CN112987362A - 液晶显示基板及其形成方法、液晶显示面板及其形成方法 - Google Patents

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Abstract

一种液晶显示基板及其形成方法、液晶显示面板及其形成方法，其中液晶显示基板形成方法包括：提供第一基板，所述第一基板包括显示区和非显示区，所述显示区包括若干透光区和若干遮光区，且所述遮光区位于相邻透光区之间；在部分所述非显示区上形成标记结构，且所述标记结构具有第一厚度；形成所述标记结构之后，在所述显示区和非显示区上形成遮光材料膜，所述遮光材料膜具有第二厚度，且所述第一厚度大于第二厚度。所述方法有利于提供对位的准确性，使得形成的液晶显示基板的性能较高。

Description

液晶显示基板及其形成方法、液晶显示面板及其形成方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示基板及其形成方法、液晶显示面板及其形成方法。
背景技术
液晶显示基板以其高显示品质、价格低廉、携带方便等优点，是目前使用最广泛的一种平板显示器，其已经逐渐成为各种电子设备如移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕所广泛应用具有高分辨率彩色屏幕的显示器。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示基板及背光模组(backlight module)。通常液晶显示基板由彩膜基板(Color Filter，CF)、薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。
为了提高液晶显示基板的开口率，降低寄生电容效应，通过采用COA(ColorFilter On Array)技术，在制备液晶显示基板的制程中，可将彩膜集成制作于TFT阵列基板一侧。
然而，现有采用COA技术形成的液晶显示基板的性能较差。
发明内容
本发明解决的技术问题是提供一种液晶显示基板及其形成方法、液晶显示面板及其形成方法，以提高对位的准确性，使得形成的液晶显示基板的性能较高。
为解决上述技术问题，本发明技术方案提供一种液晶显示基板的形成方法，包括：提供第一基板，所述第一基板包括显示区和非显示区，所述显示区包括若干透光区和若干遮光区，且所述遮光区位于相邻透光区之间；在部分所述非显示区上形成标记结构，且所述标记结构具有第一厚度；形成所述标记结构之后，在所述显示区和非显示区上形成遮光材料膜，所述遮光材料膜具有第二厚度，且所述第一厚度大于第二厚度。
可选的，所述第一厚度与第二厚度的比例大于2。
可选的，所述第一厚度的范围为1微米～15微米；所述第二厚度的范围为0.5微米～2微米。
可选的，所述遮光材料膜的材料的光学密度的范围为大于3.5。
可选的，所述遮光材料膜的材料包括：黑色感光树脂材料或者金属铬。
可选的，还包括：在形成所述遮光材料膜之前，在所述透光区上形成滤光结构，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
可选的，还包括：在形成所述滤光结构之前，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。
可选的，还包括：形成所述滤光结构之后，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。
可选的，还包括：对所述遮光材料膜进行图案化，在所述遮光区上形成遮光层；在形成所述遮光层之后，在所述透光区上形成滤光结构，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
可选的，还包括：在形成所述滤光结构之前，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。
可选的，还包括：形成所述滤光结构之后，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。
可选的，还包括：在形成所述第二像素电极层之前，在所述显示区上形成平坦保护层，所述平坦保护层位于所述第二像素电极层底部。
可选的，所述第一像素层还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的第一像素层。
可选的，所述第二像素层还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的第二像素层。
可选的，所述滤光结构还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的滤光结构；所述非显示区上的滤光结构的厚度小于或者等于显示区上的滤光结构的厚度。
可选的，所述平坦保护层还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的平坦保护层；所述非显示区上的平坦保护层的厚度小于或者等于显示区上的平坦保护层的厚度。
相应的，本发明技术方案还提供一种采用上述任一项方法形成液晶显示基板，包括：第一基板，所述第一基板包括显示区和非显示区，所述显示区包括若干透光区和若干遮光区，且所述遮光区位于相邻透光区之间；位于部分所述非显示区上的标记结构，且所述标记结构具有第一厚度；位于显示区和非显示区上覆盖所述标记结构表面的遮光材料膜，所述遮光材料膜具有第二厚度，且所述第一厚度大于第二厚度。
相应的，本发明技术方案还提供一种液晶显示面板的形成方法，包括：提供上述液晶显示基板；提供第二基板；使所述第二基板和所述液晶显示基板贴合，形成空腔；在所述空腔内填充液晶。
相应的，本发明技术方案还提供一种采用上述形成方法所形成的液晶显示面板。
与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下有益效果：
本发明技术方案提供的液晶显示基板形成方法中，所述第一基板包括：显示区和非显示区，通过在非显示区上形成标记结构，且所述标记结构具有第一厚度；在所述显示区上形成遮光材料膜，所述遮光材料膜具有第二厚度，且所述第一厚度大于第二厚度，使得的标记结构和遮光材料膜的厚度之和，明显高出遮光材料膜的高度，即，非显示区上的标记结构突起，从而通过非显示区上的标记结构和遮光材料膜反射回来的光线，区别于非显示区上的遮光材料膜反射回来的光线。进而有利于后续通过对反射回来的光线情况不同进行识别，实现较准确的对位。
进一步，所述滤光结构还位于部分非显示区上时，位于非显示区上的所述滤光结构作为标记结构的一部分。由于所述非显示区上的滤光结构的厚度小于显示区上的滤光结构的厚度，使得非显示区上的标记结构不至于过厚，从而满足工艺需求。
进一步，所述平坦保护层还位于部分非显示区上时，位于非显示区上的所述平坦保护层作为标记结构的一部分。由于所述非显示区上的平坦保护层的厚度小于显示区上的平坦保护层的厚度，使得非显示区上的标记结构不至于过厚，从而满足工艺需求。
附图说明
图1至图4是一种液晶显示基板的形成方法各步骤的结构示意图；
图5至图13是本发明一实施例中的液晶显示基板的形成方法各步骤的结构示意图。
具体实施方式
正如背景技术所述，现有的液晶显示基板的性能较差。
以下结合附图进行详细说明，液晶显示基板的性能较差的原因，图1至图4是一种液晶显示基板形成方法各步骤的结构示意图。
请参考图1，提供第一基板100，所述第一基板100包括：显示区A和非显示区B，且若干透光区I和若干遮光区II，且所述遮光区I位于相邻透光区II之间。
请参考图2，在所述显示区A和部分非显示区B上形成像素电极层110。
请参考图3，在所述透光区I上形成彩色光阻层120。
请参考图4，形成所述彩色光阻层120和像素电极层110之后，在所述遮光区II上形成遮光层130。
上述方法中，通过将彩色光阻层120和像素电极层110均制作于第一基板100同一侧表面上，有利于降低寄生电容效应，并且有利于实现弯曲或者固定曲率的液晶显示基板。同时，位于部分非显示区B上的像素电极层110可以作为标记，从而有利于后续形成膜层时能够准确对位。
由于形成所述遮光层130，需要进行对位处理。所述对位处理的过程为：对非显示区B上已形成的标记，和掩模版中的标记进行对位，并且将掩模版中的图形精确转移到遮光层130中。然而，由于所述遮光层130的材料通常为不透光材料，镜头无法识别到位于遮光层130底部的标记，以实现对位，导致所述对位处理的准确性较差，进而形成的液晶显示基板的性能较差。
为了解决上述技术问题，本发明技术方案提供一种液晶显示基板及其形成方法，包括：提供第一基板，所述第一基板包括显示区和非显示区，所述显示区包括若干透光区和若干遮光区，且所述遮光区位于相邻透光区之间；在部分所述非显示区上形成标记结构，且所述标记结构具有第一厚度；形成所述标记结构之后，在所述显示区上形成遮光材料膜，所述遮光材料膜具有第二厚度，且所述第一厚度大于第二厚度。所述方法有利于准确对位，从而形成的液晶显示基板的性能较高。
为使本发明的上述目的、特征和有益效果能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
图5至图13是本发明一实施例中的液晶显示基板形成方法各步骤的结构示意图。
请参考图5，提供第一基板200，所述第一基板200包括显示区A和非显示区B，所述显示区A包括若干透光区I和若干遮光区II，且所述遮光区II位于相邻透光区I之间。
所述显示区A用于后续形成像素结构，所述非显示区B用于后续形成标记。
在本实施例中，所述显示区A包括：透明区I和遮光区II。
所述第一基板200的材料包括氧化硅、聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或者三醋酸纤维素(TAC)。
在本实施例中，所述第一基板200的材料为氧化硅。
接着，在部分所述非显示区B上形成标记结构，且所述标记结构具有第一厚度。
在本实施例中，在后续形成所述遮光材料膜之前，在所述透光区I上形成滤光结构，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区I上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
在其他实施例中，在后续形成所述遮光材料膜之后，在所述透光区I上形成滤光结构，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区I上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
在本实施例中，所述液晶显示面板的形成方法还包括：在形成所述滤光结构之前，在所述显示区A上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区A上形成第二像素电极层；在所述遮光区II上形成间隔柱。
在其他实施例中，还可以为在形成所述滤光结构之后，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。
请参考图6，在所述显示区A和非显示区B上形成第一像素电极材料膜210。
所述第一像素电极材料膜210用于为后续形成第一像素电极层提供材料。
在本实施例中，所述第一像素电极材料膜210还位于非显示区B表面，位于非显示区B表面的第一像素电极材料膜210用于形成标记结构的一部分。
所述第一像素电极材料膜210的材料包括：金属氧化物，所述金属氧化物包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌。
所述第一像素电极材料膜210的形成工艺包括：溅射工艺、沉积工艺或者涂覆工艺。
在本实施例中，形成所述第一像素电极材料膜210的工艺为溅射工艺。
在本实施例中，所述第一像素电极材料膜210的材料为氧化铟锡。
在其他实施例中，所述第一像素电极材料膜的材料还可以为金属，例如铬。
请参考图7，对所述第一像素电极材料膜210进行第一图形化工艺，在所述显示区A上形成第一像素电极层211。
位于显示区A表面的第一像素电极层211用于为形成电学通路提供导电结构。
所述第一图形化层的方法包括：在所述第一像素电极材料膜210表面形成第一图形化层(图中未示出)；以所述第一图形化层为掩膜，对所述第一像素电极材料膜210进行刻蚀，直至暴露出第一基底200表面，形成所述第一像素电极层211。
在本实施例中，所述第一像素电极层211还位于部分非显示区B表面。位于非显示区B表面的第一像素电极层211用于为后续形成遮光层、滤光结构、第二像素电极层、平坦保护层以及间隔柱提供对位标记。
位于非显示区B表面的第一像素电极层211的形状包括：正方向、矩形、十字形和菱形中的一种或者几种。
位于非显示区B表面的第一像素电极层211与采用的掩模版上的标记的位置和尺寸一一对应，所述掩模版用于曝光工艺，以实现图案转移。
所述第一像素电极层211的形状包括：正方向、矩形、十字形和菱形中的一种或者几种。
所述第一像素电极层211与采用的掩模版上的标记的位置和尺寸一一对应，所述掩模版用于曝光工艺，以实现图案转移。
请参考图8，在所述透光区A上形成滤光结构(未示出)，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区I上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层2221、绿色滤光层2222或蓝色滤光层2223。
所述滤光结构使得光线通过所述滤光结构之后变成单色光，以满足器件的需求。
在本实施例中，在形成所述第一像素电极层211之后，形成所述滤光结构。在其他实施例中，在形成所述第一像素电极层之前，形成所述滤光结构。
位于所述非显示区B上的第一像素电极层211作为形成所述滤光结构的标记，在曝光工艺的过程中，通过对比掩模版中标记的位置和尺寸与所述非显示区B上的第一像素电极层211的位置和尺寸，实现准确对位。
在本实施例中，所述滤光结构还位于非显示区B上，位于非显示区B上的滤光结构的位置和尺寸与所述第一像素电极层211的位置和尺寸一一对应。
在其他实施例中，还可以不在非显示区上形成所述滤光结构。
所述红色滤光层2221的形成方法包括：在所述第一像素电极层211和非显示区B表面形成红色滤光层材料(未图示)；对所述红色滤光层材料进行曝光显影处理，在一个透光区A上的所述第一像素电极层211表面形成所述红色滤光层2221。
在本实施例中，还包括：在部分所述非显示区B上形成所述红色滤光层2221。在其他实施例中，所述红色滤光层仅位于一个透光区上，不位于所述非显示区上。
所述绿色滤光层2222的形成方法包括：在所述第一像素电极层211和非显示区B表面形成绿色滤光层材料(未图示)；对所述绿色滤光层材料进行曝光显影处理，在一个透光区A上的所述第一像素电极层211表面形成绿色滤光层2222。
在本实施例中，还包括：在部分所述非显示区B上形成所述绿色滤光层2222。在其他实施例中，所述绿色滤光层仅位于一个透光区上，不位于所述非显示区上。
所述蓝色滤光层2223的形成方法包括：在所述第一像素电极层211和非显示区B表面形成蓝色滤光层材料(未图示)；对所述蓝色滤光层材料进行曝光显影处理，在一个透光区A上的第一像素电极层211表面形成所述蓝色滤光层2223。
在本实施例中，还包括：在部分所述非显示区B上形成所述蓝色滤光层2223。在其他实施例中，所述蓝色滤光层仅位于一个透光区上，不位于所述非显示区上。
需要说明的是，所述红色滤光层2221、绿色滤光层2222以及蓝色滤光层2223的形成顺序没有先后的区分。
在本实施例中，位于非显示区B上的滤光结构包括：红色滤光层2221、绿色滤光层2222和蓝色滤光层2223。在其他实施例中，所述滤光结构包括：红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层中的一种或者两种组合。
在本实施例中，位于非显示区B上的滤光结构的厚度小于位于显示区A的滤光结构的厚度。具体的，位于非显示区B上的红色滤光层2221的厚度小于位于显示区A上的红色滤光层2221的厚度；位于非显示区B上的绿色滤光层2222的厚度小于位于显示区A上的绿色滤光层2222的厚度；位于非显示区B上的蓝色滤光层2223的厚度小于位于显示区A上的蓝色滤光层2223的厚度，从而使得位于非显示区B上的滤光结构的厚度小于显示区A上的滤光结构的厚度。
由于所述非显示区B上的滤光结构的厚度小于显示区A上的滤光结构的厚度，使得非显示区B上的标记结构不至于过厚，从而满足工艺需求。
在其他实施例中，所述非显示区上的滤光结构的厚度还可以等于显示区上的滤光结构的厚度。
请参考图9，形成所述滤光结构之后，在所述显示区A上形成平坦保护层231。
在本实施例中，所述平坦保护层231还位于所述部分非显示区B上，位于非显示区B上的平坦保护层231的位置和尺寸与所述第一像素电极层211的位置和尺寸、以及滤光结构的位置和尺寸一一对应，作为标记结构的一部分。
位于显示区B上的所述平坦保护层231，一方面起到绝缘保护的作用，另一方面，所述平坦保护层231的顶部表面平坦，则后续形成的间隔柱的高度一致。
所述平坦保护层231的材料包括：透明感光性树脂。
所述平坦保护层231的形成方法包括：采用涂覆工艺，在所述显示区A和非显示区B上形成平坦材料膜(未示出)；对所述平坦材料膜进行曝光工艺、显影工艺，形成所述平坦保护层231。
在本实施例中，位于非显示区B上平坦保护层231的厚度小于所述显示区A上的平坦保护层231的厚度。
由于所述平坦保护层231为标记结构的一部分，所述非显示区B上的平坦保护层231的厚度小于显示区A上的平坦保护层231的厚度，使得非显示区B上的标记结构不至于过厚，从而满足工艺需求。
在其他实施例中，位于非显示区上平坦保护层的厚度等于所述显示区上的平坦保护层的厚度。
位于所述非显示区B上的第一像素电极层211和滤光结构作为形成所述平坦保护层231的标记，使得在曝光工艺的过程中，通过对比掩模版中的标记和所述第一像素电极层211和滤光结构的位置和尺寸，实现准确对位。
在其他实施例中，还可以在形成滤光结构之前，形成所述平坦保护层。
在形成所述平坦保护层231之后，在所述显示区A上形成第二像素电极层，所述平坦保护层231位于所述第二像素电极层底部，具体形成所述第二像素电极层的过程请参考图10至图11。
请参考图10，在所述显示区A和非显示区B上形成第二像素电极材料膜240。
所述第二像素电极材料膜240用于为后续形成第二像素电极层提供材料。
所述第二像素电极材料膜240的材料包括：金属氧化物，所述金属氧化物包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌。
在本实施例中，所述第二像素电极材料膜240的材料为氧化铟锡。
所述第二像素电极材料膜240的形成工艺包括：溅射工艺、沉积工艺或者涂覆工艺。
在本实施例中，所述第二像素电极材料膜240的形成工艺包括：溅射工艺。
在其他实施例中，所述第二像素电极材料膜的材料还可以为金属，例如铬。
请参考图11，对所述第二像素电极材料膜240进行曝光工艺、显影工艺，在所述显示区A表面形成第二像素电极层241。
在本实施例中，所述第二像素电极层241还位于部分非显示区B上，且位于部分非显示区B上的第二像素电极层241的位置和尺寸与所述第一像素电极层211的位置和尺寸、滤光结构的位置和尺寸、以及平坦保护层231的位置和尺寸一一对应，作为标记结构的一部分。
在其他实施例中，所述第二像素电极层不位于所述非显示区上。
所述第二像素电极层241用于为形成电学通路提供导电结构。
在本实施例中，位于所述非显示区B上的第一像素电极层211和、位于第一像素电极层表面的滤光结构、位于所述滤光结构表面的平坦保护层231，作为形成第二像素电极层241的标记，使得在曝光工艺的过程中，通过对比掩模版中的标记和所述第一像素电极层211和平坦保护层231的位置和尺寸，实现准确对位。
由于所述第二像素电极材料膜240为氧化铟锡，所述材料形成的所述第二像素电极材料膜240透明，因此，进行曝光工艺的设备上的镜头能够准确抓取到位于第二像素电极材料膜240底部的标记，即，第一像素电极层211和平坦保护层231，从而根据掩模版上的标记和第一像素电极层211和平坦保护层231的位置和尺寸，能够准确对位。
请继续参考图11，在本实施例中，位于部分非显示区B表面的第一像素电极层211、位于第一像素电极层211表面的滤光结构、以及位于滤光结构表面的平坦保护层231、以及位于平坦保护层231表面的第二像素电极层241构成标记结构250，且所述标记结构250具有第一厚度H1。
在本实施例中，所述滤光结构包括：红色滤光层2221、滤光滤光层2222以及蓝色滤光层2223。
需要说明的是，在形成遮光材料膜之前，不限定所述第一像素电极层211、滤光结构、平坦保护层231、以及第二像素电极层241的先后形成顺序。
请参考图12，形成所述标记结构250之后，在所述显示区A和非显示区B上形成遮光材料膜260，所述遮光材料膜260具有第二厚度H2，且所述第一厚度H1大于第二厚度H2。
由于所述标记结构250具有第一厚度H1，所述遮光材料膜260具有第二厚度H2，且所述第一厚度H1大于第二厚度H2，使得的标记结构250和遮光材料膜260的厚度之和，明显高出遮光材料膜260的高度，即，非显示区B上的标记结构250突起，从而通过非显示区B上的标记结构250和遮光材料膜260共同反射回来的光线，区别于非显示区B上的遮光材料膜260反射回来的光线。进而有利于后续通过对反射回来的光线情况不同进行识别，实现较准确的对位。
所述第一厚度H1与第二厚度H2的比例大于2。
所述第一厚度H1的范围为1微米～15微米；所述第二厚度H2的范围为0.5微米～2微米。
所述遮光材料膜260的材料的光学密度的范围为大于3.5。
所述遮光材料膜260的材料包括：黑色感光树脂材料或者金属铬。
在本实施例中，所述遮光材料膜260的材料为黑色感光树脂材料。
请参考图13，对所述遮光材料膜260进行图案化，在所述遮光区II形成遮光层270。
所述遮光层270用于防止在相邻所述透光区A上形成的第二彩色光阻层之间的光串扰。
对所述遮光材料膜260进行图案化的方法包括：识别所述标记结构250，进行对位处理；所述对位处理之后，对所述遮光材料膜260进行曝光工艺；所述曝光工艺之后，进行显影工艺和烘烤工艺，形成所述遮光层270。
在其他实施例中，形成所述遮光层之后，在所述透光区上形成滤光结构，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
在本实施例中，形成遮光层270之后，在所述遮光区II上形成间隔柱(未示出)。
所述间隔柱用于为第一基板200和后续形成的第二基板之间提供支支撑，从而减小第一基板和第二基板之间的空腔发生较大的形变，以保持空腔厚度的稳定性，从而提高液晶显示面板的显示效果。
相应的，本发明实施例还提供一种采用上述方法形成的液晶显示基板，请参考图12，包括：第一基板200，所述第一基板200包括显示区A和非显示区B，所述显示区A包括若干透光区I和若干遮光区II，且所述遮光区II位于相邻透光区I之间；位于部分所述非显示区B表面的标记结构250，且所述标记结构250具有第一厚度H1；位于所述显示区A和非显示区B上覆盖所述标记结构250表面的遮光材料膜260，所述遮光材料膜260具有第二厚度H2，且所述第一厚度H1大于第二厚度H2。
所述第一厚度H1与第二厚度H2的比例大于2。
所述第一厚度H1的范围为1微米～15微米；所述第二厚度H2的范围为0.5微米～2微米。
所述遮光材料膜260的材料的光学密度的范围为为大于3.5。
所述遮光材料膜260的材料包括：黑色感光树脂材料或者金属铬。
相应的，本发明实施例还提供一种液晶显示面板的形成方法，包括：提供上述液晶显示基板；提供第二基板；使所述第二基板和所述液晶显示基板贴合，形成空腔；在所述空腔内填充液晶。
相应的，本发明实施例还提供一种采用上述方法形成的液晶显示面板。
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (19)

1.一种液晶显示基板的形成方法，其特征在于，包括：
提供第一基板，所述第一基板包括显示区和非显示区，所述显示区包括若干透光区和若干遮光区，且所述遮光区位于相邻透光区之间；
在部分所述非显示区上形成标记结构，且所述标记结构具有第一厚度；
形成所述标记结构之后，在所述显示区和非显示区上形成遮光材料膜，所述遮光材料膜具有第二厚度，且所述第一厚度大于第二厚度。
2.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述第一厚度与第二厚度的比例大于2。
3.如权利要求2所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述第一厚度的范围为1微米～15微米；所述第二厚度的范围为0.5微米～2微米。
4.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述遮光材料膜的材料的光学密度的范围为大于3.5。
5.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述遮光材料膜的材料包括：黑色感光树脂材料或者金属铬。
6.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：在形成所述遮光材料膜之前，在所述透光区上形成滤光结构，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
7.如权利要求6所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：在形成所述滤光结构之前，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。
8.如权利要求6所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：形成所述滤光结构之后，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。
9.如权利要求1所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：对所述遮光材料膜进行图案化，在所述遮光区上形成遮光层；在形成所述遮光层之后，在所述透光区上形成滤光结构，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。
10.如权利要求9所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：在形成所述滤光结构之前，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。
11.如权利要求9所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：形成所述滤光结构之后，在所述显示区上形成第一像素电极层；形成所述第一像素电极层之后，在所述显示区上形成第二像素电极层；在所述遮光区上形成间隔柱。
12.如权利要求7、8、10和11中任一项所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，还包括：在形成所述第二像素电极层之前，在所述显示区上形成平坦保护层，所述平坦保护层位于所述第二像素电极层底部。
13.如权利要求12所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述第一像素层还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的第一像素层。
14.如权利要求12所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述第二像素层还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的第二像素层。
15.如权利要求12所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述滤光结构还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的滤光结构；所述非显示区上的滤光结构的厚度小于或者等于显示区上的滤光结构的厚度。
16.如权利要求12所述的液晶显示基板的形成方法，其特征在于，所述平坦保护层还位于部分非显示区上；所述标记结构包括：位于非显示区上的平坦保护层；所述非显示区上的平坦保护层的厚度小于或者等于显示区上的平坦保护层的厚度。
17.一种采用权利要求1至16任一项方法形成液晶显示基板，其特征在于，包括：
第一基板，所述第一基板包括显示区和非显示区，所述显示区包括若干透光区和若干遮光区，且所述遮光区位于相邻透光区之间；
位于部分所述非显示区上的标记结构，且所述标记结构具有第一厚度；
位于显示区和非显示区上覆盖所述标记结构表面的遮光材料膜，所述遮光材料膜具有第二厚度，且所述第一厚度大于第二厚度。
18.一种液晶显示面板的形成方法，其特征在于，包括：
提供如权利要求17所述的液晶显示基板；
提供第二基板；
使所述第二基板和所述液晶显示基板贴合，形成空腔；
在所述空腔内填充液晶。
19.一种采用权利要求18所述的形成方法所形成的液晶显示面板。
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