CN1746735A - 显示装置及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种显示装置，包括第一衬底和第二衬底、以及第一和第二对准键。第一和第二衬底分别具有第一和第二显示区域、以及第一和第二***区域。第一对准键设在第一衬底的第一***区域中。第一对准键包括第一图案和第二图案。第二对准键设在第二衬底的第二***区域中，使得第二对准键面对第一对准键。结果，第一对准键可通过形成像素电极的工艺被形成。因此，第一对准键和像素电极之间没有偏差，并且由于第一图案是不透明的，因此第一对准键可容易地被检测出来，从而错位被防止了。
Description
技术领域
本发明涉及显示装置及其制造方法。更特别地是，本发明涉及能提高显示质量的显示装置，及所述显示装置的制造方法，它能提高所述显示装置的下衬底和上衬底之间的对准精度。
背景技术
液晶显示(LCD)装置包括LCD面板和后光组件。所述LCD面板包括薄膜晶体管(TFT)衬底、滤色片衬底和液晶层。所述TFT衬底和滤色片衬底相互面对。液晶层设在TFT衬底和滤色片衬底之间。当电场被施加在液晶层上时，液晶层中的液晶分子的排列被改变，以改变光的透射率，从而图像被显示在LCD面板上。后光组件给LCD面板提供光源。
TFT衬底包括薄膜晶体管和像素电极。所述滤色片衬底包括黑底、滤色片和面对TFT衬底的像素电极的公共电极(common electrode)。
所述TFT衬底和滤色片衬底分别包括第一对准键和第二对准键，用来在TFT衬底和滤色片衬底被组装时，对准TFT衬底和滤色片衬底。TFT衬底的第一对准键是通过TFT的栅极的制造工艺或通过TFT的源电极和漏极的制造工艺而被制成的。所述滤色片衬底的第二对准键是通过黑底的制造工艺制成的。
第一和第二对准键被形成后，许多层可形成在第一和第二对准键上方。在形成所述层的过程中，可能发生错位。当精确的对准被实现时，滤色片层的滤色片面对TFT衬底的像素电极。许多层被形成图案于第一对准键上方，以在第一对准键被形成之后，形成像素电极，这会引起像素电极与第一对准键的错位。因此，当TFT衬底和滤色片衬底通过使用第一和第二对准键而被组装起来时，TFT衬底的像素电极会偏离滤色片衬底的滤色片。
为了减少TFT衬底和滤色片衬底的错位，分别采用制造TFT衬底的像素电极和滤色片衬底的公共电极的工艺来制造第一和第二对准键。然后，第一和第二对准键利用光学透明且导电的材料制成，如氧化锡铟(ITO)、氧化锌铟(IZO)等材料。当第一和第二对准键利用光学透明且导电的材料制造时，第一和第二对准键是透明的，使得用来检测第一和第二对准键的设备不能检测到第一和第二对准键。
发明内容
本发明提供了一种具有用于在TFT衬底和滤色片衬底之间精确对准的对准键的显示装置。
本发明还提供了一种制造上述显示装置的方法。
在显示装置的典型实施例中，所述显示装置包括第一衬底、第二衬底、第一对准键和第二对准键。第一衬底具有第一显示区域和环绕所述第一显示区域的第一***区域。第二衬底面对第一衬底。第二衬底具有面对第一显示区域的第二显示区域，和面对第一***区域的第二***区域。第一对准键设在第一衬底的第一***区域中。第一对准键包括第一金属图案和第二金属图案。第二对准键设在第二衬底的第二***区域中，使得第二对准键面对第一对准键。
在另一个典型实施例中，显示装置包括显示面板和对准键部分。显示面板包括第一衬底和面对第一衬底的第二衬底。显示面板具有显示区域和环绕所述显示区域的***区域。用来对准第一衬底和第二衬底的对准键部分被设在***区域中。所述对准键部分包括不透明的第一图案和透明的第二图案。
在制造显示装置的典型方法中，第一图案被形成在包括显示区域和环绕显示区域的***区域的第一衬底上。第一图案设在***区域中。第二图案形成在第一图案的上方。第一和第二图案被同时蚀刻，以形成对准键。第一和第二衬底利用对准键对准。
在制造显示装置的另一个典型的方法中包括：形成第一衬底，所述第一衬底具有第一显示区域和环绕所述第一显示区域的第一***区域。第一衬底包括形成在第一***区域中的第一对准键。第一对准键具有不透明的第一图案和透明的第二图案。具有第二显示区域和环绕所述第二显示区域的第二***区域的第二衬底被形成。第二衬底包括形成在第二***区域中的第二对准键。第二对准键具有不透明的第三图案和透明的第四图案。利用第一和第二对准键对准第一和第二衬底，使得第一显示区域和第一***区域分别面对第二显示区域和第二***区域。
根据上述实施例，第一对准键可通过形成像素电极的工艺被形成。因此，第一对准键和像素电极之间没有差别，并且由于第一金属层图案是不透明的，所以第一对准键可被容易地检测到，使得错位被防止了。
附图说明
本发明的上述和其它特征及优点将通过结合附图描述其典型的实施例而变得更清楚，其中：
图1是根据本发明所述的液晶显示装置的典型实施例的剖视图；
图2是图1中形成在TFT衬底上的第一对准键的典型实施例的平面图；
图3是沿图2中线I-I’的剖视图。
图4是图1中形成在滤色片衬底上的第二对准键的典型实施例的平面图；
图5是图4中沿线II-II’的剖视图。
图6是图2中第一对准键和图4中第二对准键对准在一起的平面图；
图7A至7F是制造图1中TFT衬底的步骤的剖视图；以及
图8A至8D是制造图1中滤色片衬底的步骤的剖视图。
具体实施方式
可以理解，下文描述的本发明的典型实施例可通过多种不同方式变化和改进，而不脱离本发明于此披露的原则，因此，本发明的范围不限于这些特定的实施例。这些实施例被提供是为了使披露内容详细和完整，并且将通过例子而不是限定，来向本领域的技术人员传达本发明的概念。
在下文中，本发明的实施例将参考附图被详细地描述。在图中，层、膜、区域的厚度为了清晰而被放大了。在全文中，类似的数字指示类似的元件。可以理解，当元件，如层、膜、区域或衬底等，被提到处于在另一个元件“上”时，它可直接在另一个元件上，或者还存在介于其间的中间元件。
图1是根据本发明所述的液晶显示装置的典型实施例的剖视图。
参见图1，液晶显示(LCD)装置包括LCD面板400和后光组件500。所述LCD面板400包括薄膜晶体管(TFT)衬底100、滤色片衬底200和设在TFT衬底100和滤色片衬底200之间的液晶层300。所述后光组件500给LCD面板400提供光。
LCD面板400包括用来显示图像的显示区域DA和环绕在显示区域DA周围的***区域SA。
TFT衬底100包括第一透明衬底110、TFT层120、保护层130和像素电极140。TFT层120是形成在第一透明衬底110上的，包括排列成矩阵的多个TFT。保护层130是形成在TFT层120上的。所述像素电极140形成在保护层130上，并电气连接至TFT层120。
TFT层120上的每个TFT包括栅极、源极和漏极。漏极电气连接至像素电极140。栅极、源极和漏极由金属层形成。在特定的典型实施例中，所述金属层可以包含铬(Cr)。
所述滤色片衬底200包括第二透明衬底210、形成在第二衬底210上的滤色片层220、以及形成在滤色片层220上的公共电极(commonelectrode)230。所述滤色片层220包括红色滤色片、绿色滤色片和蓝色滤色片。滤色片衬底220还包括黑底(参见图5)。黑底防止红色滤色片、绿色滤色片和蓝色滤色片之间的光泄漏。在典型实施例中，黑底可由无机物层形成，所述无机物层包括但不限于铬(Cr)、氧化铬等。另外，当黑底由无机物层形成时，用来使滤色片层220变平的填平层就不需要了。
TFT衬底100和滤色片衬底200通过设在***区域SA上的结合构件600相互结合在一起。结合构件600可以是密封线，被设计用来防止液晶层300从显示区域DA泄漏进入周围的***区域SA。
所述结合构件600具有预定的高度，使得当TFT衬底100和滤色片衬底200相互结合时，TFT衬底100和滤色片衬底200之间生成单元间隙。液晶层300设在单元间隙中。
TFT衬底100包括第一对准键700。第一对准键700设在***区域SA中。滤色片衬底200包括与第一对准键700相应的第二对准键710。第二对准键710也设在***区域SA中。
在典型实施例中，第一对准键700包括第一金属层图案702和形成在第一金属层图案702上的第一透明层图案704。第一金属层图案702由金属层形成，所述金属层还用来形成栅极、或源极和漏极。第一透明层图案704由透明层形成，所述透明层还用来形成像素电极140。
TFT的栅极、漏极和源极可以由铬(Cr)构成，所述像素电极可以由氧化锡铟(ITO)构成。第一金属层图案702和第一透明层图案704可以同时或连续地被形成图案。当第一对准键700被形成时，能够蚀刻铬和ITO两者的蚀刻剂可被使用。
第二对准键710包括第二金属层图案712和形成在第二金属层图案712上的第二透明层图案714。第二金属层图案712是由金属层形成的，所述金属层还用来形成黑底。第二透明层图案714是由透明层形成的，所述透明层还用来形成公共电极230。
在典型实施例中，所述黑底可以由铬(Cr)构成，公共电极230可以由氧化锡铟(ITO)构成。第二金属层图案712和第二透明层图案714可以同时或连续地被形成图案。当第二对准键710被形成时，能够蚀刻铬和ITO两者的蚀刻剂可被使用。
图2是图1中形成在TFT衬底上的第一对准键的典型实施例的平面图，图3是沿图2中线I-I’的剖视图。
参见图2和图3，第一对准键700设在TFT衬底100的角部。在显示的典型实施例中，四个第一对准键700分别设在TFT衬底100的四个角。也可以考虑，一个或更多对准键700可设在TFT衬底上的各种位置上。第一对准键700可形成框架形状，如具有同心矩形或正方形开口的矩形或正方形。同样地，第一对准键700还可以形成任何其它适合的形状。
TFT310形成在TFT衬底100的显示区域DA中。TFT310包括栅极311、栅极绝缘层312、激活层313、源极314和漏极315。电极311、314、315和层312、313可顺序形成。
保护层130形成在TFT310上，可由ITO构成的像素电极140形成在保护层130上。栅极绝缘层312、保护层130和像素电极140被形成，以覆盖显示区域DA和***区域SA。在形成电极焊盘(未显示)的过程中，设在***区域SA上的栅极绝缘层312和保护层130的一部分被去除。像素电极140通过接触孔(未显示)电气连接至TFT310的漏极315上。
在典型实施例中，用来形成栅极311或源极和漏极314和315的铬层被加工成矩形形状，以在***区域SA中形成第一金属层图案702。所述铬层可在形成第一金属层图案702的同时，被加工形成栅极311或源极和漏极314和315。作为替换，所述铬层在形成第一金属层图案702之前或之后，被加工形成栅极311或源极和漏极314和315。
例如，ITO层可形成在显示区域DA和***区域SA两者之上，ITO层可被形成图案，以在显示区域DA中形成像素电极140，在***区域SA中形成第一对准图案700。在***区域SA中的第一对准键700包括第一金属层图案702和第一透明层图案704。所述第一金属层图案702具有矩形形状，并与第一透明层图案704一起被形成图案，以形成第一对准键700。所述第一金属层图案702和第一透明层图案704可形成框架形状的第一对准键700。
在典型实施例中，第一对准键700通过形成像素电极140的过程而被形成。因此，第一对准键700和像素电极140之间没有偏差。另外，第一对准键700可容易地被检测出来，因为第一金属层图案702是不透明的。
图4是图1中形成在滤色片衬底上的第二对准键的典型实施例的平面图，图5是图4中沿线II-II’的剖视图。
参见图4和图5，每个第二对准键710被设在滤色片衬底200的角部处。在典型实施例中，四个第二对准键710被形成在滤色片衬底200的四个角部中。也可以想到，一个或更多第二对准键710可以以多种排列方式设在滤色片衬底200上。所述第二对准键710具有矩形或方形形状，它小于第一对准键700的同心矩形开口。另外，第二对准键710可以是任何其它适合的形状。
滤色片层220形成在第二透明衬底210的显示区域DA中。滤色片层220包括形成在第二透明衬底210上的黑底222，以及形成在黑底222之间的滤色片224。滤色片224包含红色像素‘R’、绿色像素‘G’和蓝色像素‘B’。黑底222可由铬和氧化铬构成。
公共电极230可由任何适当的光学透明且导电的材料构成，所述材料包括但不限于氧化锡铟(ITO)、氧化锌铟(IZO)等。公共电极形成在滤色片224上。
采用与形成黑底222类似的工艺，将第二对准键710形成在***区域SA中，从而使得第二对准键包括与黑底222类似的铬(Cr)。另外，例如，ITO层可被形成在显示区域DA和***区域SA两者之上，并且ITO层可被形成图案，从而在显示区域DA中形成公共电极230和在***区域SA中形成第二对准图案710。铬或任何其它适合的材料被形成图案，以在***区域SA中形成第二对准键710。所述第二对准键710包括第二金属层图案712和第二透明层图案714。
在可替换的典型实施例中，第二对准键710可通过形成黑底222的工艺被形成图案。所述黑底222可被用来确定滤色片224的位置。所述TFT衬底和滤色片衬底200被对准，使得滤色片衬底200的滤色片224面对像素电极。例如，第二对准键710在形成黑底222的过程中被方便地形成图案。
图6是图2中第一对准键和图4中第二对准键对准在一起的平面图。
参见图6，第一对准键700具有同心矩形开口的框架形状，第二对准键710具有小于同心矩形开口的矩形形状。所述TFT衬底100和滤色片衬底200被对准，使得第二对准键710安置在第一对准键700的中心位置。
在典型实施例中，第一对准键700具有例如框架形状，第二对准键710具有例如矩形形状。然而，可以想到，第一和第二对准键700和710具有多种形状，包括但不限于环形或三角形。
在下文中，形成第一和第二对准键的典型方法将进一步详细地被描述。
图7A至7F是制造图1中TFT衬底的步骤的剖视图。
参见图7A，第一金属层(未显示)通过例如溅射方法形成在第一透明衬底110上，第一金属层被形成图案，从而在显示区域DA中形成栅极311，在***区域SA中形成第一金属层图案702。作为替换，第一金属层图案702可通过形成源极和漏极314和315的工艺来形成，这在下文进行更详细的描述。
参见图7B，氮化硅(SiNx)层被形成在具有栅极311和第一金属层图案702的第一透明衬底110上，以形成栅极绝缘层312。接着，非晶硅(a-Si)层形成在栅极绝缘层312上，n+a-Si层形成在所述a-Si层上。所述a-Si层和n+a-Si层被形成图案，从而形成激活层313。
第二金属层(未显示)形成在第一透明衬底110上，所述第一透明衬底110具有通过例如溅射方法形成在其上的激活层313，所述第二金属层被形成图案，从而在显示区域DA中形成源极和漏极314和315。这完成了TFT310的制造。
参见图7C，例如氮化硅层等无机物层形成在第一透明衬底(未示出)上以形成保护层130，所述第一透明衬底具有通过例如旋涂方法、化学汽相淀积(CVD)等方法形成在其上的TFT310。保护层130形成在显示区域DA和***区域SA两者上。
参见图7D，具有图案的第一掩膜800设在保护层130之上。第一掩膜800包括用来使漏极315的一部分曝光的第一开口部分810，和用来使形成第一金属层图案702的区域曝光的第二开口部分820。
所述保护层130被曝光和显影，与第一开口810对应的接触孔320被形成。然后，对应第二开口820的栅极绝缘层312和保护层130的一部分被去除，以使第一金属层图案702和第一透明衬底110的一部分曝光。
参见图7E，可由ITO构成的透明层830被形成在其上具有保护层130的第一透明衬底110上。所述透明层830覆盖显示区域DA和***区域SA两者。
参见图7F，具有图案的第二掩膜850被设在透明层830之上。第二掩膜850包括用来形成像素电极140的第一分块部分860，和用来形成第一对准键700的第二分块部分870。
接着，透明层830被曝光和显影，以形成通过显示区域DA中的接触孔320被电气连接至漏极的像素电极140，和第一对准键700。当透明层830被蚀刻时，包含铬(Cr)的第一金属层图案702也被蚀刻，以形成第一对准键700。
图8A至8D是制造图1中滤色片衬底的步骤的剖视图。
参见图8A，包含例如铬(Cr)或氧化铬的第三金属层(未显示)通过例如溅射方法形成在第二透明衬底210上，然后第三金属层被形成图案，以在显示区域DA中形成黑底222和在***区域SA中形成第二金属层图案712。
参见图8B，包含红色颜料或红色染料的光致抗蚀剂被形成在其上具有黑底222的第二透明衬底210上，接着光致抗蚀剂被形成图案，以形成滤色片224的红色像素‘R’。包含绿色颜料或绿色染料的光致抗蚀剂被形成在其上形成有红色像素‘R’的第二透明衬底210上，接着光致抗蚀剂被形成图案，以形成滤色片224的绿色像素‘G’。包含蓝色颜料或蓝色染料的光致抗蚀剂被形成在其上设有红色和蓝色像素‘R’和‘G’的第二透明衬底210上，接着光致抗蚀剂被形成图案，以形成滤色片224的蓝色像素‘B’。这样完成了包含黑底222和滤色片224的滤色片层220的制造。
所述滤色片224的红、绿和蓝像素‘R’、‘G’和‘B’被相互分开设置，所述黑底222被设在红、绿和蓝像素‘R’、‘G’和‘B’中的两个之间。
参见图8C，包含例如ITO的透明层900被形成在具有黑底222和滤色片224的滤色片层220之上。透明层900覆盖显示区域DA和***区域SA两者。作为替换，透明层900可以被形成为仅覆盖显示区域DA。当透明层900被形成仅覆盖显示区域时，第二金属层图案712与第二对准键710对应。
参见图8D，具有图案的第三掩膜910被设在透明层900之上。第三掩膜910包括用来形成公共电极230的第三分块部分920，和用来形成第二对准键710的第四分块部分930。
接着，透明层900被曝光和显影，以形成公共电极230和第二对准键710。当透明层900被蚀刻时，包含铬(Cr)的第二金属层图案712也可被蚀刻，以形成第二对准键710。当用来形成公共电极230的透明层900仅形成在显示区域DA，而不形成在***区域SA上时，与图8D相应的操作步骤是不需要的。
根据典型实施例，滤色片衬底200不包括越过涂敷层(over-coating)。然而，可以想到，所述方法可以应用至包含这种越过涂敷层的滤色片衬底上。
例如，滤色片衬底的***区域SA的越过涂敷层可通过去除设在滤色片衬底边部的光致抗蚀剂的步骤而被去除。因此，仅用来形成黑底的第二金属层图案和用来形成公共电极的第二透明层被设在滤色片衬底的***区域SA中，在此处第二对准键被设置，使得相同的工艺被使用。
根据本发明的典型实施例，显示装置包括第一衬底、第二衬底、第一对准键和第二对准键。所述第一衬底具有第一显示区域和环绕第一显示区域的第一***区域。所述第二衬底面对第一衬底。第二衬底具有面对第一显示区域的第二显示区域，以及面对第一***区域的第二***区域。第一对准键设在第一衬底的第一***区域中。第一对准键包括不透明的第一层和透明的第二层。第二对准键设在第二衬底的第二***区域中，使得第二对准键面对第一对准键。
结果，第一对准键可通过形成像素电极的工艺被制造。因此，在第一对准键和像素电极之间不存在偏差，并且由于第一金属层图案是不透明的，所以第一对准键可以容易地被检测出来，使得错位被防止了。
描述了本发明的典型实施例及其优点后，可以注意到，各种改变、替代和改造可被实现，而不脱离附加的权利要求限定的本发明的精神和范围。此外，术语“第一、第二”等的使用，不表示任何次序或重要性，但是术语“第一、第二”等被使用，以将元件区分开。此外，术语“一个”等的使用，不表示数量的限制，但表示存在所引用术语中的至少一个。
Claims (33)
1.一种显示装置，包括：
第一衬底，所述第一衬底具有第一显示区域和第一***区域；
第二衬底，所述第二衬底面对第一衬底，所述第二衬底具有面对第一显示区域的第二显示区域以及面对第一***区域的第二***区域；
第一对准键，所述第一对准键设在第一衬底的第一***区域中，第一对准键包括第一图案和第二图案；
第二对准键，所述第二对准键设在第二衬底的第二***区域中，使得第二对准键面对第一对准键。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于：所述第一金属图案是不透明的，第二金属图案是透明的。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于：所述第二图案是透明的。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于：所述第一衬底包括具有栅极、漏极和源电极的开关元件，所述栅极包含与第一图案相同的材料。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于：所述第一衬底包括与所述漏极电气连接的透明的电极。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于：所述第一衬底中的透明电极包含与第二图案相同的材料。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于：所述第一图案和第二图案具有相同的形状。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于：所述第一图案是由包含铬(Cr)的材料制成的。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于：所述第二图案是由包含氧化锡铟(ITO)或氧化锌铟(IZO)的材料制成的。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于：所述第一衬底包括具有栅极、漏极和源极的开关元件，所述源极包含与第一图案相同的材料。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于：所述第一衬底包括与漏极电气连接的透明电极，所述透明电极包含与第二图案相同的材料。
12.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于：所述第二对准键包括不透明的第三图案和透明的第四图案。
13.根据权利要求12所述的显示装置，其特征在于：所述第二衬底包括包含滤色片的滤色片层以及设在滤色片之间的黑底。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于：所述黑底包含与第三图案相同的材料。
15.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于：所述第二衬底包括透明的公共电极，所述公共电极包含与第四图案相同的材料。
16.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于：所述第一对准键大致环绕第二对准键。
17.根据权利要求16所述的显示装置，其特征在于：所述第一对准键具有带开口的框架结构，第二对准键具有与所述开口相同的形状。
18.一种显示装置，包括：
显示面板，所述显示面板包括第一衬底和面对第一衬底的第二衬底，所述显示面板具有显示区域和***区域；和
用来对准第一衬底和第二衬底的对准键部分，所述对准键部分被设在***区域中。
19.根据权利要求18所述的显示装置，其特征在于：所述对准键部分包括不透明的第一图案和透明的第二图案。
20.根据权利要求19所述的显示装置，其特征在于：第一衬底包括具有栅极、漏极和源极的开关元件以及电气连接至漏极的透明电极，
第一图案包含在栅极、漏极和源极中选出的电极所包含的材料，并且
第二图案包含透明电极所包含的材料。
21.根据权利要求20所述的显示装置，其特征在于：所述第一图案包含铬(Cr)，第二图案包含氧化锡铟(ITO)或氧化锌铟(IZO)。
22.根据权利要求19所述的显示装置，其特征在于：所述第二衬底包括黑底、滤色片和公共电极，第一图案包含黑底中所包含的材料，第二图案包含公共电极中所包含的材料。
23.根据权利要求19所述的显示装置，其特征在于：所述第一图案和第二图案具有相同的形状。
24.根据权利要求23所述的显示装置，其特征在于：所述第一图案包含铬(Cr)，第二图案包含氧化锡铟(ITO)或氧化锌铟(IZO)。
25.根据权利要求18所述的显示装置，其特征在于：所述对准键部分包括：
形成在第一衬底上的第一对准键；以及
形成在第二衬底上的、与第一对准键相对应的第二对准键。
26.根据权利要求25所述的显示装置，其特征在于：所述第二对准键围绕第一对准键。
27.一种制造显示装置的方法，包括：
在包括显示区域和***区域的第一衬底上形成第一图案，所述第一图案设在所述***区域中；
在第一图案上形成第二图案；
蚀刻第一和第二图案，以形成对准键；以及
利用对准键对准第一衬底和第二衬底。
28.根据权利要求27所述的方法，所述对准键的形成步骤如下：
在显示区域中形成具有栅极、源极和漏极的开关装置以及第一图案，所述第一图案包含从***区域中栅极、源极和漏极里选出的电极所包含的材料；
形成光学透明且导电的层，该层与漏极电气连接；以及
蚀刻光学透明且导电的层和第一图案。
29.根据权利要求27所述的方法，所述对准键的形成步骤如下：
在显示区域中形成黑底，在***区域中形成第一图案；
形成电气连接至漏极的光学透明且导电的层；以及
使光学透明且导电的层以及第一图案形成图案。
30.根据权利要求27所述的方法，其特征在于：所述第一和第二图案是由相同的蚀刻溶液蚀刻的。
31.一种制造显示装置的方法，包括：
形成第一衬底，所述第一衬底具有第一显示区域和环绕所述第一显示区域的第一***区域，所述第一衬底包括形成在第一***区域中的第一对准键，第一对准键具有不透明的第一图案和透明的第二图案；
形成第二衬底，所述第二衬底具有第二显示区域和环绕所述第二显示区域的第二***区域，所述第二衬底包括形成在第二***区域中的第二对准键，第二对准键具有不透明的第三图案和透明的第四图案；以及
通过第一和第二对准键对准第一和第二衬底，使得第一显示区域和第一***区域分别面对第二显示区域和第二***区域。
32.根据权利要求31所述的方法，其中所述第一衬底通过如下步骤形成：
在第一显示区域中形成具有栅极、源极和漏极的开关装置，和在第一***区域中形成第一图案，所述第一图案包含栅极、源极和漏极中选出的电极所包含的材料；
在第一显示区域中形成与漏极电气连接的透明电极，和在第一***区域中形成第二图案，所述第二图案包含透明电极中所包含的材料；以及
同时蚀刻第一和第二图案，以形成第一对准键。
33.根据权利要求31所述的方法，其中所述第二衬底通过如下步骤形成：
在第二显示区域中形成黑色底，和在第二***区域中形成第三图案，所述第三图案包含黑底所包含的材料；
在第二显示区域中形成透明电极，和在第二***区域中形成第四图案，所述第四图案包含透明电极中所包含的材料；以及
同时蚀刻第三和第四图案，以形成第二对准键。
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