DE10054742A1 - Verfahren zur Konzentrierung von wässrigem Wasserstoffperoxid durch Kristallisation - Google Patents
Verfahren zur Konzentrierung von wässrigem Wasserstoffperoxid durch KristallisationInfo
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Abstract
Die Erfindung richtet sich auf ein Verfahren zur Konzentrierung von wässrigem Wasserstoffperoxid, umfassend eine diskontinuierliche Kristallisation. Erfindungsgemäß wird eine in einem Kristallisationsbehälter angeordnete und zunächst mit Wasserstoffperoxid benetzte Kühlfläche mit hoher Abkühlrate abgekühlt, wobei sich Impfkristalle ausbilden. Die Abkühlrate beträgt mindestens 1 K/s, vorzugsweise 10 bis 30 K/s. Nach dem Befüllen des Behälters mit H¶2¶O¶2¶-Edukt kristallisiert dieses ausgehend von den Impfkristallen und bildet eine Kristallschicht aus. Nach Ablassen der Mutterlauge mit geringerer H¶2¶O¶2¶-Konzentration schließt sich bei langsamer Temperaturerhöhung ein Schwitzprozess an, wodurch die H¶2¶O¶2¶-Konzentration in der Kristallschicht weiter erhöht wird.
Description
Die Erfindung richtet sich auf ein Verfahren zur
Konzentrierung von wässrigem Wasserstoffperoxid der
Konzentration cE (H2O2-Edukt) zur Gewinnung von
Wasserstoffperoxid der Konzentration cP (H2O2-Produkt),
wobei cP gleich oder größer 90 Gew.-% ist, durch eine
diskontinuierliche Kristallisation.
Bei den bekannten Verfahren zur Herstellung von
Wasserstoffperoxid, wie dem Anthrachinonkreisprozess,
elektrolytischen Verfahren und Direktsyntheseverfahren,
fällt Wasserstoffperoxid in Form einer wässrigen Lösung an.
Um derartige Lösungen in marktfähige Produkte zu
überführen, schließt sich an die Herstellung üblicherweise
eine Konzentrierung der Lösung durch Destillation an. Durch
Destillation lassen sich wässrige
Wasserstoffperoxidlösungen mit einem Gehalt bis zu etwa
90 Gew.-% Wasserstoffperoxid gewinnen. Einer weiteren
destillativen Konzentrierung stehen Kosten- und
Sicherheitsüberlegungen entgegen.
Höher konzentriertes Wasserstoffperoxid, also Produkte mit
einem H2O2-Gehalt im Bereich von gleich/größer 90 Gew.-%
bis etwa 100 Gew.-% gewinnen aufgrund ihres hohen
Energieinhalts zunehmend technische Bedeutung. Es ist
bekannt, dass Wasserstoffperoxid mit einem Gehalt bis
annähernd 100 Gew.-% durch mehrfaches Umkristallisieren
erhältlich ist. Wesentliche Aspekte zur Kristallisation von
Wasserstoffperoxid sowie das Fest-Flüssig-Phasendiagramm
des Systems Wasserstoffperoxid/Wasser sind aus dem Fachbuch
"Hydrogen peroxide" von Walter C. Schumb et al., Reinhold
Publicing Corp. (1955), S. 210-220 bekannt. Hiernach ist
eine herausragende Eigenschaft von hochkonzentriertem
wässrigen Wasserstoffperoxid die Neigung zur extremen
Unterkühlung, wodurch die Konzentrierung durch
Kristallisation erschwert wird. Die Kristallbildung wird
nach Schumb et al. (Seite 215) weder durch Rühren oder
Kratzen noch durch die Abkühlgeschwindigkeit in
reproduzierbarer Weise beeinflusst. Das Gefrieren von
unterkühltem hochkonzentrierten Wasserstoffperoxid wird
jedoch durch Animpfen mit Wasserstoffperoxidkristallen
induziert. Als Nachteil einer Konzentrierung durch
Kristallisation wird die geringe Effizienz einer
fraktionierenden batch-Kristallisation angesehen (Schumb et
al., S. 215), da pro Kristallisationsstufe nur eine
Konzentrationssteigerung von etwa 2% und niemals mehr als
4% erreicht werden. Offensichtlich resultiert dieses
Problem aus der hohen Randlöslichkeit von Wasser in
kristallisiertem Wasserstoffperoxid, welche auch im
Phasendiagramm (Schumb, Seite 211) dargestellt ist.
Ein verbessertes Verfahren zur Konzentrierung von wässrigen
Wasserstoffperoxidlösungen lehrt die DE-PS 10 41 479.
Hiernach wird ein H2O2-Edukt in einer Rektifiziersäule
soweit abgekühlt, dass sich ein 2-phasiges System aus einer
festen Kristallphase und einer flüssigen Mutterlauge, die
sich gemäß dem Gleichgewicht hinsichtlich der
Wasserstoffperoxidkonzentration unterscheiden, ausbilden.
Die Temperatur längs der Rektifiziersäule wird so geregelt,
dass sie von einem zu anderen Ende hin langsam ansteigt.
Aufgrund der höheren Dichte des kristallisierten
Wasserstoffperoxids fließen Kristalle und Mutterlauge im
Gegenstrom zueinander. Nachteil dieses kontinuierlichen
Suspensionskristallisationsverfahrens ist der zur
Durchführung erforderliche hohe technische Aufwand. Dieser
technische Aufwand erscheint nur dann berechtigt, wenn
regelmäßig und/oder in großen Mengen höchstkonzentriertes
Wasserstoffperoxid benötigt wird. Dieses Verfahren ist
jedoch insbesondere dann wenig wirtschaftlich, wenn das
höchstkonzentrierte Wasserstoffperoxid nur periodisch
und/oder in kleinen Mengen benötigt wird. Probleme bereitet
zusätzlich das "scale-up".
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es demgemäß, ein
einfaches Verfahren zur Herstellung von
höchstkonzentriertem Wasserstoffperoxid, also
Wasserstoffperoxid mit einem Gehalt im Bereich von gleich
und insbesondere größer 90% aufzuzeigen, das batchweise
von wenig geschultem Personal betrieben werden kann. Das
Verfahren sollte zudem in einfachen technischen Apparaten
mit geringem Regelaufwand durchgeführt werden können. Zudem
sollte das Verfahren in einfacher und zuverlässiger Weise
scale-up fähig sein, um an einen steigenden Bedarf
angepasst werden können.
Diese Aufgaben werden durch das erfindungsgemäße Verfahren,
das auf dem Prinzip der Schichtkristallisation mit
nachgeschaltetem Schwitzprozess beruht und batchweise
durchgeführt wird, gelöst.
Gefunden wurde ein Verfahren zur Konzentrierung von
wässrigem Wasserstoffperoxid der Konzentration cE (H2O2-
Edukt) zur Gewinnung von Wasserstoffperoxid der
Konzentration cP (H2O2-Produkt), wobei cP gleich oder größer
90 Gew.-% ist, umfassend eine diskontinuierliche
Kristallisation, das dadurch gekennzeichnet ist, dass man
eine in einem Kristallisationsbehälter angeordnete und mit
Wasserstoffperoxid einer Konzentration von mindestens
70 Gew.-%, insbesondere einer Konzentration im Bereich von cE
bis cP mindestens teilweise benetzte Kühlfläche mittels
eines auf ihrer Rückseite befindlichen Kühlmediums mit
einer Abkühlrate von mindestens 1 K/s von einer Temperatur
um den Schmelzpunkt des zum Benetzen eingesetzten
Wasserstoffperoxids bis zu einer Temperatur, bei welcher
sich in der Benetzung Impfkristalle bilden, abkühlt, den
Behälter mit H2O2-Edukt mit einer Temperatur unterhalb des
Schmelzpunktes der H2O2-Impfkristalle befüllt, die
Temperatur des Kühlmediums auf einen Wert im Bereich
unterhalb des Schmelzpunktes des H2O2-Produktes und -50°C
absenkt und während der Temperaturabsenkung und bei Bedarf
zusätzlich nach Erreichen der Temperatur von den
Impfkristallen ausgehend eine Kristallschicht anwachsen
lässt, anschließend nicht kristallisiertes
Wasserstoffperoxid aus dem Behälter abtrennt und die
Kristallschicht einem Schwitzprozess unterwirft, indem man
die Temperatur des Kühlmediums innerhalb von 0,2 bis 20
Stunden auf einen Wert im Bereich von 10 K unterhalb und
5 K oberhalb des Schmelzpunktes des H2O2-Produktes erhöht,
wobei ausschwitzendes Wasserstoffperoxid abgetrennt und
kristallines Wasserstoffperoxid der Konzentration cP
erhalten wird. Die Unteransprüche richten sich auf
bevorzugte Ausführungsformen des erfindungsgemäßen
Verfahrens.
Überraschenderweise lässt sich ein H2O2-Edukt mit einem
H2O2-Gehalt um 90 Gew.-%, insbesondere 90 ± 2 Gew.-%, nach
dem erfindungsgemäßen Verfahren einstufig zu einem H2O2-
Produkt mit einem Gehalt im Bereich von etwa 97 bis
99 Gew.-% oder darüber konzentrieren.
Das erfindungsgemäße Verfahren umfasst im wesentlichen die
folgenden Schritte:
- 1. Ausbildung von Impfkristallen auf einer Kühlfläche, welche zuvor mit hochkonzentriertem Wasserstoffperoxid benetzt wurde;
- 2. Befüllen des Behälters, in welchem sich die Kühlfläche befindet, mit dem aufzukonzentrierenden H2O2-Edukt, dessen Temperatur unterhalb des Schmelzpunkts der an der Kühlfläche befindlichen Impfkristalle liegt;
- 3. Erniedrigen der Temperatur der Kühlfläche durch Absenken der Temperatur des Kühlmediums, wobei ausgehend von den Impfkristallen während des Abkühlens Wasserstoffperoxid mit einer höheren Konzentration als derjenigen des H2O2- Edukts auf der Kühlfläche auskristallisiert und die Schichtdicke der Kristallschicht wächst;
- 4. Ablassen des nicht kristallisierten wässrigen Wasserstoffperoxids reduzierter Konzentration (= Mutterlauge) aus dem Kristallisationsbehälter;
- 5. Durchführen eines sogenannten Schwitzprozesses, wobei die Temperatur des Kühlmediums und damit der Kühlfläche langsam erhöht wird, wobei die H2O2-Konzentration in der Kristallschicht zunimmt und minder konzentriertes Wasserstoffperoxid als Schmelze abtropft.
- 6. Das H2O2-Produkt kann durch Aufschmelzen der auf der Kühlfläche befindlichen Kristallschicht gewonnen werden. Nach dem Abschmelzen der Kristallschicht ist die Kühlfläche weiterhin mit höchstkonzentriertem Wasserstoffperoxid benetzt und kann in dieser Form wieder dem ersten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens zugeführt werden.
Die Benetzung der Kühlfläche kann in an sich beliebiger
Weise erfolgen, beispielsweise durch Berieseln mit oder
Eintauchen in mindestens 70 gew.-%iges H2O2, vorzugsweise
aber in das H2O2-Edukt der Konzentration cE. Wie zuvor
ausgeführt, kann die Benetzung auch aus der vorhergehenden
Stufe resultieren, dessen Konzentration im allgemeinen
größer cE ist. Zweckmäßigerweise ist die Konzentration des
zur Benetzung eingesetzten wässrigen H2O2 gleich oder
größer cE. Die Konzentration des wässrigen
Wasserstoffperoxid der Benetzung liegt demgemäß bevorzugt
im Bereich von cE bis cP. Obgleich das H2O2-Edukt
zweckmäßigerweise eine Konzentration von 90 ± 2 Gew.-%
aufweist, kann das H2O2-Edukt auch eine Konzentration im
Bereich von 70 bis 98 Gew.-% aufweisen.
Ein erfindungswesentlicher Schritt besteht darin, die mit
wässrigem Wasserstoffperoxid benetzte Kühlfläche
schockartig abzukühlen. Dies erfolgt durch Absenken der
Temperatur des Kühlmediums mit einer Abkühlrate von
mindestens 1 K/s und vorzugsweise mindestens 5 K/s.
Üblicherweise liegt die Abkühlrate im Bereich von 1 bis
50 K/s, insbesondere 5 bis 40 K/s und besonders bevorzugt 10
bis 30 K/s.
Das zu konzentrierende H2O2-Edukt wird mit einer Temperatur
unterhalb des Schmelzpunktes der Impfkristalle in den
Kristallisationsbehälter gefüllt. Vorzugsweise liegt die
Temperatur des H2O2-Edukts beim Befüllen 1 bis 10 K,
insbesondere 1 bis 5 K unterhalb seines Schmelzpunktes. Zum
Zwecke des Aufbaus und Schichtdickenwachstums der
Kristallschicht auf der Kühlfläche wird das Kühlmedium
langsam abgekühlt, und zwar von einer Temperatur unterhalb
des Schmelzpunktes der auf der Kühlfläche befindlichen
Impfkristalle auf eine Temperatur im Bereich von -20 bis
-40°C abgesenkt. Bei der Konzentrierung von etwa 90 gew.-%igem
wässrigen Wasserstoffperoxid und Impfkristallen einer
Konzentration im Bereich von cE bis cP wird von einer
Temperatur im Bereich von -5 bis weniger als -20°C,
insbesondere -10 bis -15°C, das Kühlmedium auf -20 bis
-40°C abgesenkt. Zweckmäßigerweise erfolgt diese
Temperaturabsenkung im Bereich von 0,2 bis 20 Stunden,
meistens aber innerhalb von 0,5 bis 10 Stunden,
insbesondere 1 bis 5 Stunden.
Zur Durchführung des Schwitzprozesses wird die Temperatur
des Kühlmediums und damit der Kühlfläche wiederum langsam
erhöht. Durch den Schwitzprozess gelingt es, die H2O2-
Konzentration in der Kristallschicht zu erhöhen, indem
darin gelöstes Wasser als minder konzentrierte H2O2-Lösung
aus der Kristallschicht ausschwitzt. Die Endtemperatur des
Kühlmediums liegt beim Schwitzprozess im allgemeinen im
Bereich von 10 K unterhalb und 5 K oberhalb des
Schmelzpunktes des H2O2-Produktes - bei einer Temperatur
oberhalb des Schmelzpunktes sollte die Kühlfläche
Halterungen für die Kristallschicht aufweisen. Gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform zur Herstellung von H2O2 mit cP
< 97 Gew.-% wird die Temperatur innerhalb eines Zeitraums
von 1 bis 10 Stunden auf einen Wert von 1 bis 5 K unterhalb
des Schmelzpunktes des H2O2-Produktes erhöht.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens eignen
sich einfache Vorrichtungen. Gemäß einer Ausführungsform
handelt es sich bei der Kristallisationsfläche um einen in
einen Kristallisationsbehälter tauchenden Kühlfinger, der
rohrförmig oder plattenförmig ausgebildet sein kann. Gemäß
einer weiteren Ausführungsform ist die Kühlfläche selbst
ein Bestandteil des Kristallisationsbehälters -
beispielsweise können eine oder mehrere Seitenflächen als
Kühlfläche ausgebildet sein - beispielsweise kommt ein
plattenförmiger Wärmetauscher infrage. Um den
Schwitzprozess in einfacher Weise durchführen zu können,
ist es zweckmäßig, wenn die Kühlfläche senkrecht oder
zumindest geneigt in dem Kristallisationsbehälter
angeordnet ist. Auf diese Weise kann ausschwitzendes minder
konzentriertes Wasserstoffperoxid aus der an der Kühlfläche
befindlichen Kristallschicht abtropfen.
Die Figur zeigt ein Schema einer bevorzugten
Ausführungsform einer Apparatur zur Durchführung des
erfindungsgemäßen Verfahrens.
Die Apparatur gemäß der Figur umfasst einen Vorratsbehälter
1 für das zu konzentrierende H2O2-Edukt. Eine Vorrichtung
zur Abkühlung des H2O2-Edukts auf die geeignete Temperatur
zur Befüllung des Kristallisationsbehälters 2 ist in der
Figur nicht dargestellt. Das H2O2-Edukt wird über den
Zulauf 11 in den Kristallisationsbehälter 2 gefüllt. Im
Kristallisationsbehälter 2 befindet sich ein Kühlfinger 3,
der mittels einer Kühlmaschine 4 über die Vorlaufleitung 7
und Rücklaufleitung 8 temperiert wird, um die in den
verschiedenen Schritten erforderliche Temperatur zu
erreichen. Nicht kristallisiertes wässriges
Wasserstoffperoxid (Mutterlauge) wird über den Ablauf 12 in
den Mutterlaugebehälter 6 abgelassen. Auch das beim
Schwitzprozess anfallende Wasserstoffperoxid mit geringerer
Konzentration als jener in der Kristallschicht wird in den
Mutterlaugebehälter abgelassen. Nach Beendigung des
Schwitzprozesses wird die Kristallschicht aus dem H2O2-
Produkt aufgeschmolzen und über den Ablauf 10 in den
Produktbehälter 5 abgelassen. Die Leistung der Kühlmaschine
4 wird über mittels einer oder mehrerer
Temperaturmessvorrichtung(en) gemessene Temperatur(en) über
eine Wirkungslinie 9 gesteuert. Eine Temperaturmesssonde
befindet sich im Kühlkreislauf (T2), eine weitere (TC3) im
Kristallisationsbehälter.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist in einfacher Weise
durchführbar. Die durchzuführenden Verfahrensschritte sowie
die Wartung der einfachen Apparatur zur Durchführung des .
Verfahrens lassen sich von wenig geschultem Personal
handhaben. Unter Einsatz eines etwa 90 gew.-%igen H2O2-
Eduktes lässt sich in einer Stufe 98 bis 99 gew.-%iges
Wasserstoffperoxid gewinnen. Eine Kapazitätserhöhung ist im
Hinblick auf die einfache Apparatur durch ein "numbering
up" zu realisieren. Die nachfolgenden Beispiele und
Vergleichsbeispiele verdeutlichen die Erfindung.
Das erfindungsgemäße Verfahren wurde in der zuvor
beschriebenen Apparatur durchgeführt. Das H2O2-Edukt hatte
eine Konzentration cE von 90,5 Gew.-%. Das H2O2-Edukt im
Behälter 1 wurde auf eine Temperatur leicht unterhalb der
Kristallisationstemperatur gekühlt - 1 bis 5 K
Unterkühlung. Der Kühlfinger wurde in H2O2-Edukt getaucht
und mit einer Abkühlgeschwindigkeit des Kühlmediums von
17 K/s abgekühlt. Bei -35°C bildeten sich in der Benetzung
Impfkristalle. Nach Befüllen des Behälters 2 mit H2O2-Edukt
wurde die Temperatur des Kühlmediums über einen Zeitraum
von 1,5 Stunden von -12 auf -30°C erniedrigt. Dabei fror
eine an H2O2 angereicherte Fraktion als Schicht am
Kühlfinger aus. Anschließend wurde die restliche
Flüssigkeit (Mutterlauge) in den Mutterlaugebehälter 6
abgelassen. Bei offener Leitung 12 wurde der Schwitzprozess
durchgeführt, indem die Temperatur des Kühlmediums
innerhalb eines Zeitraums von 5 Stunden von -30°C auf
-5°C erhöht wurde. Nach Schließen des Ablaufs 12 und
Öffnen des Ablaufs 10 wurde das am Kühlfinger verbliebene
Kristallisat, also das H2O2-Produkt, mit einer
Konzentration cP = 98,3 Gew.-% abgeschmolzen und in den
Produktbehälter abgelassen. Nach der Kristallisation des
H2O2-Edukts am Kühlfinger wurden 37% Mutterlauge, bezogen
auf den Einsatz, abgelassen; weitere 16% wurden während
des Schwitzprozesses abgelassen. 50,5 Gew.-% des im H2O2-
Edukt enthaltenen Wasserstoffperoxids wurden somit von
einer Konzentration von 90,5 Gew.-% auf eine Konzentration
von 98,3 Gew.-% konzentriert.
Wässriges Wasserstoffperoxid mit einer Konzentration von
90,5 bzw. 98 Gew.-% wurde bei einer Ausgangstemperatur von
jeweils 0°C als Rieselfilm auf ein Kühlrohr gegeben. Die
Kühlrohrtemperatur betrug -40°C. Es wurde in keinem der
beiden Fälle eine Kristallbildung beobachtet.
Wässriges Wasserstoffperoxid mit einer Konzentration von
90,5 Gew.-% wurde auf -22°C vorgekühlt. Diese Lösung wurde
in den mit einem Kühlfinger ausgestatteten
Kristallisationsbehälter gemäß der Figur eingefüllt, wobei
die Temperatur des Kühlmediums -40°C betrug. Es wurde eine
spontane unkontrollierte Kristallbildung beobachtet. Nach
Durchführen eines Schwitzprozesses, wobei die Temperatur
des Kühlmediums langsam auf -5°C erhöht wurde, wurde ein
Wasserstoffperoxidprodukt mit einem Gehalt von lediglich
96,9 Gew.-% erhalten. Durch das erfindungsgemäße Verfahren
wird demgegenüber eine höhere H2O2-Konzentration erzielt.
Claims (6)
1. Verfahren zur Konzentrierung von wässrigem
Wasserstoffperoxid der Konzentration cE (H2O2-Edukt) zur
Gewinnung von Wasserstoffperoxid der Konzentration cP
(H2O2-Produkt), wobei cP gleich oder größer 90 Gew.-%
ist, umfassend eine diskontinuierliche Kristallisation,
dadurch gekennzeichnet,
dass man eine in einem Kristallisationsbehälter
angeordnete und mit Wasserstoffperoxid einer
Konzentration von mindestens 70 Gew.-%, insbesondere
einer Konzentration im Bereich von cE bis cP mindestens
teilweise benetzte Kühlfläche mittels eines auf ihrer
Rückseite befindlichen Kühlmediums mit einer Abkühlrate
von mindestens 1 K/s von einer Temperatur um den
Schmelzpunkt des zum Benetzen eingesetzten
Wasserstoffperoxids bis zu einer Temperatur, bei
welcher sich in der Benetzung Impfkristalle bilden,
abkühlt, den Behälter mit H2O2-Edukt mit einer
Temperatur unterhalb des Schmelzpunktes der H2O2-
Impfkristalle befüllt, die Temperatur des Kühlmediums
auf einen Wert im Bereich unterhalb des Schmelzpunktes
des H2O2-Produktes und -50°C absenkt und während der
Temperaturabsenkung und bei Bedarf zusätzlich nach
Erreichen der Temperatur von den Impfkristallen
ausgehend eine Kristallschicht anwachsen lässt,
anschließend nicht kristallisiertes Wasserstoffperoxid
aus dem Behälter abtrennt und die Kristallschicht einem
Schwitzprozess unterwirft, indem man die Temperatur des
Kühlmediums innerhalb von 0,2 bis 20 Stunden auf einen
Wert im Bereich von 10 K unterhalb und 5 K oberhalb des
Schmelzpunktes des H2O2-Produktes erhöht, wobei
ausschwitzendes Wasserstoffperoxid abgetrennt und
kristallines Wasserstoffperoxid der Konzentration cP
erhalten wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass man H2O2-Edukt einstufig von cE = 90 ± 2 Gew.-% auf
H2O2-Produkt mit cP = 97 bis 99 Gew.-% erhöht.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
dass man als Kühlfläche einen in den
Kristallisationsbehälter tauchenden Kühlfinger
verwendet, wobei das Kühlmedium innerhalb des
Kühlfingers zirkuliert, oder dass der
Kristallisationsbehälter in Form eines plattenförmigen
Wärmetauschers ausgebildet ist.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass man das Kühlmedium zwecks Ausbildung von
Impfkristallen in den benetzten Zonen mit einer
Abkühlrate von mindestens 5 K/s, insbesondere 10 bis
30 K/s, abkühlt.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
dass man den Behälter mit H2O2-Edukt mit einer
Temperatur im Bereich von -5 bis weniger als -20°C
befüllt und dann die Temperatur des Kühlmediums zur
Ausbildung der Kristallschicht innerhalb von 0,5 bis 10
Stunden auf eine Temperatur im Bereich von -20 bis
-40°C erniedrigt.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
dass man zur Durchführung des Schwitzprozesses, wobei
eine an H2O2 angereicherte Fraktion in der
Kristallschicht verbleibt und minder konzentriertes
Wasserstoffperoxid als Schmelze abtropft, die
Temperatur des Kühlmediums innerhalb eines Zeitraums
von 1 bis 10 Stunden auf einen Wert im Bereich von 5 K
unterhalb bis 5 K oberhalb, insbesondere 5 bis 1 K
unterhalb des Schmelzpunktes des H2O2-Produktes erhöht.
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