JPH08146371A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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- JPH08146371A JPH08146371A JP28528594A JP28528594A JPH08146371A JP H08146371 A JPH08146371 A JP H08146371A JP 28528594 A JP28528594 A JP 28528594A JP 28528594 A JP28528594 A JP 28528594A JP H08146371 A JPH08146371 A JP H08146371A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低反射処理された対向基板側のアライメント
マークと、ＴＦＴ基板側のアライメントマークとのコン
トラストを確保して、正確なアライメントが行えるよう
にした液晶表示装置およびその製造方法を提供する。 【構成】 図（ａ）の低反射カラーフィルタ１０には、
図（ｂ）に示す十字形状の低反射アライメントマーク１
１が形成され、本発明のＴＦＴ基板１００には、図
（ｃ）に示した所定間隔を保持した十字形状のアライメ
ントマーク１０１が形成されている。そして、図（ｄ）
に示すように合成されその際両アライメントマーク間に
発生する間隙Ｂを均等に調整することでアライメントが
実行される。 【効果】 対向基板側とＴＦＴ基板側の各アライメント
マークとのコントラストが充分に確保されるために正確
なアライメントを行うことができる。
マークと、ＴＦＴ基板側のアライメントマークとのコン
トラストを確保して、正確なアライメントが行えるよう
にした液晶表示装置およびその製造方法を提供する。 【構成】 図（ａ）の低反射カラーフィルタ１０には、
図（ｂ）に示す十字形状の低反射アライメントマーク１
１が形成され、本発明のＴＦＴ基板１００には、図
（ｃ）に示した所定間隔を保持した十字形状のアライメ
ントマーク１０１が形成されている。そして、図（ｄ）
に示すように合成されその際両アライメントマーク間に
発生する間隙Ｂを均等に調整することでアライメントが
実行される。 【効果】 対向基板側とＴＦＴ基板側の各アライメント
マークとのコントラストが充分に確保されるために正確
なアライメントを行うことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばカメラ一体型Ｖ
ＴＲや液晶プロジエクター装置等に用いられる液晶表示
装置およびその製造方法に関し、更に詳しくは、液晶表
示装置の貼り合わせ工程における微細アライメント方法
を改良した液晶表示装置およびその製造方法に関するも
のである。
ＴＲや液晶プロジエクター装置等に用いられる液晶表示
装置およびその製造方法に関し、更に詳しくは、液晶表
示装置の貼り合わせ工程における微細アライメント方法
を改良した液晶表示装置およびその製造方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】先ず、従来技術における液晶表示装置お
よびその製造方法を図３ないし図７を参照して説明す
る。
よびその製造方法を図３ないし図７を参照して説明す
る。
【０００３】初めに、図３を参照して従来技術の液晶表
示装置の概要を説明する。同図において、符号１は従来
技術の液晶表示装置を指す。従来技術の液晶表示装置１
は映像を映出する表示エリア２、周辺部であり例えばＡ
ｌ金属膜が成膜されたガードリング部３、前記ガードリ
ング部３の任意の位置に形成されたアライメント用のア
ライメントマーク４及び５（詳細は後述する）、外部Ｉ
Ｃから必要な情報を受取する外部接続用パッド６、前記
外部接続用パッド６から表示エリア２への信号の伝達の
用途に供する配線パターン７等で大略構成される。
示装置の概要を説明する。同図において、符号１は従来
技術の液晶表示装置を指す。従来技術の液晶表示装置１
は映像を映出する表示エリア２、周辺部であり例えばＡ
ｌ金属膜が成膜されたガードリング部３、前記ガードリ
ング部３の任意の位置に形成されたアライメント用のア
ライメントマーク４及び５（詳細は後述する）、外部Ｉ
Ｃから必要な情報を受取する外部接続用パッド６、前記
外部接続用パッド６から表示エリア２への信号の伝達の
用途に供する配線パターン７等で大略構成される。
【０００４】更に、従来技術の液晶表示装置１は図示を
省略したが一枚のガラス基板上にフォトリソグラフィ技
術により、各画素制御用のＴＦＴ(Thin Film Transisto
r)がマトリクス状に配設されたＴＦＴ基板と、前記ＴＦ
Ｔ基板に対向してＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ（カラー
液晶表示装置の場合）や対向電極が形成されたカラーフ
ィルタ基板から構成される。前記ＴＦＴ基板とカラーフ
ィルタ基板はアライメントマーク４及び５（これらを最
適の位置関係に合わせるための基準マークであり、４は
カラーフィルタ基板のアライメントマーク、５はＴＦＴ
基板のアライメントマークである）を基準として貼り合
わされ、この２枚のガラス基板の間隙（数μｍ）に液晶
組成物を挟持させるとともに、これらの両面に偏光板を
一体に積層することにより、液晶表示装置が完成する。
省略したが一枚のガラス基板上にフォトリソグラフィ技
術により、各画素制御用のＴＦＴ(Thin Film Transisto
r)がマトリクス状に配設されたＴＦＴ基板と、前記ＴＦ
Ｔ基板に対向してＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ（カラー
液晶表示装置の場合）や対向電極が形成されたカラーフ
ィルタ基板から構成される。前記ＴＦＴ基板とカラーフ
ィルタ基板はアライメントマーク４及び５（これらを最
適の位置関係に合わせるための基準マークであり、４は
カラーフィルタ基板のアライメントマーク、５はＴＦＴ
基板のアライメントマークである）を基準として貼り合
わされ、この２枚のガラス基板の間隙（数μｍ）に液晶
組成物を挟持させるとともに、これらの両面に偏光板を
一体に積層することにより、液晶表示装置が完成する。
【０００５】そして、前記従来技術の液晶表示装置１
は、外部接続用パッド６に接続された外部ＩＣ（図示省
略）から供給される電源、タイミングパルス、そして映
像信号等の必要情報を受取する。外部接続用パッド６で
受取された各種情報は配線パターン７を介して表示エリ
ア２のＴＦＴに入力される。ＴＦＴでは映像信号を前記
タイミングパルスとタイミングを計りつつ、液晶セル内
の液晶分子（図示省略）に供給する。この液晶セルに供
給された映像信号電圧で液晶分子を映像信号電圧方向に
捩じれて倒立させ、この液晶分子による旋光性を利用し
てＴＦＴアクティブマトリクス型液晶表示装置１の映像
表示がなされる。また、液晶表示装置１に近接してバッ
クライト（図示省略）が配設されており、ユーザはこの
バックライトの発する光を介して、前記液晶表示装置１
に映出される映像を視覚するようになされている。な
お、最近は視覚する側の例えばカラーフィルタ基板や、
偏光板に太陽等の外光を受容して映像のコントラストが
低下するのを防止する目的で低反射（ＡＲ:Anti Reflec
tion）処理が施されるのが一般的である。本発明はこの
低反射処理されたカラーフィルタ基板が適用された場合
のＴＦＴ基板の改良に関するものであり、また本発明は
カラー／モノクロ液晶表示装置の別を問わず有効なもの
であるが、特にカラー液晶表示装置を採り上げ説明を行
う。
は、外部接続用パッド６に接続された外部ＩＣ（図示省
略）から供給される電源、タイミングパルス、そして映
像信号等の必要情報を受取する。外部接続用パッド６で
受取された各種情報は配線パターン７を介して表示エリ
ア２のＴＦＴに入力される。ＴＦＴでは映像信号を前記
タイミングパルスとタイミングを計りつつ、液晶セル内
の液晶分子（図示省略）に供給する。この液晶セルに供
給された映像信号電圧で液晶分子を映像信号電圧方向に
捩じれて倒立させ、この液晶分子による旋光性を利用し
てＴＦＴアクティブマトリクス型液晶表示装置１の映像
表示がなされる。また、液晶表示装置１に近接してバッ
クライト（図示省略）が配設されており、ユーザはこの
バックライトの発する光を介して、前記液晶表示装置１
に映出される映像を視覚するようになされている。な
お、最近は視覚する側の例えばカラーフィルタ基板や、
偏光板に太陽等の外光を受容して映像のコントラストが
低下するのを防止する目的で低反射（ＡＲ:Anti Reflec
tion）処理が施されるのが一般的である。本発明はこの
低反射処理されたカラーフィルタ基板が適用された場合
のＴＦＴ基板の改良に関するものであり、また本発明は
カラー／モノクロ液晶表示装置の別を問わず有効なもの
であるが、特にカラー液晶表示装置を採り上げ説明を行
う。
【０００６】次に、図４を参照して従来技術のアライメ
ントマークを活用したアライメント方法の第１例を説明
する。同図（ａ）において、符号８はカラーフィルタ基
板を指し、符号９はＴＦＴ基板を指す。前記カラーフィ
ルタ基板８には同図（ｂ）に示す如き十字型のカラーフ
ィルタ基板のアライメントマーク４が形成されている。
同様に、ＴＦＴ基板９には同図（ｃ）に示す如き十字型
のＴＦＴ基板のアライメントマーク５がカラーフィルタ
基板のアライメントマーク４に比して少し大きく形成さ
れている。
ントマークを活用したアライメント方法の第１例を説明
する。同図（ａ）において、符号８はカラーフィルタ基
板を指し、符号９はＴＦＴ基板を指す。前記カラーフィ
ルタ基板８には同図（ｂ）に示す如き十字型のカラーフ
ィルタ基板のアライメントマーク４が形成されている。
同様に、ＴＦＴ基板９には同図（ｃ）に示す如き十字型
のＴＦＴ基板のアライメントマーク５がカラーフィルタ
基板のアライメントマーク４に比して少し大きく形成さ
れている。
【０００７】同図（ｂ）において、カラーフィルタ基板
のアライメントマーク４は、高透過率のガラス基板上に
例えばクロム等の高反射膜を成膜処理によって図のよう
な十字型に形成されている。従って、作業者が光を照射
してこのカラーフィルタ基板のアライメントマーク４を
確認しようとする場合には、周囲のガラス部は透明であ
るため透過し、前記カラーフィルタ基板のアライメント
マーク４は高反射膜であるため光を反射して“白色”に
浮上して視覚される。
のアライメントマーク４は、高透過率のガラス基板上に
例えばクロム等の高反射膜を成膜処理によって図のよう
な十字型に形成されている。従って、作業者が光を照射
してこのカラーフィルタ基板のアライメントマーク４を
確認しようとする場合には、周囲のガラス部は透明であ
るため透過し、前記カラーフィルタ基板のアライメント
マーク４は高反射膜であるため光を反射して“白色”に
浮上して視覚される。
【０００８】一方、同図（ｃ）に示したＴＦＴ基板のア
ライメントマーク５は、図３に示した高反射率のＡｌ金
属膜でなるガードリング部３に形成されている。つま
り、十字型のＴＦＴ基板のアライメントマーク５を残す
ように金属膜をエッチング処理にて除去し、基材である
ガラス部を露出させている。従って、作業者が光を照射
してこのＴＦＴ基板のアライメントマーク５を確認しよ
うとする場合には、ガラス部であるアライメントマーク
５は透過し、周辺のＡｌ金属膜は反射するために“黒
色”に浮上して視覚される。
ライメントマーク５は、図３に示した高反射率のＡｌ金
属膜でなるガードリング部３に形成されている。つま
り、十字型のＴＦＴ基板のアライメントマーク５を残す
ように金属膜をエッチング処理にて除去し、基材である
ガラス部を露出させている。従って、作業者が光を照射
してこのＴＦＴ基板のアライメントマーク５を確認しよ
うとする場合には、ガラス部であるアライメントマーク
５は透過し、周辺のＡｌ金属膜は反射するために“黒
色”に浮上して視覚される。
【０００９】そして、前記カラーフィルタ基板のアライ
メントマーク４とＴＦＴ基板のアライメントマーク５は
貼り合わせ工程において重畳され、同図（ｄ）のように
合成されて視覚される。つまり、作業者は“黒色”に浮
上して視覚されるＴＦＴ基板のアライメントマーク５に
重畳された“白色”に浮上して視覚されるカラーフィル
タ基板のアライメントマーク４とのコントラストの差異
により発生する間隙Ａを各々均等になるように調整する
ことでアライメント作業が実行される。
メントマーク４とＴＦＴ基板のアライメントマーク５は
貼り合わせ工程において重畳され、同図（ｄ）のように
合成されて視覚される。つまり、作業者は“黒色”に浮
上して視覚されるＴＦＴ基板のアライメントマーク５に
重畳された“白色”に浮上して視覚されるカラーフィル
タ基板のアライメントマーク４とのコントラストの差異
により発生する間隙Ａを各々均等になるように調整する
ことでアライメント作業が実行される。
【００１０】更に、図５を参照して従来技術のアライメ
ントマークを活用した微細アライメント方法の第２例を
説明する。図５（ａ）において、カラーフィルタ基板８
やＴＦＴ基板９上に形成されたアライメントマークの形
状を前述の十字形状に代えて同図に示す如き長方形の形
状にするとともにＴＦＴ基板９のアライメントマークは
ガラス基板に高反射膜を成膜して形成するようにした。
つまり、同図（ｂ）においてカラーフィルタ基板のアラ
イメントマーク４′はガラス基板上に例えばクロム等の
高反射膜を長方形に成膜してアライメントマークとし
た。そして、作業者が光を照射してこのカラーフィルタ
基板のアライメントマーク４′を確認しようとする場
合、周囲のガラス部は透明であるため透過し、前記カラ
ーフィルタ基板のアライメントマーク４′は照射された
光を反射して“白色”に浮上して視覚される。
ントマークを活用した微細アライメント方法の第２例を
説明する。図５（ａ）において、カラーフィルタ基板８
やＴＦＴ基板９上に形成されたアライメントマークの形
状を前述の十字形状に代えて同図に示す如き長方形の形
状にするとともにＴＦＴ基板９のアライメントマークは
ガラス基板に高反射膜を成膜して形成するようにした。
つまり、同図（ｂ）においてカラーフィルタ基板のアラ
イメントマーク４′はガラス基板上に例えばクロム等の
高反射膜を長方形に成膜してアライメントマークとし
た。そして、作業者が光を照射してこのカラーフィルタ
基板のアライメントマーク４′を確認しようとする場
合、周囲のガラス部は透明であるため透過し、前記カラ
ーフィルタ基板のアライメントマーク４′は照射された
光を反射して“白色”に浮上して視覚される。
【００１１】同様に、同図（ｃ）に示したＴＦＴ基板の
アライメントマーク５′も、やはりガラス基板上に例え
ばクロムやＡｌ等の高反射膜を長方形に成膜してアライ
メントマーク５′とした。そして、作業者が光を照射し
てこのＴＦＴ基板のアライメントマーク５′を確認しよ
うとする場合、周囲のガラス部は透明であるため透過
し、前記ＴＦＴ基板のアライメントマーク５′は照射さ
れた光を反射して“白色”に浮上して視覚される。
アライメントマーク５′も、やはりガラス基板上に例え
ばクロムやＡｌ等の高反射膜を長方形に成膜してアライ
メントマーク５′とした。そして、作業者が光を照射し
てこのＴＦＴ基板のアライメントマーク５′を確認しよ
うとする場合、周囲のガラス部は透明であるため透過
し、前記ＴＦＴ基板のアライメントマーク５′は照射さ
れた光を反射して“白色”に浮上して視覚される。
【００１２】そして、前記カラーフィルタ基板のアライ
メントマーク４′とＴＦＴ基板のアライメントマーク
５′は貼り合わせ工程において重畳され、同図（ｄ）に
示すように対向して視覚される。このカラーフィルタ基
板のアライメントマーク４′とＴＦＴ基板のアライメン
トマーク５′とをＸ、Ｙ方向に合致させるように調整す
ることでアライメント作業を行う。なお、アライメント
工程の精度を向上するためには、同図（ｄ）の如きアラ
イメントマークを垂直方向にも形成してアライメント作
業を行うようにすれば良い。
メントマーク４′とＴＦＴ基板のアライメントマーク
５′は貼り合わせ工程において重畳され、同図（ｄ）に
示すように対向して視覚される。このカラーフィルタ基
板のアライメントマーク４′とＴＦＴ基板のアライメン
トマーク５′とをＸ、Ｙ方向に合致させるように調整す
ることでアライメント作業を行う。なお、アライメント
工程の精度を向上するためには、同図（ｄ）の如きアラ
イメントマークを垂直方向にも形成してアライメント作
業を行うようにすれば良い。
【００１３】つまり、従来技術の第１例のアライメント
は“黒色”と“白色”とを重畳してそのコントラスト差
で発生する間隙を利用していたのに対して、従来技術の
第２例のアライメントは“白色”と“白色”を対比させ
てその形状を合致させることでアライメント作業を行う
ものである。
は“黒色”と“白色”とを重畳してそのコントラスト差
で発生する間隙を利用していたのに対して、従来技術の
第２例のアライメントは“白色”と“白色”を対比させ
てその形状を合致させることでアライメント作業を行う
ものである。
【００１４】しかし、最近の液晶表示装置におけるカラ
ーフィルタ基板では前述のように野外での使用や液晶プ
ロジェクターへの応用等を考慮して、光の反射を抑制す
る低反射処理が施されたものが導入されつつある。
ーフィルタ基板では前述のように野外での使用や液晶プ
ロジェクターへの応用等を考慮して、光の反射を抑制す
る低反射処理が施されたものが導入されつつある。
【００１５】以下、従来技術の液晶表示装置のカラーフ
ィルタ基板に低反射処理が施された場合について図６及
び図７を参照して説明する。初めに、図６（ａ）におい
て、符号１０は低反射カラーフィルタ基板を指し、符号
９は前述と同様のＴＦＴ基板を指す。前記低反射カラー
フィルタ基板１０には、同じく低反射アライメントマー
ク１１が形成され、ＴＦＴ基板９には従来と同様のＴＦ
Ｔ基板のアライメントマーク５が形成されている。
ィルタ基板に低反射処理が施された場合について図６及
び図７を参照して説明する。初めに、図６（ａ）におい
て、符号１０は低反射カラーフィルタ基板を指し、符号
９は前述と同様のＴＦＴ基板を指す。前記低反射カラー
フィルタ基板１０には、同じく低反射アライメントマー
ク１１が形成され、ＴＦＴ基板９には従来と同様のＴＦ
Ｔ基板のアライメントマーク５が形成されている。
【００１６】同図（ｂ）において、低反射カラーフィル
タ基板１０上の低反射アライメントマーク１１は、低反
射処理されたガラス基板と同様にアライメントマーク１
１も低反射となるため、従来のアライメントマークのよ
うに光を反射して“白色”とは成らず、“黒色”に近似
して視覚される。一方、同図（ｃ）に示したＴＦＴ基板
のアライメントマーク５は従来技術の第１例と同様のも
のであり、前述のような理由で“黒色”に視覚される。
タ基板１０上の低反射アライメントマーク１１は、低反
射処理されたガラス基板と同様にアライメントマーク１
１も低反射となるため、従来のアライメントマークのよ
うに光を反射して“白色”とは成らず、“黒色”に近似
して視覚される。一方、同図（ｃ）に示したＴＦＴ基板
のアライメントマーク５は従来技術の第１例と同様のも
のであり、前述のような理由で“黒色”に視覚される。
【００１７】そして、低反射アライメントマーク１１と
ＴＦＴ基板のアライメントマーク５は貼り合わせ工程に
おいて重畳されて同図（ｄ）のように視覚されるが、前
記低反射アライメントマーク１１は“黒色”に近似して
視覚されるため“黒色”と“黒色”近似の合成となり充
分なコントラストを得ることができない。
ＴＦＴ基板のアライメントマーク５は貼り合わせ工程に
おいて重畳されて同図（ｄ）のように視覚されるが、前
記低反射アライメントマーク１１は“黒色”に近似して
視覚されるため“黒色”と“黒色”近似の合成となり充
分なコントラストを得ることができない。
【００１８】次に、図７（ａ）において、符号１０は前
回同様に低反射カラーフィルタ基板を指し、符号９はＴ
ＦＴ基板を指す。低反射カラーフィルタ基板１０には長
方形状の低反射アライメントマーク１２が形成され、Ｔ
ＦＴ基板９には従来と同様の長方形状のＴＦＴ基板のア
ライメントマーク５′が形成されている。つまり、同図
（ｂ）における低反射アライメントマーク１２は低反射
処理されたガラス基板と同様に低反射となり“黒色”に
近似して視覚される。このため、低反射ガラスとのコン
トラストが充分に得られず、低反射アライメントマーク
１２の識別が困難となる。一方、同図（ｃ）に示したＴ
ＦＴ基板のアライメントマーク５′は従来技術の第２例
と同様の理由で“白色”に視覚される。
回同様に低反射カラーフィルタ基板を指し、符号９はＴ
ＦＴ基板を指す。低反射カラーフィルタ基板１０には長
方形状の低反射アライメントマーク１２が形成され、Ｔ
ＦＴ基板９には従来と同様の長方形状のＴＦＴ基板のア
ライメントマーク５′が形成されている。つまり、同図
（ｂ）における低反射アライメントマーク１２は低反射
処理されたガラス基板と同様に低反射となり“黒色”に
近似して視覚される。このため、低反射ガラスとのコン
トラストが充分に得られず、低反射アライメントマーク
１２の識別が困難となる。一方、同図（ｃ）に示したＴ
ＦＴ基板のアライメントマーク５′は従来技術の第２例
と同様の理由で“白色”に視覚される。
【００１９】そして、低反射アライメントマーク１２と
ＴＦＴ基板のアライメントマーク５′は貼り合わせ工程
において重畳され、同図（ｄ）に示すように低反射アラ
イメントマーク１２とＴＦＴ基板のアライメントマーク
５′が対比して視覚されが、低反射アライメントマーク
１２は識別が困難となっていることから、ＴＦＴ基板の
アライメントマーク５′との正確なアライメントができ
ない。
ＴＦＴ基板のアライメントマーク５′は貼り合わせ工程
において重畳され、同図（ｄ）に示すように低反射アラ
イメントマーク１２とＴＦＴ基板のアライメントマーク
５′が対比して視覚されが、低反射アライメントマーク
１２は識別が困難となっていることから、ＴＦＴ基板の
アライメントマーク５′との正確なアライメントができ
ない。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のような
従来技術の液晶表示装置およびその製造方法では、カラ
ーフィルタ基板に低反射処理が施されたガラス基板が導
入された場合、カラーフィルタ基板側のアライメントマ
ークと、ＴＦＴ基板のアライメントマークとのコントラ
ストが充分に確保されず正確なアライメントが困難とな
る。つまり、従来技術の第１例では、低反射処理された
カラーフィルタ基板のアライメントマークも低反射とな
り“黒色”に近似して視覚されため、ＴＦＴ基板のアラ
イメントマーク“黒色”と対比した場合充分なコントラ
ストが得られず、正確なアライメントができないという
問題点がある。また、従来技術の第２例では低反射処理
されたカラーフィルタ基板のアライメントマークも低反
射となり、基材であるガラス基板とアライメントマーク
とのコントラストが充分に得られず、アライメントマー
クそのものの識別が困難となるため、ＴＦＴ基板上のア
ライメントマークとの正確なアライメントができないと
いう問題点がある。
従来技術の液晶表示装置およびその製造方法では、カラ
ーフィルタ基板に低反射処理が施されたガラス基板が導
入された場合、カラーフィルタ基板側のアライメントマ
ークと、ＴＦＴ基板のアライメントマークとのコントラ
ストが充分に確保されず正確なアライメントが困難とな
る。つまり、従来技術の第１例では、低反射処理された
カラーフィルタ基板のアライメントマークも低反射とな
り“黒色”に近似して視覚されため、ＴＦＴ基板のアラ
イメントマーク“黒色”と対比した場合充分なコントラ
ストが得られず、正確なアライメントができないという
問題点がある。また、従来技術の第２例では低反射処理
されたカラーフィルタ基板のアライメントマークも低反
射となり、基材であるガラス基板とアライメントマーク
とのコントラストが充分に得られず、アライメントマー
クそのものの識別が困難となるため、ＴＦＴ基板上のア
ライメントマークとの正確なアライメントができないと
いう問題点がある。
【００２１】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、液晶表示装置の貼り合わせ工程において、低反射処
理されたカラーフィルタ基板側のアライメントマーク
と、ＴＦＴ基板側のアライメントマークとのコントラス
トが充分でないために、正確なアライメントができない
という問題点を改善した液晶表示装置およびその製造方
法を提供しようとするものである。
で、液晶表示装置の貼り合わせ工程において、低反射処
理されたカラーフィルタ基板側のアライメントマーク
と、ＴＦＴ基板側のアライメントマークとのコントラス
トが充分でないために、正確なアライメントができない
という問題点を改善した液晶表示装置およびその製造方
法を提供しようとするものである。
【００２２】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに本発明の液晶表示装置では、第１のアライメントマ
ークが形成されたＴＦＴ基板と、第２のアライメントマ
ークが形成されるとともに低反射処理された対向基板と
を、各々のアライメントマークを基準として貼り合わせ
て構成される液晶表示装置であって、第１のアライメン
トマークは、第２のアライメントマークの外形線と相似
形で、拡大倍率を異にするとともに中心点を共有する２
本の外形線により囲まれる形状として形成した。
めに本発明の液晶表示装置では、第１のアライメントマ
ークが形成されたＴＦＴ基板と、第２のアライメントマ
ークが形成されるとともに低反射処理された対向基板と
を、各々のアライメントマークを基準として貼り合わせ
て構成される液晶表示装置であって、第１のアライメン
トマークは、第２のアライメントマークの外形線と相似
形で、拡大倍率を異にするとともに中心点を共有する２
本の外形線により囲まれる形状として形成した。
【００２３】また、前記液晶表示装置であって、第１の
アライメントマークは、第２のアライメントマークと同
一形状長方形として形成した。更に、この第１のアライ
メントマークの周辺部には高反射膜を形成することで前
記課題を解決した。
アライメントマークは、第２のアライメントマークと同
一形状長方形として形成した。更に、この第１のアライ
メントマークの周辺部には高反射膜を形成することで前
記課題を解決した。
【００２４】更に、本発明の液晶表示装置の製造方法で
あって、第１のアライメントマークは、第２のアライメ
ントマークの外形線と相似形で、拡大倍率を異にすると
ともに中心点を共有する２本の外形線により囲まれる形
状として備えた。そして、この第１のアライメントマー
クで、第２のアライメントマークを包含した場合に発生
する間隙を基にしてアライメントを行うこととした。
あって、第１のアライメントマークは、第２のアライメ
ントマークの外形線と相似形で、拡大倍率を異にすると
ともに中心点を共有する２本の外形線により囲まれる形
状として備えた。そして、この第１のアライメントマー
クで、第２のアライメントマークを包含した場合に発生
する間隙を基にしてアライメントを行うこととした。
【００２５】また、前記液晶表示装置の製造方法であっ
て、第１のアライメントマークは、第２のアライメント
マークと同一形状の長方形として形成し、更に第１のア
ライメントマークの周辺部に高反射膜を形成した。そし
て、第１のアライメントマークと第２のアライメントマ
ークとを対比させながら、且つ第１のアライメントマー
クの高反射膜を背景として用いることによりアライメン
トを行うことで前記課題を解決した。
て、第１のアライメントマークは、第２のアライメント
マークと同一形状の長方形として形成し、更に第１のア
ライメントマークの周辺部に高反射膜を形成した。そし
て、第１のアライメントマークと第２のアライメントマ
ークとを対比させながら、且つ第１のアライメントマー
クの高反射膜を背景として用いることによりアライメン
トを行うことで前記課題を解決した。
【００２６】
【作用】本発明の液晶表示装置では、ＴＦＴ基板の第１
のアライメントマークを、対向基板の第２のアライメン
トマークの外形線と相似形で、拡大倍率を異にするとと
もに中心点を共有する２本の外形線により囲まれる形状
として形成した。また、各々のアライメントマークを同
一形状の長方形として第１のアライメントマークの周辺
部に高反射膜を形成した。これにより、アライメントマ
ークのコントラストが充分に確保され正確なアライメン
ト作業を行うことができる。
のアライメントマークを、対向基板の第２のアライメン
トマークの外形線と相似形で、拡大倍率を異にするとと
もに中心点を共有する２本の外形線により囲まれる形状
として形成した。また、各々のアライメントマークを同
一形状の長方形として第１のアライメントマークの周辺
部に高反射膜を形成した。これにより、アライメントマ
ークのコントラストが充分に確保され正確なアライメン
ト作業を行うことができる。
【００２７】特に、本発明の液晶表示装置の製造方法で
は、ＴＦＴ基板と対向基板を重ねた場合において、第１
のアライメントマークで第２のアライメントマークを包
含したときに発生する間隙を基にしてアライメントを行
うこととした。また、各々のアライメントマークを同一
形状の長方形として形成し、第１のアライメントマーク
の周辺部に高反射膜とを形成し、この高反射膜を背景と
して利用することとした。このため、アライメントマー
クのコントラストが向上して正確なアライメントを行う
ことができる。
は、ＴＦＴ基板と対向基板を重ねた場合において、第１
のアライメントマークで第２のアライメントマークを包
含したときに発生する間隙を基にしてアライメントを行
うこととした。また、各々のアライメントマークを同一
形状の長方形として形成し、第１のアライメントマーク
の周辺部に高反射膜とを形成し、この高反射膜を背景と
して利用することとした。このため、アライメントマー
クのコントラストが向上して正確なアライメントを行う
ことができる。
【００２８】
【実施例】以下、図１及び図２を参照して本発明の液晶
表示装置およびその製造方法の実施例を説明する。な
お、従来技術の液晶表示装置およびその製造方法を示す
図と同一の部分には同一の参照符号を付し、それらの構
成や動作の説明を省略する。
表示装置およびその製造方法の実施例を説明する。な
お、従来技術の液晶表示装置およびその製造方法を示す
図と同一の部分には同一の参照符号を付し、それらの構
成や動作の説明を省略する。
【００２９】実施例１ 初めに、図１を参照して本発明の液晶表示装置およびそ
の製造方法の第１の実施例を説明する。図１（ａ）にお
いて、符号１０は低反射カラーフィルタ基板を指し、符
号１００は本発明のＴＦＴ基板を指す。前記低反射カラ
ーフィルタ基板１０には同図（ｂ）に示す如き十字型の
アライメントマーク１１が形成されている。また、本発
明のＴＦＴ基板１００には同図（ｃ）に示すような所定
間隙を均等に保持した十字形状の本発明のアライメント
マーク１０１が形成されている。
の製造方法の第１の実施例を説明する。図１（ａ）にお
いて、符号１０は低反射カラーフィルタ基板を指し、符
号１００は本発明のＴＦＴ基板を指す。前記低反射カラ
ーフィルタ基板１０には同図（ｂ）に示す如き十字型の
アライメントマーク１１が形成されている。また、本発
明のＴＦＴ基板１００には同図（ｃ）に示すような所定
間隙を均等に保持した十字形状の本発明のアライメント
マーク１０１が形成されている。
【００３０】つまり、同図（ｂ）の低反射アライメント
マーク１１は低反射処理されているため、“黒色”に近
似して視覚されるものである。一方、同図（ｃ）に示し
たＴＦＴ基板１００上の本発明のアライメントマーク１
０１は、ガードリング部の例えばＡｌ金属膜上で所定間
隙を均等に保持した十字形状にエッチング処理で形成さ
れたものであり、周囲は高反射率の金属膜が残存してい
る。この金属膜は反射するが本発明のアライメントマー
ク１０１は反射しないために“黒色”に浮上して視覚さ
れる。
マーク１１は低反射処理されているため、“黒色”に近
似して視覚されるものである。一方、同図（ｃ）に示し
たＴＦＴ基板１００上の本発明のアライメントマーク１
０１は、ガードリング部の例えばＡｌ金属膜上で所定間
隙を均等に保持した十字形状にエッチング処理で形成さ
れたものであり、周囲は高反射率の金属膜が残存してい
る。この金属膜は反射するが本発明のアライメントマー
ク１０１は反射しないために“黒色”に浮上して視覚さ
れる。
【００３１】そして、“黒色”に近似して視覚される低
反射アライメントマーク１１と本発明のアライメントマ
ーク１０１は貼り合わせ工程において重畳され、同図
（ｄ）のように合成されて視覚される。つまり、作業者
は“黒色”に視覚される所定間隙を保持した十字形状の
本発明のアライメントマーク１０１と、“黒色”に近似
して視覚される低反射アライメントマーク１１との間に
発生する間隙Ｂを、均等になるように調整することによ
りアライメント作業が実行される。
反射アライメントマーク１１と本発明のアライメントマ
ーク１０１は貼り合わせ工程において重畳され、同図
（ｄ）のように合成されて視覚される。つまり、作業者
は“黒色”に視覚される所定間隙を保持した十字形状の
本発明のアライメントマーク１０１と、“黒色”に近似
して視覚される低反射アライメントマーク１１との間に
発生する間隙Ｂを、均等になるように調整することによ
りアライメント作業が実行される。
【００３２】実施例２ 次に、図２を参照して本発明の液晶表示装置およびその
製造方法の第２の実施例を説明する。図２（ａ）におい
て、符号１０は低反射カラーフィルタ基板を指し、符号
１１０は本発明のＴＦＴ基板を指す。前記低反射カラー
フィルタ基板１０には同図（ｂ）に示す如き低反射処理
された長方形の低反射アライメントマーク１２が形成さ
れている。この低反射アライメントマーク１２は低反射
処理されているため、“黒色”に近似して視覚されるも
のである。一方、本発明のＴＦＴ基板１１０には同図
（ｃ）に示すように、高反射率の例えばＡｌ金属膜を長
方形のアライメントマーク１１１を残すようにエッチン
グ処理にて除去し、基材であるガラス部を露出させたも
のである。周囲には高反射膜である金属膜が残存してい
るために、本発明のアライメントマーク１１１の周辺部
Ｃは金属膜が反射し“白色”に視覚され、本発明のアラ
イメントマーク１１１は反射しないために“黒色”に浮
上して視覚される。
製造方法の第２の実施例を説明する。図２（ａ）におい
て、符号１０は低反射カラーフィルタ基板を指し、符号
１１０は本発明のＴＦＴ基板を指す。前記低反射カラー
フィルタ基板１０には同図（ｂ）に示す如き低反射処理
された長方形の低反射アライメントマーク１２が形成さ
れている。この低反射アライメントマーク１２は低反射
処理されているため、“黒色”に近似して視覚されるも
のである。一方、本発明のＴＦＴ基板１１０には同図
（ｃ）に示すように、高反射率の例えばＡｌ金属膜を長
方形のアライメントマーク１１１を残すようにエッチン
グ処理にて除去し、基材であるガラス部を露出させたも
のである。周囲には高反射膜である金属膜が残存してい
るために、本発明のアライメントマーク１１１の周辺部
Ｃは金属膜が反射し“白色”に視覚され、本発明のアラ
イメントマーク１１１は反射しないために“黒色”に浮
上して視覚される。
【００３３】そして、低反射アライメントマーク１２と
本発明のアライメントマーク１１１は貼り合わせ工程に
おいて重畳され、同図（ｄ）に示すようにのように合成
されて視覚される。つまり、同図（ａ）に示すように本
発明のアライメントマーク１１１は“黒色”に、周辺部
Ｃは“白色”に視覚される。この“白色”と視覚される
周辺部Ｃを背景として利用することで低反射アライメン
トマーク１２が確実に識別できるようになる。こうして
本発明のアライメントマーク１１１と低反射アライメン
トマーク１２とをＸ、Ｙ方向に合致させるように調整す
ることでアライメント作業が行われる。
本発明のアライメントマーク１１１は貼り合わせ工程に
おいて重畳され、同図（ｄ）に示すようにのように合成
されて視覚される。つまり、同図（ａ）に示すように本
発明のアライメントマーク１１１は“黒色”に、周辺部
Ｃは“白色”に視覚される。この“白色”と視覚される
周辺部Ｃを背景として利用することで低反射アライメン
トマーク１２が確実に識別できるようになる。こうして
本発明のアライメントマーク１１１と低反射アライメン
トマーク１２とをＸ、Ｙ方向に合致させるように調整す
ることでアライメント作業が行われる。
【００３４】本発明は前記実施例に限定されず、種々の
実施形態を採ることができる。例えばアライメントマー
クは十字型と長方形の場合について説明したが、円形状
やその他の形状でも良いし、アライメントマークの形状
には特に限定されない。また手動によるアライメント調
整について説明したが、カメラ装置等を活用した自動貼
り合わせ工程にも応用可能である。更に、液晶表示装置
以外の例えばプラズマディスプレイ装置、蛍光表示管装
置、マイクロ画素蛍光板等のアライメントにも応用可能
なことは言うまでもない。
実施形態を採ることができる。例えばアライメントマー
クは十字型と長方形の場合について説明したが、円形状
やその他の形状でも良いし、アライメントマークの形状
には特に限定されない。また手動によるアライメント調
整について説明したが、カメラ装置等を活用した自動貼
り合わせ工程にも応用可能である。更に、液晶表示装置
以外の例えばプラズマディスプレイ装置、蛍光表示管装
置、マイクロ画素蛍光板等のアライメントにも応用可能
なことは言うまでもない。
【００３５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置およびその製造方法によれば、カラーフィルタ基板
に低反射処理が施されたガラス基板が導入された場合の
貼り合わせ工程において、カラーフィルタ基板側のアラ
イメントマークと、ＴＦＴ基板側のアライメントマーク
とのコントラストが充分に確保されるために正確なアラ
イメントを行うことができる。そのため、アライメント
精度向上による画素開口率の向上や画素開口部の安定を
図ることが可能となり、液晶表示装置の性能や品質の向
上に寄与することができる。また、本発明の液晶表示装
置の製造方法によれば、製造設備の構造の都合上、基板
背面から光を照射する透過光が利用できない場合におい
ても、反射光を利用して微細アライメントが行えるとい
うメリットがある。
装置およびその製造方法によれば、カラーフィルタ基板
に低反射処理が施されたガラス基板が導入された場合の
貼り合わせ工程において、カラーフィルタ基板側のアラ
イメントマークと、ＴＦＴ基板側のアライメントマーク
とのコントラストが充分に確保されるために正確なアラ
イメントを行うことができる。そのため、アライメント
精度向上による画素開口率の向上や画素開口部の安定を
図ることが可能となり、液晶表示装置の性能や品質の向
上に寄与することができる。また、本発明の液晶表示装
置の製造方法によれば、製造設備の構造の都合上、基板
背面から光を照射する透過光が利用できない場合におい
ても、反射光を利用して微細アライメントが行えるとい
うメリットがある。
【図１】 本発明の液晶表示装置およびその製造方法の
第１の実施例を説明する図であり、（ａ）は液晶表示装
置のアライメントマーク部の拡大断面図であり、（ｂ）
は低反射カラーフィルタ基板のアライメントマークを示
す上面図であり、（ｃ）はＴＦＴ基板のアライメントマ
ークを示す上面図であり、（ｄ）は両アライメントマー
クを合成した上面図である。
第１の実施例を説明する図であり、（ａ）は液晶表示装
置のアライメントマーク部の拡大断面図であり、（ｂ）
は低反射カラーフィルタ基板のアライメントマークを示
す上面図であり、（ｃ）はＴＦＴ基板のアライメントマ
ークを示す上面図であり、（ｄ）は両アライメントマー
クを合成した上面図である。
【図２】 本発明の液晶表示装置およびその製造方法の
第２の実施例を説明する図であり、（ａ）は液晶表示装
置のアライメントマーク部の拡大断面図であり、（ｂ）
は低反射カラーフィルタ基板のアライメントマークを示
す上面図であり、（ｃ）はＴＦＴ基板のアライメントマ
ークを示す上面図であり、（ｄ）は両アライメントマー
クを合成した上面図である。
第２の実施例を説明する図であり、（ａ）は液晶表示装
置のアライメントマーク部の拡大断面図であり、（ｂ）
は低反射カラーフィルタ基板のアライメントマークを示
す上面図であり、（ｃ）はＴＦＴ基板のアライメントマ
ークを示す上面図であり、（ｄ）は両アライメントマー
クを合成した上面図である。
【図３】 従来技術の液晶表示装置を示す上面図であ
る。
る。
【図４】 従来技術の液晶表示装置およびその製造方法
の第１例の説明図であり、（ａ）は液晶表示装置のアラ
イメントマーク部の拡大断面図であり、（ｂ）はカラー
フィルタ基板のアライメントマークを示す上面図であ
り、（ｃ）はＴＦＴ基板のアライメントマークを示す上
面図であり、（ｄ）は両アライメントマークを合成した
上面図である。
の第１例の説明図であり、（ａ）は液晶表示装置のアラ
イメントマーク部の拡大断面図であり、（ｂ）はカラー
フィルタ基板のアライメントマークを示す上面図であ
り、（ｃ）はＴＦＴ基板のアライメントマークを示す上
面図であり、（ｄ）は両アライメントマークを合成した
上面図である。
【図５】 従来技術の液晶表示装置およびその製造方法
の第２例の説明図であり、（ａ）は液晶表示装置のアラ
イメントマーク部の拡大断面図であり、（ｂ）はカラー
フィルタ基板のアライメントマークを示す上面図であ
り、（ｃ）はＴＦＴ基板のアライメントマークを示す上
面図であり、（ｄ）は両アライメントマークを合成した
上面図である。
の第２例の説明図であり、（ａ）は液晶表示装置のアラ
イメントマーク部の拡大断面図であり、（ｂ）はカラー
フィルタ基板のアライメントマークを示す上面図であ
り、（ｃ）はＴＦＴ基板のアライメントマークを示す上
面図であり、（ｄ）は両アライメントマークを合成した
上面図である。
【図６】 従来技術の液晶表示装置のカラーフィルタ基
板に低反射処理が施された場合の説明図であり、（ａ）
は液晶表示装置のアライメントマーク部の拡大断面図で
あり、（ｂ）は低反射カラーフィルタ基板のアライメン
トマークを示す上面図であり、（ｃ）はＴＦＴ基板のア
ライメントマークを示す上面図であり、（ｄ）は両アラ
イメントマークを合成した上面図である。
板に低反射処理が施された場合の説明図であり、（ａ）
は液晶表示装置のアライメントマーク部の拡大断面図で
あり、（ｂ）は低反射カラーフィルタ基板のアライメン
トマークを示す上面図であり、（ｃ）はＴＦＴ基板のア
ライメントマークを示す上面図であり、（ｄ）は両アラ
イメントマークを合成した上面図である。
【図７】 従来技術の液晶表示装置のカラーフィルタ基
板に低反射処理が施された場合の説明図であり、（ａ）
は液晶表示装置のアライメントマーク部の拡大断面図で
あり、（ｂ）は低反射カラーフィルタ基板のアライメン
トマークを示す上面図であり、（ｃ）はＴＦＴ基板のア
ライメントマークを示す上面図であり、（ｄ）は両アラ
イメントマークを合成した上面図である。
板に低反射処理が施された場合の説明図であり、（ａ）
は液晶表示装置のアライメントマーク部の拡大断面図で
あり、（ｂ）は低反射カラーフィルタ基板のアライメン
トマークを示す上面図であり、（ｃ）はＴＦＴ基板のア
ライメントマークを示す上面図であり、（ｄ）は両アラ
イメントマークを合成した上面図である。
１ 従来技術の液晶表示装置 ２ 表示エリア ３ ガードリング部 4、4 ′ カラーフィルタ基板のアライメントマーク 5、5 ′ ＴＦＴ基板のアライメントマーク ６ 外部接続用パッド ７ 配線パターン ８ カラーフィルタ基板 9、100 、110 ＴＦＴ基板 １０ 低反射カラーフィルタ基板 11、12 低反射アライメントマーク 101 、111 本発明のアライメントマーク A 、B 間隙 Ｃ 周辺部
Claims (4)
- 【請求項１】 第１のアライメントマークが形成された
ＴＦＴ基板と、第２のアライメントマークが形成される
とともに低反射処理された対向基板とを、該第１および
前記第２のアライメントマークを基準として貼り合わせ
る工程を含んで成る液晶表示装置であって、該第１のア
ライメントマークは、前記第２のアライメントマークの
外形線と相似形で、拡大倍率を異にするとともに中心点
を共有する２本の外形線により囲まれる形状として形成
したことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 第１のアライメントマークが形成された
ＴＦＴ基板と、第２のアライメントマークが形成される
とともに低反射処理された対向基板とを、該第１および
前記第２のアライメントマークを基準として貼り合わせ
る工程を含んで成る液晶表示装置であって、該第１のア
ライメントマークは、前記第２のアライメントマークと
同一形状として形成し、更に該第１のアライメントマー
クの周辺部に高反射膜を形成したことを特徴とする液晶
表示装置。 - 【請求項３】 第１のアライメントマークが形成された
ＴＦＴ基板と、第２のアライメントマークが形成される
とともに低反射処理された対向基板とを、該第１および
前記第２のアライメントマークを基準として貼り合わせ
る工程を含んで成る液晶表示装置であって、該第１のア
ライメントマークは、前記第２のアライメントマークの
外形線と相似形で、拡大倍率を異にするとともに中心点
を共有する２本の外形線により囲まれる形状として具備
し、該第１のアライメントマークで、前記第２のアライ
メントマークを包含して発生する間隙を基にしてアライ
メントを行うことを特徴とする液晶表示装置の製造方
法。 - 【請求項４】 第１のアライメントマークが形成された
ＴＦＴ基板と、第２のアライメントマークが形成される
とともに低反射処理された対向基板とを、該第１および
前記第２のアライメントマークを基準として貼り合わせ
る工程を含んで成る液晶表示装置であって、該第１のア
ライメントマークは、前記第２のアライメントマークと
同一形状として形成し、更に該第１のアライメントマー
クの周辺部に高反射膜を具備し、該第１のアライメント
マークと前記第２のアライメントマークとを対比させ、
且つ該第１のアライメントマークの高反射膜を背景とし
て利用することによりアライメントを行うことを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28528594A JPH08146371A (ja) | 1994-11-18 | 1994-11-18 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28528594A JPH08146371A (ja) | 1994-11-18 | 1994-11-18 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08146371A true JPH08146371A (ja) | 1996-06-07 |
Family
ID=17689542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28528594A Pending JPH08146371A (ja) | 1994-11-18 | 1994-11-18 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08146371A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1195196A (ja) * | 1997-09-17 | 1999-04-09 | Fujitsu Ltd | 液晶パネル表示装置 |
| US6787930B1 (en) * | 1999-07-29 | 2004-09-07 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Alignment marks and manufacturing method for the same |
| JP2006309218A (ja) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Samsung Sdi Co Ltd | プラズマディスプレイモジュール |
| JP2008040036A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置 |
| JP2009187039A (ja) * | 2009-05-27 | 2009-08-20 | Sharp Corp | 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 |
| US7629613B2 (en) | 2004-09-09 | 2009-12-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display device and method of manufacturing the same |
| JP2013113766A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | アライメント方法およびパターン形成方法 |
| CN103869518A (zh) * | 2012-12-13 | 2014-06-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 液晶显示器的制造方法及其产品 |
| WO2015029998A1 (ja) * | 2013-08-29 | 2015-03-05 | 住友化学株式会社 | フィルム貼合装置、光学表示デバイスの生産システム及び光学表示デバイスの生産方法 |
| CN105093636A (zh) * | 2015-09-21 | 2015-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 触控显示基板及其制备方法和触控显示面板 |
| US9327488B2 (en) | 2011-11-30 | 2016-05-03 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Alignment method, transfer method and transfer apparatus |
| CN105572938A (zh) * | 2016-01-29 | 2016-05-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示装置及定位标识的识别方法 |
| US10580371B2 (en) | 2015-10-09 | 2020-03-03 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Data driving module for driving display panel, data driving method and display device |
-
1994
- 1994-11-18 JP JP28528594A patent/JPH08146371A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1195196A (ja) * | 1997-09-17 | 1999-04-09 | Fujitsu Ltd | 液晶パネル表示装置 |
| US6787930B1 (en) * | 1999-07-29 | 2004-09-07 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Alignment marks and manufacturing method for the same |
| US7008829B2 (en) | 1999-07-29 | 2006-03-07 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Alignment marks and manufacturing method for the same |
| US7629613B2 (en) | 2004-09-09 | 2009-12-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display device and method of manufacturing the same |
| US8049222B2 (en) | 2004-09-09 | 2011-11-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display device and method of manufacturing the same |
| JP2006309218A (ja) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Samsung Sdi Co Ltd | プラズマディスプレイモジュール |
| JP2008040036A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置 |
| JP2009187039A (ja) * | 2009-05-27 | 2009-08-20 | Sharp Corp | 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 |
| JP2013113766A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | アライメント方法およびパターン形成方法 |
| US9327488B2 (en) | 2011-11-30 | 2016-05-03 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Alignment method, transfer method and transfer apparatus |
| CN103869518A (zh) * | 2012-12-13 | 2014-06-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 液晶显示器的制造方法及其产品 |
| WO2015029998A1 (ja) * | 2013-08-29 | 2015-03-05 | 住友化学株式会社 | フィルム貼合装置、光学表示デバイスの生産システム及び光学表示デバイスの生産方法 |
| CN105093636A (zh) * | 2015-09-21 | 2015-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 触控显示基板及其制备方法和触控显示面板 |
| US10580371B2 (en) | 2015-10-09 | 2020-03-03 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Data driving module for driving display panel, data driving method and display device |
| CN105572938A (zh) * | 2016-01-29 | 2016-05-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示装置及定位标识的识别方法 |
| WO2017128693A1 (zh) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示装置及定位标识的识别方法 |
| US10168148B2 (en) | 2016-01-29 | 2019-01-01 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display substrate, display device and method for recognizing position mark |
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