1979-03-15
CA996058A (en) 1976-08-31
CH527642A (de) 1972-09-15

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